JPH0538369A

JPH0538369A - 癌の治療装置

Info

Publication number: JPH0538369A
Application number: JP3219189A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Udagawa; 毅宇田川; Masayasu Amano; 壯泰天野; Hiroyuki Shiozaki; 宏行塩崎; Mikio Mori; 実紀夫森; Sadao Degawa; 定男出川; Harufumi Kato; 治文加藤
Original assignee: IHI Corp
Current assignee: IHI Corp
Priority date: 1991-08-05
Filing date: 1991-08-05
Publication date: 1993-02-19
Also published as: DE69214558D1; CA2075247A1; EP0527050A1; US5243612A; CA2075247C; DE69214558T2; EP0527050B1

Abstract

(57)【要約】【目的】癌の治療装置のレーザー発生装置のメンテナ
ンスを容易にする。【構成】固体レーザー発生装置５１のＹＡＧレーザー
発生部５２によって発生させた所定の波長のレーザー光
で、固体レーザー発生装置５１のチタンサファイヤレー
ザー発生部５３を励起させ、該チタンサファイヤレーザ
ー発生部５３により所定の波長のレーザー光を発生さ
せ、該レーザー光をファイバースコープ５４を介して病
巣部５５へ導き、該病巣部５５を治療する。【効果】固体レーザー発生装置５１を用いているの
で、レーザー媒質の寿命が長く、また、メンテナンスが
容易に行える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は癌の治療装置に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】従来、癌組織に対して親和性のある光感
受性物質を吸収させた病巣部に、所定の波長のレーザー
ビームを照射して、前記癌病巣部の治療を行うための装
置として、特公昭６３−２６３３号公報に開示されたレ
ーザー光パルスを用いた癌の治療装置がある。

【０００３】また、従来、癌組織に対して親和性のある
光感受性物質を吸収させた病巣部に、所定の波長のレー
ザービームを照射し、前記病巣部に吸収された光感受性
物質が発する蛍光発光のスペクトル分布を解析すること
により、病巣部に癌が発生しているか否かを診断する装
置として、特公昭６３−９４６４号公報に開示されたレ
ーザー光パルスを用いた癌の診断装置がある。

【０００４】特公昭６３−２６３３号公報に開示された
装置及び特公昭６３−９４６４号公報に開示された装置
は、どちらも、エキシマレーザーによって色素レーザー
を励起させて、所定の波長のレーザービームを発振させ
るようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、色素レーザ
ーのレーザー媒質は、アルコールなどの溶剤に、有機色
素を溶かした液体であり、寿命が短く、適宜色素の交換
を行わなければならず、更に、エキシマレーザーのミラ
ーは頻繁にクリーニングを行う必要があった。

【０００６】本発明は、上述した問題を解決するもの
で、固体レーザー発生装置を用い、操作及びメンテナン
スが容易な癌の治療装置を提供することを目的としてい
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
した癌の治療装置は、ＹＡＧレーザー基本波を発振する
ＹＡＧレーザー発振器１と、該ＹＡＧレーザー発振器１
により発振されたＹＡＧレーザー基本波からＹＡＧレー
ザー第２高調波を発生させるＹＡＧレーザー第２高調波
発生器２と、該ＹＡＧレーザー第２高調波発生器２によ
り発生したＹＡＧレーザー第２高調波によって励起さ
れ、チタンサファイアレーザー基本波を発振するチタン
サファイアレーザー発振器９と、該チタンサファイアレ
ーザー発振器９により発振されたチタンサファイアレー
ザー基本波からチタンサファイアレーザー第２高調波を
発生させるチタンサファイアレーザー第２高調波発生器
１７と、前記ＹＡＧレーザー第２高調波発生器２におい
てＹＡＧレーザー第２高調波に変換されなかったＹＡＧ
レーザー基本波成分からＹＡＧレーザー第２高調波を発
生させる差周波発生用ＹＡＧレーザー第２高調波発生器
２０と、該差周波発生用ＹＡＧレーザー第２高調波発生
器２０により発生したＹＡＧレーザー第２高調波によっ
て励起され、チタンサファイアレーザー基本波を発振す
る差周波発生用チタンサファイアレーザー発振器２４
と、該差周波発生用チタンサファイアレーザー発振器２
４によって発振されたチタンサファイアレーザー基本
波、及び前記チタンサファイアレーザー第２高調波発生
器１７によって発生したチタンサファイアレーザー第２
高調波から差周波レーザー光を発生させる差周波発生器
２７とを備えた固体レーザー発生装置５１を有し、該固
体レーザー発生装置５１によって発生したレーザービー
ムを病巣部５５へ照射し得、且つ病巣部５５を観察する
ためのファイバースコープ５４と、該ファイバースコー
プ５４を介して病巣部５５の撮影を行い、該病巣部５５
の実写画像を表示する画像表示装置６２とを備えてい
る。

