JPH0548302B2 - - Google Patents

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JPH0548302B2
JPH0548302B2 JP7606489A JP7606489A JPH0548302B2 JP H0548302 B2 JPH0548302 B2 JP H0548302B2 JP 7606489 A JP7606489 A JP 7606489A JP 7606489 A JP7606489 A JP 7606489A JP H0548302 B2 JPH0548302 B2 JP H0548302B2
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JP
Japan
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base material
chamber
plasma
holder
plasma gun
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JP7606489A
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Japanese (ja)
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Torao Tazo
Makoto Suzuki
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SURFACE HIGH PERFORMANCE RES
Original Assignee
SURFACE HIGH PERFORMANCE RES
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Publication date
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JP3095614B2 (ja) * 1993-04-30 2000-10-10 株式会社東芝 半導体ウェハ等の被処理体をプラズマ処理するに際して使用されるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

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