JPH0551337B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は空気技術的な装置、特に顆粒化プロセ
ス、糖衣プロセス、フイルムコーテイングプロセ
ス及び生物反応法並びに乾燥法を実施する装置に
おける物理的な処理プロセス及び生物反応を監視
しかつ制御する方法であつて、供給空気若しくは
ガスを供給し、排出空気若しくはガスを排出し、
そのさい少なくとも排出空気の湿りを測定する形
式のもの及びこの方法を実施する装置に関する。

従来技術 この種のプロセスを監視するために、従来例え
ば被処理物の運動及び温度等のパラメータの少な
くとも１つを測定し、これに相応して、必要があ
れば処理プロセスを変更することが行なわれてい
る。しかしこの間接的な測定法によれば、測定誤
差を生じることが多い。

さらに、乾燥プロセスにおいて、単位時間当り
わずかな湿り変化しか調整されない最終段階で排
出空気及び必要ならば給気の湿りを測定すること
も公知である。しかしこの方法では、処理プロセ
ス中の空気若しくは製品の実際の湿り負荷につい
ての判定が不可能である。

さらに、２つの電極を備え、この電極によつて
被覆プロセス中の被処理物の導電性を測定して、
被処理物の湿度、特に液状の結合剤の量を検出す
ることのできる装置も公知である。この場合はさ
らに、これに続く乾燥プロセス時に温度測定器を
介して乾燥度も検出される。しかしこの装置にお
いては、被処理物内に突入した測定器と被処理物
との直接的な接触によつて生じる欠点がある他
に、関心の高い値の測定が多数回の置換えによつ
て行なわれるため、測定結果を誤りやすい。その
上、チヤージ交換時、特に他品目の被処理物への
交換時に測定装置の付け換え、校正等に問題があ
り、ために、種々異なるチヤージでの処理プロセ
スの実施が制限され若しくは煩雑となる。

赤外線をベースとして作動し、表面水膜での反
射によつて被処理物の現在の湿りを検出する湿り
測定法も同様な欠点を有しており、しかもこの方
法では、被処理物を取囲む空気又は類似物の含湿
量が多いときにはさらに不利な影響が生じる惧れ
がある。

本発明の課題 本発明の課題は、処理プロセス時の被処理物の
現在の状態把握が被処理物との接触なく可能であ
るとともに、被処理物の状態に実際に直接関連す
る測定値が得られ、湿り負荷の正確な検出がで
き、その上、種々異なる被処理物のチヤージ交換
が測定に悪影響を与えないような方法並びにこの
方法を実施する装置を提供することにある。

本発明方法の構成 この課題を解決した本発明方法の要旨は、冒頭
に述べた方法において、処理プロセス時の製品の
湿り若しくは活水度の制御のためのパラメータと
して湿りの測定値を使用することにある。

本発明方法の効果 本発明によれば測定値は直接に製品に関連して
評価され、それゆえ、特に単位時間当りの製品の
湿り若しくは活水性が正確に維持される。このこ
とは特に生物反応法においては、製品中の湿りの
わずかな偏差でも障害が生じるために極めて重要
である。さらに、例えば乾燥プロセスにおいて
は、その過程全体にわたり、乾燥すべき製品の湿
り負荷の直接的な推定が可能となる。その場合、
瞬間的な湿りの除去並びに除去された水分の全量
を極めて正確に検出してこれを制御の目的で評価
することができる。さらに顆粒化プロセス及びコ
ーテイングプロセス等の監視及び（又は）制御も
著しく簡便化される。この場合にはプロセス空気
の湿り負荷が検出されて所望値に調整若しくは制
御される。それゆえ過剰湿り若しくは乾燥不足が
確実に回避される。これによつて、製品が交換さ
れる場合でも極めて正確なプロセス実施が行なわ
れるとともに経費が安価となる。

効果的には、既知の供給空気条件で排出空気の
湿りだけが測定され、かつ必要ならば、湿りに影
響する処理パラメータ、例えばスプレー量等を考
慮し若しくは計算して、処理プロセス時の製品の
湿り若しくは活水性の制御のために使用される。
これによつて、供給空気と排出空気との間の単位
時間当りの湿り差として製品中に残留する湿り又
は含水量を表わす計算値が形成される。スプレー
処理では、供給される湿りも一緒に計算され、従
つてこの場合も、そのつどの製品の湿りの推定が
可能である。

