JPH055984A - 平版印刷版の製造方法 - Google Patents

平版印刷版の製造方法

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JPH055984A
JPH055984A JP14732791A JP14732791A JPH055984A JP H055984 A JPH055984 A JP H055984A JP 14732791 A JP14732791 A JP 14732791A JP 14732791 A JP14732791 A JP 14732791A JP H055984 A JPH055984 A JP H055984A
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diazo
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Akinobu Koike
昭宣 小池
Nobuyuki Kita
信行 喜多
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 本発明は、支持体上に、カルボキシル基、フ
ェノール性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およ
びリンの酸素酸基からなる群から選ばれた少なくとも一
種を有する芳香族ジアゾニウム化合物を含有する感光層
が設けられており、該感光層上に相互に独立して設けら
れた突起物により、その表面がマット化されている感光
性平版印刷版を画像露光後、実質上有機溶媒を含まない
水性アルカリ現像液で現像することを特徴とする平版印
刷版の製造方法に関する。 【効果】 本発明の方法により、実質上有機溶媒を含ま
ない水性アルカリ現像液を用いて、ネガ型感光性平版印
刷版を良好に現像することができるようになった。ま
た、本発明の方法により、フィルム原稿との真空密着に
要する時間が短縮できるようになった。さらに、本発明
の方法により得られた平版印刷版は経時においても斑点
状汚れが少なく、微小網点のつぶれがない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、平版印刷版の製造方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】感光性印刷板は、一般に、アルミニウム
板等の支持体上に感光性組成物を塗布し、陰画等を通し
て紫外線等の活性光線を照射し、光が照射された部分を
重合あるいは架橋させ現像液に不溶化させ、光の非照射
部分を現像液に溶出させ、光照射部分を水を反発して油
性インキを受容する画像部、および光未照射部分を水を
受容して油性インキを反発する非画像部とすることによ
り得られる。
【0003】この場合における感光性組成物としては、
p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮
合物などのジアゾ樹脂が広く用いられてきた。一方、こ
れらのジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を露光後現
像する際、用いられる水性アルカリ現像液組成物として
は、例えば、特開昭51−77401号に示されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アル
カリ剤及び水からなる現像液組成物、特開昭53−44
202号に記載されている、ベンジルアルコール、アニ
オン性界面活性剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液から
なる現像液組成物、特開昭55−155355号に記載
されている、水に対する溶解度が常温において10重量
%以下である有機溶剤とアルカリ剤と水を含有する現像
液組成物等が挙げられる。
【0004】これらは、いずれも有機溶剤、界面活性剤
等の有機物を、現像液組成物中に含有している。しかし
ながら有機溶媒は、一般に毒性及び臭気があり、また火
災に対する危険性を持っており、さらに廃液においても
BOD規制を受けるなどの多くの欠点を有し、コストも
高くなる。これらの有機溶媒を実質上含まない現像液組
成物により、ジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版を現
像しようとする試みは特開昭57−192952号、特
開昭58−27141号に記載されている。しかしこれ
らに記載された感光性平版印刷版には密着露光時の真空
密着性をよくするための表面マット加工が施こされてい
ない。上記特許に記載の感光性平版印刷版上に特開昭5
5−12974号又は特開昭58−182636号に記
載されているような相互に独立した突起物を設けること
により表面マット加工を施こすとこれらの感光性平版印
刷版は該突起物が感光層への現像液浸透を遅らせる結
果、現像性が悪くなる。そのため特開昭57−1929
52号又は特開昭58−27141号に記載されている
ような実質上有機溶媒を含まない現像液で現像すると、
ジアゾ樹脂が本質的にアルカリ水可溶性を有さず、現像
性が低いため、感光層の上の表面マット層により、現像
されにくくなった箇所において、残膜を生ずることなく
現像することができず、印刷において地汚れをおこした
り、突起物が設けられた部分の感光層の一部、特にジア
ゾ樹脂が支持体上に残存する結果、印刷において斑点状
に汚れたりする。さらに上記の感光性平版印刷版を45
℃、相対湿度65%の条件下で50日間、強制劣化させ
た後、上記現像液で現像した平版印刷版では、上記欠点
はさらに顕著になる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、上記欠点を解消した平版印刷版の製造方法を提供す
ることである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成すべく鋭意検討した結果、新規な感光性組成物を用
いることにより、上記目的が達成されることを見い出
し、本発明を完成させるに至った。即ち本発明は、支持
体上に、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホ
ン酸基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基からなる
群から選ばれた少なくとも一種を有する芳香族ジアゾニ
ウム化合物を含有する感光層が設けられており、該感光
層上に相互に独立して設けられた突起物により、その表
面がマット化されている感光性平版印刷版を画像露光
後、実質上有機溶媒を含まない水性アルカリ現像液で現
像することを特徴とする平版印刷版の製造方法を提供す
るものである。
【0007】本発明に使用される、カルボキシル基、フ
ェノール性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およ
びリンの酸素酸基のうち少なくとも一種を有する芳香族
ジアゾニウム化合物の例を以下に示す。 (I)カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン
酸基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のうち少な
くとも一種を有する芳香族化合物と下記一般式(A)で
示される芳香族ジアゾニウム化合物とを構成単位として
含む共縮合ジアゾ樹脂:
【0008】
【化1】
【0009】式中、R1 は水素原子、置換基を有してい
てもよいアルキル基、ヒドロキシル基、カルボキシエス
テル基又はカルボキシル基を示し、好ましくは水素原
子、炭素数1〜5個のアルキル基又はヒドロキシル基を
示す。R2 は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を
示し、好ましくは水素原子又はメトキシ基を示す。R3
は水素原子アルキル基又はアルコキシ基を示し、好まし
くは水素原子を示す。
【0010】X- はアニオンを示し、好ましくは脂肪族
又は芳香族スルホン酸アニオンを示し、Yは−NH−、−
O−又は−S−を示す。該芳香族スルホン酸アニオンの
芳香族環としては、例えばフェニル基、ナフチル基を挙
げることができる。また前記のカルボキシル基、フェノ
ール性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およびリ
ンの酸素酸基は芳香族環に直接結合してもよく、連結基
を介して結合していてもよい。このような連結基として
は例えばエーテル結合を含む炭素数1以上の基を挙げる
ことができる。
【0011】分子中にカルボキシル基を有する芳香族化
合物の具体例としては、安息香酸、o−クロロ安息香
酸、m−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香酸、フタル
酸、テレフタル酸、ジフェニル酢酸、フェノキシ酢酸、
p−メトキシフェニル酢酸、3−フェノキシプロピオン
酸、2−フェノキシプロピオン酸、2−フェノキシブタ
ン酸、4−(4−メトキシフェノキシ)ブタン酸、3−
(2,4−ジメチルフェノキシ)ブタン酸、6−フェノ
キシヘキサン酸、フェニル酢酸、4−メトキシフェニル
酢酸、4−メチルフェニル酢酸、フェニルプロピオン
酸、フェニルブタン酸、p−メトキシ安息香酸、2,4
−ジメトキシ安息香酸、2,4−ジメチル安息香酸、p
−フェノキシ安息香酸、p−メトキシフェニル酢酸、4
−アニリノ安息香酸、4−(m−メトシキアニリノ)安
息香酸、4−(p−メトシキベンゾイル)安息香酸、4
−(p−メチルアニリノ)安息香酸、4−フェニルスル
ホニル安息香酸、サリチル酸、4−メチルサリチル酸、
6−メチルサリチル酸、4−エチルサリチル酸、6−プ
ロピルサリチル酸、6−ラウリルサリチル酸、6−ステ
アリルサリチル酸、4,6−ジメチルサリチル酸、p−
ヒドロキシ安息香酸、2−メチル−4−ヒドロキシ安息
香酸、6−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,6−
ジメチル−4−ヒドロキシ安息香酸、2,4−ジヒドロ
キシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ−6−メチル安息
香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,6−ジヒド
ロキシ−4−安息香酸、4−クロロ−2,6−ジヒドロ
キシ安息香酸、4−メトキシ−2,6−ジオキシ安息香
酸、没食子酸、フロログルシンカルボン酸、2,4,5
−トリヒドロキシ安息香酸、m−ガロイル没食子酸、タ
ンニン酸、m−ベンゾイル没食子酸、m−(p−トルイ
ル)没食子酸、プロトカテクオイル−没食子酸、4,6
−ジヒドロキシフタル酸、(2,4−ジヒドロキシフェ
ニル)酢酸、(2,6−ジヒドロキシフェニル)酢酸、
(3,4,5−トリヒドロキシフェニル)酢酸、p−ヒ
ドロキシメチル安息香酸、p−ヒドロキシエチル安息香
酸、4−(p−ヒドロキシフェニル)メチル安息香酸、
4−(o−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4−
(2,4−ジヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4−
(p−ヒドロキシフェノキシ)安息香酸、4−(p−ヒ
ドロキシアニリノ)安息香酸、ビス(3−カルボキシ−
4−ヒドロキシフェニル)アミン、4−(p−ヒドロキ
シフェニルスルホニル)安息香酸、4−(p−ヒドロキ
シフェニルチオ)安息香酸等があげられる。
【0012】フェノール性水酸基を有する芳香族化合物
の具体例としては、フェノール、(o,m,p)クレゾ
ール、キシレノール、レゾルシン、2−メチルゾルシ
ン、(o,m,p)−メトキシフェノール、m−エトキ
シフェノール、カテコール、フロログリシン、p−ヒド
ロキシエチルフェノール、ナフトール、ピロガロール、
ヒドロキノン、p−ヒドロキシベンジルアルコール、4
−クロロレゾルシン、ビフェニル4,4−ジオール、
1,2,4−ベンゼントリオール、ビスフェノールA、
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−ト
リヒドロキシベンゾフェノン、p−ヒドロキシアセトフ
ェノン、4,4−ジヒドロキシジフェニルエーテル、
4,4−ジヒドロキシジフェニルアミン、4,4′−ジ
ヒドロキシジフェニルスルフィド、クミルフェノール、
(o,m,p)−クロロフェノール、(o,m,p)−
ブロモフェノール等があげられる。
【0013】スルホン酸基及び/又はスルフィン酸基を
有する芳香族化合物の具体例としては、ベンゼンスルホ
ン酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルフィン
酸、p−トルエンスルフィン酸、アニリン−2−スルホ
ン酸、4−アミノ−m−トルエンスルホン酸、2,5−
ジアミノベンゼンスルホン酸、1−ナフタレンスルホン
酸、1−アミノ−2−ナフタレンスルホン酸、5−アミ
ノ−2−ナフタレンスルホン酸、7−アミノ−1,3−
ナフタレンジスルホン酸、2−アミノ−1,5−ナフタ
レンジスルホン酸、2−スルホ安息香酸等があげられ
る。
【0014】これらは、遊離のスルホン酸又はスルフィ
ン酸であってもよいし、ナトリウム、カリウム、リチウ
ム、セシウム、カルシウム、バリウム、マグネシウム、
アルミニウム、亜鉛などの金属塩又は、無置換もしくは
置換アルミニウム塩であってもよい。分子中にリンの酸
素酸基を有する芳香族化合物の具体例としては、フェニ
ルリン酸、フェニル亜リン酸、フェニルホスホン酸、フ
ェニル亜ホスホン酸、フェニルホスフィン酸、フェニル
亜ホスフィン酸、4−ヒドロキシフェニルリン酸、4−
ヒドロキシフェニル亜リン酸、4−ヒドロキシフェニル
ホスホン酸、4−ヒドロキシフェニル亜ホスホン酸、4
−ヒドロキシフェニルホスフィン酸、4−ヒドロキシフ
ェニル亜ホスフィン酸、4−メチルフェニルリン酸、4
−メチルフェニル亜リン酸、4−メチルフェニルホスホ
ン酸、4−メチルフェニル亜ホスホン酸、4−メチルフ
ェニルホスフィン酸、4−メチルフェニル亜ホスフィン
酸、4−t−ブチルフェニルリン酸、4−t−ブチルフ
ェニル亜リン酸、4−t−ブチルフェニルホスホン酸、
4−t−ブチルフェニル亜ホスホン酸、4−t−ブチル
フェニルホスフィン酸、4−t−ブチルフェニル亜ホス
フィン酸、4−アミノフェニルリン酸、4−アミノフェ
ニル亜リン酸、4−アミノフェニルホスホン酸、4−ア
ミノフェニル亜ホスホン酸、4−アミノフェニルホスフ
ィン酸、4−アミノフェニル亜ホスフィン酸、4−メト
キシフェニルリン酸、4−メトキシフェニル亜リン酸、
4−メトキシフェニルホスホン酸、4−メトキシフェニ
ル亜ホスホン酸、4−メトキシフェニルホスフィン酸、
4−メトキシフェニル亜ホスフィン酸、4−エトキシフ
ェニルリン酸、4−エトキシフェニル亜リン酸、4−エ
トキシフェニルホスホン酸、4−エトキシフェニル亜ホ
スホン酸、4−エトキシフェニルホスフィン酸、4−エ
トキシフェニル亜ホスフィン酸、4−エチルフェニルリ
ン酸、4−エチルフェニル亜リン酸、4−エチルフェニ
ルホスホン酸、4−エチルフェニル亜ホスホン酸、4−
エチルフェニルホスフィン酸、4−エチルフェニル亜ホ
スフィン酸、2−アミノフェニルリン酸、2−アミノフ
ェニル亜リン酸、2−アミノフェニルホスホン酸、2−
アミノフェニル亜ホスホン酸、2−アミノフェニルホス
フィン酸、2−アミノフェニル亜ホスフィン酸、2,4
−ジメチルフェニルリン酸、2,4−ジメチルフェニル
亜リン酸、2,4−ジメチルフェニルホスホン酸、2,
4−ジメチルフェニル亜ホスホン酸、2,4−ジメチル
フェニルホスフィン酸、2,4−ジメチルフェニル亜ホ
スフィン酸、2,6−ジアミノフェニルリン酸、2,6
−ジアミノフェニル亜リン酸、2,6−ジアミノフェニ
ルホスホン酸、2,6−ジアミノフェニル亜ホスホン
酸、2,6−ジアミノフェニルホスフィン酸、2,6−
ジアミノフェニル亜ホスフィン酸、2,5−ジヒドロキ
シフェニルリン酸、2,5−ジヒドロキシフェニル亜リ
ン酸、2,5−ジヒドロキシフェニルホスホン酸、2,
5−ジヒドロキシフェニル亜ホスホン酸、2,5−ジヒ
ドロキシフェニルホスフィン酸、2,5−ジヒドロキシ
フェニル亜ホスフィン酸、2−アミノ−4−ヒドロキシ
フェニルリン酸、2−アミノ−4−ヒドロキシフェニル
亜リン酸、2−アミノ−4−ヒドロキシフェニルホスホ
ン酸、2−アミノ−4−ヒドロキシフェニル亜ホスホン
酸、2−アミノ−4−ヒドロキシフェニルホスフィン
酸、2−アミノ−4−ヒドロキシフェニル亜ホスフィン
酸、メシチルリン酸、メシチル亜リン酸、メシチルホス
ホン酸、メシチル亜ホスホン酸、メシチルホスフィン
酸、メシチル亜ホスフィン酸、2,4−ジヒドロキシ−
6−メチルフェニルリン酸、2,4−ジヒドロキシ−6
−メチルフェニル亜リン酸、2,4−ジヒドロキシ−6
−メチルフェニルホスホン酸、2,4−ジヒドロキシ−
6−メチルフェニル亜ホスホン酸、2,4−ジヒドロキ
シ−6−メチルフェニルホスフィン酸、2,4−ジヒド
ロキシ−6−メチルフェニル亜ホスフィン酸、ベンジル
リン酸、ベンジル亜リン酸、ベンジルホスホン酸、ベン
ジル亜ホスホン酸、ベンジルホスフィン酸、ベンジル亜
ホスフィン酸、4−メトキシベンジルリン酸、4−メト
キシベンジル亜リン酸、4−メトキシベンジルホスホン
酸、4−メトキシベンジル亜ホスホン酸、4−メトキシ
ベンジルホスフィン酸、4−メトキシベンジル亜ホスフ
ィン酸、4−ヒドロキシベンジルリン酸、4−ヒドロキ
シベンジル亜リン酸、4−ヒドロキシベンジルホスホン
酸、4−ヒドロキシベンジル亜ホスホン酸、4−ヒドロ
キシベンジルホスフィン酸、4−ヒドロキシベンジル亜
ホスフィン酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル
リン酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル亜リン
酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニルホスホン
酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル亜ホスホン
酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニルホスフィン
酸、4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル亜ホスフィ
ン酸、2−フェニルエチルリン酸、2−フェニルエチル
亜リン酸、2−フェニルエチルホスホン酸、2−フェニ
ルエチル亜ホスホン酸、2−フェニルエチルホスフィン
酸、2−フェニルエチル亜ホスフィン酸、1−ナフチル
リン酸、1−ナフチル亜リン酸、1−ナフチルホスホン
酸、1−ナフチル亜ホスホン酸、1−ナフチルホスフィ
ン酸、1−ナフチル亜ホスフィン酸、2−ナフチルリン
酸、2−ナフチル亜リン酸、2−ナフチルホスホン酸、
2−ナフチル亜ホスホン酸、2−ナフチルホスフィン
酸、2−ナフチル亜ホスフィン酸、2−アミノ−1−ナ
