JPH0559999B2 - - Google Patents
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- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 52
- YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N dioxolead Chemical compound O=[Pb]=O YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 29
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- -1 platinum group metal oxide Chemical class 0.000 claims description 12
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 27
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 7
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N lead chromate Chemical compound [Pb+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O MOUPNEIJQCETIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000009924 canning Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N lead nitrate Chemical compound [O-][N+](=O)O[Pb]O[N+]([O-])=O RLJMLMKIBZAXJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、サージエント浴と呼ばれるクロム酸
と硫酸を含むメツキ浴を用いてクロムメツキを行
う方法に関するものである。 〔従来の技術と問題点〕 クロムメツキは、表面の美観のみでなく、硬
さ、良好な耐食性等を有するため、広範囲な用途
に使用されている。例えば、自動車等のエンジン
部品、各種シリンダー、グラビア印刷のロール
類、或いは食器や缶詰用缶等、工業用及び装飾用
として一般に利用されている。 クロムメツキを行うには、従来から種々のメツ
キ浴が使用されているが、代表的なものは、ケイ
フツ化物浴による方法とサージエント浴による方
法である。 前者は、仕上がりが良好で電流効率が比較的高
いという特長がある反面、液管理が難しく、且つ
メツキ浴にフツ化物イオンを含むので、その腐食
性により、メツキ装置の保持や保安上の困難があ
る。 一方、後者のサージエント浴による方法は、一
般に電流効率がやや低い問題があるものの、取り
扱いが容易であり、広く行われている。一般に、
サージエント浴によるクロム電気メツキ法は、無
水クロム酸CrO3等を硫酸と共に水に溶解してク
ロム酸を含むメツキ浴とし、6価クロムCr6+
(CrO4 2-、Cr2O7 2-等)からクロム金属を還元析
出させるものであるが、その際、還元が不完全で
メツキされない3価クロムCr3+がメツキ浴中に生
成し、このクロム酸メツキ浴中のCr3+の濃度が、
メツキ製品の品質及びメツキ液の取扱いやエネル
ギー効率等に大きな影響を与えることが知られて
いる。該電気メツキ法においては、従来、陽極と
して鉛又は鉛合金が使用されている。鉛や鉛合金
陽極は、3価クロムイオンCr3+の濃度を適度に保
つ反面、使用中に鉛又は鉛合金成分の溶出があ
り、その速度は数mg〜数10mg/AHと極めて大き
い、そのため、溶出した鉛又は鉛合金成分による
クロムメツキへの悪影響や、溶中にクロム酸鉛の
沈澱を形成するという欠点がある。このように、
クロム酸鉛の析出が生じる場合にはその悪影響を
避けるため、電解槽を深くしたり定期的に沈澱物
の除去や液の交換を行う必要がある等の問題もあ
る。 このような鉛の影響を少なくするために、フエ
