JPH0541396A - 半導体素子の封止成形方法 - Google Patents

半導体素子の封止成形方法

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JPH0541396A
JPH0541396A JP3026586A JP2658691A JPH0541396A JP H0541396 A JPH0541396 A JP H0541396A JP 3026586 A JP3026586 A JP 3026586A JP 2658691 A JP2658691 A JP 2658691A JP H0541396 A JPH0541396 A JP H0541396A
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JP
Japan
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mold
frame
pressure
sealing
vacuum frame
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP3026586A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhiko Tokumaru
和彦 徳丸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Chemical Corp filed Critical Toshiba Chemical Corp
Priority to JP3026586A priority Critical patent/JPH0541396A/ja
Publication of JPH0541396A publication Critical patent/JPH0541396A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/17Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C45/26Moulds
    • B29C45/34Moulds having venting means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C45/00Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor
    • B29C45/14Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. injection moulding around inserts or for coating articles
    • B29C45/14639Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. injection moulding around inserts or for coating articles for obtaining an insulating effect, e.g. for electrical components
    • B29C45/14655Injection moulding, i.e. forcing the required volume of moulding material through a nozzle into a closed mould; Apparatus therefor incorporating preformed parts or layers, e.g. injection moulding around inserts or for coating articles for obtaining an insulating effect, e.g. for electrical components connected to or mounted on a carrier, e.g. lead frame

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、半導体素子を搭載した回路基板を
封止成形する方法に関し、回路基板の変形を抑えるため
トランスファ−圧力を下げても、ボイド及び未充填がな
い半導体素子の封止成形方法を提供することを目的とす
る。 【構成】 本発明は、半導体素子を搭載した回路基板の
封止成形方法に際し、金型の回りを真空枠で覆い、その
真空枠を減圧する構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】[発明の目的]
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子を搭載した
回路基板を封止成形方法する方法に関するものである。
【0003】
【従来の技術】近年、電子部品関係は、益々軽薄短小化
してきており、それに伴い、半導体素子自信も軽薄形状
傾向にある。当然ながら、それに使用する回路基板も薄
くなっており、一部では、フイルム(TAB)も使用さ
れてきた。
【0004】また、半導体素子をトランスファ−プレス
で封止する方法としては、図2の金型1aのキャビティ
1b内に封止樹脂1cがゲ−ト1dより注入され、半導
体素子2を封止硬化させるものがあるが、この時、キャ
ビティ1b内のエア−は、封止樹脂1dが進入してくる
際に、エア−ベント1eより封止樹脂1dがキャビティ
1b内に充填されるに従い排出されてゆき、封止樹脂1
dで半導体素子2を封止する方法を取っている。
【0005】近年の薄くなってきた該回路基板に直接半
導体素子を実装したものは、封止成形する際には、主と
して、金型の構造及び形状で回路基板の変形を防止しな
がら、トランスファ−圧力をできるだけ高くしてキャビ
ティ内のエア−残り、即ち、ボイド及び未充填を抑えて
封止成形を行っている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法には限度があり、該回路基板の変形を抑えるために、
トランスファ−圧力を下げると、キャビティ内のボイド
及び未充填が発生するという問題があった。
【0007】本発明はかかる問題点を解決するために為
されたもので、回路基板の変形を抑えるためトランスフ
ァ−圧力を下げても、ボイド及び未充填がない半導体素
子の封止成形方法を提供することを目的とするものであ
る。
【0008】[発明の構成]
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体素子
の封止成形方法は、半導体素子を搭載した回路基板の封
止成形方法に際し、金型の回りを真空枠で覆い、その真
空枠を減圧するものである。
【0010】
【作用】本発明においては、金型の周囲を真空枠で覆
い、真空枠を減圧することによって、金型のキャビティ
内も減圧され、封止成形する際のエア−残り、即ち、ボ
イド及び未充填がない半導体装置を得ることができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を図2 に基づいて説明
する。
【0012】先ず、本発明の実施例に用いる装置につい
て説明する。
【0013】金型12は、ポット部12dを有する上型
12aと、これと重合する下型12bとで構成されてい
る。
【0014】この金型12の上下には、プレス熱板1
3,13が配置されている。一方のプレス熱板13に
は、トランスファ−15を挿入するための孔から成るプ
レスポット部14が設けられている。
【0015】また、プレス熱板13,13間には、金型
12を囲むように真空枠10がシリコンパッキン11,
11を介して配置されている。シリコンパッッキン11
は、真空枠10に取り付けられている。真空枠10の断
面形状としては、シリコンパッキン11がプレス熱板1
3,13に潰されて変形することを考慮しておく必要が
ある。また、シリコンパッキン11としては、プレス熱
板13,13と真空枠10をシール可能で、なおかつ金
型12成形圧力が加わるような断面形状にしてある。
【0016】さらに、真空枠10は、アキュムレ−タ1
6に配管19を介して連絡しているアキュムレ−タ16
には、真空ポンプ17が連絡している。
【0017】次に、本実施例に係る封止成形方法につい
て、順を追って説明する。
【0018】先ず、金型12をプレス熱板13,13に
通常の作業位置にセットする。ここでは、プレス熱板1
3のプレスポット部14と、トランスファ−15の位置
が合せられる。次に、金型12が真空枠10の中心にく
るように、プレス熱板13上にセットし、成形圧力を金
型12と真空枠10に加える。この時、金型12には成
形圧力が掛かり、真空枠10はプレス熱板13,13と
シリコンパッキン11,11との間でリ−クが無いよう
にする。なお、ポット部12cに封止樹脂が無くても、
トランスファ−15をプレスポット部14を介してポッ
ト部12cに入れば、リ−クの無いことを確認してお
く。
【0019】次に、封止樹脂をプレスポット部14に投
入し、トランスファ−15を下ろし、トランスファ−圧
力を加え、成形する。この際、トランスファ−15が下
り、プレスポット部14に入った時、真空枠10に接続
されているアキュムレ−タ16の弁を解放し、真空枠1
0内を減圧する。また、予め真空ポンプPでアキュムレ
−タ16内を減圧しておく必要がある。アキュムレ−タ
16の容量としては、真空枠10内の容量の約10倍あれ
ば良い。また、真空枠10内の減圧開始のタイミングと
しては、トランスファ−15にリミットスイッチなどを
取り付けて制御するようにする。
【0020】以上のように、本実施例によれば、真空枠
10内を減圧することによって、金型12のキャビティ
−18も減圧され、封止樹脂がキャビティ−18内に充
填された時に、ボイド及び、未充填の無い半導体装置を
成形することが可能となる。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、半導体
素子を搭載した回路基板の封止成形方法に際し、金型の
回りを真空枠で覆い、その真空枠を減圧するものである
から、従来の封止金型を改造することなく治具を追加す
ることによって、ボイド及び、未充填の無い半導体装置
を成形することが可能であり、また最近の益々軽薄短小
化してきた電子部品関係のモ−ルド成形仕様に満足する
ことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に用いた金型及び真空枠を示
す断面図である。
【図2】従来の封止成形方法に於ける金型を示す断面図
である。
【符号の説明】
10………真空枠 11………シリコンパッキン 12………金型 12a……上型 12b……下型 12c……ポット部 13………プレス熱板 14………プレスポット部 15………トランスファ−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子を搭載した回路基板の封止成
    形方法に際し、金型の回りを真空枠で覆い、その真空枠
    を減圧することを特徴とする半導体素子の封止成形方
    法。
JP3026586A 1991-02-21 1991-02-21 半導体素子の封止成形方法 Withdrawn JPH0541396A (ja)

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JPH0541396A true JPH0541396A (ja) 1993-02-19

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100414400B1 (ko) * 2001-12-28 2004-01-07 최록일 반도체칩 성형프레스의 진공장치
WO2008155647A2 (en) * 2007-06-21 2008-12-24 Sinergetic S.R.L. Method and means for moulding by injection or extrusion

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100414400B1 (ko) * 2001-12-28 2004-01-07 최록일 반도체칩 성형프레스의 진공장치
WO2008155647A2 (en) * 2007-06-21 2008-12-24 Sinergetic S.R.L. Method and means for moulding by injection or extrusion
WO2008155647A3 (en) * 2007-06-21 2009-02-19 Sinergetic S R L Method and means for moulding by injection or extrusion

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Effective date: 19980514