フチルリン酸、2−アミノ−1−ナフチル亜リン酸、2
−アミノ−1−ナフチルホスホン酸、2−アミノ−1−
ナフチル亜ホスホン酸、2−アミノ−1−ナフチルホス
フィン酸、2−アミノ−1−ナフチル亜ホスフィン酸、
4−アミノ−1−ナフチルリン酸、4−アミノ−1−ナ
フチル亜リン酸、4−アミノ−1−ナフチルホスホン
酸、4−アミノ−1−ナフチル亜ホスホン酸、4−アミ
ノ−1−ナフチルホスフィン酸、4−アミノ−1−ナフ
チル亜ホスフィン酸、5−アミノ−2−ナフチルリン
酸、5−アミノ−2−ナフチル亜リン酸、5−アミノ−
2−ナフチルホスホン酸、5−アミノ−2−ナフチル亜
ホスホン酸、5−アミノ−2−ナフチルホスフィン酸、
5−アミノ−2−ナフチル亜ホスフィン酸、4−アミノ
−3−ヒドロキシ−1−ナフチルリン酸、4−アミノ−
3−ヒドロキシ−1−ナフチルホスホン酸、4−アミノ
−5−ヒドロキシ−1−ナフチルリン酸、4−アミノ−
5−ヒドロキシ−1−ナフチルホスホン酸、7−アミノ
−3−ヒドロキシ−2−ナフチルリン酸、7−アミノ−
3−ヒドロキシ−2−ナフチルホスホン酸、5−ジメチ
ルアミノ−ナフチルリン酸、5−ジメチルアミノ−2−
ナフチルホスホン酸、5−ヒドロキシ−1−ナフチルリ
ン酸、5−ヒドロキシ−1−ナフチルホスホン酸、5−
メトキシ−2−ナフチルリン酸、5−メトキシ−2−ナ
フチルホスホン酸、4−フェノキシフェニルリン酸、4
−フェノキシフェニルホスホン酸、4−(4−メトキシ
フェノキシ)フェニルリン酸、4−(4−メトキシフェ
ノキシ)フェニルホスホン酸、4−ジフェニルアミノリ
ン酸、4−ジフェニルアミノ亜リン酸、4−ジフェニル
アミノホスホン酸、4−ジフェニルアミノ亜ホスホン
酸、4−ジフェニルアミノホスフィン酸、4−ジフェニ
ルアミノ亜ホスフィン酸、4′−メトキシ−4−ジフェ
ニルアミノリン酸、4′−メトキシ−4−ジフェニルア
ミノ亜リン酸、4′−メトキシ−4−ジフェニルアミノ
ホスホン酸、2−フェノキシエチルリン酸、2−フェノ
キシエチル亜リン酸、2−フェノキシエチルホスホン
酸、2−フェノキシエチル亜ホスホン酸、2−フェノキ
シエチルホスフィン酸、2−フェノキシエチル亜ホスフ
ィン酸、ベンジル(2−ジヒドロキシホスフィニルオキ
シ)アセテート、ベンジル(2−ジヒドロキシホスフィ
ニル)アセテート、4−メトキシベンジル、2−ジヒド
ロキシホスフィニルオキシアセテート、4−メトキシベ
ンジル 2−ジヒドロキシホスフィニルアセテート、3
−ジヒドロキシホスフィニルオキシプロピオン酸フェニ
ル、3−ジヒドロキシホスフィニルプロピオン酸フェニ
ル、3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプロピオン酸
(3−メトキシフェニル)、4−ジヒドロキシホスフィ
ニル酪酸(3−メトキシフェニル)、4−ジヒドロキシ
ホスフィニルオキシ酪酸(4−ヒドロキシフェニル)、
3−ジヒドロキシホスフィニルプロピオン酸(4−ヒド
ロキシフェニル)、2,4,6−トリメチル−1,3−
ベンゼン−ビス−リン酸、2,4,6−トリメチル−
1,3−ベンゼン−ビス−ホスホン酸、2,5−ジヒド
ロキシ−1,4−ベンゼン−ビス−リン酸、2,5−ジ
ヒドロキシ−1,4−ベンゼン−ビス−ホスホン酸、
2,5−ジヒドロキシ−1,3−ベンゼン−ビス−リン
酸、2,5−ジヒドロキシ−1,3−ベンゼン−ビス−
ホスホン酸、1,5−ナフタレン−ビス−リン酸、1,
5−ナフタレン−ビス−ホスホン酸、2,6−ナフタレ
ン−ビス−リン酸、2,6−ナフタレン−ビス−ホスホ
ン酸、7−アミノ−1,3−ナフタレン−ビス−リン
酸、7−アミノ−1,3−ナフタレン−ビス−ホスホン
酸、3−メトキシ−2,7−ナフタレン−ビス−リン
酸、3−メトキシ−2,7−ナフタレン−ビス−ホスホ
ン酸などが挙げられる。
【0015】これらのうち特に好ましいものは、4−メ
トキシ安息香酸、3−クロロ安息香酸、2,4−ジメト
キシ安息香酸、p−フェノキシ安息香酸、4−アニリノ
安息香酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、p−ヒドロ
キシ安息香酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼ
ンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、1−ナフタ
レンスルホン酸、フェニルリン酸およびフェノキシメチ
ルホスホン酸である。
【0016】本発明における、カルボキシル基、フェノ
ール性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およびリ
ンの酸素酸基(以下、これらの基を「酸基」という)の
少なくとも1種を有する芳香族化合物と芳香族ジアゾニ
ウム化合物とを構成単位として含む、活性カルボニル化
合物との縮合型樹脂(以下ジアゾ共縮合樹脂という)
は、公知の方法、例えば、フォトグラフィック・サイエ
ンス・アンド・エンジニアリング(Photo, Sci., Eng.)
第17巻、第33頁 (1973) 、米国特許第 2,063,631号、同
第2,679,498 号、特公昭49−48001号公報に記載
の方法に従い、硫酸やリン酸あるいは塩酸中でジアゾニ
ウム塩、少なくとも1種の酸基を有する芳香族化合物お
よびアルデヒド類、例えばホルムアルデヒド、アセトア
ルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、
iso −ブチルアルデヒド、ベンズアルデヒドあるいはケ
トン類、例えばアセトン、メチルエチルケトン、アセト
フェノンのような活性カルボニル化合物又はそれらのア
セタールとを重縮合させることによって得られる。
【0017】また、これらの分子中に酸基を有する芳香
族化合物、芳香族ジアゾニウム化合物および活性カルボ
ニル化合物又はそれらのアセタールは相互に組合せ自由
であり、さらに各々2種以上を混ぜて共縮合することも
可能である。またさらに酸基を有しない共縮合可能な芳
香族化合物を添加して共縮合させることもできる。ここ
で、共縮合可能な芳香族化合物としては、例えば、特公
昭49−48001号公報に記載の芳香族化合物が挙げ
られる。
【0018】また、前記活性カルボニル化合物又はそれ
らのアセタールの代わりに、特公昭49−45322号
及び同49−45323号公報に記載されているような
メチロール誘導体、又は特開昭58−187925号公
報に記載されているようなオレフィン性不飽和化合物を
用いることもできる。なお、これらの共縮合成分の仕込
みモル比を変えることによって、生成するジアゾ樹脂の
酸基含有量を調整することができる。
【0019】その際、酸基を有する芳香族化合物と芳香
族ジアゾニウム化合物の仕込みモル比は、1:0.1〜0.
1:1、好ましくは1:0.2〜0.2:1、より好ましく
は1:0.5〜0.2:1である。またこの場合酸基を有す
る芳香族化合物および芳香族ジアゾニウム化合物の合計
と活性カルボニル化合物とをモル比で通常1:0.6〜1.
5、好ましくは1:0.7〜1.2で仕込み、低温で短時
間、例えば1〜20時間程度反応させることによりジア
ゾ共縮合樹脂が得られる。(II)以下の一般式(B)で
示される繰り返し単位を少なくとも1個有しているジア
ゾ樹脂:
【0020】
【化2】
【0021】式中R4 はカルボキシル基、フェノール性
水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基又はリンの酸素
酸基であるかもしくはこれらを少なくとも1個有する炭
素数15以下の基である。R1 、R2 、R3 、X- およ
びYは前記一般式(A)で示された基と同じである。
【0022】本発明に用いるジアゾ樹脂(II)の合成法
としては、例えば、4−ジアゾジフェニルアミン骨格、
4−ジアゾジフェニルエーテル骨格又は4−ジアゾジフ
ェニルスルフィド骨格を有するジアゾ単量体とカルボキ
シル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、スルフィ
ン酸基およびリンの酸素酸基のうち1個を有するアルデ
ヒド又はアセタールとをモル比で各々好ましくは1:1
0〜1:0.05、さらに好ましくは1:2〜1:0.2の
割合において酸性媒体中で縮合させる方法が挙げられ
る。縮合反応を行う際には、生成するジアゾ樹脂の酸価
ならびに分子量を調整するために、ホルムアルデヒド、
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアル
デヒド、iso −ブチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、
アセトン、メチルエチルケトン又はアセトフェノンのよ
うな活性カルボニル化合物又はそれらのアセタールを縮
合剤として併用することができる。上記の活性カルボニ
ル化合物としては、ホルムアルデヒドが最も好ましく、
その仕込み比はジアゾ単量体に対してモル比で好ましく
は、0〜5、さらに好ましくは、0.1〜1である。な
お、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸
基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸基のうち1つを
有するアルデヒドと有していない活性カルボニル化合物
を併用する場合、まず、ジアゾ単量体と上記酸基を有す
るアルデヒドとを酸性媒体中で縮合させ、ついで、より
反応性の高い、例えば、ホルムアルデヒドのような活性
カルボニル化合物又はそれらのアセタールを用いて後縮
合を行なうと、より高分子量のジアゾ樹脂を得ることが
できる。
【0023】また、上記の活性カルボニル化合物又はそ
れらのアセタールの代わりに,特公昭49−45322
号及び同49−45323号明細書に記載されているよ
うなメチロール誘導体、又は特開昭58−187925
号明細書に記載されているようなオレフィン性不飽和化
合物を用いることもできる。上記カルボキシル基、フェ
ノール性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基および
リンの酸素酸基のうち1つを有するアルデヒド又はその
アセタールとしては、好ましくは下記一般式(C)で示
される構造を有するアルデヒド又はそれらのアセタール
が含まれる。
【0024】 Z−R5 −CHO (C) 式中、R5 は単結合又は置換基を有していてもよい2価
炭素数0〜14の有機基(例えば、脂肪族炭化水素基、
芳香族炭化水素基又はヘテロ環基など)を示す。R5
置換しうる基としては、例えばアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、ヒ
ドロキシ基、置換あるいは無置換アミノ基、カルボキシ
エステル基又はカルボキシル基などが含まれる。Zはカ
ルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、ス
ルフィン酸基およびリンの酸素酸基のうち1個の基を示
す。
【0025】カルボキシル基を有するアルデヒド又はそ
のアセタールの具体例としては、例えばグリオキシル
酸、マロンアルデヒド酸、スクシンアルデヒド酸、2−
メチルスクシンアルデヒド酸、2−メトキシスクシンア
ルデヒド酸、2−ヒドロキシスクシンアルデヒド酸、2
−クロロスクシンアルデヒド酸、2−アミノスクシンア
ルデヒド酸、グルタルアルデヒド酸、2−メチルグルタ
ルアルデヒド酸、2−メトキシグルタルアルデヒド酸、
2−ヒドロキシグルタルアルデヒド酸、2−クロログル
タルアルデヒド酸、アジピンアルデヒド酸、ピメリンア
ルデヒド酸、スベリンアルデヒド酸、アゼラインアルデ
ヒド酸、セバシンアルデヒド酸、2−ホルミルメチルコ
ハク酸、2−ホルミルエチルコハク酸、ホルミルメチル
マロン酸、ホルミルエチルマロン酸、N−(2−ホルミ
ル−2−ヒドロキシエチル)グリシン、N−(2−ホル
ミル−2−ヒドロキシビニル)グリシン、4,6−ジオ
キソ−ヘキサン酸、6−オキソ−2,4−ヘキサジエン
酸、3−ホルミルシクロヘキサンカルボン酸、4−ホル
ミルフェニル酢酸、マレアルデヒド酸、フマルアルデヒ
ド酸、ジブロモマレアルデヒド酸、グルクロン酸、ガラ
クトロン酸、マンヌロン酸、イドロン酸、グルロン酸、
フタルアルデヒド酸、3,4−ジメトキシフタルアルデ
ヒド酸、イソフタルアルデヒド酸、テレフタルアルデヒ
ド酸、3−ホルミル−4−メトキシ安息香酸、4−ホル
ミルフタル酸、5−ホルミルイソフタル酸、4−ホルミ
ルメチルフタル酸、4−ホルミルエチルフタル酸、4−
ホルミルエトキシフタル酸、5−ホルミルエトキシイソ
フタル酸、4−カルボキシメチルフタル酸、3−ホルミ
ル−1−ナフトエ酸、6−ホルミル−1−ナフトエ酸、
又は、それらのアセタール等が挙げられる。
【0026】フェノール性水酸基、スルホン酸基又はス
ルフィン酸基を有するアルデヒド又は、そのアセタール
の具体例としては、例えばp−ヒドロキシベンズアルデ
ヒド、2−オキソ−1−エタンスルホン酸、3−オキソ
−1−プロパンスルホン酸、4−オキソ−1−ブタンス
ルホン酸、5−オキソ−1−ペンタンスルホン酸、6−
オキソ−1−ヘキサンスルホン酸、2−ホルミルベンゼ
ンスルホン酸、3−ホルミルベンゼンスルホン酸、4−
ホルミルベンゼンスルホン酸、4−ホルミルベンゼンス
ルフィン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−プロ
パンスルホン酸、2,3−ジメチル−4−オキソ−1−
ブタンスルホン酸、2−メチル−6−オキソ−1−ヘキ
サンスルホン酸、2−ホルミル−4−メトキシベンゼン
スルホン酸、4−アミノ−3−ホルミルベンゼンスルホ
ン酸、4−(2−オキソエチル)ベンゼンスルホン酸、
3−(3−オキソプロピル)ベンゼンスルホン酸、4−
ホルミル−1,3−ベンゼンジスルホン酸、2−ホルミ
ル−1,3−ベンゼンジスルホン酸、2−ホルミル−1
−ナフタレンスルホン酸、4−ホルミル−1−ナフタレ
ンスルホン酸、4−ホルミル−1−ナフタレンスルフィ
ン酸、5−ホルミル−2−ナフタレンスルホン酸、7−
ホルミル−1,4−ナフタレンジスルホン酸、5−アミ
ノ−7−ホルミル−2−ナフタレンスルホン酸、5−ホ
ルミル−2−フランスルホン酸、3−ホルミル−2−フ
ランスルホン酸、5−ホルミル−3−フランスルホン
酸、1−オキソ−1−メタンスルホン酸、4−ホルミル
フェノキシ−3−プロパンスルホン酸、4−ホルミルフ
ェノキシ−4−ブタンスルホン酸、3−ホルミルフェノ
キシ−3−ブタンスルホン酸、p−ホルミル−N−(2
−スルホニルエチル)ベンズアミド、m−ホルミル−N
−(3−スルホニルプロピル)ベンズアミド、p−ホル
ミル安息香酸−2−スルホニルエチル、p−ホルミル安
息香酸−p−スルホニルプロピル、m−ホルミル安息香
酸−4−スルホニルブチル、p−スルホニル安息香酸−
2−ホルミルエチル、p−スルホニル安息香酸−3−ホ
ルミルプロピル、3−ホルミルプロピオン酸−m−スル
ホニルフェニル、N−(2−スルホニルエチル)−3−
ホルミルプロピオンアミド、3−ホルミルプロピオン酸
−2−スルホニルエチル、N−(3−スルホニルフェニ
ル)グリオキシル酸アミド、N−(2−スルホニルエチ
ル)グリオキシル酸アミド、グリオキシル酸−2−スル
ホニルエチル、又はそれらのアセタールがあげられる。
【0027】もちろんこれらは、遊離のスルホン酸又は
スルフィン酸であってもよいし、ナトリウム、カリウ
ム、リチウム、セシウム、カルシウム、バリウム、マグ
ネシウム、アルミニウム、亜鉛などの金属塩又は、無置
換もしくは置換アンモニウム塩であってもよい。リンの
酸素酸基を有するアルデヒド又はそのアセタールの具体
例としては、例えば、2−オキソ−1−エチルリン酸、
2−オキソ−1−エチル亜リン酸、2−オキソ−1−エ
チルホスホン酸、2−オキソ−1−エチル亜ホスホン
酸、2−オキソ−1−エチルホスフィン酸、2−オキソ
−1−エチル亜ホスフィン酸、3−オキソ−1−プロピ
ルリン酸、3−オキソ−1−プロピル亜リン酸、3−オ
キソ−1−プロピルホスホン酸、3−オキソ−1−プロ
ピル亜ホスホン酸、3−オキソ−1−プロピルホスフィ
ン酸、3−オキソ−1−プロピル亜ホスフィン酸、4−
オキソ−1−ブチルリン酸、4−オキソ−1−ブチル亜
リン酸、4−オキソ−1−ブチルホスホン酸、4−オキ
ソ−1−ブチル亜ホスホン酸、4−オキソ−1−ブチル
ホスフィン酸、4−オキソ−1−ブチル亜ホスフィン
酸、5−オキソ−1−ペンチルリン酸、5−オキソ−1
−ペンチル亜リン酸、5−オキソ−1−ペンチルホスホ
ン酸、5−オキソ−1−ペンチル亜ホスホン酸、5−オ
キソ−1−ペンチルホスフィン酸、5−オキソ−1−ペ
ンチルホスフィン酸、5−オキソ−1−ペンチル亜ホス
フィン酸、6−オキソ−1−ヘキシルリン酸、6−オキ
ソ−1−ヘキシル亜リン酸、6−オキソ−1−ヘキシル
ホスホン酸、6−オキソ−1−ヘキシル亜ホスホン酸、
6−オキソ−1−ヘキシルホスフィン酸、6−オキソ−
1−ヘキシル亜ホスフィン酸、2−ホルミルフェニルリ
ン酸、2−ホルミルフェニル亜リン酸、2−ホルミルフ
ェニルホスホン酸、2−ホルミルフェニル亜ホスホン
酸、2−ホルミルフェニルホスフィン酸、2−ホルミル
フェニル亜ホスフィン酸、3−ホルミルフェニルリン
酸、3−ホルミルフェニル亜リン酸、3−ホルミルフェ
ニルホスホン酸、3−ホルミルフェニル亜ホスホン酸、
3−ホルミルフェニルホスフィン酸、3−ホルミルフェ
ニル亜ホスフィン酸、4−ホルミルフェニルリン酸、4
−ホルミルフェニル亜リン酸、4−ホルミルフェニルホ
スホン酸、4−ホルミルフェニル亜ホスホン酸、4−ホ
ルミルフェニルホスフィン酸、4−ホルミルフェニル亜
ホスフィン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−プ
ロピルリン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−プ
ロピル亜リン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−1−
プロピルホスホン酸、2,2−ジメチル−3−オキソ−
1−プロピル亜ホスホン酸、2,2−ジメチル−3−オ
キソ−1−プロピルホスフィン酸、2,2−ジメチル−
3−オキソ−1−プロピル亜ホスフィン酸、2,3−ジ
メチル−4−オキソ−1−ブチルリン酸、2,3−ジメ
チル−4−オキソ−1−ブチルホスホン酸、2−メチル
−6−オキソ−1−ヘキシルリル酸、2−メチル−6−
オキソ−1−ヘキシルホスホン酸、2−ホルミル−4−
メトキシフェニルリン酸、2−ホルミル−4−メトキシ
フェニルホスホン酸、4−アミノ−3−ホルミルフェニ
ルリン酸、4−アミノ−3−ホルミルフェニルホスホン
酸、4−(2−オキソエチル)フェニルリン酸、4−
(2−オキソエチル)フェニルホスホン酸、3−(3−
オキソプロピル)フェニルリン酸、3−(3−オキソプ
ロピル)フェニルホスホン酸、2,4−ビス−(ジヒド
ロキシホスフィニルオキシ)ベンズアルデヒド、2,4
−ビス−(ジヒドロキシホスフィニル)ベンズアルデヒ
ド、2,6−ビス−(ジヒドロキシホスフィニルオキ
シ)ベンズアルデヒド、2,6−ビス−(ジヒドロキシ
