JPH0545709U - 防塵用治具 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本考案はフォトマスク等のガラス基板の検査工
程で検査機から落下する塵埃や油滴等による基板表面の
汚染を簡便に防止する治具を提供することを目的とする
ものである。 【構成】本考案は、少なくとも平面形状が多角形からな
り、フォトマスク等のガラス基板（５）上の端縁に置
き、前側地辺（８）に把手（２，２）及びストッパー
（３，３）を設け、黒色の艶消し塗料をコーティングし
た枠体（１）の開孔部（４）に、光線透過率９６％以上
の透明薄膜（６）を張った防塵用治具（１０）である。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、フォトマスク等のガラス基板の検査に用いる防塵用治具に関するも のである。

【０００２】

【従来の技術】

従来から、ＬＳＩ製造の露光焼付のリソグラフィー工程において使用されるフ ォトマスクやレティクル等の、透明基板への異物付着を防止する目的として使用 されるペリクルは周知である。例えば、四角形のフレームの四隅がコーナー端か ら４ｍｍから２０ｍｍの範囲でカットされているペリクルが実開平２−２９０４ ４号公報で公開されている。しかしながら、従来からフォトマスク等のガラス基 板検査工程においては、直接ＣＣＤカメラや顕微鏡等の検査機を近接させて行な っていたが、検査機からの塵埃、油滴等の落下が問題となっていた。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

前述したように、検査機をフォトマスク等のガラス基板にカバーをせずに接近 させて検査を行なっていたが、検査機から発生する塵埃、油滴等によりフォトマ スクの表面が汚染され、不良になる場合が多くみられた。 そこで本考案は、フォトマスク等のガラス基板の検査工程で検査機から落下す る塵埃や油滴等による基板表面の汚染を、簡便に防止する治具を提供することを 目的とするものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】

本考案は、少なくとも、平面形状が多角形からなり、フォトマスク等のガラス 基板上の端縁に置いて、前記のフォトマスク等のガラス基板検査の際、表面の汚 染防止に用いる防塵用治具において、地辺に把手を設けた黒色の枠体の開孔面に 、光線透過率が９６％以上の、透明薄膜を張った構成を特徴とする防塵用治具で ある。

【０００５】 又、前記防塵治具の前側、地辺下部垂直方向の少なくとも２か所に凸片状のス トッパーを設けた防塵用治具である。

【０００６】 本考案を図に基づき詳細に説明する。図１（ａ）は本考案の一実施例による防 塵用治具の平面図である。フォトマスク等のガラス基板（５）上に置くことがで きる大きさの枠体（１）で平面形状が方形又は四隅の角部をカットした多角形で もよく適宜選択することができる。これはガラス基板に対しての位置合わせを容 易にしたものであり、又、枠体の変形（反り、歪み等）を防ぐものである。 この防塵用治具（１０）の地辺（８）に把手（２，２）を設け、該把手の先端 部垂直方向に凸片状のストッパー（３，３）を形成する。このストッパーの長さ は、ガラス基板の厚さより少し短くしてあるので、ガラス基板の側辺に当てるこ とにより位置合わせが容易になるとともに、ガラス基板の厚さが変化しても対応 ができるようにしたものである（図１ｂのＡ−Ａ断面図、及び図１ｃのＢ拡大図 を参照）。又、前記のストッパーは地辺の把手取り付け部以外の適宜２箇所を選 択し取り付けてもよい。

【０００７】 前記枠体（１）の基材としては、プラスチック、アルミニウム合金等の金属、 等が適宜選択できるが、成形しやすく、軽量でフォトマスク等のガラス基板を傷 つけないプラスチック製が適当である。この枠体（１）にはＣＣＤカメラ、顕微 鏡等の検査機（３０）からの光が乱反射しないよう黒色の艶消し塗料等でコーテ ィングをしておくとよい。更に枠体の開孔部（４）には光線透過率が９６％以上 の透明薄膜をゆるみのないように張る。この透明薄膜はニトロセルロースやセル ロースアセテート等を、例えば、スピンコート法等により成膜すると膜厚の精度 のよいものが得られ検査精度も向上する。

【０００８】 これらにより、従来にはなかったフォトマスク等のガラス基板の検査工程にお ける検査機からの、塵埃や油滴による汚染防止を目的とするハンドリングのよい 防塵用治具が得られる。

【０００９】

【作用】

本考案の防塵用治具は、枠体を黒色の艶消し塗料によるコーティングを施し検 査機から発する光の乱反射を防止するとともに、開孔部全面に透明薄膜をゆるみ のないように張って、前記透明薄膜の光線透過率が、平均９６％以上の薄膜であ ることにより検査機の検査精度の低下を防止することができる。 又、把手先端部垂直方向に設けたストッパーを、ガラス基板上に置く際、ガラ ス基板側辺に当てることで位置合わせが容易となり、検査中のガラス基板が移動 する際も防塵用治具の位置ずれを防止するものである。

【００１０】

【実施例】

本考案を実施例に基づき詳細に説明する。図１に示すように、防塵用治具（１ ０）は、本実施例においては基材としてプラスチックを用いて、インジェクショ ンにより枠体（１）を一体成形したものである。枠体の厚さは２ｍｍ〜３ｍｍ程 度、高さは３ｍｍ〜６ｍｍ程度から適宜選択することができる。次に、枠体の一 辺の長さを１５２ｍｍとして、四隅の角部を天辺（７）、地辺（８）の両端部を ２０ｍｍ、側辺（９，９）の、天と地端部を１０ｍｍカットして、平面形状を多 角形としたものである。次に、把手（２，２）及びストッパー（３，３）は、枠 体同様に厚さ２ｍｍ〜３ｍｍ程度、幅は５ｍｍ〜８ｍｍ程度から適宜選択し、把 手の長さは１０ｍｍでストッパーの長さは３ｍｍ〜５ｍｍとして、ガラス基板の 厚さに合わせストッパーを交換するため別体、もしくはＬ字形状の一体成形した ものを枠体の地辺（８）に貼着したものでもよく適宜選択することができる。又 、前記の枠体及び把手、ストッパーを含めて検査機（３０）から発する光が枠体 の内側で乱反射するのを防ぐために、黒色の艶消し塗料をコーティングして検査 精度の低下を防ぐものである。なお、ストッパーの長さは、被検査体であるガラ ス基板（５）の厚さより少し短くしておくとよい（図１（ａ）（ｂ）（ｃ）を参 照）。

【００１１】 次に、枠体（１）の開孔部（４）に、光線透過率が９６％以上の透明な薄膜（ ６）をゆるみのないように張ることにより防塵用治具（１０）ができあがる。 この透明薄膜は検査精度が低下しないように厚さ０．８μｍ〜１０μｍの範囲 がよく、前記の透明薄膜はニトロセルロースやセルロースアセテートをスピンコ ート法等により形成したものが最適である。

【００１２】 図２は本考案の一実施例による防塵用治具を用いてフォトマスク等のガラス基 板の検査工程を示す説明図である。 測定台（２０）上に移動してくるガラス基板（５）上に防塵用治具（１０）の 把手（２，２）を持ってストッパー（３，３）を前記ガラス基板側辺に当てなが ら治具を置く。上方からＣＣＤカメラ、顕微鏡等の検査機（３０）を接近させ治 具上の透明薄膜を通して検査するものである。 これにより検査工程での検査機からの塵埃や油滴等を防止することができる。

【００１３】

【考案の効果】

本考案の防塵用治具は、フォトマスク等のガラス基板上を全面的に覆い、開孔 部に形成した透明薄膜により検査機から落下する塵埃、油滴等によるガラス基板 の汚染を防止することができるとともに、ゆるみのないように張った光線透過率 ９６％以上の透明薄膜と、検査機からの光の乱反射を防止する艶消しの黒色塗料 をコーティングした枠体によって、検査精度を向上することができる。又、枠体 の地辺に設けた把手及びストッパーにより位置合わせ等のハンドリングが容易な 防塵用治具である。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）本考案の一実施例によるガラス基板上に
置いた防塵用治具の平面図である。 （ｂ）図１ａに示したＡ−Ａ部分の断面図である。 （ｃ）図１ｂのＢ拡大図である。

【図２】本考案の一実施例による防塵治具を用いてガラ
ス基板の検査工程を示す説明図である。 １…枠体 ２…把手 ３…ストッパー ４…開孔部 ５…ガラス基板 ６…透明薄膜 ７…天辺 ８…地辺 ９…側辺 １０…防塵用治具 ２０…測定台 ３０…検査機

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】少なくとも、平面形状が多角形からなり、
   フォトマスク等のガラス基板上の端縁に置いて、前記の
   フォトマスク等のガラス基板検査の際、表面の汚染防止
   に用いる防塵用治具において、地辺に把手を設けた黒色
   の枠体の開孔面に、光線透過率が９６％以上の透明薄膜
   を張った構成を特徴とする防塵用治具。
2. 【請求項２】前記防塵用治具の前側、地辺下部垂直方向
   の少なくとも２か所に、凸片状のストッパーを設けたこ
   とを特徴とする請求項１に記載の防塵用治具。