【０００８】本発明の請求項２に記載した癌の治療装置
は、前記本発明の請求項１に記載の癌の治療装置におい
て、画像表示装置８２に、ファイバースコープ８０を介
して病巣部５５の撮影を行い、該病巣部５５から発した
蛍光の光スペクトラム分布を図形表示する機能を付加し
た構成を備えている。

【０００９】本発明の請求項３に記載した癌の治療装置
は、前記本発明の請求項１に記載の癌の治療装置におい
て、画像表示装置８２に、ファイバースコープ８０を介
して病巣部５５の撮影を行い、該病巣部５５から発した
蛍光の部位を図形表示する機能を付加した構成を備えて
いる。

【００１０】本発明の請求項４に記載した癌の治療装置
は、ＹＡＧレーザー基本波を発振するＹＡＧレーザー発
振器１と、該ＹＡＧレーザー発振器１により発振された
ＹＡＧレーザー基本波からＹＡＧレーザー第２高調波を
発生させるＹＡＧレーザー第２高調波発生器２と、該Ｙ
ＡＧレーザー第２高調波発生器２から発生したＹＡＧレ
ーザー第２高調波によって励起され、チタンサファイア
レーザー基本波を発振するチタンサファイアレーザー発
振器９と、該チタンサファイアレーザー発振器９により
発振されたチタンサファイアレーザー基本波からチタン
サファイアレーザー第２高調波を発生させるチタンサフ
ァイアレーザー第２高調波発生器１７と、前記ＹＡＧレ
ーザー第２高調波発生器２において第２高調波に変換さ
れずに残ったＹＡＧレーザー基本波、及びＹＡＧレーザ
ー第２高調波発生器２により発生したＹＡＧレーザー第
２高調波によって、ＹＡＧレーザー第３高調波を発生さ
せるＹＡＧレーザー第３高調波発生器３３と、該ＹＡＧ
レーザー第３高調波発生器３３により発生したＹＡＧレ
ーザー第３高調波によって、光パラメトリック発振レー
ザー光を発生させる光パラメトリック発振器３７とを備
えた固体レーザー発生装置７６を有し、該固体レーザー
発生装置７６によって発生したレーザービームを病巣部
５５へ照射し得、且つ病巣部５５を観察するためのファ
イバースコープ５４と、該ファイバースコープ５４を介
して病巣部５５の撮影を行い、該病巣部５５の実写画像
を表示する画像表示装置６２とを備えている。

【００１１】本発明の請求項５に記載した癌の治療装置
は、本発明の請求項４に記載の癌の治療装置において、
画像表示装置８２に、ファイバースコープ８０を介して
病巣部５５の撮影を行い、該病巣部５５から発した蛍光
の光スペクトラム分布を図形表示する機能を付加した構
成を備えている。

【００１２】本発明の請求項６に記載した癌の治療装置
は、本発明の請求項４に記載の癌の治療装置において、
画像表示装置８２に、ファイバースコープ８０を介して
病巣部５５の撮影を行い、該病巣部５５から発した蛍光
の部位を図形表示する機能を付加した構成を備えてい
る。

【００１３】

【作用】本発明の請求項１から６に記載した癌の治療装
置のいずれにおいても、病巣部に照射するレーザービー
ムを、固体レーザー発生装置により発生させるので、レ
ーザー媒質の寿命が長く装置のメンテナンスが容易に行
える。

【００１４】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。

【００１５】図１及び図２は本発明の癌の治療装置の第
１の実施例であり、本実施例は本発明の請求項１に対応
する。

【００１６】５１は固体レーザー発生装置であり、該固
体レーザー発生装置５１は、所定の波長のレーザービー
ムを発生させるＹＡＧレーザー発生部５２と、該ＹＡＧ
レーザー発生部５２によって発生したレーザービームに
より励起され、所定の波長のレーザービームを発生させ
るチタンサファイアレーザー発生部５３とから構成され
ている。

【００１７】前記固体レーザー発生装置５１には、ＹＡ
Ｇレーザー発生部５２へ冷却水を供給して、ＹＡＧレー
ザー発生部５２の温度上昇を抑制するための冷却水供給
管６７が接続されている。

【００１８】５４は、病巣部５５の観察及び治療を行う
ためのファイバースコープであり、該ファイバースコー
プ５４は、照明用キセノンランプ５６が発する光を病巣
部５５へ導いて、該病巣部５５を照明するための照明用
光ファイバー５７と、病巣部５５を観察するための観察
用光ファイバー５８と、前記固体レーザー発生装置５１
により発生したレーザービームを病巣部５５へ照射する
ための照射用光ファイバー５９を備えている。

【００１９】更に、前記ファイバースコープ５４には、
照明用光ファイバー５７、観察用光ファイバー５８、照
射用光ファイバー５９の各先端部へ洗浄水、洗浄エアー
を送給して、照明用光ファイバー５７、観察用光ファイ
バー５８、照射用光ファイバー５９の各先端部を洗浄す
るための洗浄水供給管６０、洗浄エアー供給管６１が接
続されるとともに、洗浄水供給管６０、洗浄エアー供給
管６１により供給された水及びエアーを排出するための
排水排気管４８が接続できるようになっている。

【００２０】６２は病巣部５５を観察するための画像表
示装置であり、該画像表示装置６２は、前記観察用光フ
ァイバー５８を介して病巣部５５の撮影を行い、画像信
号７０を出力するカラーテレビカメラ６３と、該カラー
テレビカメラ６３が出力した画像信号７０を画像処理信
号７１に変換する画像処理部６４と、該画像処理部６４
が出力した画像処理信号７１に基づき、病巣部５５の実
写画像を映像表示するテレビモニター６５と、前記画像
処理部６４が出力した画像処理信号７１を記録し、且つ
記録した画像処理信号７１を画像処理部６４を介してテ
レビモニター６５へ送り、病巣部５５の実写画像をテレ
ビモニター６５により再生映像表示させ得るビデオテー
プレコーダー等の記録再生装置６６を備えている。

【００２１】更に、図１において、６８は取扱い者が入
力操作を行うことにより、前記固体レーザー発生装置５
１、画像表示装置６２、照明用キセノンランプ５６を作
動させるための指令信号７２を出力する操作パネル、６
９は、前記指令信号７２に基づき、固体レーザー発生装
置５１を作動させるための作動信号７３をＹＡＧレーザ
ー発生部５２へ、また、画像表示装置６２を作動させる
ための作動信号７４を画像処理部６４へ、更に、照明用
キセノンランプ５６に点灯指示信号７５を出力する制御
装置である。

【００２２】以下、前記固体レーザー発生装置５１のＹ
ＡＧレーザー発生部５２の構成を図２により説明する。

【００２３】１は波長１０６４ｎｍのレーザー光（ＹＡ
Ｇレーザー基本波）を発振する励起用のＹＡＧレーザー
発振器、２はＹＡＧレーザー発振器１が発振するＹＡＧ
レーザー基本波から、１／λ₂＝１／λ₁＋１／λ₁…（１）（λ₁：基本波、λ₂：第２高調波）の関係（第２高調波発生）によって波長５３２ｎｍのレ
ーザー光（ＹＡＧレーザー第２高調波）を発生させるＹ
ＡＧレーザー第２高調波発生器、３はＹＡＧレーザー第
２高調波発生器２によって発生したＹＡＧレーザー第２
高調波と、ＹＡＧレーザー第２高調波発生器２において
第２高調波に変換されずに残ったＹＡＧレーザー基本波
のうち、ＹＡＧレーザー基本波成分を透過させ、ＹＡＧ
レーザー第２高調波成分のみを反射させるダイクロイッ
クミラー、４はダイクロイックミラー３を透過したＹＡ
Ｇレーザー基本波を遮断するビームダンパー、５はダイ
クロイックミラーによって反射したＹＡＧレーザー第２
高調波の一部を透過させ、残りを反射させるハーフミラ
ー、６はハーフミラー５を透過したＹＡＧレーザー第２
高調波を収束させるためのレンズ、７はハーフミラー５
によって反射したＹＡＧレーザー第２高調波を反射させ
る全反射ミラー、８は全反射ミラー７によって反射した
ＹＡＧレーザー第２高調波を収束させるためのレンズで
ある。

【００２４】２０はダイクロイックミラー３を透過した
波長１０６４ｎｍのＹＡＧレーザー基本波から、ＹＡＧ
レーザー第２高調波発生器２と同様に、前記（１）式の
関係によって波長５３２ｎｍのレーザー光（ＹＡＧレー
ザー第２高調波）を発生させる差周波発生用ＹＡＧレー
ザー第２高調波発生器、２１は差周波発生用ＹＡＧレー
ザー第２高調波発生器２０において第２高調波に変換さ
れずに残ったＹＡＧレーザー基本波と、差周波発生用Ｙ
ＡＧレーザー第２高調波発生器２０によって発生したＹ
ＡＧレーザー第２高調波のうち、ＹＡＧレーザー基本波
成分を透過させ、ＹＡＧレーザー第２高調波成分のみを
反射させるダイクロイックミラー、２２はダイクロイッ
クミラー２１を透過したＹＡＧレーザー基本波を遮断す
るビームダンパー、２３はダイクロイックミラー２１に
よって反射したＹＡＧレーザー第２高調波を収束させる
ためのレンズである。

【００２５】なお、上述したＹＡＧレーザー発生部５２
ではダイクロイックミラー３と差周波発生用ＹＡＧレー
ザー発生器２０との間に、波長１０６４ｎｍのＹＡＧレ
ーザー基本波を遮断するヒームダンパー４を配置するこ
とができるようになっている。

【００２６】次に、前記固体レーザー発生装置５１のチ
タンサファイヤレーザー発生部５３の構成を図２により
説明する。

【００２７】９はチタンサファイアレーザー発振器であ
り、該チタンサファイアレーザー発振器９は、前記レン
ズ６によって収束したＹＡＧレーザー第２高調波を反射
させ、且つ他の波長の光を透過させるダイクロイックミ
ラー１１と、該ダイクロイックミラー１１が反射したＹ
ＡＧレーザー第２高調波が入射することにより励起さ
れ、波長６７０〜１１００ｎｍの光を発生する発振用チ
タンサファイアレーザーロッド１０と、該発振用チタン
サファイアレーザーロッド１０が発生した光を共振させ
るための共振器のフロントミラー１２及びエンドミラー
１３と、前記発振用チタンサファイアレーザーロッド１
０が発生する波長６７０〜１１００ｎｍの波長成分を有
する光のうち、特定の波長の光のみをよく透過させ、他
の波長の光を複屈折フィルター等の波長同調素子（波長
選択素子）１４と、前記エンドミラー１３及びフロント
ミラー１２によって共振することにより一定の光強度レ
ベルに達して前記フロントミラー１２を透過する、６７
０〜１１００ｎｍ間の任意波長のチタンサファイアレー
ザー基本波を透過させ、且つ前記レンズ８によって収束
したＹＡＧレーザー第２高調波を反射させるダイクロイ
ックミラー１６と、該ダイクロイックミラー１６が反射
したＹＡＧレーザー第２高調波が入射することにより励
起され、前記ダイクロイックミラー１６を透過して入射
するチタンサファイアレーザー基本波の光強度を増幅す
る増幅用チタンサファイアレーザーロッド１５とを備え
ている。

【００２８】上述したチタンサファイアレーザー発振器
９では、波長同調素子１４の角度を回転させることによ
り、チタンサファイアレーザー発振器９から発振される
チタンサファイアレーザー基本波の波長を、６７０〜１
１００ｎｍの波長域における任意の波長に設定できるよ
うになっている。

【００２９】更に、１７は前記チタンサファイアレーザ
ー発振器９の増幅用チタンサファイアレーザーロッド１
５により出射されたチタンサファイアレーザー基本波か
ら前記（１）式の関係によってチタンサファイアレーザ
ー第２高調波を発生させるチタンサファイアレーザー第
２高調波発生器、１８はチタンサファイアレーザー第２
高調波発生器１７によって発生したチタンサファイアレ
ーザー第２高調波、及びチタンサファイアレーザー第２
高調波に変換されずに残ったレーザー基本波から、１／λ₃＝１／λ₁＋１／λ₂…（２）（λ₁：基本波、λ₂：第２高調波、λ₃：第３高調波）の関係（第３高調波発生）によってチタンサファイアレ
ーザー第３高調波を発生させ、あるいは、前記チタンサ
ファイアレーザー第２高調波によって発生したチタンサ
ファイアレーザー第２高調波から前記（１）式の関係に
よりチタンサファイアレーザー第４高調波（チタンサフ
ァイアレーザー第２高調波光の第２高調波）を発生させ
るチタンサファイアレーザー第３高調波発生兼第４高調
波発生器である。