ライトやマグネタイト電極を使用する方法が知ら
れているが、該電極は極めてもろく、機械強度が
不足するため、取り扱いに細心の注意を要するこ
と、又、電極物質の導電度が小さいため大電流密
度では使用できないこと、更に、メツキ浴中の
Cr3+の濃度が上昇してしまい、電流効率の低下並
びにメツキ品質を低下させること等の欠点を有し
ている。 そして、現在、最も適したクロムメツキ用電極
として二酸化鉛被覆電極が使用されている。二酸
化鉛被覆電極は、鉛や鉛合金電極と異なり、電解
液への溶出も0.1〜1mg/AH又はそれ以下と極め
て小さく、液の汚染や沈澱物の生成は殆どない
が、この電極の特性としてCr3+からCr6+への酸化
力が極めて大きいため、陰極(被処理物)と二酸
化鉛電極の面積を1:1と同程度にした場合、
Cr3+の濃度が1.5mg/以下となつてしまい、メ
ツキ品質を低下させるという欠点がある。これを
避けるためには、二酸化鉛陽極の面積を被処理物
に対して小さくする必要があり、電流分布の不均
一化や陽極電流密度の上昇に伴う陽極寿命の短縮
等の恐れが生じる。 一方、不溶性金属電極として、近年白金族金属
酸化物や白金族金属を含む被覆を有する金属電極
が知られ、種々の電解用電極として使用されてい
る。この種の電極は、陽極側の主成分である酸素
発生電位が極めて低いという特長を有する反面、
Cr3+→Cr6+の酸化反応性が極めて弱く、この電解
単独ではクロムメツキに陽極として使用した場
合、メツキ浴中のCr3+濃度が上昇し過ぎてしま
い、良好なメツキが出来なくなると共に、電流効
率の著しい低下を来す問題がある。 〔発明の目的〕 本発明は、叙上の問題を解決するためになされ
たもので、メツキ液中での沈澱生成が実質的に無
く、液中のCr3+濃度を好適な範囲に保持すること
ができ、良質なクロムメツキを容易に行うことが
出来るサージエント浴等を使用してクロムメツキ
を行う優れた方法を提供することを目的とする。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、クロム酸と硫酸を含むメツキ浴を用
いてクロムメツキを行う方法において、陽極とし
て、白金族金属又は白金族金属酸化物を含む被覆
を有する不溶性金属電極と、二酸化鉛電極とを組
み合わせて使用し、メツキ浴中の3価クロムイオ
ン濃度を1.5〜8g/の範囲に保持することを
特徴とするクロムメツキ方法である。 このように、白金族金属及び/又はその酸化物
を含む被覆を有する不溶性金属電極と二酸化鉛電
極を陽極として併用することにより、メツキ浴中
のCr3+濃度を、好適な範囲に保持し、又、陰極被
処置物に均一な電流分布を与えることが出来る。
更に、陽極の大きさ及び配置を自由に選定でき、
又、より大面積の陽極の使用が可能となるので実
質的に陽極電流密度を低下させて陽極寿命を長く
し、運転保守を容易にすることが出来る。又、白
金族金属及び/又は白金族金属酸化物並びに二酸
化鉛は、いずれも陽極として極めて安定であり、
電解液中への溶解は実質的に全く無いと言つてよ
く、メツキ浴中に沈澱物の生成を起こらず、メツ
キ液は濃度調整のみでよくなり、定期的な沈澱物
の取り出しは不要となる。 即ち、Cr3+→Cr6+(CrO4 2-、Cr2O7 2-)への酸
化反応の触媒活性は、白金族金属や白金族金属酸
化物では小さいため実質的に反応が起こらず、こ
の反応に活性のある二酸化鉛の配置によつて必要
とする濃度に保持できる。又、陰極、被処理物へ
の通電は白金族金属/白金族金属酸化物電極と二
酸化鉛電極の両者が行うので、電流分布は一定に
なる。 このようにしてメツキ浴中のCr3+の濃度を好適
な範囲、即ち1.5g/から8g/に保持する
ことが出来る。この保持には、前記2種の電極の
面積比率を変えて行う。通常、該不溶性金属電極
と二酸化鉛電極の面積比は1:9から9:1の範
囲であり、最も望ましいのは3:7〜7:3であ
る。Cr3+濃度を前記の如く限定する理由は、Cr3+
濃度が1.5g/よりも低くなると被処理物表面
のクロムメツキ層表面状態が不安定になつたり、
硬度が低下するからである。 又、Cr3+イオン濃度が上昇すると、電解浴の粘
性が上がり、槽電圧の上昇が起こる。更に、8
g/を越えると、電流効率も低下するためにエ
ネルギー原単位が極めて高くなる。 白金族金属及び/又はその酸化物を含む被覆を