ホスフィニル)ベンズアルデヒド、2−ホルミル−1−
ナフチルリン酸、2−ホルミル−1−ナフチルホスホン
酸、4−ホルミル−1−ナフチルリン酸、4−ホルミル
−1−ナフチルホスホン酸、5−ホルミル−2−ナフチ
ルリン酸、5−ホルミル−2−ナフチルホスホン酸、
1,4−ビス−(ジヒドロキシホスフィニルオキシ)−
7−ナフチルアルデヒド、1,4−ビス−(ジヒドロキ
シホスフィニル)−7−ナフチルアルデヒド、5−アミ
ノ−7−ホルミル−2−ナフチルリン酸、5−アミノ−
7−ホルミル−2−ナフチルホスホン酸、5−ホルミル
−2−フリルリン酸、5−ホルミル−2−フリルホスホ
ン酸、3−ホルミル−2−フリルリン酸、3−ホルミル
−2−フリルホスホン酸、5−ホルミル−3−フリルリ
ン酸、5−ホルミル−3−フリルホスホン酸、1−オキ
ソ−1−メチルリン酸、1−オキソ−1−メチルホスホ
ン酸、3−(4−ホルミルフェノキシ)−1−プロピル
リン酸、3−(4−ホルミルフェノキシ)−1−プロピ
ルホスホン酸、4−(4−ホルミルフェノキシ)−1−
ブチルリン酸、4−(4−ホルミルフェノキシ)−1−
ブチルホスホン酸、3−(3−ホルミルフェノキシ)−
1−ブチルリン酸、3−(3−ホルミルフェノキシ)−
1−ブチルホスホン酸、4−ホルミル−2−(2−ジヒ
ドロキシホスフィニルオキシエチル)安息香酸、4−ホ
ルミル−2−(2−ジヒドロキシホスフィニルエチル)
安息香酸、4−ホルミル−3−(3−ジヒドロキシホス
フィニルオキシプロピル)安息香酸、4−ホルミル−2
−(3−ジヒドロキシホスフィニル)安息香酸、4−ホ
ルミル−4−(4−ジヒドロキシホスフィニルオキシブ
チル)安息香酸、又はそれらのアセタールなどが挙げら
れる。
【0028】(III)カルボキシル基、フェノール性水酸
基、スルホン酸基、スルフィン酸基およびリンの酸素酸
基のうち少なくとも一種を有する、一般式(D)、
(E)又は(F)で示される芳香族ジアゾニウム化合物
とアルデヒド又はケトンもしくはそれらの活性カルボニ
ル化合物の等価体との縮合反応により得られるジアゾ樹
脂:
【0029】
【化3】
【0030】
【化4】
【0031】
【化5】
【0032】式中、R4 はカルボキシル基、フェノール
性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基又はリンの酸
素酸基であり、R1 、R2 、R3 、X- およびYは前記
一般式(A)で示された基と同じであり、nは1又は2
の整数である。一般式(D)、(E)又は(F)で示さ
れる化合物としては具体的には、例えば、4−ジアゾジ
フェニルアミン−4′−カルボン酸、4−ジアゾジフェ
ニルアミン−2−カルボン酸、4−ジアゾジフェニルア
ミン−2′−カルボン酸、4′−メトキシ−4−ジアゾ
ジフェニルアミン−2′−カルボン酸、4′−メトキシ
−4−ジアゾジフェニルアミン−2−カルボン酸、4′
−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン−3−カルボ
ン酸、4 ′−ヒドロキシ−4−ジアゾジフェニルアミ
ン、4−ジアゾジフェニルアミン−4′−スルホン酸、
4−ジアゾジフェニルアミン−2−スルホン酸、4−ジ
アゾジフェニルアミン−3−スルホン酸、4−ジアゾジ
フェニルアミン−2′−スルホン酸、4′−メトキシ−
4−ジアゾジフェニルアミン−2′−スルホン酸、4′
−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン−2−スルホ
ン酸、4′−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン−
3−スルホン酸、4′−エトキシ−4−ジアゾジフェニ
ルアミン−2′−スルホン酸、4′−エトキシ−4−ジ
アゾジフェニルアミン−2−スルホン酸、4′−エトキ
シ−4−ジアゾジフェニルアミン−3−スルホン酸、
4′−メチル−4−ジアゾジフェニルアミン−2′−ス
ルホン酸、4′−メチル−4−ジアゾジフェニルアミン
−2−スルホン酸、4′−メチル−4−ジアゾジフェニ
ルアミン−3−スルホン酸、4′−エチル−4−ジアゾ
ジフェニルアミン−2′−スルホン酸、4′−エチル−
4−ジアゾジフェニルアミン−2−スルホン酸、4′−
エチル−4−ジアゾジフェニルアミン−3−スルホン
酸、4−ジアゾ−4′−(2−スルホニルエチル)ジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−4′−スルホニルメチルジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−4′−スルホニルメトキ
シジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(2−スルホ
ニルエトキシ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−
(3−スルホニルプロポキシ)ジフェニルアミン、4−
ジアゾ−4′−(3−スルホニルプロピル)ジフェニル
アミン、4−ジアゾ−2,5−ジスルホニルメチルジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(2−スル
ホニルエチル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,5
−ビス−(3−スルホニルプロピル)ジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−2−(3−スルホニルプロピル)ジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−3−スルホニルメチルジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−3−(2−スルホニルエチ
ル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ジスルホ
ニルメトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−スル
ホニルメトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−
(3−スルホニルプロポキシ)ジフェニルアミン、4−
ジアゾ−2,5−ビス−(2−スルホニルエトキシ)ジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(3−ス
ルホニルプロポキシ)ジフェニルアミン、4−ジアゾジ
フェニルエーテル−4′−スルホン酸、4−ジアゾジフ
ェニルスルフィド−4′−スルホン酸、4−ジアゾジフ
ェニルエーテル−2−スルホン酸、4−ジアゾジフェニ
ルエーテル−3−スルホン酸、4−ジアゾジフェニルス
ルフィド−2−スルホン酸、4−ジアゾジフェニルスル
フィド−3−スルホン酸、4−ジアゾ−4′−スルホニ
ルメチルジフェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−(2
−スルホニルエチル)ジフェニルエーテル、4−ジアゾ
−4′−スルホニルメチルジフェニルスルフィド、4−
ジアゾ−4′−(2−スルホニルエチル)ジフェニルス
ルフィド、4−ジアゾ−4′−スルホニルメトキシジフ
ェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−(2−スルホニル
エトキシ)ジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−2−
(2−スルホニルエチル)ジフェニルエーテル、4−ジ
アゾ−3−スルホニルメチルジフェニルエーテル、4−
ジアゾ−2−(2−スルホニルエチル)ジフェニルスル
フィド、4−ジアゾ−3−スルホニルメチルジフェニル
スルフィド、4−ジアゾジフェニルアミン−4′−スル
フィン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−2−スルフィ
ン酸、4−ジアゾジフェニルアミン−3−スルフィン
酸、4−ジアゾジフェニルアミン−2′−スルフィン
酸、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフ
ィニルオキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒ
ドロキシホスフィニルジフェニルアミン、4−ジアゾ−
2−ジヒドロキシホスフィニルオキシジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニルジフェ
ニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニ
ルオキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−2′−ジヒド
ロキシホスフィニルジフェニルアミン、4−ジアゾ−
2′−ジヒドロキシホスフィニルオキシジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−2′−ジヒドロキシホスフィニル−
4′−メトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−2′−
ジヒドロキシホスフィニルオキシ−4′−メトキシジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィ
ニル−4′−メトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−
3−ジヒドロキシホスフィニルオキシ−4′−メトキシ
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホス
フィニル−4′−エトキシジフェニルアミン、4−ジア
ゾ−2−ジヒドロキシホスフィニルオキシ−4′−エト
キシジフェニルアミン、4−ジアゾ−2′−ジヒドロキ
シホスフィニル−4′−エトキシジフェニルアミン、4
−ジアゾ−2′−ジヒドロキシホスフィニルオキシ−
4′−エトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジ
ヒドロキシホスフィニル−4′−エトキシジフェニルア
ミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニルオキ
シ−4′−エトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−
2′−ジヒドロキシホスフィニル−4′−メチルジフェ
ニルアミン、4−ジアゾ−2′−ジヒドロキシホスフィ
ニルオキシ−4′−メチルジフェニルアミン、4−ジア
ゾ−2−ジヒドロキシホスフィニル−4′−メチルジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフィ
ニルオキシ−4′−メチルジフェニルアミン、4−ジア
ゾ−3−ジヒドロキシホスフィニル−4′−メチルジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィ
ニルオキシ−4′−メチルジフェニルアミン、4−ジア
ゾ−2−ジヒドロキシホスフィニル−4′−エチルジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフィ
ニルオキシ−4′−エチルジフェニルアミン、4−ジア
ゾ−2′−ジヒドロキシホスフィニル−4′−エチルジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−2′−ジヒドロキシホス
フィニルオキシ−4′−エチルジフェニルアミン、4−
ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニル−4′−エチル
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3′−ジヒドロキシホ
スフィニルオキシ−4′−エチルジフェニルアミン、4
−ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスフィニルエチ
ル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒ
ドロキシホスフィニルオキシエチル)ジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルメチ
ルジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシ
ホスホィニルオキシメチルジフェニルアミン、4−ジア
ゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスホニルオキシエトキ
シ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒ
ドロキシホスホニルオキシエトキシ)ジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−4′−(3−ジヒドロキシホスホニル
プロポキシ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−
(3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプロポキシ)ジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(3−ジヒドロキ
シホスフィニルプロピル)ジフェニルアミン、4−ジア
ゾ−4′−(3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプロ
ピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(3−ジ
ヒドロキシホスフィニルメチル)ジフェニルアミン、4
−ジアゾ−2,5−ビス−(ジヒドロキシホスフィニル
オキシメチル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,5
−ビス−(2−ジヒドロキシホスフィニルエチル)ジフ
ェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(2−ジヒ
ドロキシホスフィニルオキシエチル)ジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(3−ジヒドロキシホ
スフィニルプロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−
2,5−ビス−(3−ジヒドロキシホスフィニルオキシ
プロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−(3−
ジヒドロキシホスフィニルプロピル)ジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−2−(3−ジヒドロキシホスフィニル
オキシプロピル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−
ジヒドロキシホスフィニルメチルジフェニルアミン、4
−ジアゾ−3−ジヒドロキシオキシホスフィニルメチル
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−(2−ジヒドロキ
シホスフィニルエチル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ
−3−(2−ジヒドロキシホスフィニルオキシエチル)
ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−(ジヒ
ドロキシホスフィニルメトキシ)ジフェニルアミン、4
−ジアゾ−2,5−ビス−(ジヒドロキシホスフィニル
オキシメトキシ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,
5−ビス−(3−ジヒドロキシホスフィニルプロポキ
シ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−2,5−ビス−
(3−ジヒドロキシホスフィニルオキシプロポキシ)ジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホス
フィニルジフェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−ジヒ
ドロキシホスフィニルオキシジフェニルエーテル、4−
ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルジフェニルス
ルフィド、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニ
ルオキシジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−2−ジヒ
ドロキシホスフィニルジフェニルエーテル、4−ジアゾ
−2−ジヒドロキシホスフィニルオキシジフェニルエー
テル、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィニルジフ
ェニルエーテル、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシオキシ
ジフェニルエーテル、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホ
スフィニルジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−3−ジ
ヒドロキシホスフィニルオキシジフェニルスルフィド、
4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルメチルジ
フェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホ
スフィニルオキシメチルジフェニルエーテル、4−ジア
ゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスフィニルエチル)ジ
フェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒドロ
キシホスフィニルオキシエチル)ジフェニルエーテル、
4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルメチルジ
フェニルスルフィド、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシ
ホスフィニルオキシメチルジフェニルスルフィド、4−
ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスフィニルエチ
ル)ジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−4′−(2−
ジヒドロキシホスフィニルオキシエチル)ジフェニルス
ルフィド、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニ
ルメトキシジフェニルエーテル、4−ジアゾ−4′−ジ
ヒドロキシホスフィニルオキシメトキシジフェニルエー
テル、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスフィ
ニルエトキシ)ジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−
4′−(2−ジヒドロキシホスフィニルオキシエトキ
シ)ジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−2−(2−ジ
ヒドロキシホスフィニルエチル)ジフェニルエーテル、
4−ジアゾ−2−(2−ジヒドロキシホスフィニルエチ
ル)ジフェニルスルフィド、4−ジアゾ−3−ジヒドロ
キシホスフィニメチルジフェニルエーテル、4−ジアゾ
−3−ジヒドロキシホスフィノオキシメチルジフェニル
スルフィド、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィ
ノオキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒド
ロキシホスフィノジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′
−ヒドロキシホスフィノジフェニルアミン、4−ジアゾ
−4′−ヒドロキシホスフィニルジフェニルアミン、4
−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィノオキシジフェニ
ルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒドロキシホスフィノジ
フェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフ
ィノオキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−2−ジヒド
ロキシホスフィノジフェニルアミン、4−ジアゾ−2′
−ジヒドロキシホスフィノジフェニルアミン、4−ジア
ゾ−2′−ヒドロキシホスフィニルジフェニルアミン、
4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィノオキシメチ
ルジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシ
ホスフィノメチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′
−ジヒドロキシホスフィノオキシメトキシジフェニルア
ミン、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィノメト
キシジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒ
ドロキシホスフィノオキシエトシキ)ジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−4′−(2−ジヒドロキシホスフィノ
エトシキ)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−ジヒド
ロキシホスフィノオキシメチルジフェニルアミン、4−
ジアゾ−2−ジヒドロキシホスフィノメトキシジフェニ
ルアミン、4−ジアゾ−2′−(2−ヒドロキシホスフ
ィノエチル)ジフェニルアミン、4−ジアゾ−3′−
(2−ヒドロキシホスフィニルエトキシ)ジフェニルア
ミンなどが挙げられる。
【0033】本発明に用いられるジアゾ樹脂(III)の合
成法としては、例えば、カルボキシル基、フェノール性
水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基及びリンの酸素
酸基のうち少なくとも1種を有するジアゾニウム化合物
とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンア
ルデヒド、ブチルアルデヒド、iso −ブチルアルデヒ
ド、ベンズアルデヒド、アセトン、メチルエチルケトン
又はアセトフェノンのような酸基を有していない活性カ
ルボニル化合物又はそれらのアセタールとをモル比で各
々好ましくは1:100〜1:0.2 、さらに好ましくは
1:10〜1:0.5 の割合において酸性媒体中で縮合さ
せる方法が挙げられる。縮合反応を行う際には、生成す
るジアゾ樹脂の酸基含有量を調整するために、酸基を有
していないジアゾニウム化合物及び/又は、酸基、ジア
ゾニウム基をともに有しない芳香族化合物を併用するこ
とができる。
【0034】本発明に用いるジアゾ樹脂(I)、(II)
又は(III)を合成する際に使用する酸性媒体の具体例と
しては、例えば、塩酸、リン酸、メタンスルホン酸又は
硫酸などの強酸が挙げられる。これらの媒体は少なくと
も30重量%、有利には70〜100重量%の濃度で使
用される。一般に残りは水であるが、部分的に又は完全
に有機溶剤、例えばメタノール、酢酸、N−メチルピロ
リドン等から成っていてもよい。良好な結果は例えば8
5〜93%−リン酸、80〜98%−硫酸又は90%−
メタンスルホン酸又はこれらの酸の混合物によって達成
される。
【0035】縮合の際の温度は、約0〜70℃、好まし
くは約0〜50℃である。次に、ジアゾ樹脂(I)、
(II)又は(III) の対アニオンX- について説明する。
- は、脂肪族又は芳香族スルホン酸アニオン又はヘキ
サフルオロリン酸、テトラフルオロホウ酸等のハロゲン
化ルイス酸が好ましく、その中でも好ましい例として
は、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸
などのフルオロアルカンスルホン酸、ラウリルスルホン
酸、ジオクチルスルホコハク酸、ジシクロヘキシルスル
ホコハク酸、カンファースルホン酸、トリルオキシ−3
−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−3−プロパ
ンスルホン酸、ノニルフェノキシ−4−ブタンスルホン
酸、ジブチルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジ
アミルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジノニル
フェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジブチルフェノ
キシ−4−ブタンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−4
−ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンス
ルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−クロロベンゼン
スルホン酸、2,5−ジクロロベンゼンスルホン酸、ス
ルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン
酸、p−アセチルベンゼンスルホン酸、5−ニトロ−o
−トルエンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン
酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼ
ンスルホン酸、2−クロロ−5−ニトロベンゼンスルホ
ン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンス
ルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸、ブトキシベンゼンスルホン酸、ドデシル
オキシベンゼンスルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロ
キシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸、イソプロピ
ルナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン
酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、オクチルナフタレ
ンスルホン酸、ブトキシナフタレンスルホン酸、ドデシ
ルオキシナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンス
ルホン酸、ジオクチルナフタレンスルホン酸、トリイソ
プロピルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフタレン
スルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、ナフタ
リン−1−スルホン酸、ナフタリン−2−スルホン酸、
1,8−ジニトロ−ナフタリン−3,6−ジスルホン
酸、4,4′−シアジド−スチルベン−3,3′−ジス
ルホン酸、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−
スルホン酸、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホン酸及び1,2−ナフトキノン−1−ジアジド
−4−スルホン酸のアニオンもしくは、これらのアニオ
ンの混合物が含まれる。これらのアニオンの中で特に好
ましいものは、ブチルナフタレンスルホン酸、ジブチル
ナフタレンスルホン酸、ジオクチルナフタレンスルホン
酸、トリブチルナフタレンスルホン酸等のアルキル置換
ナフタレンスルホン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシ
ベンゾフェノン−5−スルホン酸及びドデシルベンゼン
スルホン酸である。
【0036】本発明に使用するジアゾ樹脂は、各単量体
のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分
子量は任意の値として得ることができるが、本発明の目
的とする使途に有効に供するためには分子量が約400
乃至100,000のもの、好ましくは、約800乃至
5,000のものが適当である。上記の感光性ジアゾ樹脂
は、アルカリ可溶性もしくは膨潤性の親油性高分子化合
物をバインダー樹脂として使用して、これと組合わせて
使用するのが望ましい。
【0037】このような親油性高分子化合物としては、
下記(1) 〜(15)に示すモノマーをその構造単位とする通
常1〜20万の分子量をもつ共重合体が挙げられる。 (1) 芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタクリ
ルアミド類、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル類及びヒドロキシスチレン類、例えばN−(4−ヒド
ロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキ
シフェニル)メタクリルアミド、o−、m−、p−ヒド
ロキシスチレン、o−、m−、p−ヒドロキシフェニル
−アクリレ−ト又はメタクリレート及びo−、m−、p
−ヒドロキシスチレン、 (2) 脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類及びメ
タクリル酸エステル類、例えば2−ヒドロキシエチルア
クリレート及び2−ヒドロキシエチルメタクリレート、 (3) アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタ
コン酸等の不飽和カルボン酸、 (4) アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アク
リル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−2
−クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチルアクリレート等の(置換)アルキルアク
リレート、 (5) メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プ
ロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、4−
ヒドロキシブチルメタクリレート、グリシジルメタクリ
レート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の
(置換)アルキルメタクリレート、 (6) アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロー
ルアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、
N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルア
ミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロ
キシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミ
ド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−
N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド及びメ
タクリルアミド類、 (7) エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエ
ーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビ
ニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニル
エーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル
類、 (8) ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニ
ルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、 (9) スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、
クロロメチルスチレン等のスチレン類、 (10)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピ
ルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケト
ン類、 (11)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類、 (12)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、
4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル等、 (13)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N
−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタク
リルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリル
アミド等の不飽和イミド、 (14)N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタク
リルアミド、N−(p−アミノ)スルホニルフェニルメ
タクリルアミド、N−(1−(3−アミノスルホニル)
ナフチル)メタクリルアミド、N−(2−アミノスルホ
ニルエチル)メタクリルアミド等のメタクリルアミド
類、上記と同様の置換基を有するアクリルアミド類、ま
た、o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m
−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−アミ
ノスルホニルナフチル)メタクリレート等のメタクリル
酸エステル類、上記と同様の置換基を有するアクリル酸
エステル類等の不飽和スルホンアミド。 (15)N−〔2−(メタクリロイルオキシ)−エチル〕−
2,3−ジメチルマレイミド、ビニルシンナメートなど
の側鎖に架橋性基を有する不飽和モノマー。
【0038】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルメタク
リレート、グリシジルアクリレート等によって修飾した
ものも含まれるがこれらに限られるものではない。上記
共重合体には(3) に掲げた不飽和カルボン酸を含有する
ことが好ましく、共重合体の好ましいカルボン酸価の値
は0〜3meq /g、さらに好ましくは、 0.5〜2.5 meq
/gである。
【0039】更に(1) 〜(15)に示されたモノマーの中で
もとりわけ以下に示すモノマーが好ましい。すなわち、
上記(1) 、(14)に掲げた芳香族水酸基またはスルホンア
ミド基を有するモノマー、上記(2) 、(12)に掲げたモノ
マー、特に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒ
ドロキシルエチルメタクリレートまたはアクリロニトリ
ル、更に、上記(4) 、(5) に掲げたモノマー、特にアク
リル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ベンジ
ル、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブ
チルメタクリレートまたはベンジルメタクリレート等を
含有する共重合体が好ましい。
【0040】上記共重合体の好ましい分子量は1〜20
万である。また上記共重合体には必要に応じて、ポリビ
ニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹
脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添加
してもよい。本発明に用いられる親油性高分子化合物は
感光性組成物の固形分中に通常40〜99重量%、好ま
しくは50〜95重量%含有させる。また、本発明に用
いられる感光性ジアゾ樹脂は通常1〜60重量%、好ま
しくは3〜40重量%含有させる。
【0041】本発明の感光性組成物には、さらに色素を
用いることができる。該色素は、露光による可視画像
(露光可視画像)と現像後の可視画像を得ることを目的
として使用される。該色素としては、フリーラジカルま
たは酸と反応して色調を変化するものが好ましく使用で
きる。ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の
色調への変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調
