JPH0543543U - 基板表面処理室の基板搬入口／搬出口遮断装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 常に所望通りの雰囲気遮断効果を確実に得る
ことができ、構造簡単で、装置を小形化でき、装置の作
動に伴う発塵による基板汚染の心配も無い基板表面処理
室の基板搬入口／搬出口遮断装置を提供する。 【構成】 基板搬入口／搬出口の上方及び下方にそれぞ
れエアー吹出し口10及びエアー吸込み口12を設ける。上
下方向に貫通するエアー通路28が内部に形成されたシャ
ッター14をエアー吹出し口からエアー吸込み口の方向へ
進退自在に配設し、そのシャッターを昇降駆動させる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

この考案は、半導体デバイスや液晶ディスプレイ等の製造工程において、半導 体基板やガラス基板等の基板の表面処理を行なう基板表面処理装置、特にその表 面処理室の基板搬入口／搬出口の遮断装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

半導体基板やガラス基板等の各種基板の表面処理装置は、自動搬送ロボット等 の搬送手段により被処理基板を表面処理室へ基板搬入口を通して搬入し、表面処 理室内において基板の表面に対し薬液等の表面処理用流体を供給して所定の表面 処理を行なった後、処理済みの基板を表面処理室から基板搬出口を通して搬出し 、続いて洗浄、乾燥等の後処理を行なうような構成となっている。このような表 面処理装置において、表面処理室内へ室外から基板搬入口／搬出口を通し塵埃等 が流入して基板の汚染原因となったり、また、表面処理室内から基板搬入口／搬 出口を通し室外へ薬液等の有害ベーパーが漏れ出て作業環境を悪化させたりする のを防止するために、表面処理室の基板搬入口／搬出口には、被処理基板の搬入 ／搬出時以外の時に表面処理室の内・外の雰囲気を互いに隔絶する遮断装置が設 けられている。

【０００３】 表面処理室の基板搬入口／搬出口の遮断装置としては、従来、例えば実開昭６ ２−１６３９３４号公報等に開示されているように、処理シーケンスに合わせて 開閉駆動する機械式の遮断シャッターが使用されており、その場合、シャッター を昇降駆動させる機構として各種のものが用いられている。また、表面処理室の 基板搬入口／搬出口の上方及び下方にそれぞれエアー吹出し口及びエアー吸込み 口を設け、エアー吹出し口から清浄空気を連続して吹き出し、その吹き出された 空気をエアー吸込み口を通し強制的に吸引して排気することにより、基板搬入口 ／搬出口に空気流を形成し、そのエアーカーテンによって表面処理室の内・外の 雰囲気を互いに隔絶するようにする手段も、従来使用されている。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、従来の機械式の遮断シャッターでは、装置本体の側枠と摺接す る両側辺部等を完全にシールする必要があり、そのために構造が複雑化し、また 、繰り返し行なわれるシャッターの開閉動作に伴う摺接によってシール部分から 発塵し、その塵埃がシャッターの近くに設けられた処理槽内へ混入して汚染源に なる、といった問題点がある。また、シャッターの下降時においてシャッター下 端と装置本体の下枠上面との間に隙間があると、シャッターを挾んだ表面処理室 内・外の両雰囲気が完全に遮断されなくなるので、そのような隙間が出来なくな るまでシャッターを下降させる必要がある。このため、シャッターの移動距離が 大きくなり、シャッターの昇降駆動機構が大型化するなどの問題点がある。

【０００５】 また、従来のエアーカーテン式の遮断システムでは、エアーカーテンを構成す るダウンフローエアの流下距離が長く、表面処理室内外の雰囲気の圧力差の変化 等の影響を受けて空気のダウンフローが不安定になり、所望通りの遮断効果が必 ずしも得られない、といった心配がある。

【０００６】 この考案は、以上のような事情に鑑みてなされたものであり、従来の機械式及 びエアーカーテン式の遮断装置におけるそれぞれの問題点を解消し、構造が簡単 であり、発塵の可能性が少なく、かつ、例え発塵してもそれが汚染原因につなが る心配が無く、また、装置構造上も有利であり、常に所望通りの遮断効果を確実 に得ることができるような基板表面処理室の基板搬入口／搬出口遮断装置を提供 することを技術的課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】

この考案では、少なくとも基板搬入口又は基板搬出口のいずれか一方の上方及 び下方にそれぞれエアー吹出し口及びエアー吸込み口を設けるとともに、上下方 向に貫通するエアー通路が内部に形成されたシャッターをエアー吹出し口からエ アー吸込み口の方向へ進退自在に配設し、そのシャッターを表面処理室内への基 板の搬入／搬出動作に伴って昇降駆動させるようにした。

【０００８】 上記構成の装置では、表面処理室内への基板の搬入／搬出時にはシャッターが 上昇して基板搬入口／搬出口が開放され、基板の非搬入／搬出時にはシャッター が下降する。この場合、シャッターの両側辺部の摺接部分におけるシールが完全 にはなされていなくても、基板搬入口／搬出口には、上方のエアー吹出し口から 下方のエアー吸込み口に向かって空気が流れているため、その空気のダウンフロ ーにより、シャッター両側辺部の摺接部分を通して表面処理室の内・外の雰囲気 が流通するのが防止される。そして、完全なシールを行なう場合に比べ、シャッ ター両側辺部の摺接部分から発塵する可能性が少なく、仮に発塵したとしても、 発生した塵埃は、ダウンフローと共にエアー吸込み口へ流動し、エアー吸込み口 から外部へ排出され、処理槽内へ混入するようなことが起こらない。また、シャ ッター下降時において、エアー吹出し口へ供給された空気の一部は、シャッター 内部のエアー通路を通ってシャッター下端面の開口より吹き出され、その開口に 対向したエアー吸込み口へ吸い込まれて、その両者間にエアーカーテンが形成さ れるため、シャッター下端とエアー吸込み口が形成された下枠上面との間に隙間 が出来なくなるまでシャッターを下降させる必要が無く、シャッターの移動距離 を少なくすることができる。そして、シャッター下端と下枠上面との間に形成さ れるエアーカーテンの上下方向の幅は短いので、表面処理室内外の雰囲気の圧力 差の変化等の影響を余り受けず、エアーカーテンの状態は安定している。さらに 、シャッターの表面に沿って常に空気が流れるため、表面処理室内で腐蝕性薬液 を使用しているような場合でも、シャッターの腐蝕が防止される。

【０００９】

【実施例】

以下、この考案の好適な実施例について図面を参照しながら説明する。

【００１０】 図１ないし図３はこの考案の１実施例を示し、図１は、表面処理装置の表面処 理室の基板搬入口に設けられる雰囲気遮断装置の概略構成を示す斜視図、図２の （ａ）及び図３は、それぞれ作動状態を異にする遮断装置の、図１のＡ−Ａ矢視 断面図、図２（ｂ）は、図１のＢ−Ｂ矢視断面図である。尚、図１においては、 エアー導入ダクト部分を二点鎖線で表わしている。

【００１１】 この雰囲気遮断装置は、基板搬入口の上方及び下方にそれぞれ互いに対向して 設けられたエアー吹出し口10及びエアー吸込み口12を備えたエアーカーテンシス テムと、昇降駆動されるシャッター14を備えたシャッター装置とから構成されて いる。そして、シャッター14がエアー吹出し口10からエアー吸込み口12の方向へ 進退自在に配設された構成となっている。

【００１２】 シャッター装置は、シャッター14を昇降自在に左右一対の摺動支持部16、16に よって支持し、シャッター昇降駆動機構18によってシャッター14を昇降移動させ るようにして構成されている。摺動支持部16は、シャッター14の側辺部が摺接可 能に嵌合する摺接溝22が鉛直方向に形成されたガイド支持部材20を鉛直方向に立 設固定するとともに、シャッター14が上下に移動可能に嵌挿するスリット26が鉛 直方向に形成されたカバーダクト24を、ガイド支持部材20を包囲するように鉛直 方向に立設固定して構成されている。ガイド支持部材20は、滑動性に優れた材料 、例えばテフロン（登録商標）等の樹脂で形成されている。尚、シャッター14の 摺動ガイド支持機構としては、ベアリングを使用したもの、ガイド棒と転動車と を組み合わせたものなど、各種のものを採用し得る。また、シャッター14の昇降 駆動機構も、回転ねじ棒とナットを組み合わせたもの、ラック・ピニオン機構を 利用したもの、タイミングベルトとプーリーを組み合わせたもの、ロッドレスシ リンダを使用したもの、リンク機構を利用したものなど、種々のものを使用し得 る。

【００１３】 また、シャッター14には、上下方向に貫通するエアー通路28が内部に形成され ており、また、外面の、カバーダクト24のスリット26に近接する位置に、左・右 それぞれ一対の遮蔽板30が鉛直方向に固着されている。そして、図１に示すよう に、シャッター14が最も下方位置まで移動した状態で、シャッター14の上端がエ アー吹出し口10より上方に位置するように、一対の摺動支持部16、16の上半部及 びシャッター14の上端部分を内包するエアー導入ダクト32が配設されている。ま た、シャッター14が最下位置まで移動したとき、シャッター14の下端とエアー吸 込み口12とは、例えば１５０〜２００mm程度の距離Ｄだけ離間するようになって いる。

【００１４】 次に、上記した構成の雰囲気遮断装置の動作について説明する。まず、基板搬 入口を通して表面処理室内へ基板を搬入するときは、シャッター昇降駆動機構18 によりシャッター14を上昇させ、図２に示すように、シャッター14を最上位置に 移動させて停止させる。この状態においては、基板搬入口が開放され、シャッタ ー14の下端とエアー吸込み口12が形成された台枠34上面との間の開口面を通って 基板を表面処理室内へ搬入することができる。この場合、エアー導入ダクト32へ は常時図示しないエアー供給源から清浄空気が送給されているため、図２（ａ） 、（ｂ）中に矢印で示すように、エアー吹出し口10から空気が吹き出され、その 吹き出された空気は、シャッター14下端と台枠34上面との間の開口部分を通り、 エアー吸込み口12へ強制的に吸い込まれて外部へ排出される。また、エアー導入 ダクト32へ供給された空気の一部は、カバーダクト24の内部を通って下方へ流れ 、排気される。尚、エアー導入ダクト32の内方にダンパーを設けておき、基板の 搬入時には、そのダンパーを閉じることにより、エアー吹出し口10から空気を吹 き出させないような構成としてもよい。

【００１５】 次に、表面処理中であって基板の搬入を行なわないときは、シャッター昇降駆 動機構18によりシャッター14を下降させ、図１及び図３（また図２（ｂ）中の二 点鎖線）に示すように、シャッター14を最下位置に移動させて停止させる。この 動作により、基板搬入口はシャッター14によって部分的に閉塞され、表面処理室 の内・外の雰囲気がそのシャッター14によって遮断される。また、図３中に矢印 で示すように、エアー供給源からエアー導入ダクト32へ送られた空気の一部がシ ャッター14内部のエアー通路28を通ってシャッター14下端面の開口から吹き出さ れ、その吹き出された空気がエアー吸込み口12へ強制的に吸い込まれることによ り、シャッター14の下端とエアー吸込み口12との間にエアーカーテンが形成され 、そのエアーカーテンによって表面処理室の内・外の雰囲気が遮断される。この ように、シャッター14自身の遮断効果とエアーカーテンによる遮断効果とが合わ さって、表面処理室の内・外の雰囲気の遮断がより確実になされることになる。 また、エアー供給源からエアー導入ダクト32へ送られた空気の一部は、カバーダ クト24の内部を通って下方へ流動し、排気される。そして、シャッター14の両側 辺部とガイド支持部材20との摺接動作に伴って仮に発塵したとしても、発生した 塵埃は、カバーダクト24内の空気流によって外部へ排出され、処理槽内へ混入す るようなことが起こらない。さらに、シャッター14の表面に沿って常に空気が流 下している状態にあるため、表面処理室内で腐蝕性薬液を使用しているような場 合でも、シャッター14の腐蝕が起こりにくい。

【００１６】 尚、上記実施例においては、基板搬入口にこの発明を適用した場合について例 示してきたが、この発明は、基板搬入出ついても同様に適用することができる。 さらに、この遮断装置は、基板搬入口又は搬出口のいずれか一方だけに設置する ようにしてもよいし、また、その両方に設置するようにしてもよい。

【００１７】

【考案の効果】

この考案は以上説明したように構成されかつ作用するので、この考案によると 、従来の機械式及びエアーカーテン式の遮断装置におけるそれぞれの問題点が共 に解消される。すなわち、この考案に係る基板表面処理室の基板搬入口／搬出口 遮断装置では、基板搬入口／搬出口の遮断装置の構造が簡単になり、遮断装置の 作動に伴う発塵の可能性も少なく、かつ、例え発塵してもそれが汚染原因につな がる心配が無く、また、シャッターの移動距離が少なくて済むため、装置構造上 も有利になる。そして、常に所望通りの雰囲気遮断効果が確実に得られることと なる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この考案の１実施例を示し、表面処理装置の表
面処理室の基板搬入口に設けられる雰囲気遮断装置の概
略構成を示す斜視図である。

【図２】（ａ）が図１のＡ−Ａ矢視断面図であり、
（ｂ）が図１のＢ−Ｂ矢視断面図である。

【図３】図２（ａ）に示したものと作動状態を異にす
る、同様の断面図である。

【符号の説明】

10 エアー吹出し口 12 エアー吸込み口 14 シャッタ 16 摺動支持部 18 シャッター昇降駆動機構 20 ガイド支持部材 24 カバーダクト 28 エアー通路 32 エアー導入ダクト

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の表面に対し表面処理用流体を供給
   して基板の表面処理が行なわれる基板表面処理室の基板
   搬入口／搬出口に、基板表面処理室への基板の搬入／搬
   出動作に伴って昇降駆動されるシャッターを配設した基
   板表面処理室の基板搬入口／搬出口遮断装置において、
   少なくとも前記基板搬入口又は前記基板搬出口のいずれ
   か一方の上方及び下方にそれぞれエアー吹出し口及びエ
   アー吸込み口を設けるとともに、前記シャッターを前記
   エアー吹出し口からエアー吸込み口の方向へ進退自在に
   配設し、そのシャッターの内部に、上下方向に貫通する
   エアー通路を形成したことを特徴とする基板表面処理室
   の基板搬入口／搬出口遮断装置。