有する不溶性金属電極は、被覆中の白金族金属と
して白金、イリジウム、ルテニウム、ロジウム、
パラジウムが使用されるが、特に好適なのはイリ
ジウム及びイリジウム酸化物である。又、条件に
応じてこのイリジウムと他の白金族金属と組み合
わせて用いることが出来る。更に、物理強度の向
上、被覆層の安定化のために他の金属や金属酸化
物を加えることが出来る。即ち、スズ、コバル
ト、チタン、タンタル、ニオブ等の耐食性金属酸
化物を共存させる。尚、これら白金族金属及び/
又は酸化物を含む不溶性金属電極の製法は従来か
ら知られている方法(例えば特公昭48−3954号参
照)が適宜適用できる。代表的には、被覆層とな
る金属の塩の塩酸、又はアルコール又はこれらを
組み合わせた溶液を被覆液として、予め前処理を
施したチタン等の基体に塗布後、空気中等の酸化
性雰囲気中、又は必要に応じて還元性や不溶性雰
囲気中で400℃〜700℃で加熱分解を行うことによ
つて得られる。 一方、酸化鉛電極も従来より多くの製造法が知
られており、それによつて得られたものを本発明
に適用できる。その代表的な製造方法は、予め前
処理したTi基体表面に、被覆層二酸化鉛とTi基
材との間の付着性を向上させるよう中間層をつ
け、その表面の硝酸鉛水溶液から電解陽極酸化に
よつてPbO2層を形成することによつて得られる。 クロムメツキを行うには、これら2種の電極を
組み合わせてメツキ槽に陽極として配置接続し、
適宜のサージエント浴或いは類似の浴を満たして
行う。該陽極は、それぞれ電解電位が異なり、即
ち、そこでの主反応である酸素発生の電位は前者
の不溶性金属電極が1.6〜1.7VvsNHE、後者の二
酸化鉛電極が2〜2.2VvsNHEであるので、それ
ぞれに直流電源を接続してもよいが、実際のメツ
キ槽では設備が大型化し、操作が複雑化するので
実際上、これら2種の電極を単一の直流電源に接
続することによつて、これらの問題点を解決する
ことが出来る。この場合2種の電極の電流密度が
異なつたものなるが、実用上差支えなく、本発明
の目的を十分達成することができる。又、極間距
離は適宜選定できるが、通常3cm以上とすれば陰
極被処理物表面での電流分布はほぼ一定となり、
問題がない。 メツキ浴は、CrO3を硫酸性水溶液としたいわ
ゆるサージエント浴を好適に使用できるが、不溶
性金属電極等に危害を及ぼすものでなければ、他
の類似の種々のメツキ浴を用いることができる。
従つて、本発明においてサージエント浴とは、そ
れらの浴を含むものである。 〔実施例〕 以下実施例によつて、本発明を具体的に説明す
るが、これらは本発明を限定するものではない。 実施例 1 陽極として酸化イリジウムを20g/m2の割合で
チタン上に被覆した金属電極と、1mmの厚さを有
するPbO2をチタン上に被覆した二酸化鉛電極の
2種の不溶性金属電極を用意した。陰極被処理物
として、表面を清浄にした鋼板を用意し、陰極と
陽極の面積を同じ大きさにして上記2種の不溶性
金属電極の面積比を種々に変えて、サージエント
浴を使用したクロムメツキを行つた。 サージエント浴組成は、CrO3250g/+H2
SO4 2g/とし、温度50℃、電流密度25A/
dm2とした。 得られた結果を第1表に示した。 メツキ状態の判定は、外観観察及び摩擦テスト
により行い、クロムメツキ層が、強固に付着し、
光沢があるものを良、又、もろく、はがれやすい
もの或いはひび割れが生じたものを不良とした
(第2表も同じ) 第1表に示した結果から、Cr3+濃度が1.5g/
より小さい(No.1のPbO2電極のみ)と、槽電
圧は低いもののメツキ状態が不良で、良質のメツ
キが得られないことが分かる。又、7〜8g/
を更に超えると槽電圧が上昇すると共にメツキが
付かず不可能になり、1.5〜8g/のCr3+イオ
ン濃度範囲内で良好なメツキが得られるころが明
らかである。
と硫酸を含むメツキ浴を用いてクロムメツキを行
う方法に関するものである。 〔従来の技術と問題点〕 クロムメツキは、表面の美観のみでなく、硬
さ、良好な耐食性等を有するため、広範囲な用途
に使用されている。例えば、自動車等のエンジン
部品、各種シリンダー、グラビア印刷のロール
類、或いは食器や缶詰用缶等、工業用及び装飾用
として一般に利用されている。 クロムメツキを行うには、従来から種々のメツ
キ浴が使用されているが、代表的なものは、ケイ
フツ化物浴による方法とサージエント浴による方
法である。 前者は、仕上がりが良好で電流効率が比較的高
いという特長がある反面、液管理が難しく、且つ
メツキ浴にフツ化物イオンを含むので、その腐食
性により、メツキ装置の保持や保安上の困難があ
る。 一方、後者のサージエント浴による方法は、一
般に電流効率がやや低い問題があるものの、取り
扱いが容易であり、広く行われている。一般に、
サージエント浴によるクロム電気メツキ法は、無
水クロム酸CrO3等を硫酸と共に水に溶解してク
ロム酸を含むメツキ浴とし、6価クロムCr6+
(CrO4 2-、Cr2O7 2-等)からクロム金属を還元析
出させるものであるが、その際、還元が不完全で
メツキされない3価クロムCr3+がメツキ浴中に生
成し、このクロム酸メツキ浴中のCr3+の濃度が、
メツキ製品の品質及びメツキ液の取扱いやエネル
ギー効率等に大きな影響を与えることが知られて
いる。該電気メツキ法においては、従来、陽極と
して鉛又は鉛合金が使用されている。鉛や鉛合金
陽極は、3価クロムイオンCr3+の濃度を適度に保
つ反面、使用中に鉛又は鉛合金成分の溶出があ
り、その速度は数mg〜数10mg/AHと極めて大き
い、そのため、溶出した鉛又は鉛合金成分による
クロムメツキへの悪影響や、溶中にクロム酸鉛の
沈澱を形成するという欠点がある。このように、
クロム酸鉛の析出が生じる場合にはその悪影響を
避けるため、電解槽を深くしたり定期的に沈澱物
の除去や液の交換を行う必要がある等の問題もあ
る。 このような鉛の影響を少なくするために、フエ
ライトやマグネタイト電極を使用する方法が知ら
れているが、該電極は極めてもろく、機械強度が
不足するため、取り扱いに細心の注意を要するこ
と、又、電極物質の導電度が小さいため大電流密
度では使用できないこと、更に、メツキ浴中の
Cr3+の濃度が上昇してしまい、電流効率の低下並
びにメツキ品質を低下させること等の欠点を有し
ている。 そして、現在、最も適したクロムメツキ用電極
として二酸化鉛被覆電極が使用されている。二酸
化鉛被覆電極は、鉛や鉛合金電極と異なり、電解
液への溶出も0.1〜1mg/AH又はそれ以下と極め
て小さく、液の汚染や沈澱物の生成は殆どない
が、この電極の特性としてCr3+からCr6+への酸化
力が極めて大きいため、陰極(被処理物)と二酸
化鉛電極の面積を1:1と同程度にした場合、
Cr3+の濃度が1.5mg/以下となつてしまい、メ
ツキ品質を低下させるという欠点がある。これを
避けるためには、二酸化鉛陽極の面積を被処理物
に対して小さくする必要があり、電流分布の不均
一化や陽極電流密度の上昇に伴う陽極寿命の短縮
等の恐れが生じる。 一方、不溶性金属電極として、近年白金族金属
酸化物や白金族金属を含む被覆を有する金属電極
が知られ、種々の電解用電極として使用されてい
る。この種の電極は、陽極側の主成分である酸素
発生電位が極めて低いという特長を有する反面、
Cr3+→Cr6+の酸化反応性が極めて弱く、この電解
単独ではクロムメツキに陽極として使用した場
合、メツキ浴中のCr3+濃度が上昇し過ぎてしま
い、良好なメツキが出来なくなると共に、電流効
率の著しい低下を来す問題がある。 〔発明の目的〕 本発明は、叙上の問題を解決するためになされ
たもので、メツキ液中での沈澱生成が実質的に無
く、液中のCr3+濃度を好適な範囲に保持すること
ができ、良質なクロムメツキを容易に行うことが
出来るサージエント浴等を使用してクロムメツキ
を行う優れた方法を提供することを目的とする。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は、クロム酸と硫酸を含むメツキ浴を用
いてクロムメツキを行う方法において、陽極とし
て、白金族金属又は白金族金属酸化物を含む被覆
を有する不溶性金属電極と、二酸化鉛電極とを組
み合わせて使用し、メツキ浴中の3価クロムイオ
ン濃度を1.5〜8g/の範囲に保持することを
特徴とするクロムメツキ方法である。 このように、白金族金属及び/又はその酸化物
を含む被覆を有する不溶性金属電極と二酸化鉛電
極を陽極として併用することにより、メツキ浴中
のCr3+濃度を、好適な範囲に保持し、又、陰極被
