JPH0559277B2 - - Google Patents
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- JPH0559277B2 JPH0559277B2 JP3097844A JP9784491A JPH0559277B2 JP H0559277 B2 JPH0559277 B2 JP H0559277B2 JP 3097844 A JP3097844 A JP 3097844A JP 9784491 A JP9784491 A JP 9784491A JP H0559277 B2 JPH0559277 B2 JP H0559277B2
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- JP
- Japan
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- vacuum pump
- gas
- phase
- process gas
- piping
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Links
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Landscapes
- Compressor (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】 本発明は、常温、常圧付
近で気相から固相又は液相に相変化するプロセス
ガスを排気する真空ポンプ、配管及び排ガス処理
装置などからなる真空ポンプ装置に関する。
近で気相から固相又は液相に相変化するプロセス
ガスを排気する真空ポンプ、配管及び排ガス処理
装置などからなる真空ポンプ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】 例えば半導体製造プロセスにお
ける真空プロセス装置において図２に示すよう
に、反応室４におけるエツチングやCVD（高温ガ
ス中の化学反応を使つて基板上に単結晶や絶縁層
を成長させる工程）などに用いられるプロセスガ
スＡの中には、真空ポンプ１の排気中に、真空ポ
ンプ１の内部又は排気直後に気相から固相又は液
相に相変化するものがある。真空ポンプ１、配管
２及び排ガス処理装置３からなる真空ポンプ装置
においては、真空ポンプ１より上流側では圧力が
低いため、プロセスガスＡが気相であつても真空
ポンプ１の直後では大気圧であるため、プロセス
ガスＡが気相から固相又は液相に相変化し易い。
そして、これらの相変化の生成物は、真空ポンプ
１以降の配管２や排ガス処理装置３内を閉塞した
り、腐食するなどの不具合を生じさせる原因とな
つている。
ける真空プロセス装置において図２に示すよう
に、反応室４におけるエツチングやCVD（高温ガ
ス中の化学反応を使つて基板上に単結晶や絶縁層
を成長させる工程）などに用いられるプロセスガ
スＡの中には、真空ポンプ１の排気中に、真空ポ
ンプ１の内部又は排気直後に気相から固相又は液
相に相変化するものがある。真空ポンプ１、配管
２及び排ガス処理装置３からなる真空ポンプ装置
においては、真空ポンプ１より上流側では圧力が
低いため、プロセスガスＡが気相であつても真空
ポンプ１の直後では大気圧であるため、プロセス
ガスＡが気相から固相又は液相に相変化し易い。
そして、これらの相変化の生成物は、真空ポンプ
１以降の配管２や排ガス処理装置３内を閉塞した
り、腐食するなどの不具合を生じさせる原因とな
つている。
【0003】 これらの不具合に対する対策としてプ
ロセスガスＡの昇華特性を利用した次の方法が採
られている。
ロセスガスＡの昇華特性を利用した次の方法が採
られている。
【0004】 (1) 真空ポンプ１内を適度（100〜300
℃）の保持する。
℃）の保持する。
【0005】 (2) 図３に示すように、真空ポンプ１
及び真空ポンプ１の直後に配管２に常温の不活性
ガスＢを導入し、プロセスガスＡの分圧が下げ
る。
及び真空ポンプ１の直後に配管２に常温の不活性
ガスＢを導入し、プロセスガスＡの分圧が下げ
る。
【0006】 (3) 図４に示すように、更に真空ポン
プ１の下流側の配管２を電熱線５で囲つて断熱
し、プロセスガス１を気相に保持する。
プ１の下流側の配管２を電熱線５で囲つて断熱
し、プロセスガス１を気相に保持する。
【0007】
上記従来の方法のうち特に図４に示すものは有
効であるが、しかし、配管２の箇所Ｃにおいて
は、導入された常温の不活性ガスＢが、高温（例
えば300℃）のプロセスガスＡを冷却してしまい、
気相から固相又は液相への相変化を引き起こして
しまうおそれがあつた。
効であるが、しかし、配管２の箇所Ｃにおいて
は、導入された常温の不活性ガスＢが、高温（例
えば300℃）のプロセスガスＡを冷却してしまい、
気相から固相又は液相への相変化を引き起こして
しまうおそれがあつた。
【0008】 本発明は、プロセスガスの相変化を抑
止する真空ポンプ装置を提供することを目的とし
ている。
止する真空ポンプ装置を提供することを目的とし
ている。
【0009】
本発明によれば、常温、常圧付近で気相から固
相又は液相に相変化するプロセスガスを排気する
真空ポンプ、配管及び排ガス処理装置などからな
る真空ポンプ装置において、プロセスガスの相変
化を抑止する温度コントロールされた不活性ガス
の導入部を前記真空ポンプの直後に設けている。
相又は液相に相変化するプロセスガスを排気する
真空ポンプ、配管及び排ガス処理装置などからな
る真空ポンプ装置において、プロセスガスの相変
化を抑止する温度コントロールされた不活性ガス
の導入部を前記真空ポンプの直後に設けている。
【0010】 上記不活性ガスの温度コントロール
は、プロセスガスの熱量に応じ、温度及び導入量
をコントロールするのが好ましい。
は、プロセスガスの熱量に応じ、温度及び導入量
をコントロールするのが好ましい。
【0011】 また、導入部は、真空ポンプにも設け
るのが好ましい。
るのが好ましい。
【0012】
【作用】 上記のように構成された真空ポンプ装
置においては、プロセスガスの熱量に応じて温度
及び導入量をコントロールした不活性ガスを導入
することにより、真空ポンプから排出された高温
のプロセスガスの分圧を下げると共に冷却を防止
し、気相から固相又は液相への相変化を抑止する
ことができる。
置においては、プロセスガスの熱量に応じて温度
及び導入量をコントロールした不活性ガスを導入
することにより、真空ポンプから排出された高温
のプロセスガスの分圧を下げると共に冷却を防止
し、気相から固相又は液相への相変化を抑止する
ことができる。
【0013】
【実施例】 以下図面を参照して本発明の実施例
を説明する。
を説明する。
【0014】 図１において、反応室４に導入された
プロセスガスを排出し処理する真空ポンプ装置
は、反応室４に接続された配管２と、その配管２
に直列に配設された真空ポンプ１及び排ガス処理
装置３と、真空ポンプ１及び真空ポンプ１の直後
の配管部分２ａに不活性ガスＢの導入部６ａ，６
ｂを備えた不活性ガスＢの導入配管６と、導入配
管６を囲んで設けられた温度コントロール部すな
わち予熱部とからなつている。その予熱部７に
は、導入配管６を巻回する電熱部８が設けられ、
プロセスガスＡの熱量に応じて不活性ガスＢの温
度及び導入量をコントロールするようになつてい
る。
プロセスガスを排出し処理する真空ポンプ装置
は、反応室４に接続された配管２と、その配管２
に直列に配設された真空ポンプ１及び排ガス処理
装置３と、真空ポンプ１及び真空ポンプ１の直後
の配管部分２ａに不活性ガスＢの導入部６ａ，６
ｂを備えた不活性ガスＢの導入配管６と、導入配
管６を囲んで設けられた温度コントロール部すな
わち予熱部とからなつている。その予熱部７に
は、導入配管６を巻回する電熱部８が設けられ、
プロセスガスＡの熱量に応じて不活性ガスＢの温
度及び導入量をコントロールするようになつてい
る。
【0015】 したがつて、プロセスガスＡの熱量に
応じ予熱して温度と導入量とをコントロールした
不活性ガスＢを導入部６ａ，６ｂから真空ポンプ
１及び真空ポンプ１の直後の配管２に導入するこ
とにより、プロセスガスＡの分布を下げると共
に、真空ポンプ１から排出された高温のプロセス
ガスＡの冷却を防止し、プロセスガスＡが気相か
ら固相又は液相に相変化するのを確実に抑止し、
相変化の生成物により配管２や排ガス処理装置３
の閉塞や腐食を防止することができる。
応じ予熱して温度と導入量とをコントロールした
不活性ガスＢを導入部６ａ，６ｂから真空ポンプ
１及び真空ポンプ１の直後の配管２に導入するこ
とにより、プロセスガスＡの分布を下げると共
に、真空ポンプ１から排出された高温のプロセス
ガスＡの冷却を防止し、プロセスガスＡが気相か
ら固相又は液相に相変化するのを確実に抑止し、
相変化の生成物により配管２や排ガス処理装置３
の閉塞や腐食を防止することができる。
【0016】
【発明の効果】 以上説明したように構成されて
いるので、プロセスガスの相変化を確実に抑止
し、相変化の生成物による装置の閉塞や腐食を防
止することができる。
いるので、プロセスガスの相変化を確実に抑止
し、相変化の生成物による装置の閉塞や腐食を防
止することができる。
【図１】 本発明の一実施例を示す構成図。
【図２】 従来装置の欠点を説明する構成図。
【図３】 従来の改良された装置の一例を示す構
成図。
成図。
【図４】 従来の改良された装置の別の例を示す
構成図。
構成図。
【符号の説明】 Ａ……プロセスガス Ｂ……不
活性ガス Ｃ……配管の箇所 １……真空ポンプ ２……配管 ２ａ……配管部分 ３……排ガス処理装置 ４……反応室 ５……電熱線 ６……導入配管 ６ａ，６ｂ……導入部 ７……予熱部 ８……電熱線。