有利には排出空気と供給空気との湿りの絶対量
が検出されて作業プロセスの制御のために使用さ
れる。このようにすれば、温度を一緒に検出する
必要がないため、測定費用が比較的安い。

本発明装置の構成 本発明方法を実施する本発明装置の要旨は空気
技術的な装置、特に顆粒化プロセス、糖衣プロセ
ス、フイルムコーテイングプロセス及び生物反応
法並びに乾燥法を実施する装置における物理的な
処理プロセス及び生物反応を監視しかつ制御する
ために、供給空気若しくはガスを供給し、排出空
気若しくはガスを排出し、そのさい少なくとも排
出空気の湿りを測定する方法を実施する装置であ
つて、少なくともガス出口のところにガスの含湿
量を検出するための測定装置が設けられている形
式のものにおいて、この測定装置が、少なくとも
排出空気若しくは排出されるガスのためにバイパ
スフロー式の湿り検出子を備えており、この湿り
検出子が堅牢な構造を有していることにある。

本発明装置の効果 この種の湿り検出子によれば排出空気の湿り負
荷の正確な検出、及びこれから被処理物中の活水
性の正確な配量が可能となり、このことは特に生
物反応法で重要である。構造が固牢なため、多く
の場合本発明方法に関する処理プロセスに関連し
て発生する爆発の危険が考慮される。

本発明装置の実施例及びその効果 本発明装置の有利な１実施例では、測定装置
が、湿りの絶対量を検出する湿り検出子を有して
おり、この湿り検出子は特に定量測定子として形
成されかつ必要ならば加熱装置と協働する。湿り
の絶対量を検出し、このことのために定量測定子
を使用することによつて、測定装置の構造が簡単
となり、かつ加熱装置の使用によつて飽和空気も
露点移動によつて測定可能となる。

図示の実施例の説明 第１図に示す流動層装置１は乾燥プロセス、顆
粒化プロセス、即席化プロセス及びフイルムコー
テイングプロセスの実施のために役立つ。その場
合、作業塔２を通して下方から供給空気が矢印
Pf１で示すように供給される。この供給空気は
処理区域３を通り過ぎた後、同処理区域３の上方
から排出される。処理区域３の下方の制限は網状
の底部４によつて形成されている。処理区域３の
上端に、スプレー処理のためのスプレーノズル５
が設けられている。作業塔２の上端にはさらにフ
イルタ６が設けられており、このフイルタは複数
のフイルタマントルから成つている。

供給空気（矢印Pf１）は、作業塔２の下端に
設けた給気案内７から吹込まれる。この給気案内
７は例えば前フイルタ、加熱器、必要ならば冷却
器、精密フイルタ並びに圧力ベンチレータを有す
ることができる。プロセス空気の吹込みのため
に、後フイルタ並びに必要ならば吸込ベンチレー
タ９を備えた排出空気案内８を設けることができ
る。

処理プロセスの監視、制御若しくは調整のため
に、空気入口１１でのガス若しくは空気の含湿量
並びに空気出口１２での含湿量を検出するための
測定装置１０が設けられている。供給空気と排出
空気との湿りの差から、処理プロセスの瞬間的な
状態を直接的に推定することができる。これによ
つて特に、処理区域３内で行なわれた処理プロセ
スによつて供給空気から奪われた湿り量若しくは
供給空気に加えられた湿り量が決定される。この
ような含湿量変化に基づきプロセスの経過の制御
が可能であり、その場合、この制御は処理区域３
内の含湿量に影響する種々異なる個所で行なうこ
とができる。例えば供給空気の温度又は量を変化
させることができ、他面においてはスプレーノズ
ル５から流出するスプレー液の量を変化させるこ
ともできる。それゆえ、スプレー法による顆粒
化、糖衣、フイルムコーテイング等の所定の処理
プロセス中の監視及び全体的な制御が可能である
とともに、他面においては空気中の湿りの監視に
よる乾燥プロセスの監視が可能である。

第１図から第５図までは、供給空気の湿り及び
排出空気の湿りのための本発明に基づく測定装置
を配置した種々の装置を示す。第１図は顆粒化法
又はフイルムコーテイング法のための流動層装置
１を示す。第２図は給気案内７ａ及び排出空気案
内８ａを備えたいわゆる流動乾燥器１３を示す。
そのほかに、原料供給部１４とスプレーノズル５
を備えたスプレー装置１５とが設けられている。
スプレー装置１５を備えたことによつて、この流
動乾燥器は流動顆粒化装置としても作動すること
ができる。

第３図は乾燥台１８上に被乾燥物を載せた乾燥
戸棚１６を示す。第４図は糖衣及びフイルムコー
テイング罐１９を備えた位置を示し、この場合空
気は給気案内７ｂを介して供給されて被処理物１
７を通過しかつ排出空気案内８ｂを介して排出さ
れる。第５図に示す装置でも糖衣及びフイルムコ
ーテイング罐１９が設けられているが、しかしこ
の場合は被処理物１７を通る循環空気案内が設け
られている。

上述の実施例では供給空気の湿り及び排出空気
の湿りが測定され、各処理プロセスの監視若しく
は制御のために使用される。測定装置１０は２つ
の湿り検出子２０，２１を有し、湿り検出子２０
は供給空気の湿りを、湿り検出子２１は排出空気
の湿りをそれぞれ測定する。

第１図に示す流動層装置１では、給気案内７へ
の空気入口１１のところに供給空気の湿り検出子
２０が設置されており、給気案内７内には供給空
気量等の給気温度に影響するための装置が配置さ
れている。この場合、排出空気の湿り検出子２１
は処理区域３の上方で、流れ方向でみて処理室の
後方に位置するフイルタ６の手前に配置されてい
る。この湿り検出子２１は必要ならば排出空気案
内のところ及びさらに必要ならば吸込ベンチレー
タ９の後方に配置されてもよい。処理区域３の近
くでフイルタ６の手前に湿り検出子を配置する利
点は、測定結果が実際に損なわれないことにあ
る。

測定結果の処理の後、相応の出力信号が、例え
ば測定装置１０に所属する調整器から制御導線２
２を介して、流れ空気状態に影響する装置に供給
される。例えば、給気案内７に所属する装置（加
熱器、送風機等）又は破線で示すように吸込ベン
チレータ９が制御される。さらに、スプレーノズ
ル５から流出するスプレー液のスプレー量を変化
させることもできる。第２図によれば、すでに述
べたように制御導線２２がスプレー装置１５及び
原料供給部１４のための搬送部材の少なくともい
ずれか一方に接続される。

第３図によれば、乾燥戸棚において乾燥プロセ
スの監視が本発明測定装置１０によつて可能であ
る。この場合、一面においては乾燥プロセスの終
りの方の監視、必要ならば予め与えられた残留湿
りの監視が可能であり、他面においては特に乾燥
プロセス時に所定の単位時間内での湿り量の排出
が制御され、従つて、被乾燥物いかんに応じて、
迅速な又は緩慢な乾燥を行ないかつ監視若しくは
制御することができる。

第３図では測定装置１０にさらに別体の調整器
２３が後接続されており、この調整器は乾燥プロ
セスの調整のために、供給空気状態を変化させる
ための装置に接続される。

第４図及び第５図は糖衣及びフイルムコーテイ
ング罐１９を備えた装置を示し、この装置では同
様にそれぞれ１つの供給空気の湿り検出子２０と
排出空気の湿り検出子２１が設けられている。

特に排出空気の湿り検出子２１はバイパスフロ
ー式の湿り検出子として形成されて防爆型ケーシ
ング２４内に配置されている。この種の湿り検出
子は、よく使用される防爆条件下で使用される。

第６図はこの種の可能なバイパスフロー式の湿
り検出子の略示図である。この湿り検出子は防爆
型ケーシング２４内に測定室２５を有しており、
この測定室２５内に測定子２６が突入しており、
かつこの測定室２５はガス入口２７及びガス出口
２８を備えている。ガス入口２７は防爆型ケーシ
ング２４内にガス供給導管２９を備えており、こ
のガス供給導管２９は吸込漬し管３０内に挿入さ
れている。このガス供給導管２９内には、測定室
２５の手前に火炎遮断部材３１が設けられてお
り、この火炎遮断部材３１とガス入口２７との間
にフイルタ３２が設けられている。火炎遮断部材
３１の手前に遮断弁３３が設けられており、この
遮断弁３３の、測定室から遠い方の接続端部のと
ころに吹込導管３４が開口しており、この吹込導
管は同様に遮断弁３５を備えている。測定室２５
からのガス出口２８のところには吹込ポンプ３７
を備えた導管３６が接続されている。

運転中は遮断弁３５が閉成され、遮断弁３３が
開放される。吸込ポンプ３７によつて連続的又は
間欠的に、含湿量を検出すべきガスがガス供給導
管２９を通して吸引される。これによつて、測定
室２５内で、有利には定量測定子２６によつてガ
スの含湿量若しくは露点が決定される。

必要ならば、第６図に示すように測定室２５に
加熱器３８を備えることができ、これによつて、
測定空気が飽和状態にあるときでも、温度を上昇
させて適当に露点を移動調整することができる。
露点の移動は次いで適当な測定修正によつて再び
修正され、そのときに得られた測定結果は最初の
低い温度における測定空気に相当する。しかしこ
の措置は排出空気の含湿量の測定には不要であ
る。ガス供給導管２９の洗浄のために、遮断弁３
３が閉じられ、遮断弁３５が開放され、その結
果、適当な掃気流によつて、湿り、ダスト等が排
除される。

防爆条件を満足させるために、バイパスフロー
型の湿り検出子２１の防爆型ケーシング２４に、
防爆ガス、例えば窒素を充てんすることができ
る。

バイパスフロー型の湿り検出子２１は測定室２
５及び類似物、吸込ポンプ４７、遮断弁３３，３
５、火炎遮断部材３１、フイルタ３２及び類似物
を備えたコンパクトな構成ユニツトを形成してい
る。防爆型ケーシング２４はさらに接続フランジ
３９を備えており、この接続フランジ３９を吸込
漬し管３０が貫通しており、かつこの接続フラン
ジ３９によつて、バイパスフロー型の湿り検出子
２１が簡単にかつ必要ならば後から測定領域内に
配置されかつ固定される。湿り検出子の前述の手
段によれば、特に場合によつては爆発の危険の多
い前述の処理方法での使用を可能ならしめる堅牢
な構造が得られる。

第７図は供給空気と排出空気との含湿量の可能
な履歴を示すダイヤグラムである。横軸は処理の
ための時間ｔ、縦軸は含湿量を表わす。ここに述
べる処理は全体で３つの時間区分、及びに
分割されている。時間区分内では、前乾燥が行
なわれる。前乾燥は、排出空気の湿りが所定の湿
り負荷量X₁を有するまで実施され、その結果、
破線で示す曲線が得られる。又は前乾燥は排出空
気の湿り負荷量が零となるまで、換言すれば供給
空気と排出空気とが同じ湿り値を有するまで実施
される。この例では、給気条件が全処理時間帯に
わたりほぼコンスタントな量X_Zにとどほること
が前提される。しかし、給気条件が変動する場合
でも、供給空気の湿りと排出空気の湿りとの間の
本発明に基づく差値形成により、処理プロセスに
ついての誤まりない正確な決定が可能である。

前乾燥の時間区分には、時間区分においてス
プレー式顆粒化プロセス、糖衣プロセス又はフイ
ルムコーテイングプロセスが続く。この処理によ
つて排出空気の湿りは値X₂まで上昇する。この
値X₂はこの例では所望通りほぼコンスタントに
とどめられる。この場合湿り負荷よりも湿りの絶
対値、要するに供給空気の湿りと排出空気の湿り
との差が重要である。なぜならば、この差が、処
理によつて生じる湿り負荷についての決定をもた
らすからである。供給空気の湿りの変動は適当な
調整、例えば供給空気への影響又はスプレー量へ
の影響によつて補償することができる。

時間区分に時間区分が続いており、この時
間区分内では後乾燥が行なわれる。その場合、
乾燥は再び限界値X₂まで行なわれる。供給空気
の湿り負荷に対する排出空気の湿り負荷を検出す
る可能性によつて、乾燥プロセスを連続的に監視
しかつ必要ならば修正することができる。さらに
例えばエラー限界の低い範囲内で加算器によつ
て、排除された水の全量についての推定が可能で
ある。

本発明の利点 本発明に基づく測定装置１０によれば、全体的
に著しく正確なプロセス実施が可能である。その
さいの著しい利点はプロセスの経過の繰返し性が
極めて正確であることにあり、従つて最終製品が
均一な質を有する。特に、敏感な医薬製品又は化
学製品を損なうおそれのある乾燥不足が回避され
る。

特に乾燥においては、初期値及び最終値が検出
されかつ処理されるのみならず、乾燥プロセス中
でも乾燥速度、要するに単位時間当りの乾燥の度
合が監視されかつ制御され、従つてエネルギ費用
が節約されかつ場合によつては乾燥プロセスが短
縮される。

本発明の著しい別の利点は、プロセスの実施に
おいて温度、時間等のプロセスのパラメータがわ
ずかであり、従つて制御費用が、特に自動化に関
連して著しく減少することにある。

顆粒化方法においては場合によつて排出空気の
湿りだけを検出するのが有利である。なぜなら
ば、顆粒化方法においては最大可能な湿り負荷が
作業領域内で行なわれるからである。排出空気の
湿りの測定によつて、有利には丁度露点にある湿
り値が、影響量特にスプレー量の適度な変化によ
つて制御される。

第８ａ図及び第８ｂ図は糖衣プロセス、顆粒化
プロセス又は類似プロセスと、これに続く乾燥プ
ロセスとの経過を示す流れ図である。糖衣若しく
は顆粒化プロセス中には、乾燥プロセスがまだ導
入されていない限りでは、処理区域内に存在する
湿りは上限値と下限値との間に保たれる。湿りが
限界値に到達したとき、この限界値から再び湿り
を許容範囲にもたらすために種種の手段を設ける
ことができる。例えば図示の流れ図において、
「湿りの限界値に到達したか？」のブロツクの後
方の左側の枝は、湿りの下限値に到達したときの
プロセスの順序を示し、右側の枝は湿りの上限値
に到達したときのプロセスの順序を示している。

糖衣若しくは顆粒化プロセス経過中では、乾燥
プロセスが未だ導入されていない限りにおいて、
空気の湿りが上限値及び下限値によつて監視され
る。例えば湿りの下限値に到達したときは、最初
の手段としてまずスプレー量が高められる。これ
は、測定された湿りが湿りの下限値のところに位
置しなくなるまで行なわれる。しかし、スプレー
量の連続的な増大が湿りをその下限値から引上げ
るにもはや不十分なとき並びに最大のスプレー量
を得るようにするときは、湿り値を高める次の手
段として、スプレー圧力が高められる。これは湿
り値が再び所定の限界範囲内に位置するまで行な
われる。スプレー圧力が最大のとき、湿りを所望
値に高めるために給気温度を低下させかつ最終的
には空気量も減少させることができる。これら手
段の順序はこのプロセス及び特に製品のために特
別効果的である。

湿りの上限値に達したさいの手段は上述の順序
と逆の順序で行なわれる。その場合、順序に従つ
て、まず空気量が高められ、次いで給気温度が高
められ、スプレー圧力が下げられかつ最終的にス
プレー量が下げられる。各手段から手段への移行
は、実施中の手段がそれ以上変化できないときに
のみ行なわれる。さらに、図示の流れ図とは別の
論理的なフイードバツク及び接続が行なわれても
よいが、しかしこれについては図面簡単のため図
示しない。糖衣又は顆粒化プロセスが終了したの
ち、乾燥プロセスが続けられる。乾燥プロセスに
おいては例えば湿りの下限値まで乾燥される。下
限値に達した後、処理プロセスが終了する。

上述した本発明方法若しくは装置によれば、特
に、粉末から顆粒への塊状集積が、湿りベツドを
活水性によつてコントロールできるときにのみ繰
返し可能でありかつそのつどの要求に相応して行
なわれる。このことは湿りの絶対値を検出せしめ
る、露点の正確な測定によつて可能である。処理
方法において、コントロールされた湿りから製品
の湿り負荷が推定されることも重要である。物理
的な処理プロセスと並んで、生物学的なプロセス
では、含水量を正確に規定することが特に重要で
ある。この種のプロセスは、例えば糖溶液と酵母
菌とを流動層内で反応又は処理することによつて
生じるアルコールの発酵に役立てられる。このプ
ロセスでは、酵母菌の生存能力若しくはその活性
化のために湿りが特に重要である。実験によれ
ば、空気の湿りが数パーセント変化しただけでも
障害が生じる。供給空気を湿り検出子２０によつ
て監視する代りに、正確に知れているデータを備
えたすでに調整された供給空気を供給することも
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１実施例の部分断面略示側
面図、第２図は本発明の第２実施例の断面略示側
面図、第３図は本発明の第３実施例の略示図、第
４図は本発明の第４実施例の略示図、第５図は本
発明の第５実施例の略示図、第６図は本発明の１
実施例に基づく湿り検出子の略示拡大図、第７図
は本発明に基づくプロセスのダイヤグラムを示す
図、第８ａ図及び第８ｂ図は本発明に基づく流れ
図を示す図である。 １……流動層装置、２……作業塔、３……処理
区域、４……底部、５……スプレーノズル、６…
…フイルタ、７，７ａ，７ｂ……給気案内、８，
８ａ，８ｂ……排出空気案内、９……吸込ベンチ
レータ、１０……測定装置、１１……空気入口、
１２……空気出口、１３……流動乾燥器、１４…
…原料供給部、１５……スプレー装置、１６……
乾燥戸棚、１７……被乾燥物、１８……乾燥台、
１９……糖衣及びフイルムコーテイング罐、２
０，２１……湿り検出子、制御導線、２３……調
整器、２４……防爆型ケーシング、２５……測定
室、２６……測定子、２７……ガス入口、２８…
…ガス出口、２９……ガス供給導管、３０……吸
込漬し管、３１……火炎遮断部材、３２……フイ
ルタ、３３……遮断弁、３４……吹込導管、３５
……遮断弁、３６……導管、３７……吸込ポン
プ、３８……加熱器、３９……接続フランジ、４
０……加熱器。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 空気技術的な装置における物理的な処理プロ
   セス及び生物反応を監視し及び／又は制御する方
   法であつて、装置内に供給空気若しくは排出空気
   又はガスを供給し、排出空気若しくはガスを排出
   し、かつ装置内で物品をプロセスする形式のもの
   において、 (a) 流動化ベツドを形成し、この流動化ベツド内
   で非処理物を、容器に供給された流動化供給空
   気の流れによりサスペンドし、 (b) 流動化ベツド内の被処理物を水溶液でスプレ
   ー処理し、 (c) 供給空気の湿度を測定し、 (d) 排出空気の湿度を測定し、 (e) 排出空気の湿りを供給空気の湿りと比較し、
   かつ、 (f) スプレー溶液の質、供給空気の温度及び供給
   空気の量の少なくともいずれか１つを含むプロ
   セス条件を変化させ、プロセス条件のこの変化
   を前記湿りの比較に基づいて実施してプロセス
   中の被処理物の湿りを制御し、この変化過程
   を、まずスプレー溶液の質を変化させ、次いで
   必要ならば供給空気の温度を変化させ、次いで
   必要ならば供給空気の量を変化させることによ
   り順次実施してプロセス中の被処理物の湿りを
   制御することを特徴とする空気技術的な装置に
   おける物理的な処理プロセス及び生物反応を監
   視しかつ制御するための方法。 ２ 変化すべき前記プロセス条件が、処理プロセ
   ス中の被処理物の湿りに影響する条件を含んでい
   る特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 排出空気の湿りを所定の値に維持する過程を
   含む特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４ 前記所定の値を露点の近くに置く特許請求の
   範囲第３項記載の方法。 ５ 排出空気及び供給空気の少なくともいずれか
   一方の湿りの絶対量を測定し、前記プロセス条件
   の導入のために使用する特許請求の範囲第１項記
   載の方法。 ６ 空気貫流量及びスプレー率を所定時間ほぼコ
   ンスタントに保ちかつ少なくとも排出空気の湿り
   に依存して供給空気の温度を制御する過程を含む
   特許請求の範囲第１項記載の方法。 ７ 空気貫流量及び前記スプレー率を所定時間ほ
   ぼコンスタントに保ちかつ供給空気と排出空気と
   の湿りの差に依存して供給空気の温度を制御する
   過程を含む特許請求の範囲第１項記載の方法。 ８ 貫流空気量及び供給空気の温度を所定時間ほ
   ぼコンスタントに保ちかつ少なくとも排出空気の
   湿りに依存してスプレー率を制御する過程を含む
   特許請求の範囲第１項記載の方法。 ９ 貫流空気量及び供給空気の温度を所定時間ほ
   ぼコンスタントに保ちかつ供給空気と排出空気と
   の湿りの差に依存してスプレー率を制御する過程
   を含む特許請求の範囲第１項記載の方法。 １０ スプレー率及び供給空気の温度を所定時間
   ほぼコンスタントに保ちかつ少なくとも排出空気
   の湿りに依存して貫流空気量を制御する過程を含
   む特許請求の範囲第１項記載の方法。 １１ スプレー率及び供給空気の温度を所定時間
   ほぼコンスタントに保ち供給空気と排出空気との
   湿りの差に依存して貫流空気量を制御する過程を
   含む特許請求の範囲第１項記載の方法。 １２ 監視される前記プロセスが乾燥処理を含
   み、この乾燥処理において供給空気と排出空気と
   の湿りの差を、単位時間当たりのプロセス中の物
   品内の水分のロスの表示のために使用する特許請
   求の範囲第１項記載の方法。 １３ 供給空気と排出空気との湿りの差を上限値
   及び下限値と比較して、スプレー率、供給空気温
   度及び供給空気量の少なくともいずれか１つを変
   化させて前記上限値と下限値との範囲内の湿りの
   差を維持する過程を含む特許請求の範囲第１項記
   載の方法。 １４ 監視されるプロセスが物品の予備乾燥を含
   んでおり、かつ、この予備乾燥の間、供給空気と
   排出空気との湿りの差を測定し、この湿りの差が
   予定値の範囲に達した際に排出空気の湿りを予定
   値のところでコンスタントに保ち、第２の乾燥プ
   ロセスを導入する過程を含む特許請求の範囲第１
   項記載の方法。 １５ 空気技術的な装置における物理的な処理プ
   ロセス及び生物反応を監視し及び／又は制御する
   装置であつて、この装置内に供給空気又は供給ガ
   スが供給され、排出空気又は排出ガスが装置から
   排出されるようになつており、空気技術的な装置
   が処理区域を有しており、この処理区域が出口を
   備えており、この出口を通つて排出空気が流出す
   る形式のものにおいて、空気の入口と出口との間
   で前記処理区域内に、空気を入口から供給して空
   気を出口から排出することにより流動化ベツドを
   形成する手段が設けられており、前記流動化ベツ
   ド内に溶液をスプレーする手段が設けられてお
   り、排出空気の湿りを測定するための第１の測定
   手段が設けられており、供給空気の湿りを測定す
   るための第２の測定手段が設けられており、排出
   空気の湿りを供給空気の湿りと比較する手段が設
   けられており、スプレー溶液の質、供給空気温
   度、供給空気量の少なくともいずれか１つを含む
   プロセス条件を変化させる手段が設けられてお
   り、このプロセス条件の変化が、プロセスされる
   物品の湿りを制御すべく湿りの比較に基づいてお
   り、その場合、第１の測定手段が防爆型ケーシン
   グ内に収容されていることを特徴とする空気技術
   的な装置における物理的な処理プロセス及び生物
   反応を監視しかつ制御するための装置。 １６ 前記第１の測定手段が露点検出子から成る
   特許請求の範囲第１５項記載の装置。 １７ 前記第１の測定手段が測定室と湿りの絶対
   量を記録する手段とを含む特許請求の範囲第１５
   項記載の装置。 １８ バイパスフロー式の湿り検出子のケーシン
   グ内に防爆ガスが充填されている特許請求の範囲
   第１５項記載の装置。 １９ 排出空気のための前記バイパスフロー式の
   湿り検出子が処理区域の出口範囲内に配置されて
   いる特許請求の範囲第１５項記載の装置。 ２０ 空気技術的な装置における物理的な処理プ
   ロセス及び生物反応を監視し及び／又は制御する
   装置であつて、この装置内に供給空気又は供給ガ
   スが供給され、排出空気又は排出ガスが装置から
   排出されるようになつており、空気技術的な装置
   が処理区域を有しており、この処理区域が出口を
   備えており、この出口を通つて排出空気が流出す
   る形式のものにおいて、空気の入口と出口との間
   で前記処理区域内に、空気を入口から供給して空
   気を出口から排出することにより流動化ベツドを
   形成する手段が設けられており、前記流動化ベツ
   ド内に溶液をスプレーする手段が設けられてお
   り、排出空気の湿りを測定するための第１の測定
   手段が設けられており、供給空気の湿りを測定す
   るための第２の測定手段が設けられており、排出
   空気の湿りを供給空気の湿りと比較する手段が設
   けられており、スプレー溶液の質、供給空気温
   度、供給空気量の少なくともいずれか１つを含む
   プロセス条件を変化させる手段が設けられてお
   り、このプロセス条件の変化が、プロセスされる
   物品の湿りを制御すべく湿りの比較に基づいてお
   り、前記第１の測定手段が、測定室及び湿りの絶
   対量を記録する手段を含んでおり、かつ、湿り検
   出子の測定室内に加熱手段が配置されていること
   を特徴とする空気技術的な装置における物理的な
   処理プロセス及び生物反応を監視しかつ制御する
   ための装置。 ２１ 空気技術的な装置における物理的な処理プ
   ロセス及び生物反応を監視し及び／又は制御する
   装置であつて、この装置内に供給空気又は供給ガ
   スが供給され、排出空気又は排出ガスが装置から
   排出されるようになつており、空気技術的な装置
   が処理区域を有しており、この処理区域が出口を
   備えており、この出口を通つて排出空気が流出す
   る形式のものにおいて、空気の入口と出口との間
   で前記処理区域内に、空気を入口から供給して空
   気を出口から排出することにより流動化ベツドを
   形成する手段が設けられており、前記流動化ベツ
   ド内に溶液をスプレーする手段が設けられてお
   り、排出空気の湿りを測定するための第１の測定
   手段が設けられており、供給空気の湿りを測定す
   るための第２の測定手段が設けられており、排出
   空気の湿りを供給空気の湿りと比較する手段が設
   けられており、スプレー溶液の質、供給空気温
   度、供給空気量の少なくともいずれか１つを含む
   プロセス条件を変化させる手段が設けられてお
   り、このプロセス条件の変化が、プロセスされる
   製品の湿りを制御すべく湿りの比較に基づいてお
   り、前記第１の測定手段が、測定室及び湿りの絶
   対量を記録する手段を含んでおり、かつ、前記第
   １の測定手段の測定室内に達する容量型の測定子
   が設けられており、前記測定室がガス入口及びガ
   ス出口を備えており、かつ、ガス入口の近くに火
   炎遮断部材が設けられていることを特徴とする空
   気技術的な装置における物理的な処理プロセス及
   び生物反応を監視しかつ制御するための装置。 ２２ 前記測定室が入口を備えており、この入口
   内に洗浄手段が設けられており、かつガス入口の
   内部には火炎遮断部材の上流に遮断弁が配置され
   ており、この遮断弁に吹込導管が接続されてお
   り、この吹込導管に別の遮断弁が接続されている
   特許請求の範囲第２１項記載の装置。 ２３ 測定室、吸込ポンプ、遮断弁火災遮断部材
   及びフイルタが１つの構成ユニツトを形成してい
   てケーシング内に収容されている特許請求の範囲
   第２２項記載の装置。 ２４ 測定室のガス入口内にフイルタが設けられ
   ている特許請求の範囲第２１項記載の装置。 ２５ 前記フイルタが火炎遮断部材の手前に位置
   している特許請求の範囲第２４項記載の装置。 ２６ 空気技術的な装置における物理的な処理プ
   ロセス及び生物反応を監視し及び／又は制御する
   装置であつて、この装置内に供給空気又は供給ガ
   スが供給され、排出空気又は排出ガスが装置から
   排出されるようになつており、空気技術的な装置
   が処理区域を有しており、この処理区域が出口を
   備えており、この出口を通つて排出空気が流出す
   る形式のものにおいて、空気の入口と出口との間
   で前記処理区域内に、空気を入口から供給して空
   気を出口から排出することにより流動化ベツドを
   形成する手段が設けられており、前記流動化ベツ
   ド内に溶液をスプレーする手段が設けられてお
   り、排出空気の湿りを測定するための第１の測定
   手段が設けられており、供給空気の湿りを測定す
   るための第２の測定手段が設けられており、排出
   空気の湿りを供給空気の湿りと比較する手段が設
   けられており、スプレー溶液の質、供給空気温
   度、供給空気量の少なくともいずれか１つを含む
   プロセス条件を変化させる手段が設けられてお
   り、このプロセス条件の変化が、プロセスされる
   物品の湿りを制御すべく湿りの比較に基づいてお
   り、前記第１の測定手段が、ガス入口及びガス出
   口を備えた測定室を有しており、かつ、ガス入口
   範囲に加熱器が設けられていることを特徴とする
   空気技術的な装置における物理的な処理プロセス
   及び生物反応を監視しかつ制御するための装置。 ２７ 測定室のガス出口の近くに結合された吸込
   ポンプが設けられている特許請求の範囲第２６項
   記載の装置。