処置物に均一な電流分布を与えることが出来る。
更に、陽極の大きさ及び配置を自由に選定でき、
又、より大面積の陽極の使用が可能となるので実
質的に陽極電流密度を低下させて陽極寿命を長く
し、運転保守を容易にすることが出来る。又、白
金族金属及び/又は白金族金属酸化物並びに二酸
化鉛は、いずれも陽極として極めて安定であり、
電解液中への溶解は実質的に全く無いと言つてよ
く、メツキ浴中に沈澱物の生成を起こらず、メツ
キ液は濃度調整のみでよくなり、定期的な沈澱物
の取り出しは不要となる。 即ち、Cr3+→Cr6+(CrO4 2-、Cr2O7 2-)への酸
化反応の触媒活性は、白金族金属や白金族金属酸
化物では小さいため実質的に反応が起こらず、こ
の反応に活性のある二酸化鉛の配置によつて必要
とする濃度に保持できる。又、陰極、被処理物へ
の通電は白金族金属/白金族金属酸化物電極と二
酸化鉛電極の両者が行うので、電流分布は一定に
なる。 このようにしてメツキ浴中のCr3+の濃度を好適
な範囲、即ち1.5g/から8g/に保持する
ことが出来る。この保持には、前記2種の電極の
面積比率を変えて行う。通常、該不溶性金属電極
と二酸化鉛電極の面積比は1:9から9:1の範
囲であり、最も望ましいのは3:7〜7:3であ
る。Cr3+濃度を前記の如く限定する理由は、Cr3+
濃度が1.5g/よりも低くなると被処理物表面
のクロムメツキ層表面状態が不安定になつたり、
硬度が低下するからである。 又、Cr3+イオン濃度が上昇すると、電解浴の粘
性が上がり、槽電圧の上昇が起こる。更に、8
g/を越えると、電流効率も低下するためにエ
ネルギー原単位が極めて高くなる。 白金族金属及び/又はその酸化物を含む被覆を
有する不溶性金属電極は、被覆中の白金族金属と
して白金、イリジウム、ルテニウム、ロジウム、
パラジウムが使用されるが、特に好適なのはイリ
ジウム及びイリジウム酸化物である。又、条件に
応じてこのイリジウムと他の白金族金属と組み合
わせて用いることが出来る。更に、物理強度の向
上、被覆層の安定化のために他の金属や金属酸化
物を加えることが出来る。即ち、スズ、コバル
ト、チタン、タンタル、ニオブ等の耐食性金属酸
化物を共存させる。尚、これら白金族金属及び/
又は酸化物を含む不溶性金属電極の製法は従来か
ら知られている方法(例えば特公昭48−3954号参
照)が適宜適用できる。代表的には、被覆層とな
る金属の塩の塩酸、又はアルコール又はこれらを
組み合わせた溶液を被覆液として、予め前処理を
施したチタン等の基体に塗布後、空気中等の酸化
性雰囲気中、又は必要に応じて還元性や不溶性雰
囲気中で400℃〜700℃で加熱分解を行うことによ
つて得られる。 一方、酸化鉛電極も従来より多くの製造法が知
られており、それによつて得られたものを本発明
に適用できる。その代表的な製造方法は、予め前
処理したTi基体表面に、被覆層二酸化鉛とTi基
材との間の付着性を向上させるよう中間層をつ
け、その表面の硝酸鉛水溶液から電解陽極酸化に
よつてPbO2層を形成することによつて得られる。 クロムメツキを行うには、これら2種の電極を
組み合わせてメツキ槽に陽極として配置接続し、
適宜のサージエント浴或いは類似の浴を満たして
行う。該陽極は、それぞれ電解電位が異なり、即
ち、そこでの主反応である酸素発生の電位は前者
の不溶性金属電極が1.6〜1.7VvsNHE、後者の二
酸化鉛電極が2〜2.2VvsNHEであるので、それ
ぞれに直流電源を接続してもよいが、実際のメツ
キ槽では設備が大型化し、操作が複雑化するので
実際上、これら2種の電極を単一の直流電源に接
続することによつて、これらの問題点を解決する
ことが出来る。この場合2種の電極の電流密度が
異なつたものなるが、実用上差支えなく、本発明
の目的を十分達成することができる。又、極間距
離は適宜選定できるが、通常3cm以上とすれば陰
極被処理物表面での電流分布はほぼ一定となり、
問題がない。 メツキ浴は、CrO3を硫酸性水溶液としたいわ
ゆるサージエント浴を好適に使用できるが、不溶
性金属電極等に危害を及ぼすものでなければ、他
の類似の種々のメツキ浴を用いることができる。
従つて、本発明においてサージエント浴とは、そ
れらの浴を含むものである。 〔実施例〕 以下実施例によつて、本発明を具体的に説明す