活性ガス Ｃ……配管の箇所 １……真空ポンプ ２……配管 ２ａ……配管部分 ３……排ガス処理装置 ４……反応室 ５……電熱線 ６……導入配管 ６ａ，６ｂ……導入部 ７……予熱部 ８……電熱線。
Claims (1)
- 【請求項１】 常温、常圧付近で気相から固相又
は液相に相変化するプロセスガスを排気する真空
ポンプ、配管及び排ガス処理装置などからなる真
空ポンプ装置において、プロセスガスの相変化を
抑止する温度コントロールされた不活性ガスの導
入部を前記真空ポンプの直後に設けたことを特徴
とする真空ポンプ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9784491A JPH04330388A (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 真空ポンプ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9784491A JPH04330388A (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 真空ポンプ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04330388A JPH04330388A (ja) | 1992-11-18 |
| JPH0559277B2 true JPH0559277B2 (ja) | 1993-08-30 |
Family
ID=14203034
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9784491A Granted JPH04330388A (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 真空ポンプ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04330388A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003209101A (ja) * | 2002-01-17 | 2003-07-25 | Tokura Kogyo Kk | Ｃｖｄ排気系配管における塩化アンモニウムの付着防止方法 |
| JP5837351B2 (ja) * | 2010-08-05 | 2015-12-24 | 株式会社荏原製作所 | 排気系システム |
| JP6418838B2 (ja) | 2014-07-31 | 2018-11-07 | エドワーズ株式会社 | ドライポンプ及び排ガス処理方法 |
| JP6929601B2 (ja) * | 2018-02-21 | 2021-09-01 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63314397A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-22 | Hitachi Ltd | 真空ポンプ |
| JPH01237397A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-21 | Hitachi Ltd | 真空ポンプ |
| JPH02188691A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-24 | Hitachi Ltd | 真空ポンプ |
-
1991
- 1991-04-30 JP JP9784491A patent/JPH04330388A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63314397A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-22 | Hitachi Ltd | 真空ポンプ |
| JPH01237397A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-21 | Hitachi Ltd | 真空ポンプ |
| JPH02188691A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-24 | Hitachi Ltd | 真空ポンプ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04330388A (ja) | 1992-11-18 |
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