JPH054157A - 球体加工方法および装置 - Google Patents
球体加工方法および装置Info
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- JPH054157A JPH054157A JP3949391A JP3949391A JPH054157A JP H054157 A JPH054157 A JP H054157A JP 3949391 A JP3949391 A JP 3949391A JP 3949391 A JP3949391 A JP 3949391A JP H054157 A JPH054157 A JP H054157A
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- JP
- Japan
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- polishing tool
- holder
- peripheral surface
- outer peripheral
- fluid
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Landscapes
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 多種少量の球体の被加工物を高精度に加工す
る。 【構成】 円形の研磨工具10を回転自在に設け、研磨
工具10の外周面11に対して、ホルダ15を接近離反
自在にかつ研磨工具10の外周面11に平行自在に設け
る。ホルダ15は、外周面11上で球状被加工物12を
転動自在に保持し、研磨工具10の回転軸13と直角な
回転軸14回りに回転する。ホルダ15には、ホルダ1
5内に保持した被加工物12を外周面11に押圧する流
体16の流体供給孔17を設ける。被加工物12は、流
体16を媒体にホルダ15の回転方向に回転する。ま
た、被加工物12は、流体16で外周面11に押し付け
られて研磨工具の回転方向と反対に回転する。被加工物
は、両回転の合成により外周面11上であらゆる方向に
転動し、加工される。
る。 【構成】 円形の研磨工具10を回転自在に設け、研磨
工具10の外周面11に対して、ホルダ15を接近離反
自在にかつ研磨工具10の外周面11に平行自在に設け
る。ホルダ15は、外周面11上で球状被加工物12を
転動自在に保持し、研磨工具10の回転軸13と直角な
回転軸14回りに回転する。ホルダ15には、ホルダ1
5内に保持した被加工物12を外周面11に押圧する流
体16の流体供給孔17を設ける。被加工物12は、流
体16を媒体にホルダ15の回転方向に回転する。ま
た、被加工物12は、流体16で外周面11に押し付け
られて研磨工具の回転方向と反対に回転する。被加工物
は、両回転の合成により外周面11上であらゆる方向に
転動し、加工される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、球状光学素子,鋼球,
セラミックボール等の球体を加工する球体加工方法およ
びその装置に関する。
セラミックボール等の球体を加工する球体加工方法およ
びその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、球体の被加工物を加工する方法お
よび装置としては、例えば、特開昭61−192472
号公報に開示されている。図6および図7は、上記公報
に開示された球体加工装置の要部を示すもので、図6
は、中央縦断面図,図7は、図6にて示すA−A線方向
から見た平面図である。
よび装置としては、例えば、特開昭61−192472
号公報に開示されている。図6および図7は、上記公報
に開示された球体加工装置の要部を示すもので、図6
は、中央縦断面図,図7は、図6にて示すA−A線方向
から見た平面図である。
【0003】上記球体加工装置には、円板状下ラップ盤
1と下ラップ盤1に対し接近・離反自在な円板状上ラッ
プ盤2が、同一回転軸線3で回転自在に対向して上下方
向に設けられている。上記下ラップ盤1の下面および上
ラップ盤2の上面には、それぞれ回転駆動源に連結され
た下回転軸4および上回転軸5が回転軸線3上にそれぞ
れ固着されている。また、下ラップ盤1の上面には、1
本の円環状のV字状溝6が回転軸線3に対して偏心した
状態で刻設されており、このV字状溝6内に球体の被加
工物7が多数配置されるようになっている。さらに、下
ラップ盤1と上ラップ盤2との間には、加工の際に被加
工物7が互いに干渉し合うことを防ぎ、かつ被加工物7
の回転を良くするために、V字状溝6内に配置された多
数の被加工物7を等間隔で転動自在に保持する保持板8
が設けられている。
1と下ラップ盤1に対し接近・離反自在な円板状上ラッ
プ盤2が、同一回転軸線3で回転自在に対向して上下方
向に設けられている。上記下ラップ盤1の下面および上
ラップ盤2の上面には、それぞれ回転駆動源に連結され
た下回転軸4および上回転軸5が回転軸線3上にそれぞ
れ固着されている。また、下ラップ盤1の上面には、1
本の円環状のV字状溝6が回転軸線3に対して偏心した
状態で刻設されており、このV字状溝6内に球体の被加
工物7が多数配置されるようになっている。さらに、下
ラップ盤1と上ラップ盤2との間には、加工の際に被加
工物7が互いに干渉し合うことを防ぎ、かつ被加工物7
の回転を良くするために、V字状溝6内に配置された多
数の被加工物7を等間隔で転動自在に保持する保持板8
が設けられている。
【0004】次に、上記構成からなる球体加工装置の加
工方法を説明すると、まず、保持板8を介して多数の被
加工物7をV字状溝6内に等間隔で配置する。その後、
上ラップ盤2を下降させ、被加工物7をラップ盤1と上
ラップ盤2とにより狭圧する。次に、かかる状態で、上
下ラップ盤2,1をそれぞれ矢印方向に回転させる。こ
のとき被加工物7はV字状溝7内を転がりながら進み研
磨加工される。
工方法を説明すると、まず、保持板8を介して多数の被
加工物7をV字状溝6内に等間隔で配置する。その後、
上ラップ盤2を下降させ、被加工物7をラップ盤1と上
ラップ盤2とにより狭圧する。次に、かかる状態で、上
下ラップ盤2,1をそれぞれ矢印方向に回転させる。こ
のとき被加工物7はV字状溝7内を転がりながら進み研
磨加工される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の球
体加工方法および装置にあって、高精度に加工された球
体を得るには、被加工物7が、いかにV字状溝6内を良
く転がるかにあり、換言すれば、下ラップ盤1と上ラッ
プ盤2の間で被加工物7が干渉し合うことなく、平行か
つ円滑に回転するかにある。したがって、上記球体加工
装置では、下ラップ盤1と上ラップ盤2間の干渉がな
く、しかも平行に回転するための干渉材として、加工さ
れる被加工物7そのものがその役割を負っている。
体加工方法および装置にあって、高精度に加工された球
体を得るには、被加工物7が、いかにV字状溝6内を良
く転がるかにあり、換言すれば、下ラップ盤1と上ラッ
プ盤2の間で被加工物7が干渉し合うことなく、平行か
つ円滑に回転するかにある。したがって、上記球体加工
装置では、下ラップ盤1と上ラップ盤2間の干渉がな
く、しかも平行に回転するための干渉材として、加工さ
れる被加工物7そのものがその役割を負っている。
【0006】しかるに、従来の球体加工装置にあって
は、下ラップ盤1のV字状溝6は、回転軸線3に対して
偏心して形成されているため、被加工物7が、V字状溝
6の下ラップ盤1外周寄りの場所を通過する際と、下ラ
ップ盤1中心部寄りの場所を通過する際では、回転速度
等の違いから、被加工物7は、明らかに異なる転動をす
る。このため、V字状溝6は、場所によって異なった形
状に摩耗し、被加工物7の平行かつ円滑な回転を長期に
わたって持続することは困難で、被加工物7の高精度な
加工を長期間にわたって維持することは困難であった。
は、下ラップ盤1のV字状溝6は、回転軸線3に対して
偏心して形成されているため、被加工物7が、V字状溝
6の下ラップ盤1外周寄りの場所を通過する際と、下ラ
ップ盤1中心部寄りの場所を通過する際では、回転速度
等の違いから、被加工物7は、明らかに異なる転動をす
る。このため、V字状溝6は、場所によって異なった形
状に摩耗し、被加工物7の平行かつ円滑な回転を長期に
わたって持続することは困難で、被加工物7の高精度な
加工を長期間にわたって維持することは困難であった。
【0007】また、従来の球体加工方法および装置にあ
っては、多数個の被加工物7を同時に加工する必要があ
るとともに、同時に加工された球体は、全て同一球径に
加工されるため、多種少量の加工(生産)には対応でき
ない問題があった。
っては、多数個の被加工物7を同時に加工する必要があ
るとともに、同時に加工された球体は、全て同一球径に
加工されるため、多種少量の加工(生産)には対応でき
ない問題があった。
【0008】本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなさ
れたもので、必要とする球径かつ数量を長期間にわたっ
て高精度に加工し得る球体加工方法および装置を提供す
ることを目的とする。
れたもので、必要とする球径かつ数量を長期間にわたっ
て高精度に加工し得る球体加工方法および装置を提供す
ることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の球体加工方法は、図1の概念図に示すよう
に、回転自在な円形の研磨工具10の外周面11上に載
置された球状被加工物12を、研磨工具10の外周面1
1と、この研磨工具10の回転軸13に直角な回転軸1
4回りに回転自在なホルダ15との間で被加工物12を
保持した後、その被加工物12を流体16により研磨工
具10の外周面11に押圧しつつ、研磨工具10および
ホルダ15をそれぞれ回転させて被加工物12を研磨工
具10の外周面11上で転動させながら加工するもので
ある。
に、本発明の球体加工方法は、図1の概念図に示すよう
に、回転自在な円形の研磨工具10の外周面11上に載
置された球状被加工物12を、研磨工具10の外周面1
1と、この研磨工具10の回転軸13に直角な回転軸1
4回りに回転自在なホルダ15との間で被加工物12を
保持した後、その被加工物12を流体16により研磨工
具10の外周面11に押圧しつつ、研磨工具10および
ホルダ15をそれぞれ回転させて被加工物12を研磨工
具10の外周面11上で転動させながら加工するもので
ある。
【0010】また、本発明の球体加工装置は、回転自在
に設けた円形の研磨工具10の外周面11に対して、ホ
ルダ15が接近離反自在でかつ研磨工具10の回転軸1
3に平行移動自在に設けられている。ホルダ15は、研
磨工具10の外周面11上において球状被加工物12を
転動自在に保持するとともに、研磨工具10の回転軸1
3と直角な回転軸14回りに回転自在に設けられてい
る。また、ホルダ15には、ホルダ15内に保持した被
加工物12を研磨工具10の外周面11に押圧するため
の流体16の流体供給孔17が形成されている。
に設けた円形の研磨工具10の外周面11に対して、ホ
ルダ15が接近離反自在でかつ研磨工具10の回転軸1
3に平行移動自在に設けられている。ホルダ15は、研
磨工具10の外周面11上において球状被加工物12を
転動自在に保持するとともに、研磨工具10の回転軸1
3と直角な回転軸14回りに回転自在に設けられてい
る。また、ホルダ15には、ホルダ15内に保持した被
加工物12を研磨工具10の外周面11に押圧するため
の流体16の流体供給孔17が形成されている。
【0011】
【作用】上記構成の球体加工方法および装置において、
被加工物12は、流体16を媒体としてホルダ15の回
転方向に回転させられると同時に、流体16により研磨
工具10の外周面11に押圧されて研磨工具10により
回転させられる。この両回転の合成により、被加工物1
2は、ホルダ15内であらゆる方向に転動されつつ、研
磨工具10の外周面11上で高精度な球体に加工され
る。
被加工物12は、流体16を媒体としてホルダ15の回
転方向に回転させられると同時に、流体16により研磨
工具10の外周面11に押圧されて研磨工具10により
回転させられる。この両回転の合成により、被加工物1
2は、ホルダ15内であらゆる方向に転動されつつ、研
磨工具10の外周面11上で高精度な球体に加工され
る。
【0012】
【実施例1】図2および図3は、本発明の球体加工装置
の実施例1を示す正面図および右側面図である。図にお
いて20で示すのは、基台上に立設された架台で、架台
20の上部には、図において上下方向および左右方向に
移動自在なXYテーブル21を介して上軸ベース22が
設置されている。また、架台20には、ブロック23,
24を介してマイクロメータヘッド25,26がそれぞ
れ設置され、このマイクロメータヘッド25,26によ
り、上軸ベース22が、それぞれ左右方向(X方向)、
上下方向(Y方向)に移動され、その移動された任意の
位置に固定されるようになっている。
の実施例1を示す正面図および右側面図である。図にお
いて20で示すのは、基台上に立設された架台で、架台
20の上部には、図において上下方向および左右方向に
移動自在なXYテーブル21を介して上軸ベース22が
設置されている。また、架台20には、ブロック23,
24を介してマイクロメータヘッド25,26がそれぞ
れ設置され、このマイクロメータヘッド25,26によ
り、上軸ベース22が、それぞれ左右方向(X方向)、
上下方向(Y方向)に移動され、その移動された任意の
位置に固定されるようになっている。
【0013】また、上軸ベース22には、上軸モータ2
7と上軸スピンドル28が取付けられている。上軸モー
タ27の回転軸と上軸スピンドル28の回転軸29に
は、それぞれプーリ30,31が固着され、プーリ3
0,31に巻回されたベルト32を介して、上軸モータ
27により回転軸29が回転されるように構成されてい
る。上記回転軸29は、研磨治具の上軸29として構成
され、上軸29の先端(下端)には、球体の被加工物3
3を保持する円筒形のホルダ34が、円柱形の研磨工具
35の外周面36に対向して、上軸29と同軸的に装着
されている。
7と上軸スピンドル28が取付けられている。上軸モー
タ27の回転軸と上軸スピンドル28の回転軸29に
は、それぞれプーリ30,31が固着され、プーリ3
0,31に巻回されたベルト32を介して、上軸モータ
27により回転軸29が回転されるように構成されてい
る。上記回転軸29は、研磨治具の上軸29として構成
され、上軸29の先端(下端)には、球体の被加工物3
3を保持する円筒形のホルダ34が、円柱形の研磨工具
35の外周面36に対向して、上軸29と同軸的に装着
されている。
【0014】ホルダ34内には、被加工物33の球径よ
り大形の凹球面37が研磨工具35方向に開口して形成
され、この凹球面37により被加工物33を研磨工具3
5の外周面36上の間で収納保持し得るように構成され
ている。さらに、ホルダ34の中心部には、凹球面27
表面に開口した流体供給孔38が形成され、この流体供
給孔38は、上軸29の中心軸部に貫設された貫通孔
(図示省略)に連通されている。貫通孔は、上軸29の
上端部に設けたロータリジョイント39を介して、図示
しない流体供給装置に連結されたチューブ40に連結さ
れており、流体供給装置から供給された流体をホルダ3
4の凹球面37内に供給し、凹球面37内に保持した被
加工物33を研磨工具36の外周面37に押圧し得るよ
うに構成されている。
り大形の凹球面37が研磨工具35方向に開口して形成
され、この凹球面37により被加工物33を研磨工具3
5の外周面36上の間で収納保持し得るように構成され
ている。さらに、ホルダ34の中心部には、凹球面27
表面に開口した流体供給孔38が形成され、この流体供
給孔38は、上軸29の中心軸部に貫設された貫通孔
(図示省略)に連通されている。貫通孔は、上軸29の
上端部に設けたロータリジョイント39を介して、図示
しない流体供給装置に連結されたチューブ40に連結さ
れており、流体供給装置から供給された流体をホルダ3
4の凹球面37内に供給し、凹球面37内に保持した被
加工物33を研磨工具36の外周面37に押圧し得るよ
うに構成されている。
【0015】上記円柱形の研磨工具35は、その中心に
回転軸41が設けられ、回転軸41を介して架台20底
部に固着した軸受42により回転自在に保持されてい
る。回転軸41は、上記上軸29の回転軸と直角に配置
されている。また、回転軸41には、プーリ43が固着
され、プーリ43は、架台20の底部に固着した研磨工
具回転用モータ44のプーリ45とベルト46を介して
連結されており、研磨工具35がモータ44により回転
されるように構成されている。
回転軸41が設けられ、回転軸41を介して架台20底
部に固着した軸受42により回転自在に保持されてい
る。回転軸41は、上記上軸29の回転軸と直角に配置
されている。また、回転軸41には、プーリ43が固着
され、プーリ43は、架台20の底部に固着した研磨工
具回転用モータ44のプーリ45とベルト46を介して
連結されており、研磨工具35がモータ44により回転
されるように構成されている。
【0016】次に、上記球体加工装置を用いた球体加工
方法を説明すると、まず、被加工物33を研磨工具35
の外周面36上に載置し、マイクロメータヘッド25,
26の操作により、上軸ベース22等を介してホルダ3
4を左右方向および下方に移動させて、被加工物33を
ホルダ34の凹球面37と研磨工具35の外周面36と
の間に保持する。次に、流体供給装置により流体を供給
し、ホルダ34と被加工物33間に流体を介在させる。
この時、被加工物33は、流体の圧力により研磨工具3
5の外周面36に押圧される。そして、上軸モータ27
および研磨工具回転用モータ44を駆動して、ホルダ3
4および研磨工具35をそれぞれ回転する。この両回転
により、被加工物33は、研磨工具35の外周面36上
であらゆる方向に転動されて高精度の球体に加工され
る。
方法を説明すると、まず、被加工物33を研磨工具35
の外周面36上に載置し、マイクロメータヘッド25,
26の操作により、上軸ベース22等を介してホルダ3
4を左右方向および下方に移動させて、被加工物33を
ホルダ34の凹球面37と研磨工具35の外周面36と
の間に保持する。次に、流体供給装置により流体を供給
し、ホルダ34と被加工物33間に流体を介在させる。
この時、被加工物33は、流体の圧力により研磨工具3
5の外周面36に押圧される。そして、上軸モータ27
および研磨工具回転用モータ44を駆動して、ホルダ3
4および研磨工具35をそれぞれ回転する。この両回転
により、被加工物33は、研磨工具35の外周面36上
であらゆる方向に転動されて高精度の球体に加工され
る。
【0017】本実施例によれば、多種少量の球体を高精
度に加工できる。また、何回かの加工を繰り返すなか
で、研磨工具35の外周面36の摩耗により、外周面3
6上に筋状の溝が形成された場合、マイクロメータヘッ
ド25の操作によって、外周面36上の加工位置を変更
することで、長期間にわたって高精度な球体加工を繰り
返すことができる。
度に加工できる。また、何回かの加工を繰り返すなか
で、研磨工具35の外周面36の摩耗により、外周面3
6上に筋状の溝が形成された場合、マイクロメータヘッ
ド25の操作によって、外周面36上の加工位置を変更
することで、長期間にわたって高精度な球体加工を繰り
返すことができる。
【0018】
【実施例2】図4は、本発明の実施例2の球体加工装置
における要部を示す正面図で、本実施例においては、複
数個(図においては3個)のホルダ34が、それぞれ上
軸29に装着され、円柱形の研磨工具47の回転軸48
に沿って直線状に配置されている。研磨工具47は、そ
の外周面49がホルダ34に対向するように回転自在に
保持されているとともに、回転軸48方向の長さは複数
のホルダ34に対応し得るように形成されている。な
お、ホルダ34の回転は、上軸29ごとに対応してそれ
ぞれ上軸モータを設ける場合、あるいは1個の上軸モー
タで各上軸29を同期的に行う場合等、通用されている
手段を用いることができる。また、各ホルダ34に形成
した流体供給孔38は、上記実施例と同様に流体供給装
置に連結されている。その他の構成は、上記実施例と同
様であり、また、球体加工方法も同様であるので、その
説明は省略する。
における要部を示す正面図で、本実施例においては、複
数個(図においては3個)のホルダ34が、それぞれ上
軸29に装着され、円柱形の研磨工具47の回転軸48
に沿って直線状に配置されている。研磨工具47は、そ
の外周面49がホルダ34に対向するように回転自在に
保持されているとともに、回転軸48方向の長さは複数
のホルダ34に対応し得るように形成されている。な
お、ホルダ34の回転は、上軸29ごとに対応してそれ
ぞれ上軸モータを設ける場合、あるいは1個の上軸モー
タで各上軸29を同期的に行う場合等、通用されている
手段を用いることができる。また、各ホルダ34に形成
した流体供給孔38は、上記実施例と同様に流体供給装
置に連結されている。その他の構成は、上記実施例と同
様であり、また、球体加工方法も同様であるので、その
説明は省略する。
【0019】本実施例によれば、上記実施例1と同様な
効果を得ることができるとともに、円柱形の研磨工具4
7の回転軸48方向の長さを、必要な長さとすることに
より、任意の数の球体を同時に加工することができる。
また、複数の被加工物33は、研磨工具47の外周面4
9上で加工されるため、研磨工具47の回転軸48方向
における位置のいかんにかかわらず、研磨工具の周速度
等の加工条件が同じになり、全ての被加工物33を高精
度に加工できる。
効果を得ることができるとともに、円柱形の研磨工具4
7の回転軸48方向の長さを、必要な長さとすることに
より、任意の数の球体を同時に加工することができる。
また、複数の被加工物33は、研磨工具47の外周面4
9上で加工されるため、研磨工具47の回転軸48方向
における位置のいかんにかかわらず、研磨工具の周速度
等の加工条件が同じになり、全ての被加工物33を高精
度に加工できる。
【0020】
【実施例3】図5は、本発明の実施例3の球体加工装置
における要部を示す正面図で、被加工物33を加工する
円柱形の研磨工具50が、図において左側半分を荒研削
用の粗粒砥石51,右側半分を仕上げ用の超砥粒砥石5
2で構成されている。その他の構成は、上記実施例1と
同様に構成されている。
における要部を示す正面図で、被加工物33を加工する
円柱形の研磨工具50が、図において左側半分を荒研削
用の粗粒砥石51,右側半分を仕上げ用の超砥粒砥石5
2で構成されている。その他の構成は、上記実施例1と
同様に構成されている。
【0021】本実施例にあっては、被加工物33を粗粒
砥石51で荒球体加工を行った後、図1に示すマイクロ
メータヘッド25の操作により、ホルダ34を移動して
被加工物33を超砥粒砥石52上に位置させて、仕上げ
球体加工を行う。その他の加工方法は、上記実施例1と
同様であるので、その説明は省略する。
砥石51で荒球体加工を行った後、図1に示すマイクロ
メータヘッド25の操作により、ホルダ34を移動して
被加工物33を超砥粒砥石52上に位置させて、仕上げ
球体加工を行う。その他の加工方法は、上記実施例1と
同様であるので、その説明は省略する。
【0022】本実施例によれば、上記実施例と同様な効
果を得ることができるとともに、さらに、効果率よく、
短時間で高精度な球体加工を行うことができる。
果を得ることができるとともに、さらに、効果率よく、
短時間で高精度な球体加工を行うことができる。
【0023】
【発明の効果】以上のように、本発明の球体加工方法お
よび装置によれば、必要な寸法の精度のよい球体加工物
を必要な数だけ適時に得ることができる。また、円形研
磨工具の外周面を用いた加工であるために、加工位置に
関係なく、常に一定の加工回転速度が得られるので、常
に安定した加工条件のもとで球体加工を行うことができ
る。
よび装置によれば、必要な寸法の精度のよい球体加工物
を必要な数だけ適時に得ることができる。また、円形研
磨工具の外周面を用いた加工であるために、加工位置に
関係なく、常に一定の加工回転速度が得られるので、常
に安定した加工条件のもとで球体加工を行うことができ
る。
【図1】本発明の概念図である。
【図2】本発明の実施例1の球体加工装置を示す正面図
である。
である。
【図3】本発明の実施例1の球体加工装置を示す右側面
図である。
図である。
【図4】本発明の実施例2の球体加工装置における要部
を示す一部断面図である。
を示す一部断面図である。
【図5】本発明の実施例3の球体加工装置における要部
を示す一部断面正面図である。
を示す一部断面正面図である。
【図6】従来の球体加工装置を示す断面図である。
【図7】図6でA−A線矢視図である。
10 35 47 50 研磨工具
11 36 49 外周面
12 33 被加工物
13 41 48 回転軸
14 29 回転軸
15 34 ホルダ
16 流体
17 38 流体供給孔
Claims (2)
- 【請求項1】 回転する円形の研磨工具の外周面と、こ
の研磨工具の回転軸に直角な回転軸回りに回転するホル
ダとの間で球状被加工物を保持した後、その被加工物を
流体により研磨工具の外周面に押圧しつつ、研磨工具お
よびホルダをそれぞれ回転させて被加工物を転動させな
がら加工することを特徴とする球体加工方法。 - 【請求項2】 円形の研磨工具を回転自在に設け、この
研磨工具の外周面上において球状被加工物を転動自在に
保持する少なくとも一つのホルダを設け、このホルダ
を、前記研磨工具の外周面に対して接近離反自在でかつ
研磨工具の回転軸に平行移動自在に設けるとともに、研
磨工具の回転軸に直角な回転軸回りに回転自在に設け、
ホルダ内に前記被加工物を研磨工具の外周面に押圧する
流体の流体供給孔を形成したことを特徴とする球体加工
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3949391A JPH054157A (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | 球体加工方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3949391A JPH054157A (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | 球体加工方法および装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH054157A true JPH054157A (ja) | 1993-01-14 |
Family
ID=12554583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3949391A Withdrawn JPH054157A (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | 球体加工方法および装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH054157A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08271388A (ja) * | 1995-03-28 | 1996-10-18 | M & K:Kk | 球体回転用試料ホルダー |
-
1991
- 1991-02-08 JP JP3949391A patent/JPH054157A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08271388A (ja) * | 1995-03-28 | 1996-10-18 | M & K:Kk | 球体回転用試料ホルダー |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |