JPH0566180B2 - - Google Patents
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- JPH0566180B2 JPH0566180B2 JP1927485A JP1927485A JPH0566180B2 JP H0566180 B2 JPH0566180 B2 JP H0566180B2 JP 1927485 A JP1927485 A JP 1927485A JP 1927485 A JP1927485 A JP 1927485A JP H0566180 B2 JPH0566180 B2 JP H0566180B2
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- Catalysts (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本発明は煙道排ガスを処理するアンモニア接触
還元脱硝触媒の活性化処理方法に関する。 （従来の技術） 排ガス中の窒素酸化物（以下NOxという）の
無害化処理方法としては、吸着法、酸化吸収法、
固体化捕集法、接触還元法などが知られている。
その中でも後処理不要の接触還元法が経済的にも
技術的にも優れている。接触還元法においても排
ガス中の酸素の有無に影響されない選択的接触還
元法が脱硝操作を容易にし技術的に優れている。
その１つに、アンモニアを添加し接触還元して排
ガス中のNOxを無害な窒素と水に分解する方法
も知られている。 （発明が解決しようとする問題点） この種の脱硝方法においてはNOxの除去効率
の向上が常に求められる。しかし、新たな脱硝触
媒を使用に先立つて活性化処理する方法は特に知
られてはいなかつた。 （問題点を解決するための方法） 本発明は新たなアンモニア接触還元脱硝触媒
を、使用に先立つて三酸化イオウ含有ガスで処理
することを特徴とする脱硝触媒の活性化方法であ
る。ここで、新たな触媒とは、未使用の触媒と性
能低下触媒を再生した後の触媒のいずれをも含
む。 本発明において、三酸化イオウ含有ガスでの処
理方法としては、(1)脱硝装置に充填する前の触媒
を三酸化イオウと接触させる方法、(2)脱硝装置に
触媒を充填した後に三酸化イオウ含有ガスを触媒
層に導入する方法、(3)脱硝装置に触媒を充填した
後に煙道排ガスを通煙する初期に排ガス中に三酸
化イオウを添加する方法を好ましい実施態様とす
る。 本発明で用いる触媒は通常用いられる如何なる
脱硝触媒（例えば、Al2O3−V2O5，TiO2−
V2O5，TiO2−WO3，TiO2−WO3−V2O5系触媒
あるいはMoO3を含有する触媒等）でもよく、触
媒の活性化効果が奏される。特に、微量ないし少
量のＳ分を含む脱硝触媒を用いる時にその効果が
顕著であり、更に、0.001〜10重量％のｓ分を含
むTiO2−WO3系触媒において原子百分率がTi：
Ｗ＝50〜99：１〜50の触媒を用いるときに特別効
果が顕著である。 以下、本発明の実施の態様を第１，２図により
説明する。燃焼装置１から排出された燃焼排ガス
は煙道１１の途中でアンモニア注入ライン３１よ
りアンモニアが添加され、脱硝装置３に導びかれ
る。この脱硝操作に先立つて、新たな触媒を脱硝
装置に充填した後、SO2含有ガスをライン２１か
らSO2酸化装置２に導入してSO3濃度を高め、こ
れをライン２２から脱硝装置３に送入して脱硝触
媒の活性化処理を行う。第２図においてはSO2含
有ガスとして燃焼装置１から排出されたガスを利
用した例を示した。この場合には、脱硝操作の初
期に排ガスの一部をバイパスさせて用いたもので
ある。 なお、本発明におけるSO3含有ガスでの処理
は、SO350〜200ppm程度を含むガスで１時間程度
処理することが好ましい。 （実施例） 実施例 １ TiO2−WO3系新触媒（TiO288.3％，WO311.7
％）を焼成炉内において、SOx1000ppm（SO2995
ppm＋SO35ppm）のガスをSO360ppmとなるようにし
たガスを１時間注入することにより、活性化処理
を行なつた。この結果、活性化処理前のＳ分が
SO3換算で3.80％であつたものが、SO3換算で
4.04％となつており、0.24％の増加がみられた。 活性化処理後の触媒を脱硝装置に充填した後、
表１に示す試験条件にて脱硝性能を測定した。こ
のときの排ガス処理経過時間と脱硝率の関係を第
３図の実線で示す。また新触媒でSO3処理をしな
い表１に示す条件での結果を破線で示す。ここで
脱硝率とは脱硝装置入口でのNOx濃度Ａ、脱硝
装置出口でのNOx濃度Ｂ、より次式｛（Ａ−
Ｂ）／Ａ｝×100（％）で表わされるものとする。
第３図からみて、本発明に係るSO3処理によつて
触媒性能を上昇できることが明らかとなつた。
還元脱硝触媒の活性化処理方法に関する。 （従来の技術） 排ガス中の窒素酸化物（以下NOxという）の
無害化処理方法としては、吸着法、酸化吸収法、
固体化捕集法、接触還元法などが知られている。
その中でも後処理不要の接触還元法が経済的にも
技術的にも優れている。接触還元法においても排
ガス中の酸素の有無に影響されない選択的接触還
元法が脱硝操作を容易にし技術的に優れている。
その１つに、アンモニアを添加し接触還元して排
