JPH05503316A - 陽極酸化性金属基体に仕上げコーティングを被着する方法およびその製品 - Google Patents

陽極酸化性金属基体に仕上げコーティングを被着する方法およびその製品

Info

Publication number
JPH05503316A
JPH05503316A JP2512095A JP51209590A JPH05503316A JP H05503316 A JPH05503316 A JP H05503316A JP 2512095 A JP2512095 A JP 2512095A JP 51209590 A JP51209590 A JP 51209590A JP H05503316 A JPH05503316 A JP H05503316A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
substrate
layer
micrometers
electroless
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2512095A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2945472B2 (ja
Inventor
ファーン・ダン
Original Assignee
アルキャン・インターナショナル・リミテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by アルキャン・インターナショナル・リミテッド filed Critical アルキャン・インターナショナル・リミテッド
Publication of JPH05503316A publication Critical patent/JPH05503316A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2945472B2 publication Critical patent/JP2945472B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1646Characteristics of the product obtained
    • C23C18/165Multilayered product
    • C23C18/1653Two or more layers with at least one layer obtained by electroless plating and one layer obtained by electroplating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/1803Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces
    • C23C18/1848Pretreatment of the material to be coated of metallic material surfaces or of a non-specific material surfaces by electrochemical pretreatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/322Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/06Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used
    • C25D11/08Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used containing inorganic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/18After-treatment, e.g. pore-sealing
    • C25D11/20Electrolytic after-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/18After-treatment, e.g. pore-sealing
    • C25D11/24Chemical after-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/04Anodisation of aluminium or alloys based thereon
    • C25D11/18After-treatment, e.g. pore-sealing
    • C25D11/24Chemical after-treatment
    • C25D11/246Chemical after-treatment for sealing layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 陽極酸化性金属基体に仕上げコーティ ングを被着する方法およびその製品 l豆二旦! 本発明は、陽極酸化金属の基体にアルミニウムおよびその陽極酸化性合金のよう な金属コーティングを被着する方法並びにかかる方法の製品の改良に関する。
九丘上m風旦 鋼またはアルミニウムから通常なる基体に対する金属の被着は、著しい発展をみ た技術である。鋼のような容易には酸化されにくい金属に対するめつきは、比較 的通常のものであり、例久ば、鋼の基体に直接銅の層を被着し、次に、厚い「半 光沢J (”semi−bright−)着するものがあるが、クロムは半透明 で、光沢のある外観は実際には仕上げクロム層を介して視認される光沢ニッケル 層により提供される。
アルミニウムおよびその陽極酸化性(anodisabLe1合金のような陽極 酸化性金属に対するめつきは、これらの金属が比較的容易に酸化されるのでかな り困難であり、従って、酸化物コーティングの生成が不可避であり、下層の金属 基体に対して被着層を十分に接着させるには、これを除去しなければならない、 現時点て主流をなす技術として、基体表面を調整する2つの方法、即ち、亜鉛酸 塩と錫酸塩に浸漬する方法がある。
これらの方法の場合、基体表面を、適宜の亜鉛酸塩または錫酸塩?a液、通常は ナトリウム塩溶液であって、コーティングの外観および接着性を高めることが見 出されている添加剤を含む溶液に浸漬する。亜鉛または錫原子がそれぞれ、酸化 層を除去する工程において、基体表面のアルミニウム原子と置換し、他の層、例 えば、銅、続いてニッケルおよびクロムを被着することができる付着性亜鉛また は錫の層を形成する。これらの方法はいずれも、比較的高価であり、従って、主 に高価な商品に使用されている。報告によれば、錫酸塩へ浸漬する方法は、得ら れるコーティングに、より良好な耐食性と接着性が付与するとされているが、成 分が高価でかつ処理時間が長いので、双方の処理とも費用を要するものとなる。
更に、アルミニウムまたはアルミニウム合金の基体の表面に多孔質の陽極酸化さ れた層を形成し、次いで金!&:屡を被着することにより付着性のある金属コー ティングを被着する方法が提案されており、この陽極酸化された層は基体表面に 存在した酸化物層を組み込むとされている。それまでの刊行物を要約した198 5年6月発行の「ブレーティング・アンド・サーフェス、フィニッシングJ i Plating & 5urface Finishing”)(第36乃至3 9頁)に掲載のディー・ニス・ラシュテ モア(D、 S、 Lashmore lの「ブレーティング・オン・アルミナム、ア・レビュー J (”Plati ng on Aluminum。
a Review”)と題する論文には、その後の金属コーティングが機械的に 「固着する」(”Lock”)または「定着する」じ°key”)ことができる 陽極酸化されたコーティングの孔のサイズを最小にしなければならないこと、お よび、これは0.07マイクロメードル(700オングストローム)程度のかな り大きな孔を形成する電解液の使用に処理を限定することが示されている。燐酸 からなる陽極酸化溶液だけが上首尾であり、硫酸または修酸がしばしばtlJM と混合されることが実験により判明したと報告されている。報告によれば更に、 その後のコーティングの付着は主として機械的なものであり、金属基体に対する 多孔質の酸化物コーティングの凝集強度が制限因子であるので、陽極法はこの凝 集強度と酸化物層自体の強度を高めるように改良されるべきであるとされている 。かかる燐酸陽極酸化/コーティング法は50年以上に亘って開発されてきたが 、付着性と光沢が比較的劣るので、商業的には依然として広く採用されるには至 っていない。
l豆立II 従って1本発明の主たる目的は、アルミニウムおよびその合金からなる基体に金 属層をめっきする新規な方法を提供するとともに、かかる新規な方法により金属 層をメッキしたアルミニウムまたはその合金基体を提供することにある。
本発明によれば、陽極酸化性金属の基体の表面に金属を被着する新規な方法が提 供されており、この方法a)基体の前記表面を陽極酸化して厚さが約05乃至約 50マイクロメートルの多孔質陽極酸化層(porous anodised  1ayer) を形成する工程と、b)孔充填金属を孔に電着して孔の壁に形成 する工程と、 C)孔充填金属の被着を無電解被着によりf!#!して孔を所要の程度まで充填 する工程とを備太る構成に係好ましくは、無電解被着は、約0.5乃至3マイク ロメートルの厚さの金属コーティングが陽極酸化層の表面に形成されるまで継続 される。
更に、本発明によれば、厚みが約0.5乃至約50マイクロメートルの多孔質陽 極酸化層からなる表面を有する陽極酸化性金属基体からなり、多孔質層の孔には 孔の壁に接着する孔充填金属が電着されるとともに、電着金属には無電解被着の 孔充填金属が被着されている新規な製品が提供されている。
及1旦韮I 陽極酸化性基体の表面に種々の金属層を被着する方法およびかかる方法による製 品を、添付図面に示す本発明の特定の好ましい実施例について説明するが、図面 において、 第1図は、アルミニウム基体の表面とその隣接する部分の横断面図であり、硫酸 陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化層と陽極酸化層に被着された種々の金 属を示し、 第2図は、陽極酸化層とこれにすぐ隣接する金属層とを示す第1図の部分2の拡 大図であり、第3図は、陽極酸化層が燐m陽極酸化により形成されている基体を 示す第2図と同様の横断面図であましし) の含日 上記のように、第1図は、上面に陽極酸化により酸化アルミニウムのl1F12 が形成されたアルミニウム基体10の横断面図であり、層12の一部がこれにす ぐ隣接する基体および被着金属層の部分とともに第2図に拡大して示されている 。この特定の陽極酸化は、細長い狭い孔14(第1図には示されていない)を形 成する硫酸を使用するもので、本発明によれば、孔壁の少なくとも底部には、電 着により接着性のある孔充填金属16の層(第1図には図示なし)が付着される 。
1着金属は、当初は、孔の底部とこれにすぐ隣接する側壁の部分に主に被着し、 得られるコーティングまたは贋は、金属が更に被着されるにつれて孔内を上方へ 向けて徐々に肉厚が大きくなるように成長することがわかる。更に、不連続の金 g斑点17が側壁に被着され、これらは、ランダムな態様で現われている。十分 な金属が電着された後は、本実施例では、孔が完全に充填されかつ連続する支持 層が陽極酸化層12の全面に形成されるまで、無電解被着金属18を使用して孔 の充填が続けられる0本実施例では、コバルトが初期電着金属16および17と して使用され、無電解ニッケルは金屑18に使用される。金X層の被着は、半光 沢ニッケル層20、光沢ニッケル層22およびトリクロム(tri−chrom el仕上げ層24を形成するまで継続される。
このように、本発明は、番孔の底壁部および番孔の側壁の少なくとも下部に初期 「シード」(”5eed”)コーティングを形成するのに孔充填金属を電着する ものである。かかる電着金属コーティングは、陽極酸化材料に極めて良好に付着 するとともに、その後の無電解被着金屑は電着金属に極めて良好に付着するが、 無電解処理により酸化アルミニウムに直接被着された金属は良好には付着せず、 金属コーティングの強度を弱めてしまうことが判明した。無電解コーティング法 は、孔を充填する場合には電解法よりも効率が良く、緻密なコーティングを形成 することができるという利点を有しており、本発明の方法は、この特性を生かし つつ、陽極酸化層に対する無電解被着金属の付着が不十分であるという無電解法 の潜在的な課題を解決するものである。
硫酸は、容易に入手することができかつ低コストであるので、陽極酸化に最も広 く使用されているが、燐酸、修酸およびクロム酸並びにこれらのおよび他の酸の 混合物も使用することができる。陽極酸化層は、形成の態様から構造が本質的に 多孔質であり、アルミニウム基体10の硫酸陽極酸化により得られる層12の典 型的構造が第2図により示され、一方、燐酸を用いた陽極酸化により得られる層 が第3図により示されている0図示を簡潔にするため、層の水平面は平坦に図示 されているが、実際には、著しく低倍率でも極めて不規則であることがわかるゆ 第1図は、厚さが約5マイクロメートル(50,000オングストローム)の酸 化アルミニウム(A120、)の陽極酸化層12を、典型的には、温度が約20 ℃、濃度が165g/リットル即ち15重量%の硫酸を使用するとともに、約1 5乃至20ボルトの陽極酸化電圧で10分間処理することにより形成された実施 例を示す6図示の便宜上、第1図は極めて理想的に示されているが、得られた多 孔質構造は比較的均一であり、多くの場合、孔14は横方向の寸法が平均的0. 015マイクロメートル(150オングストローム)で、互いに平均的0.02 4マイクロメートル(240オングストローム)離隔していることがわかる。孔 の底部はアルミニウム基体の表面では終端しておらず、比較的不導性の酸化アル ミニウムの連続する非多孔質バリヤ層26を形成するように基体表面から平均的 0.015マイクロメートル(150オングストローム)離隔して配設されてい る。この層の厚さは、実質上直接、陽極酸化電圧の値に依存する。硫酸陽極酸化 によると、通常、この厚さはボルト当たり平均的0.0010乃至0.0014 マイクロメートル(10乃至14オングストローム)である、孔のサイズは、本 明細書および文献においては通常オングストロームで表わされているが、厚さ即 ち肉厚は、数字が大きくなりあるいは小さな分数になるのを避けるため、本明細 書ではマイクロメートル(micrometrelで表わされており、1マイク ロメートルは10.000オングストロームに等しい。
十分な強度を有するとともに安定した約5マイクロメートル以下の厚さの孔充填 金属層を被着することは、これまでの商業的な実施において可能であることがわ かっているが、この値を越えると、電着処理により長くて細い孔(即ち、例示の サンプルにおける長さ対幅の比が約330 + 1)において発生する水素によ り陽極酸化コーティングの剥げ落ち(spalling)が生じて、孔充填金属 を受け入れて保持するのに適さなくなる程度まで強度を損なう傾向がある。また 、従来の直流めっき法を使用した場合には、十分な付着性を有する孔充填金属の コーティングを被着するのが困難となるという問題もある。かくして、めっき工 程においては陽極酸化層の物理的な破@ (disruptionlを引き起こ す傾向が著しくあるので、めっきした金属層は付着性の乏しいものとなっている 。
金屑の被着処理には、交流もしくは直流またはこれらを組み合わせたものを使用 することができる。交流被着は通常、同等の直流電流よりも著しく遅く、従って 、直流は速度が重要である場合には好ましい、しかしながら、直流は、硫酸陽極 酸化の特徴を示す細い孔を特に有するコーティングを破壊する傾向が一層強い。
従って、変性交流、好ましくは所定の負の(negative−goingl直 流が重畳されている交流を使用することも知られている。このような系は、純粋 な直流により生ずる可能性のある破壊を避けることができる。交流は、酸化アル ミニウムの特徴を示す整流により金属の被着を行なうが、かかる変性されていな い交流による被着は、コーティングの厚さが増すにつれて、孔の浸透が劣ってく るとともに、付着速度が緩慢となる。従って、直流成分が、破壊を生じない最大 レベルまで増大される。この被着法は、例えば、アルカン・リサーチ・アンド・ ディベロブメント・リミテッド(AlcanResearch and Dev elpment Lim1tedlに譲渡された米国特許第4,226,680 号に開示されており、本明細書においてはこの文献を引用して明細書中の記載に 代える。これらの方法は、アルカン「アノロック」(”ANOLOK″)(商標 )法として知られている。他の変性交流系も可能であり、例えば、有効な負のバ イアスを生ずる態様で交流波形を相殺する系があり、また、波形の正の部分に対 する負の部分の振幅を大きくする方法もあり、この場合にも同じ効果を得ること が本発明の方法は、陽極酸化性金属、その合金および複合材料に広く適用するこ とができ、圧延、プレス成形、鋳造または鍛造を問わない、鋳造金属は、一般に 、対応する圧延、プレス成形または鍛造金属と比べて構造上、緻密性に劣りかつ 多孔質である。鋳造材料の陽極酸化表面に直接、無電解被着だけあるいは電着だ けを行なうことを試みたところ、かかる金Xは多孔度が大きくかつシリコン含有 量が通常高い(例えば、7乃至12%)ので、本発明の方法はど上首尾ではなか った。かくして、構造がより多孔質の金属は強度と品質が低下した陽極酸化層を 生ずるとともに、if着層は無電解層よりも陽極屡の品質の悪影響を一層を受け るが、これは、被:W電流の電子の通常の流れを妨害するバリヤ層にシリコンの 幾分かが捉われることによるものど考久られる。これに対して、上記したように 、直接無電解被着により形成した層は、低い強度の陽極酸化された層に対する付 着性が一般に低い。
適宜の基体金属として、アルミニウムおよびその陽極酸化性合金のほかに、マグ ネシウムおよびその陽極酸化性合金がある。初期「シード」層の電蓄に適した金 属は、コバルト、ニッケル、亜鉛、銅、錫およびパラジウムである6基体がアル ミニウムおよびその合金である場合には、電蓄にはコバルトが特に適し、無電解 被着にはニッケルが適していることがわかった。
孔内の電蓄層の肉厚が大きくなると、アルミニウムへの付着が減少し始める点に 到達し、次いで、電着が停止されるべき上限を設定し、無電解被着に代わる。
当然のことであるが、!@は、かかる特定の方法のその他の因子により一層早い 時点でやめることができる。初期シードコーティングの厚さは、孔の底部から測 定すると、歓察者が認める基体表面の見掛けの色彩と良好に相関することが判明 した。下記の表は、硫酸陽極酸化により形成された陽極酸化層が5マイクロメー トルの厚さになったときに得られた特定の相関関係を示すが、1f着された金属 はコバルトである。電着された金属の肉厚は、陽極表面の平方メートル(m2) 当たりの金属のミリグラム(mg)単位で最も手早く表わされる。このような組 み合わせによれば、良好な付着のカットオフ(cut−off)は、約550乃 至約850 m g / m ”であることがわかる。
老 特に明るい 180 9.0 良好 ブロンズ 明ブロンズ 340 17.0 良好 中間ブロンズ 550 27.5 良好暗ブロンズ 850 42.5 不十分 弊 2000 100.0 不十分 上記表から、約3%程度で良好な付着性が付与されることがわかるとともに、こ れは良好な結果が得られる最小値であり、一方、5マイクロメートルの深さの孔 の中間ブロンズ色の場合の厚さの上限では、番孔は容積の約30%が電着金属で 充填され、残りの70%は非電解被着金属で充填される。ニッケルは、コバルト と略同じ色の相関関係を生ずることがわかる、銅は、桃色から明るいえび茶およ び暗い^び茶色を介して黒までの範囲に亘ろ種々の色彩を生ずる。錫は、黒に至 るまで、約10マイクロメートルの一層厚い陽極酸化コーティングを必要とする 。上記したように、表は硫酸陽極酸化についてのものであり、同様のことが燐酸 陽極酸化にも当てはまるが、得られる色はわずかに異なる。
孔に形成される無電解被着金属の量は、当然のことであるが、得られる製品の所 要の特性と使用目的によるが、用途によっては、孔は完全に充填する必要はなく 、必要とされるのが完全充填の約6%乃至約60%の場合がある。このように、 を着の有用な範囲は約3%乃至約30%であるのに対して、無電解被着の有用な 範囲は約3%から、孔を所要の程度まで充填することが必要とされる残りの部分 までである。
初期シード電着とその後の無電解被着が行なわれると、その後の処理工程もまた 。得られる製品の商業上の用途と必要とされる特性および外観とにより決まる。
例えば、十分な肉厚の(陽極酸化層の上の)!&終層が得られるまで、無電解被 着を単に継続することができ、かかる用途の場合の通常の範囲は約50マイクロ メートル乃至約75マイクロメートルである。より一般的には、無電解被着は、 第1および2図に示すように、陽極酸化層の全面に十分な肉厚の支持層が形成さ れるまで継続されるが、通常の値は約0.5マイクロメートル乃至約3マイクロ メートルであり、より好ましくは1乃至2マイクロメートルの範囲である。その 後、仕上げ層(例久ば、クロム)を支持層の上に被着することができ、この場合 には、支持層と仕上げ層との間に1つ以上の中間層を配設しても、しなくても本 発明は、硫酸などを用いて陽極酸化された基体に特に適用することができ、その 後の無電解被着に特徴がある緻密な被着はこの系または同様の系で得られる細い 孔の場合に良好に作用し、一方、電解法による緻密性の低い被着は燐酸および同 様の系で得られるような広い孔に対して良好に作用する。しかしながら、本発明 の二重被着法は、このような大きい孔の系に適用することができ、第3図は、温 度が約20℃で濃度が約109g/リットル即ち10重量%瀾度の燐酸を使用し 、約50乃至60ボルトの電圧で10分間陽極酸化を行なって基体10に形成さ れた約2マイクロメートル(20,000オングストローム)の厚さの酸化アル ミニウムの陽極酸化層12を示す、孔14自身は、横/幅比が著しく小さくなる (この例では2o:1)ように横方向の寸法が極めて大きくなっており、かつ、 平均的0.07マイクロメードル(7oOオングストローム〕という大きい距離 を介して離隔配置されている。バリヤ層は、高電圧を使用しているので厚くなっ ており、例えば、60ボルトの場合には約7゜Oオングストロームの厚さの層が 得られる。
燐酸陽極酸化層は、鋳造材料に特に有利に使用されることがわかるとともに、例 えば、自動車のホイールに使用されるような鋳造アルミニウムの場合には、最終 コーティングの付着性は、硫酸の代わりに燐酸を使用して陽極酸化を行なうと少 なくとも50%上昇することがわかった。付着性に関する適宜の試験として、基 体およびコーティング全体を通して仕上げ部分を切り取り、次に鋭利なナイフェ ツジを使用してコーティングを基体から持ち上げまたは剥取るものがあり、この 試験によれば、処理条件により種々の程度の難点を伴うけれども硫酸陽極処理基 体からコーティングを剥離することができるが、コーティングを燐酸陽極処理基 体から剥離することは不可能であることがねがった。
めっき処理前の陽極酸化層を使用すると、所望の場合には、その後にめっきされ る層の厚さを小さくすることによりコストの削減を図ることができる。20乃至 35℃の濃度範囲にある酸浴を使用する陽極酸化処理は通常、「従来」の陽極酸 化として特徴づけられるが、「ハード」(”hard”l陽極酸化処理もまた本 発明に使用することができ、通常の浴温度は3乃至7℃であり、かかる硬質陽極 酸化層は通常は従来の陽極酸化層よりも肉厚が大きい、従って、このような一層 低温の陽極酸化処理、特に、低温硫酸陽極酸化により得られるフィルムのような より厚いおよび/またはより強力な陽極フィルムを使用することにより、次の層 の厚さを更に低減させることが可能である。このような硬質層もまた、本発明の 特徴をなす孔充填金属被着の優れた基礎を構成し、無電解層はその後の被着層の 支持層となり、該被着層を通常これまで使用されていたものよりも薄くすること ができる。当業者であれば理解することができるように、本技術分野は、中間お よび仕上げコーティングにおいて使用される比較的高価な耐食性金属に関して特 に、コストに神経質であるので、保護性および/または外観の性能を同等にして 肉厚を小さくすることにより節約を行なうことができることは商業上重要である 。
本発明の方法においては、陽極酸化層10は、厚さを、0.5乃至50マイクロ メートルの範囲、通常は1乃至10マイクロメートルの範囲、好ましくは3乃至 5マイクロメートルの範囲、より好ましくは3乃至5マイクロメートルとするこ とができ、通常は5マイクロメートルの肉厚が商業的に適している。無電解被着 の孔充填材料は、約2マイクロメートルよりも大きい肉厚の支持コーティングを 形成する必要はなく、優れた結果は支持層に単一の薄いコーティングを被着する ことにより得ることができる。好ましい無電解被着金属はニッケルである。コバ ルト、錫または銅のようなニッケル以外の金属もまた、使用することができる6 薄いコーティングが使用されるので、幾つかの方法においては、陽極酸化性金属 の表面を予め処理して極めて滑らかな表面を得るのが好ましく、これはパフ研磨 による「マクロ」処理および/または化学もしくは電気光輝仕上げ(elect ro−brighteninglの「ミクロJ処理とすることができる。仕上げ られたクロム層は、得ることができる場合には、0.2乃至0.3マイクロメー トルの範囲の厚さとするのが好ましい。
本発明を、以下の特定の実施例により更に説明する。
!」11上 本発明の方法を使用して、鋳造アルミニウム自動車ホイールのような物品に光沢 仕上げ処理を施し、光沢のあるクロムまたはステンレス鋼に似た外観を得たが、 この処理は、以下の工程を含むものであった。
1、例えば、鋳造合金A356もしくはA413または鍛造等級の材料からなる アルミニウム基体を、適宜のアルカリおよび/または酸溶液で清浄にすることに より前処理を行ない、あるいは機械パフ研磨により前処理を行なった。
2、次に、予備処理した基体について、濃度が15重量%で温度が21℃の酸を 使用して10分間、直流15ボルトで、通常の硫酸陽極酸化処理を行なった63 、陽極酸化処理した基体に、21℃の、米国特許13.616,309号に開示 されているようなコバルトベースの「アノロック」(”ANOLOK”)(商標 )電解液を使用し、交流12.5ボルトで、バイアスを最大直流4ボルトにし、 あるいはかかるバイアスなしに、初期「シード」電解コーティングを被着した。
電着を、得ようとする色彩に応じて、約30秒乃至約10分間、好ましくは、約 30乃至60秒行なった。
4、次に、ニッケルの孔充填コーティングを、無電解ニッケル溶液[バーショウ の「アルファ1103BJ(Harsha″Alpha 103B”)(商標) ]に約10乃至20分間pH4,7および温度93℃で浸漬することにより被着 し、孔を完全に充填するとともに、肉厚が約0.5乃至約3,0マイクロメート ルの支持コーティングを形成した。
5 バーショウの「パーツロウ」(”PERFLOW”)(商標)半光沢溶液を 使用し、pf(4,3、温度57℃、電流密度5アンペア・平方デシメートル( A/dm”)で支持層に10分間電着を行ない、約10マイクロメートルの1! !@半光沢ニッケル層をコーティングした。
6、半光沢1に、バーショウの「スープリーム」(”SUPREME”)を使用 し、pH4,0,温度66℃、電流密度4 A/dm”で、10分間電着を行な い、約10マイクロメートルの肉厚の光沢ニッケル層をコーティングした。
7 次に、バーショウの「トリ・クロム・プラス」T”TRI−(:HROME  PLUS“)を使用し、pH2,7、温度30℃、電流密度10 A/dm” で5分間トリクロム仕上げ層を電着して実施例を完了した。
この処理においては、基体は、本実施例では説明を要しない公知の態様ですすぎ を行なう、本実施例および他の実施例においては、環境上の配慮がらシアン化物 および6価りロム浴は使用されない。
1五±ユ 実施例1の処理において、初期層を被着するのに使用したコバルトベースの電解 液の代わりに1例えば、35g/lのCaSO35Hx O+ 20g/IのM g5O,−7H,Oおよび5 g / 1 ノH2S O4からなり、pH1, 3および21 ’Cの銅ベースの電解液を使用した。
!j1ロi ユ施例1の処理において、初期Mを被着するのに使用したコバルトベースの電解 液の代わりに、例えば、Log/lのS u S O4および20 g / l のH2SO,からなり、p)11.3および21℃の錫ペースの電解液を使用し た。
L皿■A 実施例1の処理において、初期層を被着するのに使用したコバルトベースの電解 液の代わりに、例えば、240g/lのNiSO4−6H,O;60g/lのN iSO4・68z Oおよび45 g / 10’) H3B O−からなり、 pH4,5および21”Cの通常のワッッ(Watt’slニッケルベースの電 解液を使用した。
1五±ユ 実施例1の処理において、初期層を被着するのに使用したコバルトベースの電解 液の代わりに、例^ば、テクニック・インコーホレイテッド(Technic  Inc、lの10m1/リツトルの「バラマースJ (”PALLAMERSE ”)(商標)水溶液からなるパラジウムベースの電解液を使用した。この方法は 、インテリア用のステンレス鋼に似せた外観を有する物品に特に適しており、基 体として合金AA−7029を使用するのが好まし見立五亙 特に鋳造アルミニウムの自動車ホイールの光沢のある黒色仕上げを得るために、 実施例1乃至5のいずれかを実施した後、バーショウの「クロモニクス」(”C HROMONYX”+ (商標)溶液を使用し、温度21℃、電流密度10乃至 40A/dがで5分間、黒色クローム仕上げ層を被着した。
及五亘ニ ステンレス鋼に似た外観を有する、インテリア用の物品を得るため、例えば、鋳 造合金AA−5657またはAA−6463の基体を、半光沢ニッケル層を被着 させた点を除いて、実施例1乃至5のいずれかの処理に供した。
及1ヱ上 その他のエンジニアリング用に適した機械部品および物品を得るため、実施例1 乃至5のいずれかの陽極酸化および被着処理を行ない、次いで、必要に応じて被 着時間を約30分乃至約120分としたニッケル無電解被着工程を実施して厚さ が約10.0マイクロメートル乃至約40.0マイクロメートルの層を得た。
11目1ユ ソーラーパネル(solar panellの形成に特に適した黒色材料を得る ため、AA−5005のような合金の基体を、実施例1乃至5のいずれかの陽極 酸化、初期電解めっきおよび無電解めっきに供し、次いで、約10乃至約20分 の短い時間半光沢ニッケルの被着を行ない、更に実施例6の工程により黒色クロ ムの被着を行なった。
1五土上ユ 光沢アルミニウムめっき複合物品を、実施例1乃至5のいずれかのめっき手順を 使用して、複合材料AA−6061(10重量%の酸化アルミニウムを含む)の 基体からつくった。
叉」11ユ」2 アルミニウム鋳造合金A413(約12重量%のシリコンを含む)を、濃度が1 09g/リットル(10%)で温度が21℃の酸を使用して燐酸陽極酸化に供し た。陽極酸化は直流60ボルトで開始して30分行ない1次いで、亘流約18ボ ルトに落して約0.5分処理を行なった。電着金属はコバルトであり、実施例1 の組成物を使用し、処理は交流12.5ボルトで1分間行なった。次いで、無電 解ニッケル被着を20分、半光沢ニッケル被着を30分、光沢ニッケル被着を1 0分、トリクロム被着を5分を行なったが、ここでも実施例1の材料などを使用 した。光沢仕上げ製品が得られたが、鋳造物に対して良好な付着性を示した。
第1図 第2図 補正書の翻訳文提出書 (特許法第184条の8) 平成4年3月5日

Claims (29)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.陽極酸化性金属の基体の表面に金属を被着する方法において、 a)基体の前記表面に陽極酸化を行なって厚さが約0.5乃至約50マイクロメ ートルの多孔質陽極酸化層を形成する工程と、 b)孔内に孔充填金属を電着して孔の壁に被着する工程と、 c)無電解被着による孔充填金属の形成を継続して孔を所要の程度まで充填する 工程とを備えることを特徴とする金属被着方法。
  2. 2.電着は金属の付着が減少し始めるカットオフ値まで継続することを特徴とす る請求の範囲第1項に記載の方法。
  3. 3.電着される孔充填金属は平方メートル当たり550ミリグラム以下の厚さに 形成されることを特徴とする請求の範囲第2項に記載の方法。
  4. 4.電着は各孔をその容積の約3%乃至約30%充填するように行なわれること を特徴とする請求の範囲第1項に記数の方法。
  5. 5.無電解被着は各孔をその容積の約3%乃至所要の程度まで充填するように行 なわれることを特徴とする請求の範囲第1乃至4項のいずれかに記載の方法。
  6. 6.無電解被着は約0.5乃至3マイクロメートルの範囲の厚さの金属のコーテ ィングが陽極酸化層の表面に形成されるまで継続されることを特徴とする請求の 範囲第1乃至4項のいずれかに記載の方法。
  7. 7.無電解被着の金属は基体の表面に厚さが約0.5乃至3マイクロメートルの 範囲にある支持層を形成するように被着され、かつ、1つ以上の層が支持層にそ の後被着されることを特徴とする請求の範囲第6項に記載の方法。
  8. 8.無電解被着の金属は基体の表面に約10乃至25マイクロメートルの厚さに 形成されることを特徴とする請求の範囲第1乃至4項のいずれかに記載の方法。
  9. 9.電着される孔充填金属はニッケル、コバルト、亜鉛、銅、錫、パラジウムお よびこれらの混合物から選ばれることを特徴とする請求の範囲第1乃至8項のい ずれかに記載の方法。
  10. 10.無電解の孔充填金属はニッケル、コバルト、銅、錫およびこれらの混合物 から選ばれることを特徴とする請求の範囲第1乃至9項のいずれかに記載の方法 。
  11. 11.陽極酸化性基体金属はアルミニウム、マグネシウムおよびこれらの陽極酸 化性合金から選ばれることを特徴とする請求の範囲第1乃至10項のいずれかに 記載の方法。
  12. 12.基体は硫酸、クロム酸もしくは硫酸またはこれらの混合物を使用して陽極 酸化されることを特徴とする請求の範囲第1乃至11項のいずれかに記載の方法 。
  13. 13.基体は横方向の寸法が約0.01乃至0.02マイクロメートルの比較的 小さな孔を形成するように陽極酸化されることを特徴とする請求の範囲第12項 に記載の方法。
  14. 14.基体は燐酸を使用して陽極酸化されることを特徴とする請求の範囲第1乃 至11項のいずれかに記載の方法。
  15. 15.基体は横方向の寸法が約0.03乃至0.10マイクロメートルの比較的 大きな孔を形成するように陽極酸化されることを特徴とする請求の範囲第14項 に記載の方法。
  16. 16.a)厚さが約0.5乃至約50マイクロメートルの多孔質陽極酸化層から なる表面を有する陽極酸化性金属基体を備え、 b)多孔質層には孔内に孔充填金属が電着されており、 c)多孔質層には孔内の電着金属に無電解充填金属が被着されていることを特徴 とする金属めっき製品。
  17. 17.電着された孔充填金属は平方メートル当たり550ミリグラム以下の厚さ に形成されていることを特徴とする請求の範囲第16項に記載の製品。
  18. 18.電着は各孔をその容積の約3%乃至約30%充填するように行なわれるこ とを特徴とする請求の範囲第16項に記載の製品。
  19. 19.無電解被着は各孔をその容積の約3%乃至所要の程度まで充填するように 行なわれることを特徴とする請求の範囲第16乃至18項のいずれかに記載の製 品。
  20. 20.無電解の金属は陽極酸化層の表面に被着コーティングを形成するのに十分 な厚さに形成されることを特徴とする請求の範囲第16乃至19項のいずれかに 記載の製品。
  21. 21.無電解の金属は基体の表面に約10乃至25マイクロメートルの厚さに形 成されることを特徴とする請求の範囲第20項に記載の製品。
  22. 22.無電解被着の金属は基体の表面に厚さが約0.5乃至3マイクロメートル の範囲にある支持層を形成するように被着され、かつ、1つ以上の層が支持層に その後被着されることを特徴とする請求の範囲第16乃至20項のいずれかに記 載の製品。
  23. 23.電着された孔充填金属はニッケル、コバルト、亜鉛、銅、錫、パラジウム およびこれらの混合物から選ばれることを特徴とする請求の範囲第16乃至22 項のいずれかに記載の製品。
  24. 24.無電解の孔充填金属はニッケル、コバルト、鋼、錫およびこれらの混合物 から選ばれることを特徴とする請求の範囲第16乃至23項のいずれかに記載の 製品。
  25. 25.陽極酸化性基体金属はアルミニウム、マグネシウムおよびこれらの陽極酸 化性合金から選ばれることを特徴とする請求の範囲第16乃至24項のいずれか に記載の製品。
  26. 26.基体は硫酸、クロム酸もしくは硫酸またはこれらの混合物を使用して陽極 酸化されることを特徴とする請求の範囲第16乃至25項のいずれかに記載の製 品。
  27. 27.基体は横方向の寸法が約0.01乃至0.02マイクロメートルの比較的 小さな孔を形成するように陽極酸化されることを特徴とする請求の範囲第26項 に記載の製品。
  28. 28.基体は燐酸を使用して陽極酸化されることを特徴とする請求の範囲第16 乃至25項のいずれかに記載の製品。
  29. 29.基体は横方向の寸法が約0.03乃至0.10マイクロメートルの比較的 大きな孔を形成するように陽極酸化されることを特徴とする請求の範囲第28項 に記載の製品。
JP2512095A 1989-09-05 1990-09-05 陽極酸化性金属基体に仕上げコーティングを被着する方法およびその製品 Expired - Fee Related JP2945472B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CA000610259A CA1341327C (en) 1989-09-05 1989-09-05 Methods for depositing finish coatings on substrates of anodisable metals and the products thereof
CA610,259 1989-09-05

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05503316A true JPH05503316A (ja) 1993-06-03
JP2945472B2 JP2945472B2 (ja) 1999-09-06

Family

ID=4140553

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2512095A Expired - Fee Related JP2945472B2 (ja) 1989-09-05 1990-09-05 陽極酸化性金属基体に仕上げコーティングを被着する方法およびその製品

Country Status (7)

Country Link
EP (1) EP0490914B1 (ja)
JP (1) JP2945472B2 (ja)
AU (1) AU6287090A (ja)
CA (1) CA1341327C (ja)
DE (1) DE69008359T2 (ja)
ES (1) ES2052269T3 (ja)
WO (1) WO1991003583A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002505379A (ja) * 1998-02-26 2002-02-19 フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ 耐食性被覆及び軽金属からなる支持体のための被覆系

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4238242C2 (de) * 1992-09-17 2003-04-24 Rieger Franz Metallveredelung Verfahren zur Vorbehandlung von Leichtmetallen nach Patent DE 4231052 C2
US6217737B1 (en) 1997-10-03 2001-04-17 Hirel Connectors Inc. Method for forming a corrosion-resistant conductive connector shell
DE19831370A1 (de) * 1998-07-13 2000-01-27 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Beschichtung von Körpern aus Leichtmetallen oder Leichtmetallegierungen mittels Plasmaunterstützung
EP1688683A1 (en) * 2005-01-06 2006-08-09 Fenis Teknik Ürünler A.S. Light weight high effeciency collector made of aluminum foil having selective surface
US8124240B2 (en) 2005-06-17 2012-02-28 Tohoku University Protective film structure of metal member, metal component employing protective film structure, and equipment for producing semiconductor or flat-plate display employing protective film structure
US8309237B2 (en) 2007-08-28 2012-11-13 Alcoa Inc. Corrosion resistant aluminum alloy substrates and methods of producing the same
US7732068B2 (en) 2007-08-28 2010-06-08 Alcoa Inc. Corrosion resistant aluminum alloy substrates and methods of producing the same
JP2011503847A (ja) 2007-11-02 2011-01-27 ワコンダ テクノロジーズ, インコーポレイテッド 結晶質薄膜光起電力構造およびその形成方法
KR101100858B1 (ko) 2009-09-28 2012-01-02 포항공과대학교 산학협력단 연료 전지용 세퍼레이터와 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 연료 전지 스택
DE102015105449B4 (de) 2015-04-09 2019-01-17 Rieger Metallveredlung GmbH & Co. KG Verfahren zum Aufbringen einer Schutzschicht auf Aluminiumteile
EP3500695A4 (en) * 2016-08-17 2020-03-25 Cirrus Materials Science Limited METHOD FOR FORMING THIN FUNCTIONAL COATINGS ON LIGHT ALLOYS
CN115341169A (zh) * 2021-05-14 2022-11-15 北京小米移动软件有限公司 表面处理方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4525247A (en) * 1982-07-12 1985-06-25 Rogers Corporation Microwave circuit boards and method of manufacture thereof
DE3671764D1 (de) * 1985-02-06 1990-07-12 Fujitsu Ltd Verfahren zur bildung eines komposit-aluminium-filmes.

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002505379A (ja) * 1998-02-26 2002-02-19 フラウンホーファー−ゲゼルシャフト ツル フェルデルング デル アンゲヴァンテン フォルシュング エー ファウ 耐食性被覆及び軽金属からなる支持体のための被覆系

Also Published As

Publication number Publication date
JP2945472B2 (ja) 1999-09-06
EP0490914B1 (en) 1994-04-20
CA1341327C (en) 2001-12-18
DE69008359D1 (de) 1994-05-26
AU6287090A (en) 1991-04-08
DE69008359T2 (de) 1994-08-04
EP0490914A1 (en) 1992-06-24
ES2052269T3 (es) 1994-07-01
WO1991003583A1 (en) 1991-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4869971A (en) Multilayer pulsed-current electrodeposition process
JPH05503316A (ja) 陽極酸化性金属基体に仕上げコーティングを被着する方法およびその製品
US5002838A (en) Aluminum plating substance for anodizing
JP7389847B2 (ja) 軽合金上に薄い機能性コーティングを生成する方法
JPH02185993A (ja) 陽極処理性金属基体表面への仕上げ金属層の被着方法
WO2004038070A2 (en) Pulse reverse electrolysis of acidic copper electroplating solutions
JP3180197B2 (ja) アルミニウム及びアルミニウム合金の表面処理法
Golby et al. A study of the effect of pretreatment procedures on the plating of aluminium alloys
EP0128358A1 (en) Specular product of bronze-like tone
JPH11181597A (ja) アルミニウムの表面処理方法
US2461933A (en) Rhodium alloy coatings and method of making same
JPH10251870A (ja) クロムめっき製品
Spooner et al. Phosphoric acid anodizing of aluminium and its application to electroplating
JPH06240490A (ja) 耐食性クロムめっき
JPH0245704B2 (ja)
Bengston Methods of Preparation of Aluminum for Electrodeposition
JPH0329114A (ja) 磁気記録材料およびその製造法
JPH07286296A (ja) アルミニウム又はアルミニウム合金の無電解ニッケルメッキ法
KR890003019B1 (ko) 아연-니켈합금 전기도금강판 제조방법
JPH0835092A (ja) 金めっき成形体の製造方法
Pletcher et al. Metal finishing
JPS6184395A (ja) アルミニウム陽極酸化皮膜への金属めつき法
JPS6033392A (ja) 磁気記録媒体用アルマイト基板の製造方法
JPS5920758B2 (ja) アルミニウムまたはアルミニウム合金の着色法
JPH02228490A (ja) タリウムめっき法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees