JPH0559462A - 高真空装置用高純度銅の製造方法 - Google Patents
高真空装置用高純度銅の製造方法Info
- Publication number
- JPH0559462A JPH0559462A JP21882691A JP21882691A JPH0559462A JP H0559462 A JPH0559462 A JP H0559462A JP 21882691 A JP21882691 A JP 21882691A JP 21882691 A JP21882691 A JP 21882691A JP H0559462 A JPH0559462 A JP H0559462A
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- JP
- Japan
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- purity copper
- heat treatment
- copper
- vacuum
- gas
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- Pending
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、通常の真空または非酸化性ガス雰囲
気で溶解、鋳造された鋳塊から放出ガス量、特に放出水
素量の少ない高真空装置用高純度銅を製造する方法を提
供しようとするものである。 【構成】銅鋳塊に塑性加工と加熱処理を少なくともそれ
ぞれ１回以上行なうことにより所望の寸法、形状の高純
度銅を製造する方法において、前記加熱処理を少なくと
も１回は圧力が１０-3ｔｏｒｒ以下の高真空の容器内で
５００〜１０００℃、１時間以上行なうことを特徴とし
ている。
気で溶解、鋳造された鋳塊から放出ガス量、特に放出水
素量の少ない高真空装置用高純度銅を製造する方法を提
供しようとするものである。 【構成】銅鋳塊に塑性加工と加熱処理を少なくともそれ
ぞれ１回以上行なうことにより所望の寸法、形状の高純
度銅を製造する方法において、前記加熱処理を少なくと
も１回は圧力が１０-3ｔｏｒｒ以下の高真空の容器内で
５００〜１０００℃、１時間以上行なうことを特徴とし
ている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高真空装置に使用され
る高純度銅の製造方法に関する。
る高純度銅の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、高真空装置に使用される導電材
料は、長期間に亘ってガス放出が少く、導電率が高いこ
とが要求されるため、純度が９９．９９％程度の高純度
銅が用いられている。
料は、長期間に亘ってガス放出が少く、導電率が高いこ
とが要求されるため、純度が９９．９９％程度の高純度
銅が用いられている。
【０００３】ところで、前述した高純度銅の製造方法と
しては従来より高純度の電気銅を真空中で溶解、鋳造し
た後、大気中または非酸化性ガス中における加熱と熱間
または冷間加工を繰り返すことにより型材を作製し、こ
れを切削加工して所望の形状に仕上げる工程が採用され
ている。かかる高純度銅の製造において、型材中に含有
される不純物、特に水素を主成分とするガス成分を極力
減少させること、および最終切削加工材の表面を平滑に
してガスの吸着面積を少くとすることが重要である。
しては従来より高純度の電気銅を真空中で溶解、鋳造し
た後、大気中または非酸化性ガス中における加熱と熱間
または冷間加工を繰り返すことにより型材を作製し、こ
れを切削加工して所望の形状に仕上げる工程が採用され
ている。かかる高純度銅の製造において、型材中に含有
される不純物、特に水素を主成分とするガス成分を極力
減少させること、および最終切削加工材の表面を平滑に
してガスの吸着面積を少くとすることが重要である。
【０００４】前記後者の要望である最終切削加工材の表
面を平滑にする方法は、通常ダイヤモンドバイト切削に
よる鏡面加工により達成することが可能である。
面を平滑にする方法は、通常ダイヤモンドバイト切削に
よる鏡面加工により達成することが可能である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、型材中
に含有される不純物、特に水素を主成分とするガス成分
を極力減少させるために従来では真空溶解鋳造設備を必
要とするため、設備が高価となり、しかも大型の鋳塊を
得ることが困難であるという問題がある上、最終製品の
ガス放出特性も十分満足するものでなかった。
に含有される不純物、特に水素を主成分とするガス成分
を極力減少させるために従来では真空溶解鋳造設備を必
要とするため、設備が高価となり、しかも大型の鋳塊を
得ることが困難であるという問題がある上、最終製品の
ガス放出特性も十分満足するものでなかった。
【０００６】本発明は、前記従来の問題点を解決するた
めになされたもので、通常の真空または非酸化性ガス雰
囲気で溶解、鋳造された鋳塊から放出ガス量、特に放出
水素量の少ない高真空装置用高純度銅を製造する方法を
提供しようとするものである。
めになされたもので、通常の真空または非酸化性ガス雰
囲気で溶解、鋳造された鋳塊から放出ガス量、特に放出