ガス中のNOxを無害な窒素と水に分解する方法
も知られている。 （発明が解決しようとする問題点） この種の脱硝方法においてはNOxの除去効率
の向上が常に求められる。しかし、新たな脱硝触
媒を使用に先立つて活性化処理する方法は特に知
られてはいなかつた。 （問題点を解決するための方法） 本発明は新たなアンモニア接触還元脱硝触媒
を、使用に先立つて三酸化イオウ含有ガスで処理
することを特徴とする脱硝触媒の活性化方法であ
る。ここで、新たな触媒とは、未使用の触媒と性
能低下触媒を再生した後の触媒のいずれをも含
む。 本発明において、三酸化イオウ含有ガスでの処
理方法としては、(1)脱硝装置に充填する前の触媒
を三酸化イオウと接触させる方法、(2)脱硝装置に
触媒を充填した後に三酸化イオウ含有ガスを触媒
層に導入する方法、(3)脱硝装置に触媒を充填した
後に煙道排ガスを通煙する初期に排ガス中に三酸
化イオウを添加する方法を好ましい実施態様とす
る。 本発明で用いる触媒は通常用いられる如何なる
脱硝触媒（例えば、Al2O3−V2O5，TiO2−
V2O5，TiO2−WO3，TiO2−WO3−V2O5系触媒
あるいはMoO3を含有する触媒等）でもよく、触
媒の活性化効果が奏される。特に、微量ないし少
量のＳ分を含む脱硝触媒を用いる時にその効果が
顕著であり、更に、0.001〜10重量％のｓ分を含
むTiO2−WO3系触媒において原子百分率がTi：
Ｗ＝50〜99：１〜50の触媒を用いるときに特別効
果が顕著である。 以下、本発明の実施の態様を第１，２図により
説明する。燃焼装置１から排出された燃焼排ガス
は煙道１１の途中でアンモニア注入ライン３１よ
りアンモニアが添加され、脱硝装置３に導びかれ
る。この脱硝操作に先立つて、新たな触媒を脱硝
装置に充填した後、SO2含有ガスをライン２１か
らSO2酸化装置２に導入してSO3濃度を高め、こ
れをライン２２から脱硝装置３に送入して脱硝触
媒の活性化処理を行う。第２図においてはSO2含
有ガスとして燃焼装置１から排出されたガスを利
用した例を示した。この場合には、脱硝操作の初
期に排ガスの一部をバイパスさせて用いたもので
ある。 なお、本発明におけるSO3含有ガスでの処理
は、SO350〜200ppm程度を含むガスで１時間程度
処理することが好ましい。 （実施例） 実施例 １ TiO2−WO3系新触媒（TiO288.3％，WO311.7
％）を焼成炉内において、SOx1000ppm（SO2995
ppm＋SO35ppm）のガスをSO360ppmとなるようにし
たガスを１時間注入することにより、活性化処理
を行なつた。この結果、活性化処理前のＳ分が
SO3換算で3.80％であつたものが、SO3換算で
4.04％となつており、0.24％の増加がみられた。 活性化処理後の触媒を脱硝装置に充填した後、
表１に示す試験条件にて脱硝性能を測定した。こ
のときの排ガス処理経過時間と脱硝率の関係を第
３図の実線で示す。また新触媒でSO3処理をしな
い表１に示す条件での結果を破線で示す。ここで
脱硝率とは脱硝装置入口でのNOx濃度Ａ、脱硝
装置出口でのNOx濃度Ｂ、より次式｛（Ａ−
Ｂ）／Ａ｝×100（％）で表わされるものとする。
第３図からみて、本発明に係るSO3処理によつて
触媒性能を上昇できることが明らかとなつた。
【表】
実施例 ２
TiO2−WO3−V2O5系新触媒（TiO289.5％、
WO310.0％、V2O50.5％）を実施例１で用いた脱
硝装置に充填し、第１図に示したフローシートに
従つてSOx1000ppm（SO2995ppm＋SO35ppm）ガスを
酸化してSO360ppmを含むガスとし、これを１時間
注入する。次いで装置を前記表１に示す試験条件
にて運転し、触媒性能を測定した。このときの排
ガス処理経過時間と脱硝率の関係を第４図に実線
で示す。また比較のために新触媒をSO3処理しな
い前記表１に示す試験条件での結果を破線で示
す。第４図からみて、新触媒を充填した脱硝装置
に排ガスを導入するに先立つて本発明に係るSO3
処理を行なうことによつて、触媒性能を上昇する
ことができることが明らかとなつた。 実施例 ３ 脱硝性能が低下したTiO2−WO3系触媒
（TiO290％、WO310％）を、その体積の５倍容積
の常温の水にて60分間浸漬水洗した後、110℃に
て８時間乾燥した触媒を、実施例１で用いた脱硝
装置に充填し、第２図に示したフローシートに従
つて、表１に示す試験ガス中にSO3が60ppm含まれ
るように酸化した高濃度SO3含有ガスをライン１
１に注入し、脱硝触媒層を通過させて活性化処理
を行なう。脱硝率が75％に到達した時点でSO3ガ
スの注入を停止した。 このときの処理経過時間と脱硝率の関係を第５
図に実線で示す。また比較のため新触媒を最初か
ら前記表１に示す試験条件での結果を破線で示
す。第５図からみて、本発明の効果が著しいこと
が明らかとなつた。 （発明の効果） 本発明は、アンモニア接触還元脱硝触媒を三酸
化イオウ含有ガスで活性化処理をすることによ
り、脱硝率を飛躍的に向上させることができた。
三酸化イオウ含有ガスは燃焼排ガス中のSO2の一
部を酸化することにより得られ、特に系外から活
性化ガスを供給する必要はない。 脱硝触媒としては、TiO2−WO3系の触媒につ
いて効果が顕著であつた。
WO310.0％、V2O50.5％）を実施例１で用いた脱
硝装置に充填し、第１図に示したフローシートに
従つてSOx1000ppm（SO2995ppm＋SO35ppm）ガスを
酸化してSO360ppmを含むガスとし、これを１時間
注入する。次いで装置を前記表１に示す試験条件
にて運転し、触媒性能を測定した。このときの排
ガス処理経過時間と脱硝率の関係を第４図に実線
で示す。また比較のために新触媒をSO3処理しな
い前記表１に示す試験条件での結果を破線で示
す。第４図からみて、新触媒を充填した脱硝装置
に排ガスを導入するに先立つて本発明に係るSO3
処理を行なうことによつて、触媒性能を上昇する
ことができることが明らかとなつた。 実施例 ３ 脱硝性能が低下したTiO2−WO3系触媒
（TiO290％、WO310％）を、その体積の５倍容積
の常温の水にて60分間浸漬水洗した後、110℃に
て８時間乾燥した触媒を、実施例１で用いた脱硝
装置に充填し、第２図に示したフローシートに従
つて、表１に示す試験ガス中にSO3が60ppm含まれ
るように酸化した高濃度SO3含有ガスをライン１
１に注入し、脱硝触媒層を通過させて活性化処理
を行なう。脱硝率が75％に到達した時点でSO3ガ
スの注入を停止した。 このときの処理経過時間と脱硝率の関係を第５
図に実線で示す。また比較のため新触媒を最初か
ら前記表１に示す試験条件での結果を破線で示
す。第５図からみて、本発明の効果が著しいこと
が明らかとなつた。 （発明の効果） 本発明は、アンモニア接触還元脱硝触媒を三酸
化イオウ含有ガスで活性化処理をすることによ
り、脱硝率を飛躍的に向上させることができた。
三酸化イオウ含有ガスは燃焼排ガス中のSO2の一
部を酸化することにより得られ、特に系外から活
性化ガスを供給する必要はない。 脱硝触媒としては、TiO2−WO3系の触媒につ
いて効果が顕著であつた。
第１図及び第２図は本発明実施例を示すフロー
シートである。 １……燃焼装置、２……SO2酸化装置、３……
脱硝装置。 第３図、第４図及び第５図はそれぞれ本発明の
実施例１，２及び３並びにそれぞれ対照される比
較例の結果を表わすグラフであり、横軸に排ガス
処理の経過時間を、また縦軸には脱硝率を百分率
で表わしたものである。図中実線は本発明による
実施例、また破線は比較例の結果を示す。
シートである。 １……燃焼装置、２……SO2酸化装置、３……
脱硝装置。 第３図、第４図及び第５図はそれぞれ本発明の
実施例１，２及び３並びにそれぞれ対照される比
較例の結果を表わすグラフであり、横軸に排ガス
処理の経過時間を、また縦軸には脱硝率を百分率
で表わしたものである。図中実線は本発明による
実施例、また破線は比較例の結果を示す。
Claims (1)
- １ 煙道排ガスを処理するアンモニア接触還元脱
硝触媒の活性化処理方法において、新しい触媒を
予じめ三酸化イオウと接触させることを特徴とす
る脱硝触媒の活性化処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1927485A JPS61178040A (ja) | 1985-02-05 | 1985-02-05 | 脱硝触媒の活性化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1927485A JPS61178040A (ja) | 1985-02-05 | 1985-02-05 | 脱硝触媒の活性化処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61178040A JPS61178040A (ja) | 1986-08-09 |
| JPH0566180B2 true JPH0566180B2 (ja) | 1993-09-21 |
Family
ID=11994865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1927485A Granted JPS61178040A (ja) | 1985-02-05 | 1985-02-05 | 脱硝触媒の活性化処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61178040A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011140005A (ja) * | 2010-01-08 | 2011-07-21 | Hitachi Zosen Corp | 脱硝触媒の調製方法およびその方法により調製された触媒 |
| CN109529809B (zh) * | 2018-12-05 | 2020-10-20 | 西南化工研究设计院有限公司 | 一种用于含硫气体的选择性催化焚烧催化剂及其制备方法 |
-
1985
- 1985-02-05 JP JP1927485A patent/JPS61178040A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61178040A (ja) | 1986-08-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |