JPH0542456B2 - - Google Patents

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JPH0542456B2
JPH0542456B2 JP2212685A JP2212685A JPH0542456B2 JP H0542456 B2 JPH0542456 B2 JP H0542456B2 JP 2212685 A JP2212685 A JP 2212685A JP 2212685 A JP2212685 A JP 2212685A JP H0542456 B2 JPH0542456 B2 JP H0542456B2
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JP
Japan
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group
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formula
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hydroperoxide
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JP2212685A
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Maiaa Kuruto
Tsuaifueru Hansu
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Novartis AG
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Ciba Geigy AG
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明はa)カチオン重合又は遊離基重合によ
つて重合可能な物質、b)鉄()−η6−ベンゼ
ン−η5−シクロペンタジエニル錯塩、c)化合物
bのための増感剤及びd)遊離基重合によつて重
合可能な前記物質のための酸化剤としての電子受
容体から成る硬化可能な組成物、放射線の作用に
よつてこの物質を重合する方法並びに前記組成物
で被覆された材料及びその使用法に関する。 〔従来の技術〕 特許文献EP−A−0094915号は開始剤として
(π−アレーン)−金属錯塩を含む、カチオン重合
によつて重合可能な物質から成る硬化可能な組成
物を記載している。前記組成物は熱の作用によつ
て直接硬化でき、又は開始剤を活性化するために
最初に照射し、次に熱の作用によつて硬化でき
る。しかしながら完全に硬化するには、露光時間
を比較的長くしなければならず、経済的ではな
い。従つて、感光度を増大することが望ましい。
照射後の熱硬化を回避し、放射線だけによつて硬
化させることも望ましい。感光度は選ばれた(π
−アレーン)−金属錯塩と共に増感剤を同時に使
用することによつてかなり増大可能であることが
現在わかつている。さらに酸化剤を付随的に使用
することによつて熱硬化を十分に回避できること
がさらにわかつている。 〔発明の開示〕 本発明はa遊離基重合又はカチオン重合によつ
て重合可能な物質、b下記式から成る少なくと
も1種の鉄化合物 〔(R1)(R2Fe〓)a〕+aa/q(LQm)-q ……() (但し、aは1又は2、qは1,2又は3、L
は2価〜7価の金属又は非金属、Qはハロゲン原
子、mはLの原子価とqの値の総和に相当する整
数、R1置換基を有するか又は有しないη6−ベン
ゼン及びR2は置換基を有するか又は有しないシ
クロペンタジエニルアニオンである)、及びc前
記式の化合物のための少なくとも1種の増感剤
を含み、かつ遊離基重合によつて重合可能な物質
の場合には、さらにd酸化剤として電子受容体を
含有する組成物に関する。 〔発明を実施するための最良の形態〕 カチオン重合によつて硬化可能な物質を含む前
記組成物も、特に照射による硬化に使用される場
合に、酸化剤として電子受容体を含むのが有利で
ある。 式の鉄化合物又は式の鉄化合物と前記酸化
剤dは0.1重量%〜15重量%、特に0.1重量%〜10
重量%、より具体的には0.1重量%〜5重量%の
量で存在するのが好ましい。式の鉄化合物と酸
化剤dとの重量比は1:10〜5:1、特に1:1
〜5:1が好ましい。前記増感剤cは0.1重量%
〜10重量%、特に0.1重量%〜5重量%、とりわ
け0.1重量%〜2.5重量%の量で配合するのが好ま
しい。 ベンゼンから誘導される単環式π−アレーンと
して、式におけるR1は同一又は異なる、ハロ
ゲン原子もしくはC1〜C12アルキル基、C2〜c12
ルケニル基、C2〜C12アルキニル基、C1〜C8アル
コキシ基、シアノ基、C1〜C12アルキルチオ基、
C2〜C6モノカルボン酸エステル基、フエニル基、
C2〜C5アルカノイル基又はベンゾイル基によつ
て単置換又は多置換されうる。 シクロペンタジエニルアニオンR2は同一又は
異なる、C1〜C8アルキル基、C2〜C8アルケニル
基、C2〜C8アルキニル基、C2〜C6モノカルボン
酸エステル基、シアノ基、C2〜C5アルカノイル
基又はベンゾイル基によつて単置換又は多置換さ
れうる。 前記アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、モ
ノカルボン酸アルキルエステル、及びアルカノイ
ルの各置換基は直鎖又は分岐鎖であり得る。代表
的なアルキル、アルコキシ、モノカルボン酸アル
キルエステル及びアルカノイルの各置換基はそれ
ぞれメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、
n−ペンチル、n−ヘキシル及びn−オクチル;
メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロ
ポキシ、n−ブトキシ、n−ヘキシルオキシ及び
n−オクチルオキシ;メチルチオ、エチルチオ、
n−プロピルチオ、イソプロピルチオ、n−ブチ
ルチオ、n−ペンチルチオ及びn−ヘキシルチ
オ;カルボン酸メチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピル、n−ブチル及びn−ペンチルエス
テル;並びにアセチル、プロピオニル、ブチリル
及びバレロイルである。前記アルキル、アルコキ
シ、アルキルチオ及びモノカルボン酸アルキルエ
ステルの各基は1〜4、特に1又は2個の炭素原
子をそのアルキル部分中に有するのが好ましく。
前記アルカノイル基は2又は3個の炭素原子を有
するのが好ましい。R1がベンゼンから誘導され
た置換基を有するπ−アレーンの場合、R1は前
記置換基、特に塩素又は臭素原子、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、メトキシ、エトキ
シ、シアノ、カルボン酸メチル又はエチルエステ
ル及びアセチルの各基の1個又は2個を含むのが
好ましい。 好態なπ−アレーンである。ベンゼン環を有す
る化合物の例としては、ベンゼン、トルエン、キ
シレン類、エチルベンゼン、メトキシベンゼン、
エトキシベンゼン、ジメトキシベンゼン、p−ク
ロロトルエン、クロロベンゼン、ブロモベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、アセチルベンゼン、トリ
メチルベンゼン、トリメトキシベンゼン、1,2
−ジヒドロナフタレン、1,2,3,4−テトラ
ヒドロナフタレン、メシチレン、クメン、ビフエ
ニル、アニソール及びドデシルベンゼンである。
好ましくはベンゼン、トルエン、キシレン、クメ
ン、メシチレン、クロロベゼン、クロロトルエ
ン、アニソール、ジメトキシベンゼン、ビフエニ
ル、ドデシルベンゼン又はテトラリンである。 R2はシクロペンタジエニルアニオン又はC1
C4アルキル化シクロペンタジエニルアニオン、
特にメチルシクロペンタジエニルアニオンである
のが好ましい。 式において、aはであるのが好ましい。金
属又は非金属Lの適した例としてはSb,Fe,
Sn,Bi,Al,Ga,In,Ti,Zr,Sc,V,Cr,
Mn及びCu;Ce,Pr及びNdのようなランタニ
ド;及びTh,Pa,U及びNpのようなアクチニ
ドがある。適切な非金属は特にB,P及びAsで
ある。LはP,As,B又はSbであるのが好まし
く、特にPであるのが好ましい。ハロゲン原子Q
はC1及び特にFであるのが好ましい。 式において、qは1、mは6、QはFそして
LはB,P,As又はSbであるのが好ましい。 錯アニオン〔LQn-qの例としては、BF4 -
PF6 -,AsF6 -,SbF6 -,FeCl4 -、SnCl6 2-,SbCl6
及びBiCl6 -がある。特に好ましい錯アニオンは
SbF6 -,BF4 -,AsF6 -及びPF6 -である。 式の化合物は公知であるか、または類似する
方法によつて製造できる。 酸化剤としての電子受容体dは有機ヒドロペル
オキシド、有機過酸又はキノンであるのが好まし
い。その具体例としてはtert−ブチルヒドロペル
オキシド、クメンヒドロペルオキシド、トリフエ
ニルメチルヒドロペルオキシド、テトラリンヒド
ロペルオキシド、α−メチルテトラリンヒドロペ
ルオキシド、デカリンヒドロペルオキシド、過安
息香酸、m−クロロ過安息香酸又はベンゾキノン
がある。 増感剤cの適した例としては1モル当り少なく
とも30、好ましくは少なくとも35キロカロリーの
三重項エネルギーを有するものである。それら
は、例えば、単環式もしくは多環式の、芳香族又
は複素環芳香族炭化水素類、フエノン類、特にア
セトフエノン類及びベンゾフエノン類、ベンジル
類、スチルベン類、ポリアセチレン類、キサント
ン類及びチオキサントン類、アントラセン類、フ
タルイミド類、特にフタルイミドチオエーテル類
並びに隣接しているCO基を有するジオン類から
成る群から選ぶことができる。他の適切な増感剤
及びその例は、エス.エル.ムロブ(murov)
〔写真化学ハンドブツク;エム.デツカー社;ニ
ユーヨーク;27頁以降、(1973年)〕に記述してあ
る。 好ましい増感剤はチオキサントン類、フタルイ
ミド類、特にフタルイミドチオエーテル類、クマ
リン類及びアントラセン類である。適切なフタル
イミドチオエーテル類は特許文献DE−A−
3117589号及びEP−A−0062615号に記載されて
いる。適切なチオキサントン類は、例えば、特許
文献DE−A−3018891号及びEP0033720号に記載
されている。 特に好ましい増感剤は置換基を有するか又は有
しないアントラセン類又はそれらアントラセン類
の混合物である。 アントラセン類は下記式に相当する 〔但し、R3〜R8は互に別個に、水素原子、ハ
ロゲン、シアノ基、直鎖又は分岐鎖C1〜C18アル
キル基、C1〜C18アルコキシ基又はC1〜C18アルキ
チオ基、C1〜C6アルキル基で置換されたもしく
は置換されていないC5〜C12シクロアルキル基、
直鎖又は分岐鎖C3〜C18アルケニル基、C7〜C16
ラルキル基、−CoH2o−OZ,−CoH2o−CN,−Co
H2o−COOR9又は (但しnは1〜18の数、R9は直鎖又は分岐鎖
C1〜C18アルキル基、C1〜C6アルキル基で置換さ
れたもしくは置換されていないC5〜C12シクロア
ルキル基、C6〜C12アリール基、C7〜C16アルカリ
ール基、C7〜C16アラルキル基、C8〜C16アルカラ
ルキル基(alkaralkyl)又は金属カチオンであ
り、R10及びR11は互いに別個に、水素原子、C1
〜C18アルキル基もしくはC5〜C12シクロアルキル
基であるか又はR10及びR11は一緒になつてテト
ラメチレン基、ペンタメチレン基もしくは3−オ
キサペンチレン基であり、Zは水素原子又はC1
〜C18アルキル基である)である〕。 好ましい実施態様において、基R3〜R8の少な
くとも1種は前記定義の置換基の1種である。他
の実施態様において、R3,R5,R6及びR8は水素
原子であり、R4及び/又はR7はC1〜C18のアルキ
ル基又はC1〜C18のアルコキシ基である。他の好
ましい実施態様において、R4及びR6〜R8は水素
原子であり、R3及びR5は前記定義の置換基の1
種であつて、R3は特に6位又は7位に結合され、
R5は2位に結合されている。 R3〜R8がハロゲンの場合、塩素であるのが好
ましく、R3〜R8がアルキル基、アルコキシ基及
びアルキルチオ基の場合、R3〜R8は1〜12個、
特に好ましくは1〜6個の炭素原子を有するのが
好ましく、R3〜R8がシクロアルキル基の場合、
R3〜R8は好ましくは5又は6個の環形成炭素原
子を有する。R3〜R8がアルケニル基の場合、R3
〜R8は3〜8個の炭素原子を有するのが好まし
い。R3〜R8がアラルキル基の場合、R3〜R8は特
に7〜12個の炭素原子を有するフエニルアルキル
基であるのが好ましい。 数値nは1〜12、特に1〜6であるのが好まし
い。R9がアルキル基の場合、R9は1〜12個、特
に1〜6個の炭素原子を有するのが好ましく、シ
クロアルキル基の場合は5又は6個の環形成炭素
原子を有するのが好ましい。R9がアリール基の
場合、R9はフエニル基が好ましく、アルカリー
ル基の場合はC7〜C12アルキルフエニル基が好ま
しい。R9がアラルキル基の場合、R9はC7〜C12
エニルアルキル基が好ましく、アルカラルキル基
の場合はC8〜C12アルキルフエニルアルキル基が
好ましい。R9が金属カチオンの場合、そのカチ
オンはアルカリ金属及びアルカリ土類金属類、例
えばMg,Ca,K及び特にNaから選ぶのが好ま
しい。 R10及びR11がアルキル基の場合、R10及びR11
は1〜12個、特に1〜6個の炭素原子を有するの
が好ましい。R10及びR11がシクロアルキル基の
場合は5〜6個の環形成炭素原子を有するのが好
ましい。Zがアルキル基の場合、Zは1〜12個、
特に1〜6個の炭素原子を有するのが好ましい。 アルキル基、アルコキシ基及びアルキルチオ基
の例としてはメチル基、エチル基、n−プロピル
基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル
基、t−ブチル基、1−,2−もしくは3−ペン
チル基、1−,2−もしくは3−ヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキ
サデシル基又はオクタデシル基並びに相当するア
ルコキシ基及びアルキルチオ基がある。 シクロアルキル基の例としてはシクロペンチル
基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基
及びメチルシクロヘキシル基がある。 アルケニル基の例としてはアリル基及び1−プ
ロペニル基がある。 アリール基、アラルキル基、アリカリール基及
びアルカラルキル基の例としてはフエニル基、ベ
ンジル基、2−フエニルエチル基、メチルフエニ
ル基、エチルフエニル基及びメチルベンジル基が
ある。 前記式の化合物の中のある物は公知である。
式の化合物のうち新規のものは公知の方法、例
えばアントラセン又は置換基を有するアントラセ
ン類にフリーデル−クラフツアルキル化反応を行
なうことによつて得ることができる。 増感剤の例としてはペリレン、3,4−ベンゾ
ピレン、1,12−ベンゾペリレン、ピレン、ペン
タフエン、1,2−ベンゾピレン、フルオロアン
スレン、1,2−ベンゾクリセン、1−アミノナ
フタレン、コロネン、1−ニトロナフタレン、
3,4−ベンゾフルオレン、2,2′−ビナフチ
ル、1−ナフトアルデヒド、5,6−ベンゾクリ
セン、1−アセチルナフタレン、3,4,5,6
−ジベンゾフエナントレン、クリセン、1,2及
び2,3−ベンゾフルオレン、1−ベンゾイルナ
フタレン、1−ナフトニトリル、ナフタレン−1
−カルボン酸、1,2,6,7−ジベンゾピレ
ン、9−アセチルフエナントレン、1−ナフトー
ル、1−ヨードナフタレン、2−フエニルナフタ
レン、3,4−ベンゾフエナントレン、3−アセ
チルフエナントレン、1−ブロモナフタレン、1
−クロロナフタレン、2−ナフトニトリル、アセ
ナフテン、2−ナフトアルデヒド、ナフタレン−
2−カルボン酸、2−アセチルナフタレン、2−
ベンゾナフタレン、1−メチルナフタレン、1−
メトキシナフタレン、1−フルオロナフタレン、
2−ヨードナフタレン、2−ブロモナフタレン、
2−クロロナフタレン、2−ナフトール、2−メ
チルナフタレン、ナフタレン、フエナントレン、
アントラキノン、トリフエニレン、4−ベンゾイ
ルピリジン、2−ベンゾイルピリジン、フルオレ
ン、3−ベンゾイルピリジン、カルバゾール、4
−アセチルピリジン、4−メトキシベンズアルデ
ヒド、4−メチルベンズアルデヒド、ベンズアル
デヒド、アントロン、1−テトラロン、4−フエ
ニルアセトフエノン、3,4−メチレンジオキシ
アセトフエノン、4−シアノアセトフエノン、α
−クロロアセトフエノン、3,4,5−トリメチ
ルアセトフエノン、3,5−ジメチルアセトフエ
ノン、4−ブロモアセトフエノン、4−メトキシ
アセトフエノン、3,4−ジメチルアセトフエノ
ン、トリフエニルメチルアセトフエノン、4−ク
ロロアセトフエノン、4−トリフルオロメチルア
セトフエノン、2,4,6−トリメチルアセトフ
エノン、3−メトキシアセトフエノン、3−メチ
ルアセトフエノン、3−ブロモアセトフエノン、
4−メチルアセトフエノン、3−シアノアセトフ
エノン、3−トリフルオロメチルアセトフエノ
ン、アセトフエノン、アリルアセトフエノン、ベ
ンゾフエノン、4−フエニルベンゾフエノン、
4,4′−ビスジメチルアミノベンゾフエノン、4
−シアノベンゾフエノン、4,4′−ジクロロベン
ゾフエノン、4−トリフルオロメチルベンゾフエ
ノン、3−メトキシベンゾフエノン、4−クロロ
ベンゾフエノン、3−クロロベンゾフエノン、
4,4′−ジブロモベンゾフエノン、4−メトキシ
ベンゾフエノン、3,4−ジメチルベンゾフエノ
ン、4−メチルベンゾフエノン、2−メチルベン
ゾフエノン、4,4′−ジメチルベンゾフエノン、
2,5−ジメチルベンゾフエノン、2,4−ジメ
チルベンゾフエノン、4−フルオロベンゾフエノ
ン、オルトベンジルベンゾフエノン、4,4′−ジ
メトキシベンゾフエノン、2−フエニルブチロフ
エノン、β−フエニルプライオフエノン、プロピ
オフエノン、バレロフエノン、ブチロフエノン、
ベンジル、トランス−スチルベン、シス−スチル
ベン、ジフエニルテトラアセチレン、テトラアセ
チレン、グリコール、ジエチルテトラアセチレ
ン、ジフエニルアセチレン、キサントン、チオキ
サントン、2−イソプロピルチオキサントン、2
−クロロチオキサントン、2−ドデシルチオキサ
ントン、1−メトキシカルボニルチオキサント
ン、2−エトキシカルボニルチオキサントン、3
−(n−メトキシエトキシカルボニル)チオキサ
ントン、4−ブトキシカルボニルチオキサント
ン、1−シアノ−3−クロロチオキサントン、2
−エトキシカルボニル−3−ニトロチオキサント
ン、アントラセン、1−クロロアントラセン、2
−メチルアントラセン、9−メチルアントラセ
ン、2−tert−ブチルアントラセン、9−メトキ
シアントラセン、9,10−ジメトキシアントラセ
ン、2,6−又は2,7−ジメチルアントラセ
ン、2,6−又は2,7−tert−ブチルアントラ
セン、2−(メトキシカルボニルメチル)アント
ラセン、2−(5−メトキシカルボニル−2−メ
チルペント−2−イル)アントラセン、2,6−
又は2,7−ジ(5−メトキシカルボニル−2−
メチルペント−2−イル)アントラセン、1,2
−ベンゾアントラセン、1,2,3,4−ジベン
ゾアントラセン、1,2,5,6−ジベンゾアン
トラセン、1,2,7,8−ジベンゾアントラセ
ン、3−チオフエニルフタルイミド、N−メチル
−4−チオフエニルフタルイミド、2,3−ブタ
ンジオンがある。 カチオン重合によつて重合可能な、本発明によ
る硬化可能な組成物に適する有機物質の例は次の
種類のものであり、これらの物はそれ自身で使用
することも又は少なくとも2成分の混合物として
使用することも可能である。 カチオン機構によつて重合可能なエチレン性
不飽和化合物。これらの化合物は次の物を含
む: 1 モノオレフイン類及びジオレフイン類、例
えば、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニ
ルベンセン類、N−ビニルピロリドン、N−
ビニルカルバゾール及びアクロレイン。 2 ビニルエーテル類、例えば、メチルビニル
エーテル、イソブチルビニルエーテル、トリ
メチロールプロパントリビニルエーテル及び
エチレングリコールジビニルエーテル;並び
に環状ビニルエーテル、例えば、3,4−ジ
ハイドロ−2−ホルミル−2H−ピラン(ア
クロレイン二量体)及び2−ヒドロキシメチ
ル−3,4−ジヒドロ−2H−ピランの3,
4−ジヒドロ−2H−ピラン−2−カルボン
酸エステル。 3 ビニルエステル類、例えば、酢酸ビニル及
びステアリン酸ビニル。 カチオン重合によつて重合可能な複素環式化
合物:例えば、エチレンオキサイド、プロピレ
ンオキサイド、エピクロロヒドリン、一価アル
コール類又はフエノール類のグリシジルエーテ
ル、例えばn−ブチルグリシジルエーテル、n
−オクチルグリシジルエーテル、フエニルグリ
シジルエーテル及びクレシルグリシジルエーテ
ル;アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリ
シジル、スチレンオキサイド及びシクロヘキセ
ンオキサイド;3,3−ジメチルオキセタン及
び3,3−ジ(クロロメチル)オキセタンのよ
うなオキセタン類;テトラヒドロフラン;ジオ
キソラン類、トリオキサン及び1,3,6−ト
リオキサシクロオクタン;β−プロピオラクト
ン、γ−バレロラクトン及びε−カプロラクト
ンのようなラクトン類;エチレンスルフイド及
びプロピレンスルフイドのようなチイラン類;
N−アシルアゼチジン類、例えばN−ベンゾイ
ルアゼチジン、並びにアゼチジンの例えばトル
イレン−2,4−ジイソシアナート、トルイレ
ン−2,6−ジイソシアナートまたは4,4′−
ジアミノジフエニルメタンジイソシアナートの
ようなジイソシアナート付加物類のようなアゼ
チジン類;エポキシ樹脂類;並びに側鎖にグリ
シジル基を有する直鎖又は分岐鎖重合体類、例
えばアクリル酸又はメタクリル酸のグリシジル
エステルの単独重合体又は共重合体。 これら上記の重合可能な化合物類の中で特に
重要な物はエポキシ樹脂類、特にジエポキシド
類及びポリエポキシド類並びに架橋エポキシ樹
脂を製造するのに使用するタイプのエポキシ樹
脂プレポリマーである。ジエポキシド類及びポ
リエポキシド類は脂肪族、脂環族及び芳香族化
合物であり得る。そのような化合物の例として
は脂肪族又は脂環族ジオール類又はポリオール
類のグリシジルエーテル及びβ−メチルグリシ
ジルエーテル、例えばエチレングリコール、プ
ロパン−1,2−ジオール、プロパン−1,3
−ジオール、ブタン−1,4−ジオール、ジエ
チレングリコール、ポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール、グリセロール、ト
リメチロールプロパンもしくは1,4−ジメチ
ロールシクロヘキサン又は2,2ビス(4−ヒ
ドロキシシクロヘキシル)プロパン及びN,N
−ビス(2−ヒドロキシエチル)アニリンの上
記エーテル;並びにジフエノール類及びポリフ
エノール類、例えばレソルシノール、4,4′−
ジヒドロキシジフエニルメタン、4,4′−ジヒ
ドロキシジフエニル−2,2−プロパン、ノボ
ラツク類及び1,1,2,2−テトラキス(4
−ヒドロキシフエニル)エタンのグリシジルエ
ーテルがある。さらにこれらの例としてはN−
グリシジル化合物類、例えばエチレン尿素、
1,3−プロピレン尿素、5−ジメチルヒダン
トインもしくは4,4′−メチレン−5,5′−テ
トラメチルジヒダントインのジグリシジル化合
物類又はイソシアヌル類トリグリシジルのよう
な物がある。 工業的に重要な他のグリシジル化合物類はカ
ルボン酸、特にジカルボン酸及びポリカルボン
酸のグリシジルエステルである。これらの例と
してはコハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、
セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、テトラ
ヒドロ及びヘキサヒドロフタル酸、イソフタル
酸もしくはトリメリト酸、又は脂肪酸二量体の
グリシジルエステルがある。 グリシジル化合物以外のポリエポキシド類の
例としてはビニルシクロヘキセン及びジシクロ
ペンタジエンのジエポキシド、3−(3′,4′−
エポキシシクロヘキシル)−8,9−エポキシ
−2,4−ジオキサスピロ〔5,5〕ウンデカ
ン、3,4−エポキシシクロヘキサンカルボン
酸の3′,4′−エポキシシクロヘキシルメチルエ
ステル、ブタジエンジエポキシドもしくはイソ
プレンジエポキシド、エポキシ化リノール酸誘
導体類又はエポキシ化ポリブタジエンがある。 好ましいエポキシ樹脂類は二価フエノール類
又は2〜4個の炭素原子を有する二価脂肪族ア
ルコール類のジグリシジルエーテル(あらかじ
め長鎖にしても又はしなくても良い)である。
特に好ましいものは2,2−ビス(2−ヒドロ
キシフエニル)プロパン及びビス(4−ヒドロ
キシフエニル)メタンのジグリシジルエーテル
(あらかじめ長鎖にしても又はしなくても良い)
である。 次の化合物もカチオン重合によつて重合可能
な化合物として適している。 メチロール系化合物: 1 アミド類又は関連化合物、例えばエチレン
尿素(イミダゾリジン−2−オン)、ヒダン
トイン、ウロン(テトラヒドロオキサジアジ
ン−4−オン)、1,2−プロピレン尿素
(4−メチルイミダゾリジン−2−オン)、
1,3−プロピレン尿素(ヘキサヒドロ−
2H−ピリミジン−2−オン)、ヒドロキシプ
ロピレン尿素(5−ヒドロキシヘキサヒドロ
−2H−ピリミジン−2−オン)、1,3,5
−メラミン並びにアセトグアミン、ベンゾグ
アナミン及びアジポグアナミンのような他の
ポリトリアジン類のような環状尿素類のN−
ヒドロキシメチル、N−メトキシメチル、N
−n−ブトキシメチル及びN−アセトキシメ
チル誘導体のようなアミノプラスツ類。 所望ならば、N−ヒドロキシメチル及びN
−アルコキシメチルの両基又はN−ヒドロキ
シメチル及びN−アセトキシメチルの両基
(例えば1〜3個の水酸基がメチル基でエー
テル化されているヘキサメチロールメラミ
ン)を有するアミノプラスツ類を使用するこ
とも可能である。 好ましいアミノプラスツ類は尿素、ウロ
ン、ヒダントイン又はメラミンのホルムアル
デヒドとの縮合物及びこれら縮合物を1〜4
個の炭素原子を有する脂肪族一価アルコール
で部分又は完全にエーテル化した生成物であ
る。 2 フエノプラスツ類 好ましいフエノプラスツ類はフエノールとアル
デヒドから製造されたレゾール類である。適切な
フエノール類としてはフエノール自身、レソルシ
ノール、2,2−ビス(p−ヒドロキシフエニ
ル)プロパン、p−クロロフエノール、オルト
ー、メタ−及びパラ−クレゾールのようなそれぞ
れ1〜9個の炭素原子を有する1〜2個のアルキ
ル基によつて置換されたフエノール、キシレノー
ル類、パラ−tert−ブチルフエノール及びパラ−
ノニルフエノール並びにフエニル基置換フエノー
ル類、特にパラ−フエニルフエノールを含む。フ
エノールと縮合されるアルデヒドとしてはホルム
アルデヒドが好ましいが、アセトアルデヒド及び
フルフロールのような他のアルデヒド類も可能で
ある。所望ならば、これらの種類の硬化可能なフ
エノール/アルデヒド樹脂の混合物が使用でき
る。 好ましいレゾール類はフエノール、パラ−クロ
ロフエノール、レソルシノール又はオルト−、メ
タ−もしくはパラ−クレゾールのホルムアルデヒ
ドとの縮合物である。 遊離基重合によつて重合可能な有機物質として
適しているのは特にモノエチレン性又は多エチレ
ン性不飽和化合物である。それらの例としてはス
チレン、ビニルピリジン、酢酸ビニル、ジビニル
ベンゼン、ビニルエーテル、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、ビスアクリルアミド、ビスメタ
クリルアミド又は不飽和ポリエステル類、特にマ
レイン酸をベースとするものがある。好ましい物
質はアクリル酸及び/又はメタクリル酸の直鎖又
は分岐鎖一価アルコール類もしくはポリオール類
もしくはモノアミン類もしくはポリアミン類との
それぞれエステル又はアミドである。部分エステ
ル及びアミドもポリオール類及びポリアミン類と
の場合に使用できる。 ポリアミン類の例としてはエチレンジアミン、
プロピレンジアミン、ブチレンジアミン、ヘキシ
レンジアミン、フエニレンジアミン、ベンジレン
ジアミン、ナフチレンジアミン、ジエチレントリ
アミン、トリエチレンテトラミン及びジアミノエ
チルエーテルがある。ポリオール類の例としては
エチレンジオール、プロピレンジオール、ブチレ
ンジオール、ペンチレンジオール、ヘキシレンジ
オール及びオクチレンジオールのような直鎖又は
分岐鎖アルキレンジオール類、ジエチレングリコ
ール及びトリエチレングリコール並びに200〜500
の分子量を有するポリエチレングリコールのよう
なポリオキサアルキレンジオール類、1,4−ジ
ヒドロキシシクロヘキサン、1,4−ジ(ヒドロ
キシメチル)シクロヘキサン、ジヒドロキシベン
ゼン類、ヒドロキシメチルフエノール類、1,
2,3−トリヒドロキシプロパン、1,2,4−
トリヒドロキシブタン及びトリメチロールプロパ
ンのようなトリオール類、ペンタエリトリトー
ル、ジペンタエリトリトール並びに複数個の末端
水酸基を有する低分子量ポリエステルがある。 一価アルコール類及びモノアミン類としての適
した例はメタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、
ヘプタノール、オクタノール、2−エチルヘキサ
ノール、シクロヘキサノール、フエノール、グリ
シドール、メチルアミン、ジメチルアミン及びエ
チルアミンである。 遊離基重合によつて重合可能な好ましい有機物
質はエポキシ樹脂類とアクリル酸、メタクリル酸
又はこれらの酸の混合物との部分エステル並びに
ポリオール類のアクリル酸エステル及び/又はメ
タクリル酸エステルである。 本発明による硬化可能な組成物は、例えば、均
一混合液又は均一もしくは不均一なガラス状で得
ることができる。均一なガラス状生成物はそれ自
身公知の方法、例えば、必要ならば適当な溶媒を
添加して固体の重合可能な有機物質を液化し、暗
所で又はレツドライト(red light)下にそれら
のガラス転位温度以上の温度に加熱し、成分b及
びc並びに必要ならばdを添加し、生成混合物を
冷却することによつて得ることができる。所望に
より、ガラス状生成物をそれから粉砕することも
可能である。不均一なガラス生成物は、例えば、
成分b及びc並びに必要ならばdと、粉末状でガ
ラス状の重合可能な物質とを混合することによつ
て得ることができる。 本発明による組成物は安定であるので、室温及
びイエローライト(yellow light)条件下で貯蔵
することが可能である。これらの組成物は有利に
は成分b及びc並びに必要により添加する成分d
の融点又は分解点に近い温度における加熱によつ
て直接硬化できる。400nm以下の波長の範囲の光
を吸収する増感剤の場合は、本組成物は高感光性
を有するにもかかわらずイエローライトに安定で
ある。 成分dを含む本発明による組成物の主要な利点
は放射線の作用によつて硬化でき、完全な硬化が
その反応熱によつて大体行なわれ、外部加熱が不
必要なことである。しかしながら、例えばより短
い反応時間を望む場合、露光後に外熱を付与する
ことも時には有利である。 従つて本発明は放射線の作用下、光重合開始剤
の存在下並びに必要ならば加熱して遊離基又はカ
チオン重合することによる重合可能な有機物質の
重合方法にも関し、その際前記光重合開始剤はa
下記式から成る少なくとも1種の鉄化合物 〔(R1)(R2Fe〓)a+aa/q(LQn-q……() (但し、aは1又は2、qは1,2又は3、L
は2価〜7価の金属又は非金属、Qはハロゲン原
子、mはLの原子価とqの値の総和に相当する整
数、R1は置換基を有するか又は有しないη6−ベ
ンゼン及びR2は置換基を有するか又は有しない
シクロペンタジエニルアニオンである)、 b 前記式の化合物のための少なくとも1種の
増感剤及びc酸化剤としての少なくとも1種の
電子受容体から成る混合物であり、そして必要
ならば、加熱することによつて前記重合反応は
さらに完全なものとされるものである。 これらの硬化可能な混合物は好ましくは200
〜600nmの波長及び150〜5000ワツトの強度を
有する電子線又は電磁放射線で照射されるのが
有利である。光源として適した例としてはキセ
ノンランプ、アルゴンランプ、タングステンラ
ンプ、炭素アーク灯、メタルハライドランプ並
びに低圧、中圧及び高圧水銀放電ランプのよう
な金属アーク灯がある。照射はメタルハライド
ランプ又は高圧水銀放電ランプで行なうのが好
ましい。その照射時間は、例えば、重合可能な
有機物質、光源の種類及び照射される物質から
の光源の距離を含める種々の因子に依存する。
照射時間は10〜60秒が好ましい。 露光された組成物は通常の対流式オーブン中
で加熱できる。短い加熱又は反応時間を必要と
する場合に、その加熱を、例えば赤外線照射、
赤外線レーザ又はマイクロ波装置で露光するこ
とによつて行なうことができる。重合温度は室
温から約80℃の範囲である。 本発明による組成物は光重合可能な物質に関
する技術に通常使用される他の公知の添加剤も
含むことができる。これらの添加剤の例として
は顔料、染料、充填材及び補強材、ガラス繊維
及び他の繊維、難燃剤、帯電防止剤、流れ調整
剤、酸化防止剤及び光安定剤並びにアセトフエ
ノン類、アシルホスフインオキシド類又は芳香
族ケトン類のような通常の光重合開始剤があ
る。エポキシ樹脂の最終的な性質を改良するた
めに、多官能性ヒドロキシル化合物類、例えば
西独国公開公報第2639395号に記載されたもの
を配合することが可能である。 暗所での貯蔵安定性を増加するために、前記
硬化可能な組成物はニトリル類、アミド類、ラ
クトン類又は尿素誘導体類のような有機性弱塩
基類を含有することができる。過失に基づく露
光による事前の反応を防止するために、少量の
紫外線吸収剤及び/又は有機染料を添加でき
る。 本発明による組成物は基材の少なくとも一表
面に通常の方法によつて塗布できる。被覆され
た基材も本発明の一主題を構成する。適切な基
材の例としてはスチール、アルミニウム、銅、
カドミウム、亜鉛、ケイ素等の金属及び半金属
並びにセラミツク、ガラス、プラスチツク、
紙、及び木材がある。被覆された基材は露光に
よつて保護層及び不活性層を形成するのに使用
でき、このことは本発明のさらに別の主題を構
成する。 露光に際し、被覆の一部だけがホトマスクを
介して照射される場合、未露光部分は適当な溶
媒でその後除去できる。従つて、被覆された基
材は印刷版、特にプリント回路の製造用の写真
記録材料としても及びソルダーレジストとして
も適している。写真記録材料としての用途も本
発明の一主題を構成する。 カチオン重合によつて重合可能な物質を含有
し、酸化剤dを少しも含まない本発明による組
成物は特許文献EP−A−O−第094915号に記
載された方法によつて硬化できる。これらの組
成物は熱の作用によつて直接硬化可能である。
式の鉄錯体を照射によつて最初に活性化し、
その結果生じる活性化された前駆体を次に熱、
例えば約50〜120℃の温度の作用によつて硬化
する二段階重合方法が好ましい。照射をホトマ
スクを介して行なう場合、写真像を得ることが
できる。照射時間は約5〜60秒の間であり、熱
硬化時間は約30秒〜5分の間である。本発明に
よるこれらの組成物は高感度であることを特徴
とする。 本発明による組成物は接着剤又はパテ、充填
材又は繊維強化複合体及び積層体の製造用とし
ても使用可能である。 本発明による組成物は高感度を有するので硬
化工程における露光時間が短いということも意
味する。カチオン性作用及び遊離基作用を有す
る開始剤が露光に際し同時に発生し、その結果
使用しうる重合可能な物質の範囲を拡大する。
酸化剤が露光後にのみ活性になり、照射によつ
て硬化を可能にすることは更に驚くべきことで
ある。硬化が放射線の作用により、一般に外部
からの加熱なしに行なわれることは非常に有利
である。 〔実施例〕 以下の実施例はさらに詳細に本発明を説明す
る。 実施例 a (η6−トルエン)(η5−シクロペンタジエニル)
鉄()ヘキサフルオロリン酸塩を“Bull.Soc.
Chim.フランス,2572頁(1975年)”に従つて製
造した。 実施例 b (η6−アニソール)(η5−シクロペンタジエニ
ル)鉄()ヘキサフルオロリン酸塩を“Dokl.
Akad.Nauk SSSR,175609頁(1967年)”に従
つて製造した。 実施例 c (η6−p−ジメトキシベンゼン、)(η5−シクロ
ペンタジエニル)鉄()テトラフルオロホウ酸
塩を“J.Chem.Soc.C,116頁(1969年)”に従つ
て製造した。 実施例 d (η6−p−クロロトルエン)(η5−シクロペン
タジエニル)鉄()ヘキサフルオロリン酸塩を
“J.Organomet.Chem.20169頁(1969年)”に従つ
て製造した。 実施例 e (η6−イソプロピルベンゼン)(η5−シクロペ
ンタジエニル)鉄()ヘキサフルオロリン酸塩
を“C.R.Acad.Sc.パリ,Ser.C,2721337頁
(1971年)”に従つて製造した。 実施例 f (η6−イソプロピルベンゼン)(η5−シクロペ
ンタジエニル)鉄()ヘキサフルオロアンチモ
ン酸塩を、ヘキサフルオロアンチモン酸カリウム
を使用する以外は実施例eに従つて製造した。 実施例 g (η6−イソプロピルベンゼン)(η5−シクロペ
ンタジエニル)鉄()ヘキサフルオロヒ酸塩
を、ヘキサフルオロヒ酸カリウムを使用する以外
は実施例eに従つて製造した。 実施例 h (η6−ビフエニル)(η5−シクロペンタジエニ
ル)鉄()ヘキサフルオロリン酸塩を“J.
Chem.Soc.Chem.Comm.907頁(1972年)”に従つ
て製造した。 実施例 i (η6−テトラリン)(η5−シクロペンタジエニ
ル)鉄()ヘキサフルオロリン酸塩を“I.
Organomet.chem.101221頁(1975年)”に従つて
製造した。 使用実施例 実施例 1 10gの工業用エポキシクレゾールノボラツク
(エポキシ含量4.5当量/Kg)、0.25g(7×10-4
ル)のη6−トルエン)(η5−シクロペンタジエニ
ル)鉄()ヘキサフルオロリン酸塩(実施例a
によつて製造したもの)、0.25g(1.3×10-3モル)
の9−メチルアントラセン及び4gの1−アセト
キシ−2−エトキシエタンから成る溶液を25ミク
ロンのワイヤードクターで銅を被覆したエポキシ
板に塗布した。そのはじめは湿つているフイルム
を80℃で乾燥した。(乾燥フイルムの厚さ約15ミ
クロン)。この様にして製造した光重合性板を試
料台から50cmの距離にある5000ワツトの高圧水銀
放電ランプで露光した。21段階ストフア
(Stouffer)感度ガイドをパターン(W.S.デホレ
スト,ホトレジスト、マグローヒル出版社、ニユ
ーヨーク州、109頁以降参照)として使用した。
露光時間は30秒であり、次いで露光された板を
110℃で2分間硬化した。1−アセトキシ−2−
エトキシエタンで現像し、未露光部分を溶解し
た。この結果リレーフ像を得た。像を形成する最
終段階は第5段階であつた。 実施例 2〜14 実施例1の手順を別の開始剤及び増感剤を用い
て続けた。 その結果を表−1にまとめて示す。開始剤(ア
レン−フエロセニウム錯体)はエポキシクレゾー
ルノボラツクをベースにして常に2.5重量%であ
り、対応する増感剤濃度はエポキシクレゾールノ
ボラツクをベースにして常に1.3ミリモルであつ
た。露光は各列において10、20及び30秒間行なつ
た。
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 a エポキシ樹脂、 b 下記式から成る少なくとも1種の鉄化合物 〔(R1)(R2Fe〓)a〕+aa/qLQm)-q ……() (但し、aは1又は2、qは1,2又は3、
    Lは2価〜7価の金属又は非金属、Qはハロゲ
    ン原子、mはLの原子価とqの値の総和に相当
    する整数、R1は置換基を有するか又は有しな
    いη6−ベンゼン及びR2は置換基を有するか又
    は有しないシクロペンタジエニルアニオンであ
    る)、及び c 前記式の化合物のための少なくとも1種の
    増感剤を含有することを特徴とする組成物。 2 a エポキシ樹脂、 b 下記式から成る少なくとも1種の鉄化合物 〔(R1)(R2Fe〓)a〕+aa/qLQm)-q ……() (但し、aは1又は2、qは1,2又は3、
    Lは2価〜7価の金属又は非金属、Qはハロゲ
    ン原子、mはLの原子価とqの値の総和に相当
    する整数、R1は置換基を有するか又は有しな
    いη6−ベンゼン及びR2は置換基を有するか又
    は有しないシクロペンタジエニルアニオンであ
    る)、 c 前記式の化合物のための少なくとも1種の
    増感剤及び d 前記エポキシ樹脂の酸化剤としての電子受容
    体を含有することを特徴とする組成物。 3 前記鉄化合物b、又は前記鉄化合物b及び酸
    化剤dが成分aをベースにして0.1重量%〜15重
    量%の量で存在する特許請求の範囲第2項記載の
    組成物。 4 前記鉄化合物bと前記酸化剤dとの重量比が
    1:10〜5:1である特許請求の範囲第3項記載
    の組成物。 5 前記増感剤cが前記エポキシ樹脂の量の0.1
    重量〜10重量%存在する特許請求の範囲第1項記
    載の組成物。 6 R1が同一又は異なるハロゲン原子もしくは
    C1〜C12アルキル基、C2〜C12アルケニル基、C2
    〜C12アルキニル基、C1〜C8アルコキシ基、シア
    ノ基、C1〜C8アルキルチオ基、C2〜C6モノカル
    ボン酸エステル基、フエニル基、C2〜C5アルカ
    ノイル基又はベンゾイル基によつて単置換又は多
    置換されているη6-ベンゼンである特許請求の範
    囲第1項記載の組成物。 7 R2が同一又は異なる、C1〜C8アルキル基、
    C2〜C8アルケニル基、C2〜C8アルキニル基、C2
    〜C6モノカルボン酸エステル基、シアノ基、C2
    〜C5アルカノイル基又はベンゾイル基によつて
    単置換又は多置換されているシクロペンタジエニ
    ルアニオンである特許請求の範囲第1項記載の組
    成物。 8 式においてaが1である特許請求の範囲第
    1項記載の組成物。 9 式においてmが6、LがB,P,As又は
    Sb、QがF及びqが1である特許請求の範囲第
    1項記載の組成物。 10 式においてR1がベンゼン、トルエン、
    キシレン、クメン、メシチレン、クロロベンゼ
    ン、クロロトルエン、アニソール、ジメトキシベ
    ンゼン、ビフエニル、ドデシルベンゼン又はテト
    ラリンである特許請求の範囲第1項記載の組成
    物。 11 式においてR2がシクロペンタジエニル
    又はメチルシクロペンタジエニルアニオンである
    特許請求の範囲第1項記載の組成物。 12 前記酸化剤dが有機ヒドロペルオキシド、
    有機過酸又はキノンである特許請求の範囲第2項
    記載の組成物。 13 前記酸化剤dがtert−ブチルヒドロペルオ
    キシド、クメンヒドロオキシド、トリフエニルメ
    チルヒドロペルオキシド、テトラリンヒドロペル
    オキシド、α−メチルテトラリンヒドロベルオキ
    シド、デカリンヒドロペルオキシド、過安息香
    酸、m−クロロ過安息香酸又はベンゾキノンであ
    る特許請求の範囲第12項記載の組成物。 14 前記増感剤cを単環式もしくは多環式の、
    芳香族又は複素環芳香族炭化水素類、アセトフエ
    ノン及びベンゾフエノンを含むフエノン類ベンジ
    ル類、スチルベン類、ポリアセチレン類、キサン
    トン類及びチオキサントン類、アントラセン類、
    フタルイミド類及びフタルイミドチオエーテル
    類、並びに隣接しているCO基を有するジオン類
    から成る群から選ぶ特許請求の範囲第1項記載の
    組成物。 15 前記増感剤cがチオキサントン、フタルイ
    ミド、クマリン又は、アントラセンである特許請
    求の範囲第14項記載の組成物。 16 a エポキシ樹脂、 b 下記式から成る少なくとも1種の鉄化合物 〔(R1)(R2Fe〓)a〕+aa/qLQm)-q ……() (但し、aは1又は2、qは1,2又は3、
    Lは2価〜7価の金属又は非金属、Qはハロゲ
    ン原子、mはLの原子価とqの値の総和に相当
    する整数、R1は置換基を有するか又は有しな
    いη6−ベンゼン及びR2は置換基を有するか又
    は有しないシクロペンタジエニルアニオンであ
    る)、及び c 前記式の化合物のための少なくとも1種の
    増感剤を含有する組成物を層として基材に塗布
    し、ホトマスクを介して放射線を照射し、もし
    必要ならば加熱し、次いで未露光部を現像液で
    除去することを特徴とする写真レリーフ像の形
    成方法。
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