JPH0559277B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0559277B2 JPH0559277B2 JP3097844A JP9784491A JPH0559277B2 JP H0559277 B2 JPH0559277 B2 JP H0559277B2 JP 3097844 A JP3097844 A JP 3097844A JP 9784491 A JP9784491 A JP 9784491A JP H0559277 B2 JPH0559277 B2 JP H0559277B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum pump
- gas
- phase
- process gas
- piping
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Compressor (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9784491A JPH04330388A (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 真空ポンプ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9784491A JPH04330388A (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 真空ポンプ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04330388A JPH04330388A (ja) | 1992-11-18 |
| JPH0559277B2 true JPH0559277B2 (enExample) | 1993-08-30 |
Family
ID=14203034
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9784491A Granted JPH04330388A (ja) | 1991-04-30 | 1991-04-30 | 真空ポンプ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04330388A (enExample) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003209101A (ja) * | 2002-01-17 | 2003-07-25 | Tokura Kogyo Kk | Cvd排気系配管における塩化アンモニウムの付着防止方法 |
| JP5837351B2 (ja) * | 2010-08-05 | 2015-12-24 | 株式会社荏原製作所 | 排気系システム |
| JP6418838B2 (ja) | 2014-07-31 | 2018-11-07 | エドワーズ株式会社 | ドライポンプ及び排ガス処理方法 |
| JP6929601B2 (ja) * | 2018-02-21 | 2021-09-01 | 住友重機械工業株式会社 | クライオポンプ |
| JP2025154277A (ja) | 2024-03-29 | 2025-10-10 | エドワーズ株式会社 | 真空排気システム |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63314397A (ja) * | 1987-06-17 | 1988-12-22 | Hitachi Ltd | 真空ポンプ |
| JPH086708B2 (ja) * | 1988-03-18 | 1996-01-29 | 株式会社日立製作所 | 真空ポンプ |
| JPH02188691A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-24 | Hitachi Ltd | 真空ポンプ |
-
1991
- 1991-04-30 JP JP9784491A patent/JPH04330388A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04330388A (ja) | 1992-11-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6402806B1 (en) | Method for unreacted precursor conversion and effluent removal | |
| CN100532639C (zh) | 具有反应副产物沉积防止装置的排气管和沉积防止方法 | |
| JP2002348670A (ja) | 冷却機構及び処理装置 | |
| US6107198A (en) | Ammonium chloride vaporizer cold trap | |
| US6090208A (en) | Prevention of clogging in CVD apparatus | |
| JPH0559277B2 (enExample) | ||
| JPH0261067A (ja) | 熱処理装置 | |
| JP5459115B2 (ja) | カーボン膜成膜装置 | |
| JP4677088B2 (ja) | グラファイトナノファイバー薄膜形成用熱cvd装置 | |
| JPH01293120A (ja) | 廃ガス処理方法 | |
| JP4252142B2 (ja) | ガス処理装置およびそれに用いられる原料供給系のパージ機構 | |
| JP3111663B2 (ja) | プラズマ装置 | |
| JP2009088308A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPS6359533B2 (enExample) | ||
| JPH01312833A (ja) | 気相成長装置 | |
| JP3401896B2 (ja) | 化学気相成長方法及びそれに用いる化学気相成長装置 | |
| JP2628264B2 (ja) | 熱処理装置 | |
| JPH03185715A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP3279466B2 (ja) | 半導体ウエハの処理装置及び半導体素子 | |
| JPS61156725A (ja) | 気相成長装置 | |
| KR100648268B1 (ko) | 반도체 소자 제조에 사용되는 배기 시스템 및 이를 이용한기판 처리 장치 | |
| JPH07176498A (ja) | 反応ガスの予熱装置を備えた反応炉 | |
| JPH1079379A (ja) | プラズマ処理装置 | |
| WO2024195036A1 (ja) | 原料捕集システム、基板処理装置、原料捕集方法、及び半導体装置の製造方法 | |
| JP4256174B2 (ja) | 減圧気相成長装置 |