JPH0543673A - 脂環式炭化水素基含有ポリマーの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】 一般式（II） （式中、Ｘは２価の脂環式炭化水素基）で示される脂環
式ジヒドロキシ化合物とジフェニルカーボネートおよび
／または一般式（III） （式中、Ｌは２価の飽和脂肪族、飽和脂環式または芳香
族炭化水素基、Ａはアルキル基またはフェニル基）で示
されるジカルボン酸エステルとから、一般式（Ｉ） （式中、ＸおよびＬは上記定義のとおりであり、ｍおよ
びｎはそれぞれ０〜０．５の数を表し、ｍとｎの和を
０．５とする。）で示される構造単位からなる脂環式炭
化水素基含有ポリマーを製造するに際し、数平均分子量
５０００以下のオリゴマーを合成し、得られたオリゴマ
ー１重量部に対し０．２〜１０．０重量部の溶媒で溶液
とし、次いで孔径１．０ミクロン以下のフィルターによ
りろ過し、ろ液から溶媒を除去した後、オリゴマ−を溶
融重縮合させる製造方法。 【効果】 微小異物含有量が少なく、着色が少ない成形
品を与える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は微小異物含有量が極めて
低い脂環式炭化水素基含有のポリカーボネート、ポリエ
ステルカーボネートまたはポリエステルの製造方法に関
する。本発明によって製造されるポリマーは各種の構造
材料または機能材料として有用であり、とりわけ光学用
透明材料として有用である。

【０００２】

【従来の技術】透明性に優れ、かつ力学物性や熱特性が
優れた成形品を与えるポリマーとして、ビスフェノール
Ａポリカーボネートが工業的に大量に製造され、広範囲
の分野で使用されているのは周知のとおりである。しか
しながら、ビスフェノールＡポリカーボネートは芳香族
化合物よりなるため、これから得られる成形品は複屈折
が大であり、複屈折が小であることが要求される用途、
例えばレンズや光ディスクの基板材料などの光学用途に
は必ずしも適していない場合がある。

【０００３】複屈折の小さい成形物を得るために、種々
の置換基を導入したビスフェノールＡのポリカーボネー
トが提案されており、また芳香族基の存在が高複屈折の
成形品を与える原因であることから、芳香族化合物を用
いないポリカーボネートが提案されている。芳香族化合
物を用いないポリカーボネートとしては、脂肪族ジオ−
ルまたは脂環式ジオ−ルを原料とするポリカーボネート
がある。脂肪族ジオ−ルを原料とするポリカーボネート
は通常融点が５０〜６０℃程度以下であるものが多く、
成形品として使用するには適していない。耐熱性が優
れ、かつ複屈折が小さい成形品を与えるポリカーボネー
トの候補としては脂環式ジオ−ルを原料とするポリカー
ボネートが適当である。

【０００４】脂環式ジオ−ルを原料とするポリカーボネ
ートとしては、例えば２，２，４，４−テトラメチルシ
クロブタン−１，３−ジオ−ルからなるポリカーボネー
ト（特公昭３８−２６７９８号公報および特開平１−１
３４３０１号公報参照）、ノルボルナン骨格の２，５−
位または２，６−位のジオ−ルとジメタノ−ルとからな
るポリカーボネート（米国特許第３４４９２９８号明細
書参照）、ノルボルナン骨格、ジメタノペルヒドロナフ
タレン骨格またはトリメタノペルヒドロアントラセン骨
格の１位および２位にヒドロキシメチル基を有する化合
物からなるポリカーボネート（特開平２−６９５１９号
公報参照）などが知られている。

【０００５】これらのポリカーボネートの製造法につい
ては多くの方法が提案されているが、代表的にはホスゲ
ンを用いる溶液重合法と炭酸ジエステルを用いるエステ
ル交換反応による溶融重合法に大別できる。

【０００６】工業的な製造法としては、工程はより複雑
であるが、より均質なポリカーボネートを与える溶液重
合法が主流をなしている。しかしながら、溶融重合法は
溶媒の回収、除去工程、ペレット化工程が必要でなく、
工程がより簡単であり、またホスゲンまたは溶媒に起因
するハロゲンのポリカーボネートへの混入の恐れがない
こと等から溶液重合法に比べて有利な点を有している。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の溶融重
合法によって光学用材料として充分な程度に微小異物含
有量の低いポリカーボネートを製造するためには、原料
である脂環式ジヒドロキシ化合物およびジフェニルカー
ボネートの精製段階において、それまでの製造操作によ
り混入してくる微小異物を除くか、または生成したポリ
カーボネートに対して溶融状態でろ過操作を行うかのい
ずれかの操作が必要である。前者の方法では、原料がい
ずれも室温では固体であるために、それぞれをまず溶液
状態としてろ過操作を行い、再び濃縮して固体として使
用する必要がある。これら一連の操作は、計量、仕込み
等の操作も含めて全て、例えばクリーンルーム内のよう
に外界からの異物の混入の可能性が排除された環境下で
行う必要があり、操作が極めて煩雑である。後者の方法
ではポリカーボネートの溶融粘度が高いため、１．０ミ
クロン以下の異物を除去するようなろ過操作は現実的で
はない。

【０００８】本発明の目的は、ともに固体原料である脂
環式ジヒドロキシ化合物とジフェニルカーボネートおよ
び／またはジカルボン酸エステルとから溶融重縮合法に
より、極めて簡便な操作で、微小異物含有量の少ない脂
環式炭化水素基含有のポリカーボネート、ポリエステル
カーボネートまたはポリエステルを工業的に有利に製造
する方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、下記の一般式（II）

【００１０】

【化４】

【００１１】（式中、Ｘは２価の脂環式炭化水素基を表
す。）で示される脂環式ジヒドロキシ化合物とジフェニ
ルカーボネートおよび／または下記一般式（III）

【００１２】

【化５】

【００１３】（式中、Ｌは２価の飽和脂肪族炭化水素
基、飽和脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基を表
し、Ａはアルキル基またはフェニル基を表す。）で示さ
れるジカルボン酸エステルとから、下記の一般式（Ｉ）

【００１４】

【化６】

【００１５】（式中、ＸおよびＬは上記定義のとおりで
あり、ｍおよびｎはそれぞれ０〜０．５の数を表し、ｍ
とｎの和を０．５とする。）で示される構造単位からな
る脂環式炭化水素基含有ポリマーを製造するに際し、ま
ず該脂環式ジヒドロキシ化合物とジフェニルカーボネー
トおよび／または該ジカルボン酸エステルとを反応させ
ることにより、数平均分子量５０００以下の上記ポリマ
ーのオリゴマーを合成し、得られたオリゴマーを該オリ
ゴマー１重量部に対し０．２〜１０．０重量部の溶媒で
希釈して溶液とし、次いで該溶液を孔径１．０ミクロン
以下のフィルターによりろ過し、ろ液から溶媒を除去し
た後、オリゴマ−を溶融重縮合させることを特徴とする
上記脂環式炭化水素基含有ポリマーの製造方法を提供す
ることによって達成される。

【００１６】上記一般式（II）で示される脂環式ジヒド
ロキシ化合物としては、炭素数６〜２０の２価の脂環式
炭化水素基をＸ部分とするものが好ましい。Ｘが表す２
価の脂環式炭化水素基としては、例えば、次の基を挙げ
ることができる。

【００１７】

【化７】

【００１８】脂環式ジヒドロキシ化合物としては、２，
３−ジ（ヒドロキシメチル）−ペルヒドロ−１，４：
５，８−ジメタノナフタレンが特に好ましい。

【００１９】上記一般式（III）で示されるジカルボン
酸エステルとしては、炭素数１〜２０の２価の飽和脂肪
族炭化水素基、飽和脂環式炭化水素基または芳香族炭化
水素基をＬ部分とするものが好ましい。Ｌが表す２価の
飽和脂肪族炭化水素基、飽和脂環式炭化水素基または芳
香族炭化水素基としては、例えば、次の基を挙げること
ができる。

【００２０】

【化８】

【００２１】これらの基の中で、シクロヘキサン−１，
４−ジイル基が特に好ましい。Ａとしては炭素数１〜１
０のアルキル基またはフェニル基が好ましく、特にフェ
ニル基が好ましい。

【００２２】本発明においては、一般式（II）で示され
る脂環式ジヒドロキシ化合物とジフェニルカーボネート
および一般式（III）で示されるジカルボン酸エステル
の合計量との仕込みモル比は通常０．９〜１．１の範囲
内、好ましくは０．９５〜１．０５の範囲内、より好ま
しくは実質的に１となるように設定される。該モル比が
１に近づくほど得られるポリマーの分子量が大となる。
どちらかの化合物が重縮合反応中に反応系外に飛散する
恐れがある場合には、その飛散する量に相当する過剰量
を反応槽に予め仕込むことが好ましい。光学用透明材料
としてのポリマーを製造するには、一般式（III）で示
されるジカルボン酸エステルをジフェニルカーボネート
に対して３０モル％以下の量で使用するのが好ましく、
２０モル％以下の量で使用するのがより好ましい。

【００２３】本発明における第一段階のオリゴマー合成
反応は窒素、アルゴン、二酸化炭素のような不活性ガス
雰囲気下、通常１５０〜３５０℃の範囲の温度で実施す
るのが適当であり、２００〜３００℃の範囲の温度で実
施するのが好ましい。ジフェニルカーボネートの沸点が
３０２℃であることから、反応の初期は未反応のジフェ
ニルカーボネートが反応系外に留出しないような反応温
度を選択することが好ましい。

【００２４】第一段階のオリゴマー合成反応は、第二段
階のオリゴマーの重縮合反応とは独立した別の反応槽で
行うことができる。オリゴマー合成反応は通常は無触媒
下で行う。また、このオリゴマー合成反応は後で述べる
オリゴマーの重縮合反応に用いられる触媒の存在下にお
いて行うこともできる。オリゴマー合成反応はフェノー
ル留出量が理論量の２０〜８０％に達した段階で中断す
るのが好ましく、４０〜５０％になった段階で中断する
のがより好ましい。この場合のオリゴマーの数平均分子
量はポリスチレン換算で５０００以下、好ましくは２５
００以下、より好ましくは１０００以下である。オリゴ
マーの数平均分子量が５０００を超える場合には、オリ
ゴマー溶液の後述する希釈溶媒に対する溶解が困難とな
り、またオリゴマー溶液の粘度が大となるのでろ過操作
に長時間を要するようになる。

【００２５】得られたオリゴマーを希釈する溶媒として
は、オリゴマーを容易に溶解し、後の濃縮操作を容易に
するため可能な限り低沸点であり、仮に微量残存しても
後の重縮合反応に悪影響を与える可能性の無い任意の有
機溶媒が用いられる。かかる有機溶媒の具体例として
は、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、
クロロホルム、クロロベンゼン、ニトロメタン、ピリジ
ン、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、テトラヒ
ドロフラン等を挙げることができる。これらの中でも、
ベンゼンまたは酢酸エチルを使用するのが特に好まし
い。溶媒の使用量は、オリゴマー１重量部に対して、
０．２〜１０．０重量部が好ましく、０．３〜５．０重
量部であればより好ましく、０．５〜１．５重量部であ
ればさらに好ましい。溶媒使用量は少ない方が次の溶媒
除去時間を短縮できるが、少な過ぎるとオリゴマー溶液
粘度が高くなるためにろ過操作が困難となる。

【００２６】溶媒による希釈操作は、生成したオリゴマ
ーの温度が１５０℃以下、好ましくは８０℃以下、より
好ましくは室温近くにある時に行うことが望まれる。こ
れは温度が高過ぎると、溶媒中の微量不純物によって生
起する副反応の懸念があるためである。

【００２７】得られたオリゴマー溶液は、フィルターに
よりろ過した後、そのまま引き続いて第二段階の重合操
作に付することが可能であるが、該オリゴマー溶液は室
温程度の温度下では充分な保存安定性があるため、第一
段階のオリゴマー合成操作と、第二段階の重縮合操作を
独立して行うことも可能である。使用するフィルターと
しては、孔径が１．０ミクロン以下のものを用いる必要
がある。孔径が１．０ミクロンより大きなフィルターを
用いる場合には、光学用材料としての要求物性を満足す
るポリマーを得ることは困難である。ろ過操作は、オリ
ゴマー溶液を、例えばメンブランフィルターを通して直
接、重縮合反応槽中に注入することにより行うのが好ま
しく、かかる操作によりオリゴマー溶液への外部からの
微小異物の混入の可能性を概ね排除することができる。
このろ過操作を必要に応じて複数回行うことにより、オ
リゴマー溶液中の微小異物の含有量をさらに減少させる
ことができる。

【００２８】第二段階のオリゴマーの重縮合反応を行う
前に、オリゴマー溶液から溶媒を除去する必要がある。
溶媒が低沸点のものである場合には、重縮合反応温度と
して一般に採用する２００℃以上に昇温すれば、溶媒は
常圧下でも留去される。しかし、本発明により充分な重
合度のポリマーを得るためには、この溶媒除去操作をよ
り低温でより完全に行うことが望ましい。かかる溶媒除
去操作は、ろ過操作を完了したオリゴマー溶液を１００
〜２００℃、より好ましくは１２０〜１５０℃の温度に
保ち、減圧下で行われるのが適当である。この減圧加熱
操作は、使用した溶媒が大部分除去され、続いてオリゴ
マー混合物中に含有されているフェノールが主留分とな
るまで行われる。

【００２９】本発明における第二段階のオリゴマーの重
縮合反応は、好ましくは減圧下、触媒の存在下に行われ
る。用いられる重縮合触媒としては、一般にポリカーボ
ネート、ポリエステルカーボネートまたはポリエステル
の重縮合触媒として使用されることが知られているアル
カリ金属化合物、チタン化合物等がいずれも使用可能で
あるが、特にポリカーボネートを製造する場合には、下
記一般式（IV）

【００３０】Ｒ₄ＹＢＺ₄

【００３１】（式中、Ｒはアルキル基またはアリール基
を表し、Ｙはリン原子または窒素原子を表し、Ｚは置換
基を有していてもよいフェニル基を表す。）で示される
ホウ素化合物を使用するのが望ましい。一般式（IV）に
おいてＲが表すアルキル基としては炭素数１〜４のもの
が好ましく、アリール基としては炭素数６〜１２のもの
が好ましい。

【００３２】一般式（IV）で示されるホウ素化合物の好
ましい具体例としては、例えばテトラフェニルホウ素酸
テトラメチルアンモニウム、テトラフェニルホウ素酸テ
トラｎ−ブチルアンモニウム、テトラフェニルホウ素酸
テトラメチルホスホニウム、テトラフェニルホウ素酸テ
トラｎ−ブチルホスホニウム、テトラフェニルホウ素酸
テトラフェニルホスホニウムなどを挙げることができ
る。これらの中でも、テトラフェニルホウ素酸テトラｎ
−ブチルアンモニウムが重合速度の点で最も好ましい。

【００３３】重縮合触媒の使用量は全原料化合物に対し
て１．０〜０．００００１モル％の範囲内が好ましく、
０．１〜０．０００１モル％の範囲内がより好ましい。
重縮合触媒は、オリゴマー製造時、またはオリゴマーを
製造した後、希釈溶媒を留去する前、いずれの時期に添
加することも可能である。

【００３４】希釈溶媒の充分な除去が行われたのち、反
応槽温度を重縮合可能な温度にまで昇温する。反応温度
は、第一段階のオリゴマー合成反応の場合と同様であ
る。残存するフェノールの大部分が留出したのち、反応
系を減圧にし、フェノールの留出を促進するのが好まし
く、この際の圧力は１００〜０．００１mmHgの範囲内が
望ましい。

【００３５】重縮合反応は撹拌翼を備えた通常の重合槽
で実施することができる。生成するポリマーの溶融粘度
が著しく大である場合には、反応後期を押し出し機タイ
プの重合槽を用いて実施することが望ましい。生成した
ポリマーは通常はストランド状にて反応槽より取り出さ
れ、ペレット化される。

【００３６】本発明に従って製造されるポリマーの分子
量は、光学用材料として使用するためには、ゲルパーミ
エイションクロマトグラフィーにより求めた数平均分子
量（ポリスチレン換算）で、１０，０００〜２００，０
００の範囲内であることが好ましく、３０，０００〜１
００，０００であることがより好ましい。

【００３７】本発明により製造されるポリマーは熱可塑
性であり、公知の任意の溶融成形方法、例えばプレス成
形、押し出し成形、射出成形、射出圧縮成形等の方法に
より成形される。また、適当な溶媒に溶解させ、キャス
ト法により成形することもできる。溶融成形の場合に
は、樹脂温度を通常１５０〜３５０℃の範囲に設定し、
金型温度を４０〜１５０℃の範囲内に設定するのが好ま
しい。

【００３８】成形の際には、ポリマーに必要に応じて熱
安定化剤、光安定化剤、帯電防止剤、滑剤、染料、顔料
等を添加することもできる。

【００３９】本発明により製造されるポリマーは、微小
異物含有量が極めて少なく、着色の程度が少ない成形品
を与えるので、各種のレンズ、光導波路や回折格子等の
光学素子、光ディスクや光カード等の光記録媒体用基体
などの光学用途に好ましく用いられる。

【００４０】

【実施例】以下、実施例に従って本発明を具体的に説明
する。

【００４１】実施例１ ＜第一段階＞撹拌装置、ビグリュー留出管（直径２ｃｍ
×長さ８０ｃｍ）および窒素導入管を備えた内容５リッ
トルの三ツ口フラスコに、２，３−ジ（ヒドロキシメチ
ル）−ペルヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレ
ン１．３３Ｋｇ（６．００モル）およびジフェニルカー
ボネート１．２９Ｋｇ（６．０２モル）を仕込み、反応
槽内を減圧／窒素導入法を３回行うことにより、充分に
窒素置換した。窒素を１００ミリリットル／分間の速度
で流通させながら、シリコンオイルバスで加熱し、１８
０℃まで昇温した時点で撹拌を開始した。さらに２５０
℃まで昇温後、同温度で保持した。室温から２５０℃に
達するまでの時間は約３０分間であった。２５０℃に到
達する頃からフェノールが留出し始めた。はじめの１０
分間で約１５０ミリリットルのフェノールが留出した
が、次第に留出速度は低下した。１時間で４５０〜５０
０ミリリットルのフェノールが留出した。ここで、オイ
ルバスを外し、窒素流量を５００ミリリットル／分間に
上げ、放冷した。反応液温度が５０℃以下になった時点
でＹ字管を通して、還流コンデンサーと１リットル滴下
ロートを装着し、ベンゼン２リットルを添加し、充分均
一になるように撹拌した。以上の操作により、ゲルパー
ミエイションクロマトグラフィーにより求めた数平均分
子量（ポリスチレン換算）が４５０のオリゴマーの約４
０％ベンゼン溶液が得られた。

【００４２】＜第二段階＞第一段階で合成したオリゴマ
ーのベンゼン溶液を、内容１０リットルのろ過装置（東
洋濾紙株式会社製、同社製０．５ミクロンのメンブラン
フィルターを装着したもの）に入れ、窒素圧力により、
撹拌装置および留出管を備えた内容９リットルのＳＵＳ
３１６Ｌ製の反応槽に注入した。ろ過装置洗浄用に０．
５リットルのベンゼンを使用し、同様に反応槽に洗い込
んだ。これにテトラフェニルホウ素酸テトラｎ−ブチル
アンモニウム６７ｍｇの２ミリリットルのベンゼン懸濁
液を仕込み、反応槽内を窒素で置換した。窒素を１００
ミリリットル／分間の速度で流通させながら、反応槽を
１５０℃まで昇温した。その間に約２リットルのベンゼ
ンが留去された。１０分間の水道アスピレーター減圧に
よりさらにベンゼンを除去した後、真空ポンプに代え、
さらに３０分間同温度に保ち、ベンゼンの徹底的な除去
を行った。留出物のガスクロマトグラフィー分析によ
り、大部分がフェノールになったことを確認したのち、
窒素で常圧に戻し、３０分間かけて反応槽温度を２５０
℃に昇温し、同温度で３０分間保持した。この間に理論
留出量の約１０％のフェノールが留出した。ついで、同
温度のままで系内を徐々に減圧にし、２０分間かけて
０．０７mmHgとした。更に同条件下で１時間撹拌を続け
たのち、撹拌を停止し、系内を窒素を導入することによ
り常圧にもどした。ついで、反応槽に付帯したギアーポ
ンプにて生成したポリマーをストランド状に排出し、カ
ッターにて切断することによって１．２Ｋｇのペレット
を得た。

【００４３】得られたポリマーは無色透明であり、該ポ
リマーをテトラヒドロフランに溶解させ、ハイアック／
ロイコ（ＨＩＡＣ／ＲＯＹＣＯ）社製液体微粒子カウン
ターにより微小異物含有量を測定した結果、粒径０．５
ミクロン以上の微小異物含有量は、ポリマー１グラム当
たり約１５万個であった。ゲルパーミエイションクロマ
トグラフィーにより求めた数平均分子量（ポリスチレン
換算）は３５，０００であり、分子量分布はＭｗ／Ｍｎ
＝２．０であった。ポリマーの示差走査熱量計の測定に
よるガラス転移温度は１２６℃であった。

【００４４】実施例２ 実施例１において、２，３−ジ（ヒドロキシメチル）−
ペルヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタレンに代
えて２，３−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．
２．１］ヘプタンを用いたこと以外は、実施例１と同様
にしてポリマーを得、ペレットを得た。

【００４５】得られたポリマーは無色透明であり、実施
例１におけると同様にして測定した微小異物含有量はポ
リマー１グラム当たり１６万個であった。数平均分子量
（ポリスチレン換算）は３４，０００であり、ガラス転
移温度は１１４℃であった。

【００４６】実施例３ 実施例１の操作中、オリゴマーのろ過操作をここでは２
回行ったこと以外は、実施例１と同様にしてポリマーを
得、ペレットを得た。

【００４７】得られたポリマーは無色透明であり、実施
例１におけると同様にして測定した微小異物含有量はポ
リマー１グラム当たり１０万個に減少していた。数平均
分子量（ポリスチレン換算）は３５，０００であり、ガ
ラス転移温度は１２６℃であった。

【００４８】実施例４ 実施例１において、ジフェニルカーボネート１．２９Ｋ
ｇ（６．０２モル）に代えてジフェニルカーボネート
１．１６Ｋｇ（５．４２モル）とジフェニル １，４−
シクロヘキサンジカルボキシレート０．１９Ｋｇ（０．
６０モル）を用い、かつ第２段階で添加する触媒をテト
ラフェニルホウ素酸テトラブチルアンモニウムからテト
ライソプロピルチタネ−ト３４ｍｇ（全仕込み原料の
０．００１モル％）に変更したこと以外は、実施例１と
同様にしてポリマーを得、ペレットを得た。

【００４９】得られたポリマーは無色透明であり、実施
例１におけると同様にして測定した微小異物含有量はポ
リマー１グラム当たり１８万個であった。数平均分子量
（ポリスチレン換算）は３６，０００であり、ガラス転
移温度は１２３℃であった。

【００５０】比較例１ 実施例１と同様な反応槽に、２，３−ジ（ヒドロキシメ
チル）−ペルヒドロ−１，４：５，８−ジメタノナフタ
レン１．３３Ｋｇ（６．００モル）、ジフェニルカーボ
ネート１．２９Ｋｇ（６．０２モル）およびテトラフェ
ニルホウ素酸テトラｎ−ブチルアンモニウム７０ｍｇ
（脂環式ジヒドロキシ化合物の０．００２モル％）を仕
込み、反応槽内を窒素で置換した。窒素を３０ｌ／時間
の速度で流通させながら１８０℃まで昇温したのち、撹
拌を開始し、その後３０分かけて２５０℃に昇温し、同
温度で２時間保持した。この間に理論留出量の７０％の
フェノールが留出した。ついで、同温度のままで系内を
徐々に減圧にし、１時間かけて０．０７mmHgとした。更
に同条件下で４５分撹拌を続けたのち、撹拌を停止し、
系内を窒素を導入することにより常圧にもどした。つい
で、反応槽に付帯したギアーポンプにて生成したポリマ
ーをストランド状に排出し、カッターにて切断すること
によって１．２Ｋｇのペレットを得た。

【００５１】得られたポリマーの粒径０．５ミクロン以
上の微小異物含有量は、ポリマー１グラム当たり約１５
０万個であった。

【００５２】比較例２ 実施例１において、その第二段階で、フィルターによる
ろ過操作を行わずに重合反応槽にオリゴマー溶液を仕込
み、重合反応を行ったこと以外は、実施例１と同様にし
てポリマーを得た。

【００５３】得られたポリマーの粒径０．５ミクロン以
上の微小異物含有量は、ポリマー１グラム当たり約１５
０万個であった。

【００５４】

【発明の効果】本発明によれば、一般式（II）で示され
る脂環式ジヒドロキシ化合物とジフェニルカーボネート
および／または一般式（III）で示されるジカルボン酸
エステルとから溶融重縮合法により、極めて簡便な操作
で、微小異物含有量の少ないポリマーを工業的に有利に
製造することができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記の一般式（II） 【化１】 （式中、Ｘは２価の脂環式炭化水素基を表す。）で示さ
   れる脂環式ジヒドロキシ化合物とジフェニルカーボネー
   トおよび／または下記一般式（III） 【化２】 （式中、Ｌは２価の飽和脂肪族炭化水素基、飽和脂環式
   炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、Ａはアルキ
   ル基またはフェニル基を表す。）で示されるジカルボン
   酸エステルとから、下記の一般式（Ｉ） 【化３】 （式中、ＸおよびＬは上記定義のとおりであり、ｍおよ
   びｎはそれぞれ０〜０．５の数を表し、ｍとｎの和を
   ０．５とする。）で示される構造単位からなる脂環式炭
   化水素基含有ポリマーを製造するに際し、まず該脂環式
   ジヒドロキシ化合物とジフェニルカーボネートおよび／
   または該ジカルボン酸エステルとを反応させることによ
   り、数平均分子量５０００以下の上記ポリマーのオリゴ
   マーを合成し、得られたオリゴマーを該オリゴマー１重
   量部に対し０．２〜１０．０重量部の溶媒で希釈して溶
   液とし、次いで該溶液を孔径１．０ミクロン以下のフィ
   ルターによりろ過し、ろ液から溶媒を除去した後、オリ
   ゴマ−を溶融重縮合させることを特徴とする上記脂環式
   炭化水素基含有ポリマーの製造方法。