JPH0548330U - クリーンベンチ - Google Patents
クリーンベンチInfo
- Publication number
- JPH0548330U JPH0548330U JP9840491U JP9840491U JPH0548330U JP H0548330 U JPH0548330 U JP H0548330U JP 9840491 U JP9840491 U JP 9840491U JP 9840491 U JP9840491 U JP 9840491U JP H0548330 U JPH0548330 U JP H0548330U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clean
- exhaust
- air
- bypass duct
- organic solvent
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- Pending
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- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
- Ventilation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ウェーハ処理装置において、有機溶剤処理槽
2から発生する有機物の蒸気を含む排気の一部を、排気
バイパスダクト5を介して活性炭フィルタ6に送り、そ
こで有機成分を吸着除去し、再度クリーンユニット1に
戻す構造とする。 【効果】 クリーンルーム内の除塵や温度・湿度調整さ
れたクリーンエアの不必要な排出量を削減することがで
きる。
2から発生する有機物の蒸気を含む排気の一部を、排気
バイパスダクト5を介して活性炭フィルタ6に送り、そ
こで有機成分を吸着除去し、再度クリーンユニット1に
戻す構造とする。 【効果】 クリーンルーム内の除塵や温度・湿度調整さ
れたクリーンエアの不必要な排出量を削減することがで
きる。
Description
【0001】
この考案は、クリーンベンチに関し、特に半導体ウェーハを有機溶剤により処 理する設備の排気の仕方を改良した構造に関する。
【0002】
従来、この種の半導体ウェーハ処理装置は、図2で示すように、クリーンルー ムAからクリーンエアを取り込んで設備上部のクリーンユニット1から図中矢印 のように下降流で高清浄度のクリーンエアを装置内の作業域Bに供給し、有機溶 剤処理槽2の周辺部の排気口3から風量調整ダンパー7を介して排気ダクト8へ 有機物を含む空気を排気する構造となっていた。
【0003】
ところで、上記の半導体ウェーハ処理装置では、有機溶剤槽2から発生する有 機物の蒸気を設備外に漏らさないために、一般的に以下に示す排気量Qが必要と なる。
【0004】 すなわち、Q=v・A ここで、Q:必要排気量(立方メートル/sec ) v:制御風速 0.4〜2(m/sec ) A:設備開口断面積(平方メートル) 特に、有機溶剤は加熱して使用される場合が多く、その際には上式のv値を大 きく設定しなければならなくなるので、必要排気量Qは多くなる。
【0005】 ところで、半導体製造工程のクリーンルームAには、除塵や温度・湿度調整さ れたクリーンエアが供給され、排気によりこのクリーンエアがクリーンルームか ら排出されることになるが、従来のウェーハ処理装置ではクリーンルームA内の クリーンエアの排出量が多く、クリーンエアの製造コストが高くつくという欠点 があった。
【0006】
クリーンルーム内のクリーンエアを取り込んで作業域に高清浄度のクリーンエ アを供給するクリーンユニットと、作業域のエアを排気する排気ダクトとを有す るクリーンベンチにおいて、前記排気ダクトから分岐してクリーンユニットの一 次側に連通する排気バイパスダクトを設けるとともに、この排気バイパスダクト にフィルタを配設したことを特徴とするものである。
【0007】
上記の構成によると、クリーンユニットから供給されるクリーンエアが、例え ば有機溶剤処理槽内から発生する有機物蒸気とともに、排気ダクトから排気され るが、しかし、この考案の排気ダクトではこの排気を系外の排気ダクトと排気バ イパスダクトに振り分けられているので、排気バイパスダクトに流れた排気は、 例えば活性炭フィルタにて有機成分が吸着除去され、クリーンユニットへ再供給 される。
【0008】 このようにして、排気の一部を設備内で活性炭吸着処理することにより、従来 系外に全て排出していた排気の一部を再使用することが可能となる。
【0009】
以下、この考案について図面を参照して説明する。
【0010】 図1はこの考案の一実施例である半導体ウェーハ処理装置の断面図である。図 において1はクリーンユニット,2は有機溶剤処理槽,3は排気口,4は排風機 ,5は排気バイパスダクト,6は活性炭フィルタ,7は風量調整ダンパー,8は 排気ダクトである。
【0011】 次に、上記装置の排気処理動作について説明する。その特徴部分についてのみ 述べれば、排気口3より排出された排気を、排気ダクト8,フィルタ,好ましく は活性炭フィルタ5を有する排気バイパスダクト5に振り分け、活性炭フィルタ 6で処理され清浄化されたエアを、再度クリーンユニット1にフィードバックし て供給し有効利用することにより、クリーンルームA内の除塵や温度・湿度調整 されたクリーンエアの排出量を減少させることができる。
【0012】 なお、上記実施例は有機溶剤処理槽2を有するウェーハ処理装置について説明 したが、他の被処理物の他の処理を行うものに実施することができる。
【0013】
以上、説明したように、この考案は例えば有機溶剤処理槽より発生した有機物 蒸気の一部を、例えば活性炭フィルタにより浄化して、排気の一部を清浄化して 再利用することにより、クリーンルームのクリーンエア使用量を削減することが でき、このためクリーンエアの製造費用を低減できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この考案の半導体ウェーハ処理装置の断面図
【図2】 従来の半導体ウェーハ処理装置の断面図
1 クリーンユニット 2 有機溶剤処理槽 3 排気口 4 排風機 5 排気バイパスダクト 6 活性炭フィルタ 7 風量調整ダンパー 8 排気ダクト A クリーンルーム B 作業域
Claims (3)
- 【請求項1】クリーンルーム内のクリーンエアを取り込
んで作業域に高清浄度のクリーンエアを供給するクリー
ンユニットと、作業域のエアを排気する排気ダクトとを
有するクリーンベンチにおいて、前記排気ダクトから分
岐してクリーンユニットの一次側に連通する排気バイパ
スダクトを設けるとともに、この排気バイパスダクトに
フィルタを配設したことを特徴とするクリーンベンチ。 - 【請求項2】前記作業域に有機溶剤処理槽を有する請求
項1に記載のクリーンベンチ。 - 【請求項3】請求項1記載のフィルタが活性炭フィルタ
であることを特徴とするクリーンベンチ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9840491U JPH0548330U (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | クリーンベンチ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9840491U JPH0548330U (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | クリーンベンチ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0548330U true JPH0548330U (ja) | 1993-06-25 |
Family
ID=14218901
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9840491U Pending JPH0548330U (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | クリーンベンチ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0548330U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006216803A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Daikin Ind Ltd | 処理装置 |
-
1991
- 1991-11-29 JP JP9840491U patent/JPH0548330U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006216803A (ja) * | 2005-02-04 | 2006-08-17 | Daikin Ind Ltd | 処理装置 |
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