水素量の少ない高真空装置用高純度銅を製造する方法を
提供しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、銅鋳塊に塑性
加工と加熱処理を少なくともそれぞれ１回以上行なうこ
とにより所望の寸法、形状の高純度銅を製造する方法に
おいて、前記加熱処理を少なくとも１回は圧力が１０-3
ｔｏｒｒ以下の高真空の容器内で５００〜１０００℃、
１時間以上行なうことを特徴とする高真空装置用高純度
銅の製造方法である。
加工と加熱処理を少なくともそれぞれ１回以上行なうこ
とにより所望の寸法、形状の高純度銅を製造する方法に
おいて、前記加熱処理を少なくとも１回は圧力が１０-3
ｔｏｒｒ以下の高真空の容器内で５００〜１０００℃、
１時間以上行なうことを特徴とする高真空装置用高純度
銅の製造方法である。
【０００８】前塑性加工としては、例えば熱間または冷
間鍛造を採用することができる。
間鍛造を採用することができる。
【０００９】前記容器内での加熱処理における真空度を
限定した理由は、その真空度が１０-3ｔｏｒｒを越える
と（低真空度側）、製品の脱ガスを十分に達成されなく
なるからである。
限定した理由は、その真空度が１０-3ｔｏｒｒを越える
と（低真空度側）、製品の脱ガスを十分に達成されなく
なるからである。
【００１０】同様に、前記加熱処理における温度、時間
を限定し理由は、５００℃未満または１時間未満にする
と製品の脱ガスが十分に達成されなくなるからであり、
一方、加熱処理における温度が１０００℃を越えると銅
の融点近くになるため、作業が困難となるからである。
特に、８００〜１０００℃、５時間以上で加熱処理を行
うことが好ましい。ただし、加熱処理時間については長
い方が脱ガス効果を高めることが可能となるが、経済性
を考慮した上で、製品の大きさに応じて決定される。
を限定し理由は、５００℃未満または１時間未満にする
と製品の脱ガスが十分に達成されなくなるからであり、
一方、加熱処理における温度が１０００℃を越えると銅
の融点近くになるため、作業が困難となるからである。
特に、８００〜１０００℃、５時間以上で加熱処理を行
うことが好ましい。ただし、加熱処理時間については長
い方が脱ガス効果を高めることが可能となるが、経済性
を考慮した上で、製品の大きさに応じて決定される。
【００１１】本発明に係わる高純度銅の製造方法におい
ては、第１の塑性加工、加熱処理、第２の塑性加工の後
にさらに加熱処理を施したり、前記第２の塑性加工の後
にさら加熱処理、第３の塑性加工を施したりすることを
許容する。この場合、さらに付加される加熱処理は前述
したのと同様な条件（圧力が１０-3ｔｏｒｒ以下の高真
空の容器内で５００〜１０００℃、１時間以上）で行な
われることが好ましいが経済性を考慮すると少なくとも
１度行なえば相当の効果があることが確認されている。
ては、第１の塑性加工、加熱処理、第２の塑性加工の後
にさらに加熱処理を施したり、前記第２の塑性加工の後
にさら加熱処理、第３の塑性加工を施したりすることを
許容する。この場合、さらに付加される加熱処理は前述
したのと同様な条件（圧力が１０-3ｔｏｒｒ以下の高真
空の容器内で５００〜１０００℃、１時間以上）で行な
われることが好ましいが経済性を考慮すると少なくとも
１度行なえば相当の効果があることが確認されている。
【００１２】なお、最終段階の前記加熱処理後にガス雰
囲気中で加熱させると、雰囲気ガスが銅中に再浸透する
ため、前記脱ガスのための加熱処理を行なった後には２
００℃以上の加熱を避けることが望ましい。
囲気中で加熱させると、雰囲気ガスが銅中に再浸透する
ため、前記脱ガスのための加熱処理を行なった後には２
００℃以上の加熱を避けることが望ましい。
【００１３】
【作用】本発明によれば、銅鋳塊を塑性加工、加熱処理
を少なくとも１回以上行なうことにより所望の寸法、形
状の高純度銅を製造する方法において、前記加熱処理を
少なくとも１回は圧力が１０-3ｔｏｒｒ以下の高真空の
容器内で５００〜１０００℃、１時間以上行なうことに
よって、必ずしも大型で高価な真空溶解鋳造設備を用い
ることなく、放出ガス量、特に放出水素量の少ない高真
空装置用高純度銅を極めて簡単かつ安価に製造すること
ができる。
を少なくとも１回以上行なうことにより所望の寸法、形
状の高純度銅を製造する方法において、前記加熱処理を
少なくとも１回は圧力が１０-3ｔｏｒｒ以下の高真空の
容器内で５００〜１０００℃、１時間以上行なうことに
よって、必ずしも大型で高価な真空溶解鋳造設備を用い
ることなく、放出ガス量、特に放出水素量の少ない高真
空装置用高純度銅を極めて簡単かつ安価に製造すること
ができる。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
【００１５】実施例１〜４ 通常のＣＯ＋Ｈ2 ガス雰囲気中で直径３００ｍｍ、長さ
３００ｍｍの高純度銅を鋳造した後、下記表１に示す工
程で加工した後、ダイヤモンドバイトで表面を切削加工
して２０ｍｍ×２０ｍｍ×３０ｍｍの４種の高純度銅試
料を製造した。
３００ｍｍの高純度銅を鋳造した後、下記表１に示す工
程で加工した後、ダイヤモンドバイトで表面を切削加工
して２０ｍｍ×２０ｍｍ×３０ｍｍの４種の高純度銅試
料を製造した。
【００１６】比較例１〜３ 実施例１と同様な高純度銅鋳造物を下記表２に示す工程
で加工した後、ダイヤモンドバイトで表面を切削加工し
て２０ｍｍ×２０ｍｍ×３０ｍｍの４種の高純度銅試料
を製造した。
で加工した後、ダイヤモンドバイトで表面を切削加工し
て２０ｍｍ×２０ｍｍ×３０ｍｍの４種の高純度銅試料
を製造した。
【００１７】従来例 実施例１と同様な高純度銅鋳造物を下記表２に示す工程
で加工した後、ダイヤモンドバイトで表面を切削加工し
て２０ｍｍ×２０ｍｍ×３０ｍｍの４種の高純度銅試料
を製造した。
で加工した後、ダイヤモンドバイトで表面を切削加工し
て２０ｍｍ×２０ｍｍ×３０ｍｍの４種の高純度銅試料
を製造した。
【００１８】本実施例１〜４、比較例１〜３および従来
例により製造された各試料を真空中で８５０℃に３０分
間放置して放出されるガス量を質量分析器により測定し
た。その結果を同表１、表２に併記した。
例により製造された各試料を真空中で８５０℃に３０分
間放置して放出されるガス量を質量分析器により測定し
た。その結果を同表１、表２に併記した。
【００１９】
【表１】
【００２０】
【表２】
【００２１】前記表１および表２から明らかなように本
実施例１〜４の高純度銅試料は、比較例１〜３、従来例
に比べて放出ガス量が極めて少ないことがわかる。
実施例１〜４の高純度銅試料は、比較例１〜３、従来例
に比べて放出ガス量が極めて少ないことがわかる。
【００２２】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば必
ずしも大型で高価な真空溶解鋳造設備を用いることな
く、放出ガス量の少ない高真空装置に有用な高純度銅を
極めて簡単かつ安価に製造し得る方法を提供することが
できる。
ずしも大型で高価な真空溶解鋳造設備を用いることな
く、放出ガス量の少ない高真空装置に有用な高純度銅を
極めて簡単かつ安価に製造し得る方法を提供することが
できる。
Claims (1)
- 【請求項１】 銅鋳塊に塑性加工と加熱処理を少なくと
もそれぞれ１回以上行なうことにより所望の寸法、形状
の高純度銅を製造する方法において、前記加熱処理を少
なくとも１回は圧力が１０-3ｔｏｒｒ以下の高真空の容
器内で５００〜１０００℃、１時間以上行なうことを特
徴とする高真空装置用高純度銅の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21882691A JPH0559462A (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 高真空装置用高純度銅の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21882691A JPH0559462A (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 高真空装置用高純度銅の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0559462A true JPH0559462A (ja) | 1993-03-09 |
Family
ID=16725955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21882691A Pending JPH0559462A (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 高真空装置用高純度銅の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0559462A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001004367A1 (fr) * | 1999-07-09 | 2001-01-18 | Hideo Nakajima | Procede de production d'un corps en metal poreux |
| US7261141B2 (en) * | 2002-02-22 | 2007-08-28 | Hideo Nakajima | Metal porous body manufacturing method |
-
1991
- 1991-08-29 JP JP21882691A patent/JPH0559462A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001004367A1 (fr) * | 1999-07-09 | 2001-01-18 | Hideo Nakajima | Procede de production d'un corps en metal poreux |
| US7073558B1 (en) * | 1999-07-09 | 2006-07-11 | Hideo Nakajima | Production method for porous metal body |
| US7261141B2 (en) * | 2002-02-22 | 2007-08-28 | Hideo Nakajima | Metal porous body manufacturing method |
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