るが、これらは本発明を限定するものではない。 実施例 1 陽極として酸化イリジウムを20g/m2の割合で
チタン上に被覆した金属電極と、1mmの厚さを有
するPbO2をチタン上に被覆した二酸化鉛電極の
2種の不溶性金属電極を用意した。陰極被処理物
として、表面を清浄にした鋼板を用意し、陰極と
陽極の面積を同じ大きさにして上記2種の不溶性
金属電極の面積比を種々に変えて、サージエント
浴を使用したクロムメツキを行つた。 サージエント浴組成は、CrO3250g/+H2
SO4 2g/とし、温度50℃、電流密度25A/
dm2とした。 得られた結果を第1表に示した。 メツキ状態の判定は、外観観察及び摩擦テスト
により行い、クロムメツキ層が、強固に付着し、
光沢があるものを良、又、もろく、はがれやすい
もの或いはひび割れが生じたものを不良とした
(第2表も同じ) 第1表に示した結果から、Cr3+濃度が1.5g/
より小さい(No.1のPbO2電極のみ)と、槽電
圧は低いもののメツキ状態が不良で、良質のメツ
キが得られないことが分かる。又、7〜8g/
を更に超えると槽電圧が上昇すると共にメツキが
付かず不可能になり、1.5〜8g/のCr3+イオ
ン濃度範囲内で良好なメツキが得られるころが明
らかである。
【表】
実施例 2
陽極として、Pt70モル%、IrO230モル%から
なる被覆を有する不溶性金属電極とPbO2を被覆
した電極の2種を用意し、これを面積比1:1と
なるよう組合せ、使用した。 一方、種々の大きさの鋼板を陰極を陽極処理物
として上記陽極に対する陰極の面積比を変えて実
施例1と同様のクロムメツキを行つた。 比較用として、PbO2電極のみを陽極とした同
様のメツキ試験を行つた。 得られた結果を第2表に示す。
なる被覆を有する不溶性金属電極とPbO2を被覆
した電極の2種を用意し、これを面積比1:1と
なるよう組合せ、使用した。 一方、種々の大きさの鋼板を陰極を陽極処理物
として上記陽極に対する陰極の面積比を変えて実
施例1と同様のクロムメツキを行つた。 比較用として、PbO2電極のみを陽極とした同
様のメツキ試験を行つた。 得られた結果を第2表に示す。
本発明は、第1にクロム酸と硫酸を含むメツキ
浴を用いてクロムメツキを行うに際して、不溶性
金属電極と二酸化鉛電極を陽極として併用するの
で、メツキ浴中の3価クロムイオンの濃度を一定
の範囲に保持することが出来、良質のクロムメツ
キが得られる。 第2に、2種の陽極の面積比及び大きさや配置
を被処理物に対して広範囲に変えることが出来る
ので、実質電流密度の低下による電極の長寿命
化、並びに電流分布の均一化がもたらされる。 第3に、使用する2種の陽極はいずれも実質的
に不溶性で、溶出による浴の汚染や沈澱物を生成
することがないので、クロムメツキの運転保守が
簡単となり、長期間メンテナンスフリーで安定し
て行うことが出来る。 第4に、2種の陽極を単一の直流電源に接続し
てメツキを行うことが出来るので、設備が大型化
せず、操作が簡単となる。
浴を用いてクロムメツキを行うに際して、不溶性
金属電極と二酸化鉛電極を陽極として併用するの
で、メツキ浴中の3価クロムイオンの濃度を一定
の範囲に保持することが出来、良質のクロムメツ
キが得られる。 第2に、2種の陽極の面積比及び大きさや配置
を被処理物に対して広範囲に変えることが出来る
ので、実質電流密度の低下による電極の長寿命
化、並びに電流分布の均一化がもたらされる。 第3に、使用する2種の陽極はいずれも実質的
に不溶性で、溶出による浴の汚染や沈澱物を生成
することがないので、クロムメツキの運転保守が
簡単となり、長期間メンテナンスフリーで安定し
て行うことが出来る。 第4に、2種の陽極を単一の直流電源に接続し
てメツキを行うことが出来るので、設備が大型化
せず、操作が簡単となる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 クロム酸と硫酸を含むメツキ浴を用いて、ク
ロムメツキを行う方法において、陽極として白金
族金属又は白金族金属酸化物を含む被覆を有する
不溶性金属電極と、二酸化鉛電極とを組み合わせ
て使用し、メツキ浴中の3価クロムイオン濃度を
1.5〜8g/の範囲に保持することを特徴とす
るクロムメツキ方法。 2 白金族金属がイリジウムである特許請求の範
囲第1項に記載の方法。 3 不溶性金属電極と二酸化鉛電極とを、単一の
直流電源に接続して行う特許請求の範囲第1項に
記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10177487A JPS63270490A (ja) | 1987-04-27 | 1987-04-27 | クロムメツキ法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10177487A JPS63270490A (ja) | 1987-04-27 | 1987-04-27 | クロムメツキ法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63270490A JPS63270490A (ja) | 1988-11-08 |
JPH0559999B2 true JPH0559999B2 (ja) | 1993-09-01 |
Family
ID=14309559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10177487A Granted JPS63270490A (ja) | 1987-04-27 | 1987-04-27 | クロムメツキ法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63270490A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011140700A (ja) * | 2010-01-08 | 2011-07-21 | C Uyemura & Co Ltd | クロムめっき方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02194190A (ja) * | 1989-01-23 | 1990-07-31 | Japan Carlit Co Ltd:The | クロムメッキ方法 |
JPH0339496A (ja) * | 1989-07-06 | 1991-02-20 | Japan Carlit Co Ltd:The | スズメッキ方法 |
JP3188361B2 (ja) * | 1994-06-27 | 2001-07-16 | ペルメレック電極株式会社 | クロムめっき方法 |
CN102443837B (zh) * | 2011-11-18 | 2014-03-26 | 吉林大学 | 钛基钌钛锡三元氧化物涂层电极在三价铬电镀中的应用 |
CN110670091B (zh) * | 2019-09-30 | 2021-05-04 | 中国科学院过程工程研究所 | 形稳电极的涂层组合物、形稳电极、制备方法及应用 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56150197A (en) * | 1980-03-27 | 1981-11-20 | Schering Ag | Electrodeposition of lustrous ductile copper deposit |
-
1987
- 1987-04-27 JP JP10177487A patent/JPS63270490A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS56150197A (en) * | 1980-03-27 | 1981-11-20 | Schering Ag | Electrodeposition of lustrous ductile copper deposit |
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JP2011140700A (ja) * | 2010-01-08 | 2011-07-21 | C Uyemura & Co Ltd | クロムめっき方法 |
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JPS63270490A (ja) | 1988-11-08 |
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