への変化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩
を形成して色調を変化するものである。
【0042】例えば、ビクトリアピュアブルーBOH
〔保土谷化学社製〕、オイルブルー#603(オリエン
ト化学工業社製〕、パテントピュアブルー〔住友三国化
学社製〕、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリ
ーン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メチ
ルグリーン、エリスロシンB、ベイシックフクシン、マ
ラカイトグリーン、オイルレッド、m−クレゾールパー
プル、ローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルア
ミノフェニルイミナフトキノン、シアノ−p−ジエチル
アミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェ
ニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キ
サンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系また
はアントラキノン系の色素が有色から無色あるいは異な
る有色の色調へ変化する色素の例として挙げられる。
【0043】一方、無色から有色に変化する色素として
は、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジフ
ェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−トリ
フェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。
【0044】特に好ましくはトリフェニルメタン系、ジ
フェニルメタン系色素が有効に用いられ、さらに好まし
くはトリフェニルメタン系色素であり、特にビクトリア
ピュアブルーBOHである。上記色素は、感光性組成物
の固形分中に通常約 0.5〜約10重量%が好ましく、よ
り好ましくは約1〜5重量%含有させる。
【0045】本発明の感光性組成物には、更に種々の添
加物を加えることができる。例えば、塗布性を改良する
ためのアルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、
メチルセルロース)、フッ素系界面活性剤類や、ノニオ
ン系界面活性剤(特にフッ素系界面活性剤が好まし
い)、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤
(例えばブチルフタリル、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又
はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー、この中で特
にリン酸トリクレジルが好ましい)、画像部の感脂性を
向上させるための感脂化剤(例えば、特開昭55−52
7号公報記載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のア
ルコールによるハーフエステル化物、pp−3121な
どのノボラック樹脂、p−ヒドロキシスチレンの50%
脂肪酸エステル等)、安定剤〔例えば、リン酸、亜リン
酸、有機酸(クエン酸、シュウ酸、ジピコリン酸、ベン
ゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリチ
ル酸、4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン−
5−スルホン酸、酒石酸等)〕、現像促進剤(例えば高
級アルコール、酸無水物等)等が好ましく用いられる。
これらの添加剤の添加量はその使用対象、目的によって
異なるが、一般に感光性組成物の固形分に対して、0.0
1〜30重量%である。
【0046】感光性ジアゾ樹脂、親油性高分子化合物、
及び必要に応じて種々の添加剤の所定量を適当な溶媒中
に溶解させ感光性組成物の塗布液を調整し、これを支持
体上に塗布、乾燥することにより感光性平版印刷版が製
造される。上記溶媒の例としては、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、ジメトキシエタン、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、メチ
ルセロソルブアセテート、アセトン、メチルエチルケト
ン、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、シクロヘキサノン、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレンジクロラ
イド、ジメチルスルホキシド、水またはこれらの混合物
等が挙げられる。
【0047】上記溶媒は単独でも使用できるが、メチル
セロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノール、乳酸メ
チルのような高沸点溶媒と、メタノール、メチルエチル
ケトンのような低沸点溶媒との混合物とするとさらに好
ましい。塗布する際の感光性組成物の固形分濃度は1〜
50重量%の範囲とすることが望ましい。この場合、感
光性組成物の塗布量は、一般に、0.2〜10g/m2(乾
燥重量) 程度とすればよくさらに好ましくは、0.5〜3
g/m2 とする。3塗布液は、公知の塗布技術により支
持体上に塗布される。上記の塗布技術の例としては、回
転塗布法、ワイヤーバー塗布法、ディップ塗布法、エア
ーナイフ塗布法、ロール塗布法、ブレード塗布法、カー
テン塗布法及びスプレー塗布法を挙げることができる。
【0048】支持体としては、紙、プラスチック(例え
ば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)
ラミネート紙、アルミニウム(アルミニウム合金も含
む)、亜鉛、銅などのような金属の板、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレン−ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等のよう
なプラスチックのフィルム、上記の如き金属がラミネー
トもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィル
ム、アルミニウムもしくはクロームメッキが施された銅
版等が挙げられ、これらのうち特に、アルミニウム及び
アルミニウム被覆された複合支持体が好ましい。
【0049】また、アルミニウム材の表面は、保水性を
高め、感光層との密着性を向上させる目的で表面処理さ
れていることが望ましい。例えば、粗面化方法として、
一般に公知のブラシ研摩法、ボール研磨法、電解エッチ
ング、化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラ
スト等の方法およびこれらの組合せが挙げられ、好まし
くはブラシ研磨法、電解エッチング、化学的エッチング
および液体ホーニングが挙げられ、これらのうちで、特
に電解エッチングの使用を含む粗面化方法が好ましい。
さらに、特開昭54−63902号に記載されているよ
うにブラシ研磨した後、電解エッチングする方法も好ま
しい。
【0050】また、電解エッチングの際に用いられる電
解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水
溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これ
らのうちで、特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電
解液が好ましい。さらに、粗面化処理の施されたアルミ
ニウム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液に
てデスマット処理される。
【0051】こうして得られたアルミニウム板は、陽極
酸化処理されることが望ましく、特に好ましくは、硫酸
またはリン酸を含む浴で処理する方法が挙げられる。ま
た、更に必要に応じて米国特許第2,714,066号明細
書や米国特許第3,181,461号明細書に記載されてい
る珪酸塩(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム)処
理、米国特許第2,946,638号明細書に記載されてい
る弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,20
1,247号明細書に記載されているホスホモリブデート
処理、英国特許第1,108,559号に記載されているア
ルキルチタネート処理、独国特許第1,091,433号明
細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第
1,134,093号明細書や英国特許第1,230,447号
明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特
公昭44−6409号公報に記載されているホスホン酸
処理、米国特許第3,307,951号明細書に記載されて
いるフィチン酸処理、特開昭58−16893号や特開
昭58−18291号の各公報に記載されている親油性
有機高分子化合物と2価の金属との塩による処理、特開
昭59−101651号公報に記載されているスルホン
酸基を有する水溶性重合体の下塗りによって親水化処理
を行ったもの、特開昭60−64352号公報に記載さ
れている酸性染料による着色を行ったものは特に好まし
い。
【0052】その他の親水化処理方法としては米国特許
第3,658,662号明細書に記載されているシリケート
電着をも挙げることが出来る。また、砂目立て処理及び
陽極酸化後、封孔処理を施したものも好ましい。かかる
封孔処理は熱水及び無機塩または有機塩を含む熱水溶液
への浸漬ならびに水蒸気浴などによって行われる。
【0053】本発明に用いられるのに、適した支持体に
ついてさらに詳しくいうと鉄を0.1〜0.5%、ケイ素を
0.03〜0.3%、銅を0.001〜0.03%、更にチタン
を0.002〜0.1%含有する1Sアルミ板を、アルカリ
好ましくは、1〜30%の水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム等の水溶液
に、20〜80℃の温度で5秒〜250秒間浸漬してエ
ッチングする。エッチング浴には、アルミをアルカリの
5分の1程度加えても良い。ついで、10〜30%硝酸
または硫酸水溶液に20〜70℃の温度で5秒〜250
秒間浸漬して、アルカリエッチング後の中和及びスマッ
ト除去を行う。
【0054】このアルミニウム合金板の表面清浄化後、
粗面化処理が行われる。粗面化処理としては、ブラシ研
磨または/および電解エッチング処理が適している。ブ
ラシ研磨はパミストン−水懸濁液とナイロンブラシとを
用いるのが好ましく、平均表面粗さを0.25〜0.9μと
することが好ましい。電解エッチング処理に使用される
電解液は塩酸、または硝酸の水溶液であり、濃度は0.0
1〜3重量%の範囲で使用することが好ましく、0.05
〜2.5重量%であれば更に好ましい。
【0055】また、この電解液には必要に応じて硝酸
塩、塩化物、モノアミン類、ジアミン類、アルデヒド
類、リン酸、クロム酸、ホウ酸、シュウ酸アンモニウム
塩等の腐蝕抑制剤(または安定化剤)、砂目の均一化剤
などを加えることが出来る。また電解液中には、適当量
(1〜10g/l) のアルミニウムイオンを含んでいて
もよい。
【0056】電解エッチング処理は、通常10〜60℃
の電解液の温度で行なわれる。この際に使用される交流
電流は、正負の極性が交互に交換されたものであれば、
矩形波、台形波、正弦波いずれのものも用いることがで
き、通常の商用交流の単相及び三相交流電流を用いるこ
とができる。また電流密度は、5〜100A/dm2 で、
10〜300秒間処理することが望ましい。
【0057】本発明におけるアルミニウム合金支持体の
表面粗さは、電気量によって調整し、0.2〜0.8μmと
する。このように砂目立てされたアルミニウム合金は、
10〜50%の熱硫酸(40〜60℃)や希薄なアルカ
リ(水酸化ナトリウム等)により、表面に付着したスマ
ットが除去されるのが好ましい。アルカリで除去した場
合は、引き続いて洗浄のため酸(硝酸または硫酸)に浸
漬して中和する。
【0058】表面のスマット除去を行った後、陽極酸化
皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知られ
ている方法を用いることが出来るが、硫酸が最も有用な
電解液として用いられる。それに次いで、リン酸もまた
有用な電解液である。さらに特開昭55−28400号
公報に開示されいる硫酸とリン酸の混酸もまた有用であ
る。
【0059】硫酸法は通常直流電流で処理が行われる
が、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度5〜3
0%、20〜60℃の温度範囲で5〜250秒間電解処
理されて、表面に1〜10g/m2 の酸化皮膜が設けら
れる。この電解液には、アルミニウムイオンが含まれて
いることが好ましい。さらにこのときの電流密度は1〜
20A/dm2 が好ましい。
【0060】リン酸法の場合には、5〜50%のリン酸
濃度、30〜60℃の温度で、10〜300秒間、1〜
15A/dm2 の電流密度で処理される。このようにして
処理されたアルミニウム支持体には、さらに米国特許第
2,714,066号明細書に記載されたようなシリケート
類による表面処理を行うのが望ましい。さらに、アルミ
ニウム支持体には下塗りを施してもよい。
【0061】下塗りに用いられる化合物としては例え
ば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラ
ビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基
を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニル
ホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸
グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチ
レンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有し
てもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリ
ン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を
有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィ
ン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン
酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンな
どのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩
などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩、特開昭
59−101651号公報に記載されているスルホン酸
基を有する水溶性重合体、及び特開昭60−64352
号公報に記載されている酸性染料等が好ましく用いられ
る。
【0062】この下塗層は、水、メタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどもしくはそれらの混合溶剤
に上記の化合物を溶解させ、支持体上に塗布、乾燥して
設けることができる。また、感光性平版印刷版の調子再
現性改良のために黄色染料を添加することもできる。下
塗層の乾燥後の被覆量は、2〜200mg/m2 が適当
であり、好ましくは5〜100mg/m2 である。
【0063】次に、感光層上に相互に独立して設けられ
た突起物により構成されるマット層について説明する。
マット層の目的は密着露光におけるネガ画像フィルムと
感光性平版印刷版との真空密着性を改良することによ
り、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良による露光
時の微小網点のつぶれを防止することである。
【0064】マット層の塗布方法としては、特開昭55
−12974号に記載されているパウダリングされた固
体粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号
に記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させ
る方法などがあり、どの方法でもよいが、マット層は、
実質的に有機溶剤を含まない水性アルカリ現像液に溶解
するか、あるいはこれにより除去可能な物が望ましい。
【0065】パウダリングされた固体粉末を熱融着する
方法における固体粉末としては、好ましくは該物質また
は組成物の第1次転移点及び第2次転移点が40℃より
も高く、かつ該物質または組成物の第1次転移点または
第2次転移点が感光性層の第1次転移点よりも低いもの
である。具体例としては、ポリ酢酸ビニル、ポリビニリ
デンクロライド、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレ
ングリコール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、
ポリアクリル酸エステル、ポリスチレン及びポリスチレ
ン誘導体及びこれらのモノマーの共重合体、ポリビニル
メチルエーテル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ
アミド、ポリビニルブチラール等が挙げられる。
【0066】その中でも特に好ましいものは、アクリル
酸、メタアクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル
酸エステル、スチレン、ヒドロキシスチレン、アクリロ
ニトリル、アクリルアミド及びメタクリルアミドから選
ばれた1種以上のモノマーの共重合体である。固体粉末
粒子の直径は約0.5 〜40μの範囲が適当であり、1〜
17μの範囲が好ましく、特に好ましいのは1〜8μの
範囲である。固体粉末の粒径は小さ過ぎれば真空密着時
間を短縮する効果が小さく、一方大き過ぎると小さい網
点の再現性が悪化する。上記の範囲であれば固体粉末の
付着量が比較的少なくても真空密着性が良好で、かつ小
さい網点の再現性に悪影響を生じない。なお、固体粉末
の粒径を上記の範囲に揃えるには一般に知られている分
級方法によればよい。
【0067】パウダリングは公知の方法、例えばJ.
J.ソコル、R.C.ヘンドリックソン、プラスチック
エンジニアリング ハンドブック、P.426、P.43
1(1976)(J.J. Sokol and R.C. Hendrickson Pl
astic Eng. Handbook (1976))に記載されているフルイ
ダイズド ベッド(Fluidized bed) 静電スプレー、静電
フルイダイズドベッド等のほか、エアスプレー、ブラ
シ、バフ等による方法を用いればよい。
【0068】感光性平版印刷版の表面に固着させる固体
粉末の量は感光性平版印刷版1mm2 当り固体粉末1〜1,
000個が適当であり、5〜500個が好ましい。パウ
ダリングされ感光性平版印刷版の表面に付着した固体粉
末は一般にランダムに分布する。固体粉末を感光性平版
印刷版の表面に固着させるには、パウダリングされて感
光性平版印刷版の表面に付着した固体粉末を熱によって
該表面に固着させる。
【0069】すなわち、パウダリングされた面に加熱し
た空気を吹きつけるか、またはパウダリングされた感光
性平版印刷版を加熱した空気室または加熱したロールの
間を通して固体粉末の表面を融解させて感光性平版印刷
版の表面に固着させる。次に、ポリマー含有水をスプレ
ーし乾燥させる塗布方法について述べる。使用するポリ
マーは以下のモノマー単位よりなる共重合体である。す
なわちマット層に現像液可溶性をもたせるためのスルホ
ニル基を有するモノマー単位(a)、感光層の表面への
接着性を付与するアルキル残基の炭素原子数が1〜10
であるアルキルアクリレート類やアルキル残基の炭素原
子数が4〜10であるアルキルメタクリレート類からな
るモノマー単位(b)、及び共重合体に圧力に対する抵
抗力を付与する成分となるモノマー単位(c)である。
モノマー(c)としては、そのホモポリマーのガラス転
移温度(Tg)が60℃以上のモノマーであることが望
ましく、このTgが60℃未満であるとモノマー(c)
として所望の機能、すなわち共重合体に対して圧力に対
する抵抗力を付与する機能が十分ではない。
【0070】モノマー(a)としては、p−スチレンス
ルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンス
ルホン酸、エチレンスルホン酸、2−クロロエチレンス
ルホン酸、エチレンジスルホン酸、1−プロペン−1−
スルホン酸、1−プロペン−2−スルホン酸、2−メチ
ル−1,3−プロペンジスルホン酸、1−ブテン−1−
スルホン酸、1−ペンテン−1−スルホン酸、1−ヘキ
セン−1−スルホン酸、2−フェニルエチレンスルホン
酸、1−メチル−2−フェニルエチレンスルホン酸、3
−クロロアリルスルホン酸、アリルスルホン酸、3−ク
ロロ−2−ブテンスルホン酸、3−クロロメタアリルス
ルホン酸、メタアリルスルホン酸、3−フェニルアリル
スルホン酸、3−フェニルメタアリルスルホン酸、2−
ベンジルアリルスルホン酸、2−クロロ−4−スチレン
スルホン酸、ビニルトルエンスルホン酸、α−メチルス
チレンスルホン酸などがあり、これらは適宜1種又は2
種以上が選択される。
【0071】本発明にとって特に好ましいモノマーはp
−スチレンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチ
ルプロパンスルホン酸、エチレンスルホン酸である。モ
ノマー(b)としては、メチルアクリレート、エチルア
クリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピル
アクリレート、n−ブチルアクリレート、イソブチルア
クリレート、n−アミルアクリレート、イソアミルアク
リレート、n−ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキ
シルアクリレート、n−オクチルアクリレート、n−デ
シルアクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブ
チルメタクリレート、n−アミルメタクリレート、2−
エチルヘキシルメタクリレート、n−オクチルメタクリ
レート、n−デシルメタクリレートなどがある。
【0072】モノマー(c)としては、スチレン、o−
メチルスチレン、m−ジメチルスチレン、p−メチルス
チレン、2,4−ジメチルスチレン、2,5−ジメチル
スチレン、3,4−ジメチルスチレン、3,5−ジメチ
ルスチレン、2,4,5−トリメチルスチレン、2,
4,6−トリメチルスチレン、o−エチルスチレン、o
−sec −ブチルスチレン、o−tert−ブチルスチレン、
p−フルオロスチレン、2,5−ジフルオロスチレン、
o−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−クロロ
スチレン、2,4−ジクロロスチレン、2,5−ジクロ
ロスチレン、2,6−ジクロロスチレン、3,4−ジク
ロロスチレン、p−ブロモスチレン、p−シアノスチレ
ン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メチルメ
タクリレート、エチルメタクリレート、アクリルアミ
ド、N−sec −ブチルアクリルアミド、N−tert−ブチ
ルアクリルアミド、N,N−ジブチルアクリルアミド、
N−tert−ブチルメタクリルアミドなどが含まれる。
【0073】このような共重合体において、モノマー
(単位)(a)、(b)及び(c)の量はそれぞれ5〜
50モル%、10〜70モル%、20〜50モル%の範
囲が好ましい。モノマー単位(a)の量が5モル%より
も少なくなるにつれて、共重合体の現像液に対する溶解
性が悪くなり、一方50モル%よりも多くなるにつれて
共重合体が湿気の影響を受けやすくなり、しかも感光層
の表面への付着力も低下する。またモノマー単位(b)
の量が10モル%よりも少なくなるにつれて、共重合体
の感光層への付着力が低下していき、一方70モル%よ
りも多くなるにつれて、共重合体の耐圧性が低下する。
更にモノマー単位(c)の量が10モル%よりも少なく
なるにつれて、共重合体の硬さが低下していき、耐圧性
が低下し、一方80モル%よりも多くなるにつれて、共
重合体の感光層への付着力が低下する。特に好ましいモ
ノマー単位(a)、(b)及び(c)の量は、それぞれ
8〜25モル%、15〜50モル%及び40〜70モル
%である。
【0074】上述したごとき共重合体は水性液として塗
布液とされる。つまり水溶液、水性分散液、水性懸濁
液、水性乳化液などあらゆる形態の水性液でありうる。
この塗布液中には、前記の共重合物のほかに、特公昭5
5−30619号公報に記載されているような感光性印
刷版の感光層の活性光線領域に光学的吸収をもつ光吸収
剤、染料、顔料、紫外線吸収剤、あるいはジアゾ化合
物、エチレン系不飽和化合物、さらに二酸化珪素、酸化
亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、ガラス、アルミ
ナ、合成樹脂など各種の微粉末;たとえばリン酸、得リ
ン酸、しゅう酸などのごときpH調節剤;たとえば硫酸ナ
トリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、塩化ナ
トリウム、塩化カルシウムなどのごとき塗布後の共重合
物の析出を促進するための中性塩、など種々の目的のた
めの添加剤を適宜、又適量を加えることができる。塗布
液中における共重合体の濃度は塗布液の全重量を基準と
して5〜50重量%の範囲内にあることが好ましい。そ
の他塗布液の調製方法については、従来技術を応用すれ
ばよく、その点についての詳細な説明は不要と思われ
る。
【0075】この水性液を塗布液として感光性平版印刷
版の表面へ塗布し、相互に独立して設けられた突起物で
構成されるマット層を形成させるには、エアスプレー
法、エアレススプレー法、静電エアスプレー法、静電霧
化静電塗装法、グラビア印刷法などにより塗布し乾燥さ
せる。また上述のマット層を形成させるためには、特開
昭55−12974号公報に記載されているように、前
記共重合体又は、前記共重合体を含み、上述の他の添加
剤を加えた組成物の固形分による微粉末を調製し、この
微粉末を感光性平版印刷版の表面上に一斉に散布するな
どして付着させてもよい。この固形分による微粉末を調
製するには、前述のごとく調製した共重合物を含む水性
液を固化した固形物を利用してもよい。印刷版上に形成
した突起物を直ちに加熱して溶融せしめ、それと共に印
刷版上に固着させる。またこの加熱に代えて溶剤を適用
して突起物を構成する微粉末を溶解して印刷版上に固着
させてもよい。
【0076】このようにして形成せしめた突起物は、感
光性平版印刷版表面上1〜1000個/mm2 、好ましく
は5〜500個/mm2 程度であり、その高さは0.5 〜2
0μ、大きさ(径)は1〜200μ程度の形態を呈す
る。支持体上に塗布された上記の感光性組成物は線画
像、網点画像等を有する透明原画を通して露光し、次い
で実質上有機溶媒を含まない水性アルカリ現像液で現像
することにより、原画に対してネガのレリーフ像を与え
る。
【0077】露光の際、感光性平版印刷版は表面マット
層により、真空密着性が改良されているので、真空密着
に要する時間が少なくてすみ、フィルムと感光性平版印
刷版との密着不良による微小網点のつぶれもない。本発
明において、「実質上有機溶媒を含まない水性アルカリ
現像液」とは、有機溶媒を衛生上、安全性上等の観点か
ら、過剰には含有しない、の意であり、水性アルカリ現
像液中の有機溶媒の含有量が2重量%以下であることを
いう。好ましい有機溶媒含有量は、1重量%以下であ
り、より好ましくは全く含有しない態様である。本発明
に係わる現像液に用いるアルカリ剤として好ましくはケ
イ酸カリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第
三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン
酸カリウム、第二リン酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム等が挙げられる。上記アルカリ剤は単独で用
いても良いし、2 種以上混合してもよい。これらの中で
もケイ酸カリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム
等のケイ酸アルカリを含有する現像液は現像階調性が良
好なため最も好ましく、ケイ酸アルカリの組成がモル比
で〔SiO2 〕/〔M〕=0.5〜1.5(ここに〔SiO
2 〕、〔M〕はそれぞれSiO2 のモル濃度と総アルカ
リ金属のモル濃度を示す。)であり、かつSiO2 を0.
8〜8重量%含有する現像液が好ましく用いられる。本
発明に係わる現像液のpH(25℃)は9以上であり、好
ましくは、12.5〜14である。 さらに該ケイ酸アル
カリのアルカリ金属として、全アルカリ金属中カリウム
を20モル%以上含むことが、現像液中での不溶物発生
が少ないため好ましく、より好ましくはカリウムを90
モル%以上含むことであり、最も好ましくはカリウムが
100モル%の場合である。
【0078】また、上記必須成分以外に該現像液中に特
開昭50−51342号公報に記載されているような、
アニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、特開昭59−
75255号公報、同60−111246号公報に記載
されているような非イオン性界面活性剤のうち少なくと
も1種、または特開昭55−95946号公報、同56
−142528号公報に記載されているような高分子電
解質を含有させることにより、感光性組成物への濡れ性
を高めたり、階調性をさらに高めることができる。上記
の中でもアニオン活性剤が好ましい。
【0079】かかる界面活性剤、高分子電解質の添加量
には特に制限はないが、0.003〜5重量%が好まし
く、特に0.006〜1重量%の濃度が好ましい。また、
更に必要に応じ、消泡剤及び硬水軟化剤のような添加剤
を含有させることもできる。消泡剤としてはシリコン系
の物が好ましく、硬水軟化剤としては例えば、ポリ燐酸
塩やアミノポリカルボン酸類を挙げることが出来る。こ
のような硬水軟化剤は使用される硬水の硬度およびその
使用量に応じて最適量が変化するが、一般的な使用量を
示せば、使用時の現像液中に0.01〜5重量%、より好
ましくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有させる。
【0080】また、上記の水性アルカリ現像液には、必
要に応じて還元性無機塩を含有させることもできる。上
記の還元性無機塩は、還元作用を持つものであり、水溶
性無機塩が好ましく、特に低級酸素酸の塩が好ましい。
このうち好ましいのは、亜硫酸のアルカリ金属塩であ
る。また上記の水性アルカリ現像液は必要に応じて、水
溶性ピラゾロン化合物、アルカリ可溶性メルカプト化合
物又は1,3−ジヒドロキシ芳香族化合物又はそれらの
塩を含有していてもよい。
【0081】このような、実質上有機溶媒を含まない水
性アルカリ現像液として例えば特開昭59−84241
号、特開昭57−192952号及び特開昭62−24
263号公報等に記載されている現像液組成物を使用す
ることができる。本発明の感光性組成物を用いた感光性
平版印刷版は、特開昭54−8002号、同55−11
5045号、特開昭59−58431号の各公報に記載
されている方法で製版処理しても良い。即ち、現像処理
後、水洗してから不感脂化処理、またはそのまま不感脂
化処理、または酸を含む水溶液での処理、または酸を含
む水溶液で処理後、不感脂化処理を施してもよい。
【0082】さらに、この種の感光性平版印刷版の現像
工程では処理量に応じてアルカリ水溶液が消費されアル
カリ濃度が減少したり、あるいは、自動現像液の長時間
運転により空気によってアルカリ濃度が減少するため処
理能力が低下するが、その際、特開昭54−62004
号に記載のように補充液を用いて処理能力を回復させて
もよい。この場合、米国特許第4,882,246号に記載
されている方法で補充することが好ましい。
【0083】また、上記のような製版処理は、特開平2
−7054号、同2−32357号に記載されているよ
うな自動現像機で行うことが好ましい。なお製版工程の
最終工程で所望により塗布される不感脂化ガムとしては
特公昭62−16834号、同62−25118号、同
63−52600号、特開昭62−7595号、同62
−11693号、同62−83194号の各公報に記載
されているものが好ましい。
【0084】なお現像処理後、必要であれば画像部の不
要部分を市販のネガ用消去液で消去するか石棒で擦りと
ることもできる。 〔発明の効果〕本発明では、カルボキシル基、フェノー
ル性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基、およびリ
ンの酸素酸基のような、アルカリ水に可溶な基を有する
芳香族ジアゾニウム化合物を含有する感光層を用いてい
るため、感光層上に現像性を低下させるマット層を設
け、実質上有機溶媒を含まない水性アルカリ現像液で現
像しても現像性が悪くならず、経時においても斑点状汚
れのない又は少ない平版印刷版を得ることができる。
【0085】本発明は、現像処理時に、実質上有機溶媒
を含まない水性アルカリ現像液を使用する為、作業時の
毒性、臭気等の衛生上の問題、火災、ガス爆発等の安全
上の問題、更に廃液による公害発生等の問題がなく、か
つ低コストで現像処理が実施できる。さらに真空密着性
がよいため、真空密着に要する時間が少なくてすみ、ま
たフィルムと感光性平版印刷版との密着不良による微小
網点のつぶれもない。
【0086】また、本発明においては、ポジ型平版印刷
版の現像液として公知である水性アルカリ現像液を用い
て、ネガ型平版印刷版を現像することができる。このた
め、ポジ型平版印刷版とネガ型平版印刷版の両者を処理
する場合に、それぞれに適合するよう現像液組成物を調
製したり、現像液組成物を取りかえたり、予め2種の現
像液組成物及び現像処理装置を用意しておく等の手間を
省くことが可能となり、作業効率、設備費、配置スペー
ス等が著しく改善される。
【0087】
【実施例】以下、本発明を合成例、実施例により更に詳
細に説明するが、本発明の範囲がこれにより限定される
ものではない。
【0088】
【合成例1】 ジアゾ樹脂−1の合成 p−ヒドロキシ安息香酸3.5g(0.025モル)および
4−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩7.1g(0.025モ
ル)を水冷下で90gの濃硫酸に溶解した。この反応後
に2.7gのパラホルムアルデヒド(0.09モル)をゆっ
くり添加した。この際、反応温度が10℃を超えないよ
うに添加していった。その後、2時間氷冷下かくはんを
続けた。この反応混合物を氷冷下、1リットルのエタノ
ールに注入し、生じた沈殿を濾過した。エタノールで洗
浄後、この沈殿物を200ml の純水に溶解し、この液
に10.5gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加え
た。生じた沈殿を濾過した後エタノールで洗浄し、これ
を300ml の純水に溶解した。この液にジブチルナフ
タレンスルホン酸ナトリウム28.7gを溶解した冷濃厚
水溶液を加えた。生じた沈殿を濾別し水洗した後、30
℃、1昼夜乾燥して17.5gのジアゾ樹脂−1を得た。
【0089】このジアゾ樹脂−1をGPC(ゲルパーミ
エーションクロマトグラフィー)により分子量を測定し
たところ、重量平均分子量(ポリスチレン標準)で約1
600であった。 ジアゾ樹脂−2の合成 ジアゾ樹脂−1の合成において、p−ヒドロキシ安息香
酸をベンゼンスルホン酸ナトリウム4.5gに代えた以外
はジアゾ樹脂−1の合成と同様にし16.2gのジアゾ樹
脂−2を得た。
【0090】GPCにより分子量を測定したところ、重
量平均分子量で1650であった。 ジアゾ樹脂−3の合成 フェノキシ酢酸6.1g(0.040モル)および4−ジア
ゾジフェニルアミン硫酸塩11.3g(0.040モル)を
水冷下で90gの濃硫酸に溶解した。この反応後に3.0
gのパラホルムアルデヒド(0.10モル)をゆっくり添
加した。この際、反応温度が10℃を超えないように添
加していった。その後、2時間氷冷下かくはんを続け
た。この反応混合物を氷冷下、1リットルのエタノール
に注入し、生じた沈殿を濾過した。エタノールで洗浄
後、この沈殿物を200ml の純水に溶解し、この液に
10.5gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。
生じた沈殿を濾過した後エタノールで洗浄し、これを3
00ml の純水に溶解した。この液にジブチルナフタレ
ンスルホン酸ナトリウム41gを溶解した冷濃厚水溶液
を加えた。生じた沈殿を濾別し水洗した後、30℃、1
昼夜乾燥して28.8gのジアゾ樹脂−3を得た。このジ
アゾ共縮合樹脂−3をGPCにより分子量を測定したと
ころ、重量平均分子量で約2300であった。 ジアゾ樹脂−4の合成 ジアゾ樹脂−3の合成において、ジブチルナフタレンス
ルホン酸ナトリウムをドデシルベンゼンスルホン酸ナト
リウムに替えた以外はジアゾ樹脂−3の合成の場合と同
様にし28.5gのジアゾ樹脂−4を得た。GPCにより
分子量を測定したところ、重量平均分子量で約2300
であった。 ジアゾ樹脂−5の合成 4−ジアゾジフェニルアミン硫酸水素塩24.9g(0.0
850mol)及びフェニルリン酸2.61g(0.0150mo
l)を96%硫酸70ml に溶解した。これにパラホルム
アルデヒド(95%)3.16g(0.100mol)を添加
し、5℃にて2時間攪拌した。その後、反応溶液を氷水
1.5リットルに攪拌しながら注入し、更に塩化亜鉛複塩
50%水溶液220gを添加して黄色の沈殿物を析出さ
せた。この黄色沈殿を濾別し、4−ジアゾジフェニルア
ミン・フェニルリン酸とホルムアルデヒドとの縮合物の
塩化亜鉛複塩を得た。
【0091】上記縮合物を水800ml に溶解し、これ
にジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム34.2g
(0.100 mol)の水600ml 溶液を激しく攪拌しな
がら添加した。生成した黄色沈殿を濾取、乾燥し、4−
ジアゾジフェニルアミン・フェニルリン酸とホルムアル
デヒドとの縮合物のジブチルナフタレンスルホン酸塩
(ジアゾ樹脂−5)25.5gを得た。GPCを用いて重
量平均分子量を測定したところ2320であった。 ジアゾ樹脂−6の合成 4−ジアゾジフェニルアミン硫酸水素塩29.3g(0.1
00mo1 )を85%リン酸70ml に溶解した。これに
グリオキシル酸・1水和物(97%)4.74g(0.05
00mol )を添加し、40℃にて20時間攪拌した。次
に、この反応混合物に、パラホルムアルデヒド(95
%)1.58g(0.0500mol )を添加し、40℃に
て、更に20時間攪拌した。その後、反応溶液をイソプ
ロピルアルコール800ml に攪拌しながら投入して、
黄色の沈殿物を析出させた。この黄色沈殿を濾別し、イ
ソプロピルアルコールで洗浄することにより、4−ジア
ゾジフェニルアミン−グリオキシル酸・ホルムアルデヒ
ド縮合物のリン酸二水素塩を得た。
【0092】上記縮合物を水400ml に溶解し、これ
にジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム41.8g
(0.120mol )の水600ml 溶液を攪拌しながら添
加した。生成した黄色沈殿を濾取、乾燥し、4−ジアゾ
ジフェニルアミン−グリオキシル酸・ホルムアルデヒド
縮合物のジブチルナフタレンスルホン酸塩(ジアゾ樹脂
−6)44gを得た。
【0093】得られたジアゾ樹脂−6のカルボン酸価
は、0.98meq/gであった。また、得られたジアゾ樹
脂−6を、GPCを用いて重量平均分子量を測定したと
ころ1950であった。 ジアゾ樹脂−7の合成 4−ジアゾ−4′−メトキシジフェニルアミン硫酸水素
塩32.3g(0.100mol)を96%硫酸75ml に溶解
した。これに、3−ジヒドロキシホスフィニルプロパナ
ール4.14g (0.0300mol)を添加し、5℃にて2時
間攪拌した。次にこの反応混合物にパラホルムアルデヒ
ド (95%) 2.21g(0.0700mol)を添加し、5℃
にて更に2時間攪拌した。その後、反応液を氷水1.5リ
ットルに攪拌しながら注入し、更に酸化亜鉛50%水溶
液180gを添加して黄色の沈殿物を析出させた。この
黄色沈殿を濾別し、4−ジアゾ−4′−メトキシジフェ
ニルアミンと3−ジヒドロキシホスフィニルプロパナー
ル・ホルムアルデヒドとの縮合物の塩化亜鉛複塩を得
た。
【0094】上記縮合物を水200ml 、MEK500
ml の混合物に懸濁し、これにドデシルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム29.2g(0.0840mol )の水600
ml溶液を激しく攪拌しながら添加した。しばらく攪拌
を続けた後、静置すると二層に分かれた。この上層を水
2リットルに攪拌しながら注入し、生成した黄色沈殿を
濾取乾燥することにより、4−ジアゾ−4′−メトキシ
ジフェニルアミンと3−ジヒドロキシホスフィニルプロ
パナール・ホルムアルデヒドとの縮合物のドデシルベン
ゼンスルホン酸塩(ジアゾ樹脂−7)36gを得た。
【0095】得られたジアゾ樹脂−7を1−フェニル−
3−メチル−5−ピラゾロンとカップリングさせた後
に、GPCを用いて重量平均分子量を測定したところ2
090であった。 ジアゾ樹脂−8の合成 4−ジアゾ−4′−ジヒドロキシホスフィニルオキシジ
フェニルアミン硫酸水素塩7.79g(0.0200mol)及
び4−ジアゾジフェニルアミン硫酸水素塩23.5g(0.
0800mol)を96%硫酸70ml に溶解した。これ
に、パラホルムアルデヒド(95%)3.16g(0.10
0mol)を添加し、5℃にて2時間攪拌した。その後、反
応溶液を氷水1.5リットルに攪拌しながら注入し、更に
塩化亜鉛50%水溶液260gを添加して、黄色の沈殿
物を析出させた。この黄色沈殿を濾別し、4−ジアゾ−
4′−ジヒドロキシホスフィニルオキシジフェニルアミ
ン・4−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドと
の縮合物の塩化亜鉛複塩を得た。
【0096】上記縮合物を水80ml に溶解し、これに
41gのジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウムの水
600ml の溶液を攪拌しながら添加した。生成した黄
色沈殿を濾取、乾燥し、4−ジアゾ−4′−ジヒドロキ
シホスフィニルオキシジフェニルアミン・4−ジアゾジ
フェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物のジブチ
ルナフタレンスルホン酸塩(ジアゾ樹脂−8)33gを
得た。GPCを用いて重量平均分子量を測定したところ
1950であった。
【0097】次に比較合成例として以下のジアゾ樹脂−
9および−10を合成した。 ジアゾ樹脂−9の合成 p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5g(50ミリ
モル)を氷冷下で40.9gの濃硫酸に溶解した。この反
応液に1.5g(50ミリモル)のパラホルムアルデヒド
をゆっくり滴下した。この際、反応温度が10℃を超え
ないように添加していった。その後、2時間氷冷下かく
はんを続けた。
【0098】この反応混合物を氷冷下、500ml のエ
タノールに滴下し、生じた沈殿を濾過した。エタノール
で洗浄後、この沈殿物を100mlの純水に溶解し、こ
の液に6.8gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加え
た。生じた沈殿を濾過した後エタノールで洗浄し、これ
を150ml の純水に溶解した。この液に16.8gのジ
ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウムを溶解した冷濃
厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾取し水洗した後、3
0℃、1昼夜乾燥して13.5gのジアゾ樹脂−9を得
た。
【0099】このジアゾ樹脂−9をGPCにより分子量
を測定したところ、5量体以上が約50モル%含まれて
いた。分子量は1,970であった。 ジアゾ樹脂−10の合成 ジアゾ樹脂−3の合成において、ジブチルナフタレンス
ルホン酸ナトリウムをヘキサフルオロリン酸アンモニウ
ムに替えた以外はジアゾ樹脂−3の合成の場合と同様に
し、ジアゾ樹脂−10を得た。
【0100】
【合成例2】 親油性高分子化合物−1の合成 N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド53
g、アクリロニトリル16g、メタクリル酸メチル30
g、エチルアクリレート8g、メタクリル酸2gおよび
アゾビスイソブチロニトリル3.3gをアセトン−エタノ
ール1:1混合溶液220ml に溶解し、窒素置換した
後60℃で8時間加熱した。
【0101】反応終了後、反応液を水5リットルにかく
はん下注ぎ、生じた白色沈殿を濾取乾燥して高分子化合
物−1を90g得た。この親油性高分子化合物−1をG
PCにより分子量の測定をしたところ、重量平均分子量
(ポリスチレン標準)は2.9万であった。 親油性高分子化合物−2の合成 2−ヒドロキシエチルメタクリレート5.0g、N−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド20g、メチル
メタクリレート60g、メタクリル酸8.0gと1.2g過
酸化ベンゾイルの混合液を、100℃に加熱したエチレ
ングリコールモノメチルエーテル300gに2時間かけ
て滴下した。滴下終了後エチレングリコールモノメチル
エーテル300gと過酸化ベンゾイル0.3gを加えてそ
のまま4時間反応させた。反応終了後メタノールで希釈
して水5リットルにかくはん下注ぎ、生じた白色沈殿を
濾取乾燥して親油性高分子化合物−2を86g得た。
【0102】この親油性高分子化合物−2をGPCによ
り分子量の測定をしたところ、重量平均分子量は8.2万
であった。 親油性高分子化合物−3の合成 N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド4.57g(0.0192mol)、アクリロニトリル2.55
g(0.0480mol)、メタクリル酸1.66g(0.019
2mol)、ベンジルアクリレート18.40g(0.1136
mol)、α,α′−アゾビスイソブチロニトリル0.41g
及びN,N−ジメチルホルムアミド25gを、攪拌機、
冷却管を備えた100ml 三ツ口フラスコに入れ、64
℃に暖めながら5時間攪拌した。この反応混合物を水2
リットルに攪拌下投入し、30分間攪拌後、ろ過、乾燥
することにより、19gの親油性高分子化合物−3が得
られた。GPCにより、この親油性高分子化合物−3の
重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測定したところ
1.8万であった。
【0103】
【実施例1】ISアルミニウム板を3%水酸化ナトリウ
ム水溶液にて脱脂し、これを2%塩酸浴中で25℃、3
A/dm2 の電流密度で電解エッチングし、水洗後、15
%硫酸浴中で30℃、1.5A/dm2 の条件で2分間陽極
酸化処理した。次に1%メタケイ酸ナトリウム水溶液8
5℃、30秒間封孔処理し、水洗、乾燥して、平版印刷
用アルミニウム支持体を得た。
【0104】上記アルミニウム支持体に特開昭59−1
01651号公報実施例1に記載の方法と同様にして下
塗りを施した。次に上記の下塗りを施したアルミニウム
支持体上に下記感光液−1をバーコーターを用いて塗布
し、120℃で30秒間乾燥した。乾燥塗布量は、1.7
g/m2であった。 (感光液−1) ジアゾ樹脂−1 1.2 g 親油性高分子化合物−1 5.0 g 油溶性染料 0.15g (ビクトリアピュアブルー BOH) フッ素系界面活性剤 0.02g (メガファックF−177 大日本インキ化学工業(株)製) リン酸トリクレジル 0.2 g 亜リン酸 0.03g リンゴ酸 0.03g スチレン−無水マレイン酸共重合体のn−ヘキシル 0.05g アルコールによるハーフエステル 2−メトキシプロパノール 50 g メタノール 20 g メチルエチルケトン 20 g 乳酸メチル 10 g この感光性層の上に、ボールミルで粉砕し、分級器(ア
ルビメ社製ジグザグ分級器)で分級した以下に示す樹脂
からなる固体粉末をスプレーガンによりパウダリング
し、150℃の空気浴に5秒間さらして固着させた。1
mm2 当りの粉末量は55個であった。 固体粉末樹脂:スチレン/アクリル酸メチル/アクリル
酸(2:1:1)共重合体粉末の粒径0.5〜10
(μ)。
【0105】なお以上の支持体処理工程や塗布工程は連
続した一貫製造ラインで行った。さらに感光性平版印刷
版は表面保護のために合紙でカバーした。合紙としては
表面がポリエチレン加工されている紙を用いた。なお、
このようにして得られた感光性平版印刷版の一部は、経
時性を促進させる強制劣化のため45℃、相対湿度65
%で5日間保存した。
【0106】得られた感光性平版印刷版をネガ透明原画
およびステップウェッジ(光学濃度が0.150ずつ段階
増加)を密着させて、5KWのメタルハライドランプで
1mの距離から30秒間露光した。密着露光の際の真空
密着に要した時間はマット層なしの場合165秒に対し
マット層ありの場合68秒であった。さらに次に示す条
件で現像処理を行った。
【0107】まず特開昭62−59958号公報に記載
された水平搬送型の現像液使い捨て型自動現像機を準備
し、第1浴には下記現像液−1を仕込み、第2浴には下
記処方のリンス液を水で8倍に希釈して8リットル仕込
んだ。現像液温は25℃現像時間30秒に設定した。 (現像液−1) 1K珪酸カリウム 60 g 水酸化カリウム 12 g ホウ素系界面活性剤 0.1g (東邦化学工業製エマルボンT−20) キレート剤(EDTA) 0.1g シリコン系消泡剤 0.01g (東芝シリコーン(株)製TSA−731) 酢酸コバルト 0.04g 水 1200 g 現像液−1のpHは、13.1であった。 (リンス液) リン酸(85重量%水溶液) 48 g 水酸化ナトリウム 19.2 g ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム 24 g ドデシルフェニルエーテル 24 g ジスルホン酸ナトリウム シリコーン消泡剤TSA−731 0.08g 水 875 g この自動現像機にて、上記露光済平版印刷版を現像し
た。さらに不要部分を富士写真フイルム(株)製消去液
RN−2で消去した。消去した部分に残存膜はなかっ
た。水洗を行った後、ガムGU−7による不感脂化処理
を行った。
【0108】上記ネガ型PS版を上記露光現像処理する
ことにより得られた平版印刷版をハイデルベルグ社製印
刷機SOR−Mにかけた。インキには大日本インキ
(株)製グラフGを用い、湿し水にはイソプロパノール
10%を含有する水道水に富士写真フィルム(株)製E
U−3を1%添加した液を用い、コート紙に印刷した。
得られた結果を表1に示す。
【0109】
【実施例2】厚さ0.3mmのJISA1050アルミニウ
ム板を5重量%水酸化ナトリウム水溶液中で、65℃で
1分間アルカリエッチングを行ったのち水洗し、10重
量%硝酸水溶液中で、25℃、1分間浸漬し中和したの
ち、水洗した。このアルミニウム板を1重量%の硝酸水
溶液中、30℃で、交流で電流密度50A/dm2 で30
秒間電解粗面化を行ったのち、水洗槽中で10秒間水洗
処理を行い、次に10重量%水酸化ナトリウム水溶液中
に浸漬して、アルミニウム溶解量が1g/m2になるよう
にエッチングした。
【0110】次に20%硫酸水溶液中で25℃、6A/
dm2 の条件で電解時間の調節により酸化皮膜重量1.2g
/m2の陽極酸化処理を行なった。次に陽極酸化されたア
ルミニウム板を湿度100%温度98℃の水蒸気に20
秒さらして封孔処理した。更に得られたアルミニウム板
を70℃のケイ酸ソーダ2.5%水溶液に1分間浸漬処理
し水洗・乾燥させた。以上のようにして得られたアルミ
ニウム支持体は、反射濃度0.23で、中心線平均粗さ0.
42μmであった。
【0111】この支持体上に、実施例1と同様にして下
塗りを行い、さらに下記感光液−2をバーコーターを用
いて塗布し、120℃で25秒間乾燥した。乾燥塗布量
は、1.6g/m2であった。 (感光液−2) ジアゾ樹脂−2 1.2 g 親油性高分子化合物−1 5.0 g ビクトリアピュアブルーBOH 0.15g メガファックF−177 0.02g リン酸トリクレジル 0.2 g フェニルホスホン酸 0.03g ジピコリン酸 0.03g 亜リン酸 0.03g p−ヒドロキシスチレンのビバリン酸エステル 0.1 g (エステル化率50%) 2−メトキシプロパノール 50 g メタノール 18 g メチルエチルケトン 20 g 乳酸メチル 10 g 水 2 g 感光層塗布後表面に実施例1と同様のマット加工を施し
た。
【0112】実施例1と同様にして画像露光を行った
後、さらに次に示す条件で現像処理を行った。すなわち
まず富士写真フィルム(株)製自現機800EIIBの第
1浴に実施例1と同じ現像液−1を、第2浴に特願平2
−30474号明細書実施例1に記載のフィニッシャー
をそれぞれ仕込み、現像液温25℃、現像時間30秒の
現像処理条件にした。つぎに上記平版印刷版と画像露光
済みのFPS−3とを、菊判の大きさで交互に30枚を
3時間にわたって適宜時間間隔をあけて現像処理をし
た。このとき現像開始時間から1時間経過するごとに3
90ml の補充液−1を添加し、かつPS版を1枚現像
するごとに補充液−1を37ml 添加した。
【0113】上記のようにして処理して得られた平版印
刷版を検版したところ、30枚すべてが同等の良好な現
像性を有していた。FPS−3についても同様であっ
た。よって、現像液は現像処理中は上記平版印刷版に対
し、ほぼ同じ現像活性を維持していることが認められ
た。FPS−3に対しても同様であった。 (補充液−1) 1K珪酸カリウム 60 g 水酸化カリウム 42 g ホウ素系界面活性剤 0.03g (東邦化学工業製エマルボンGB−24F) キレート剤 3.5 g (ライオン(株)製フェリオックス115) 水 1200 g 得られた平版印刷版を用い実施例1と同様の方法で印刷
を行った。
【0114】結果を表1に示す。
【0115】
【実施例3】アルミニウムを99.5%、銅を0.01%、
チタンを0.03%、鉄を0.3%及びケイ素を0.1%含有
するJISA1050アルミニウム材の厚み0.24mmの
圧延板を、400メッシュのパミストン(共立窯業製)
の20重量%水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ(6−
10ナイロン)とを用いてその表面を砂目立てした後、
よく水で洗浄した。
【0116】これを15重量%水酸化ナトリウム水溶液
(アルミニウム5重量%含有)に浸漬してアルミニウム
の溶解量が5g/m2になるようにエッチングした後、流
水で水洗した。さらに、1重量%硝酸で、中和し次に0.
7重量%硝酸水溶液中(アルミニウム0.5重量%含有)
中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極時電圧9.3ボルト
の矩形波交番波形電圧(電流比r=0.90、特公昭58
−5796号公報実施例に記載されている電流波形)を
用いて160クローン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面
化処理を行った。水洗後、40℃の10重量%水酸化ナ
トリウム水溶液中に浸漬して、アルミニウム溶解量が1
g/m2になるようにエッチングした後、水洗した。次
に、50℃30%の硫酸水溶液中に浸漬し、デスマット
した後、水洗した。
【0117】さらに35℃の硫酸20重量%水溶液(ア
ルミニウム0.8重量%含有)中で直流電流を用いて多孔
性陽極酸化皮膜形成処理を行った。すなわち電流密度1
3A/dm2 で電解を行い、電解時間の調節により陽極酸
化皮膜重量2.0g/m2とした。陽極酸化したアルミニウ
ム板を水洗後、70℃のケイ酸ナトリウムの3重量%水
溶液に30秒間浸漬処理し、水洗乾燥した。
【0118】以上のようにして得られたアルミニウム支
持体は、マクベスRD920反射濃度計で測定した反射
濃度0.28で、中心線平均粗さ0.54μmであった。上
記支持体上に実施例1と同様の下塗りをしさらに下記感
光液−3をバーコーターを用いて塗布し120℃で30
秒間乾燥した。乾燥重量は1.7g/m2であった。 (感光液−3) ジアゾ樹脂−3 1.2 g p−ジアゾフェニルアミンとホルムアルデヒドとの 0.05g 縮合物の4−メトキシ−2−ヒドロキシベンゾフ ェノン−5−スルホン酸塩 親油性高分子化合物−1 5.0 g ビクトリアピュアブルーBOH 0.15g メガファックF−177 0.02g リン酸トリクレジル 0.2 g リンゴ酸 0.03g アニオン界面活性剤(花王アトラス製ペレックスNBL) 0.1 g ポリアクリル酸(ジュリマーAC−10L) 0.3 g スチレン−無水マレイン酸共重合体のn−ヘキシル 0.05g アルコールによるハーフエステル 2−メトキシプロパノール 50 g メタノール 20 g メチルエチルケトン 20 g 乳酸メチル 10 g この感光性平版印刷版の上に下記の組成の共重合物の2
0重量%水溶液を静電スプレーで塗布し、温度60℃の
雰囲気中に5秒間露して乾燥させて感光性平版印刷版表
面をマット化した。 共重合物組成:メチルメタクリレート/エチルアクリレ
ート/2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホ
ン酸ナトリウム(5:3:2) 共重合物の塗布量は0.1g/m2であり、50〜100個
/mm2 の液滴の数があり、乾燥後の樹脂層の高さは2〜
6μ、巾は20μ〜150μであった。
【0119】得られた感光性平版印刷版を実施例1と同
様にして露光した。真空密着に要した時間はマット層な
しの場合162秒に対しマット層ありの場合39秒であ
った。さらに次に示す条件で現像処理を行った。すなわ
ちまず富士写真フィルム(株)製自現機スタブロン90
0Dの第1浴に上記現像液−1を第2浴に水を第3浴に
富士写真フィルム(株)製フィニッシャーFP−2をそ
れぞれ仕込み、現像液温30℃、現像時間12秒の現像
処理条件にした。つぎに上記平版印刷版と画像露光済の
富士写真フィルム(株)製ポジ型PS版FPS−3と
を、菊判の大きさで交互に30枚を6時間にわたって適
宜時間間隔をあけて現像処理をした。
【0120】なお、現像液−1がこれらの処理または経
時で疲労し、現像能力が落ちた場合は前記補充液−1を
補充することにより現像能力を回復させた。上記の処理
の間、現像液は上記平版印刷版に対し、ほぼ同じ現像活
性を維持していることがわかった。FPS−3に対して
も同様であった。各PS版におけるステップウェッジの
ベタ段数の差はすべて1段以内に収まっていた。
【0121】得られた平版印刷版を用い実施例1と同様
の方法で印刷を行った。このようにして得られた平版印
刷版の印刷結果を表1に示す。
【0122】
【実施例4】実施例3における感光液−3において親油
性高分子化合物−1を親油性高分子化合物−2に代えた
以外は実施例3と同様にして感光性平版印刷版を製造し
た。得られたネガ型感光性平版印刷版を実施例1と同様
に画像露光後、次に示す条件で現像処理を行った。すな
わちまず自現機スタブロン900Dの第1浴に実施例1
と同じ現像液−1を第2浴に水を第3浴に富士写真フィ
ルム(株)製リンス液FR−3をそれぞれ仕込み、上記
平版印刷版と画像露光済のポジ型PS板FPS−3とを
実施例1と同様の方法で現像処理をした。なお現像能力
が落ちた場合は下記補充液−2を補充した。 (補充液−2) 1K珪酸カリウム 120 g 水酸化カリウム 25 g キレート剤 0.3g (キレスト化学(株)製NTA−C) 水 1200 g 上記の処理の間、現像液は上記平版印刷版に対し、ほぼ
同じ現像活性を維持していることがわかった。FPS−
3に対しても同様であった。
【0123】このようにして得られた平版印刷版の非画
像部に不要部分またはフィルムエッジがある場合、ネガ
型PS版は富士写真フィルム(株)製消去液RN−2で
ポジ型PS板は消去液RP−2で消去した。消去液を水
洗後富士写真フィルム(株)製ガムコーターG800を
用い、富士写真フィルム(株)製ガムGU−7による不
感脂化処理を行った。
【0124】得られた平版印刷版を用い実施例1と同様
の方法で印刷を行った。結果を表1に示す。
【0125】
【実施例5】実施例3における感光液−3において、親
油性高分子化合物−1を親油性高分子化合物−3に代え
た以外は実施例3の手順を繰返した。結果を表1に示
す。
【0126】
【実施例6】実施例3における感光液−3において、ジ
アゾ樹脂−3を、ジアゾ樹脂−4に代えた以外は実施例
3の手順を繰返した。結果を表1に示す。
【0127】
【実施例7】実施例3における感光液−3において、ジ
アゾ樹脂−3を、ジアゾ樹脂−5(1.4g)に代えた以
外は実施例3の手順を繰返した。結果を表1に示す。
【0128】
【実施例8】実施例3における感光液−3において、ジ
アゾ樹脂−3をジアゾ樹脂−6(0.7g)に代えた以外
は実施例3の手順を繰返した。結果を表1に示す。
【0129】
【実施例9】実施例3における感光液−3において、ジ
アゾ樹脂−3をジアゾ樹脂−7(0.7g)に代えた以外
は実施例3の手順を繰返した。結果を表1に示す。
【0130】
【実施例10】実施例3における感光液−3において、
ジアゾ樹脂−3をジアゾ樹脂−8(0.7g)に代えた以
外は実施例3の手順を繰返した。結果を表1に示す。
【0131】
【比較例1】実施例3における感光液−3において、ジ
アゾ樹脂−3をジアゾ樹脂−9(0.6g)に代えた以外
は実施例3の手順を繰返した。結果を表1に示す。
【0132】
【比較例2】実施例3における感光液−3において、ジ
アゾ樹脂−3を、ジアゾ樹脂−10(0.7g)に代えた
以外は実施例3の手順を繰返した。結果を表1に示す。
【0133】
【比較例3】比較例1において現像液−2を以下に示す
有機溶剤を含有する現像液−3に代えた以外は比較例1
の手順を繰返した。結果を表1に示す。 (現像液−3) ベンジルアルコール 500 g トリエタノールアミン 150 g 亜硫酸ソーダ 50 g ブチルナフタレンスルホン酸ソーダ 250 g 水 10 l
【0134】
【比較例4】比較例2において現像液−2を現像液−3
に代えた以外は比較例2の手順を繰返した。結果を表1
に示す。
【0135】
【表1】
【0136】
【表2】
【0137】なお、表1における印刷物の汚れは以下の
レベルを示す。 地汚れ なし A 地汚れ 小 B 地汚れ 大 C 強制保存条件は45℃、相対湿度65%、5日間であ
る。
【0138】斑点状汚れは印刷物の非画像部におけるマ
ットパターン状の汚れの有無を判定したものである。表
1からわかるように、本発明の方法により製造された平
版印刷版は実質上有機溶媒を含まない現像液−1および
2においても印刷物に汚れがなく又は少なく、さらに表
面マット層に由来する斑点状汚れが出ない又は出にくい
非常に優れたものであった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 支持体上に、カルボキシル基、フェノー
    ル性水酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基およびリン
    の酸素酸基からなる群から選ばれた少なくとも一種を有
    する芳香族ジアゾニウム化合物を含有する感光層が設け
    られており、該感光層上に相互に独立して設けられた突
    起物により、その表面がマット化されている感光性平版
    印刷版を画像露光後、実質上有機溶媒を含まない水性ア
    ルカリ現像液で現像することを特徴とする平版印刷版の
    製造方法。
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