【００３０】チタンサファイアレーザー第３高調波発生
兼第４高調波発生器１８は、第３高調波発生用の非線形
光学結晶を有する結晶セル、あるいは、第４高調波発生
用の非線形光学結晶を有する結晶セルのいずれかを発生
器本体内に内装できるようになっており、前記結晶セル
を適宜交換することにより、チタンサファイアレーザー
第３高調波、あるいは、チタンサファイアレーザー第４
高調波を発生させることができる。

【００３１】１９はチタンサファイアレーザー第３高調
波発生兼第４高調波発生器１８により変換されなかった
チタンサファイアレーザー基本波、チタンサファイアレ
ーザー第２高調波と、チタンサファイアレーザー第３高
調波発生兼第４高調波発生器１８によって発生したチタ
ンサファイアレーザー第３高調波あるいはチタンサファ
イアレーザー第４高調波を分離するためのペリンブロカ
プリズムである。

【００３２】２４は差周波発生用チタンサファイアレー
ザー発振器であり、該差周波発生用チタンサファイアレ
ーザー発振器２４は、前記レンズ２３によって収束した
ＹＡＧレーザー第２高調波を反射させ、且つ他の波長の
光を透過させるダイクロイックミラー４１と、該ダイク
ロイックミラー４１が反射したＹＡＧレーザー第２高調
波が入射することにより励起され、波長６７０〜１１０
０ｎｍの光を発生するチタンサファイアレーザーロッド
４２と、該チタンサファイアレーザーロッド４２が発生
した光を共振させるための共振器のフロントミラー４３
及びエンドミラー４４と、前記チタンサファイアレーザ
ーロッド４２が発生する波長６７０〜１１００ｎｍの波
長成分を有する光のうち、特定の波長の光のみをよく透
過させ、他の波長の光を散乱させる複屈折フィルター等
の波長同調素子４５とを備えている。

【００３３】上述した差周波発生用チタンサファイアレ
ーザー発振器２４では、波長同調素子４５の角度を回転
させることにより、チタンサファイアレーザー発振器２
４から発振されるチタンサファイアレーザー基本波の波
長を、６７０〜１１００ｎｍの波長域における任意の波
長に設定できるようになっている。

【００３４】２５はチタンサファイアレーザー第２高調
波発生器１７とチタンサファイアレーザー第３高調波発
生兼第４高調波発生器１８との間に着脱自在に取付けら
れ、装着時においては、チタンサファイアレーザー第２
高調波発生器１７において第２高調波に変換されずに残
ったチタンサファイアレーザー基本波と、チタンサファ
イアレーザー第２高調波発生器１７によって発生したチ
タンサファイアレーザー第２高調波のうち、チタンサフ
ァイアレーザー基本波成分を透過させ、チタンサファイ
アレーザー第２高調波成分のみを反射するダイクロイッ
クミラー、２６はダイクロイックミラー２５によって反
射したチタンサファイアレーザー第２高調波を反射し、
また、差周波発生用チタンサファイアレーザー発振器２
４が発振するチタンサファイアレーザー基本波を透過さ
せるダイクロイックミラー、２７はダイクロイックミラ
ー２６によって反射したチタンサファイアレーザー第２
高調波と、ダイクロイックミラー２６を透過した前記チ
タンサファイアレーザー基本波から、１／λ₆＝１／λ₅−１／λ₄…（３）（λ₆：差周波、λ₄：光波１、λ₅：光波２、但しλ₄＞
λ₅）の関係（差周波発生）によって差周波レーザー光を発生
させる差周波発生器、２８は差周波発生器２７はの下流
にまで残ったチタンサファイアレーザー第２高調波（光
波２）、チタンサファイアレーザー基本波（光波１）
と、差周波発生器２７により発生した差周波レーザー光
を分離するためのペリンブロカプリズムである。

【００３５】以下、本実施例の作動を説明する。

【００３６】病巣部５５の治療を行う際には、図２に示
すチタンサファイヤレーザー発振器９の波長選択素子１
４の光学的特性を、波長７８５．５ｎｍのレーザー光が
透過し、且つ他の波長のレーザー光を吸収するように、
また、差周波発生用チタンサファイヤレーザー発振器２
４の波長選択素子４５の光学的特性を、波長１０５０ｎ
ｍのレーザー光が透過し、且つ他の波長のレーザー光を
吸収するように設定したうえ、チタンサファイヤレーザ
ー第２高調波発生器１７と、チタンサファイヤレーザー
第３高調波発生器１８との間に、ダイクロイックミラー
２５を装着しておく。

【００３７】更に、癌組織に対して親和性を有する光感
受性物質であるヘマトポルフィリン誘導体（ＨＰＤ）
を、患者の血管へ注入することにより、予め病巣部５５
へ吸収させておく。

【００３８】上記ヘマトポルフィリン誘導体は、癌組織
に対しては特異的に吸収されるが、正常な生体組織には
ほとんど吸収されない。

【００３９】また、ヘマトポルフィリン誘導体を吸収し
た病巣部５５に、波長６３０ｎｍのレーザー光を照射す
ると、該レーザー光は、ヘマトポルフィリン誘導体を吸
収した癌組織を破壊し、一方、ヘマトポルフィリン誘導
体をほとんど吸収していない正常な生体組織に対しては
影響を与えない。

【００４０】病巣部５５にヘマトポルフィリン誘導体が
吸収されたならば、ファイバースコープ５４をその先端
部が病巣部５５とほぼ対峙するように位置させる。

【００４１】この状態で、操作パネル６８を操作するこ
とにより、該操作パネル６８から画像表示装置６２、照
明用キセノンランプ５６を作動させるための指令信号７
２を制御装置６９へ出力させ、該制御装置６９から画像
処理部６４へ作動信号７４を、また、照明用キセノンラ
ンプ５６へ点灯用指示信号７５を出力させて、照明用キ
セノンランプ５６が発生する光により病巣部５５を照明
するとともに、カラーテレビカメラ６３が撮影した病巣
部５５の実写映像をテレビモニター６５に映像表示し、
病巣部５５の観察を行う。

【００４２】次いで、操作パネル６８を操作することに
より、該操作パネル６８から固体レーザー発生装置５１
を作動させるための指令信号７２を制御装置６９へ出力
させ、該制御装置６９からＹＡＧレーザー発生部５２へ
作動信号７３を出力させる。

【００４３】ＹＡＧレーザー発生部５２に作動信号７３
が入力されると、ＹＡＧレーザー発振器１が作動し、該
ＹＡＧレーザー発振器１から波長１０６４ｎｍのレーザ
ービーム（ＹＡＧレーザー基本波）が発振され、ＹＡＧ
レーザー第２高調波発生器２によって、前記ＹＡＧレー
ザー基本波より波長５３２ｎｍのＹＡＧレーザー第２高
調波が発生し、該ＹＡＧレーザー第２高調波はダイクロ
イックミラー３によって反射する。

【００４４】ダイクロイックミラー３によって反射した
ＹＡＧレーザー第２高調波の一部は、ハーフミラー５を
透過し、レンズ６、ダイクロイックミラー１１を経て、
励起光としてチタンサファイアレーザー発振器９の発振
用チタンサファイアレーザーロッド１０へ入射し、該発
振用チタンサファイアレーザーロッド１０によって波長
６７０〜１１００ｎｍのチタンサファイアレーザー基本
波が発振される。

【００４５】チタンサファイアレーザー基本波は、フロ
ントミラー１２、エンドミラー１３によって再び発振用
チタンサファイアレーザーロッド１０に入射したうえ、
波長７８７．５ｎｍのチタンサファイアレーザー基本波
のみが波長選択素子１４を透過し、他の波長のチタンサ
ファイアレーザー基本波は波長選択素子１４に吸収さ
れ、一定の光強度レベルに達した波長７８７．５ｎｍの
チタンサファイアレーザー基本波は、前記フロントミラ
ー１２及びダイクロイックミラー１６を透過して増幅用
チタンサファイアレーザーロッド１５へ入射する。

【００４６】一方、ダイクロイックミラー３によって反
射したＹＡＧレーザー第２高調波の一部は、ハーフミラ
ー５によって反射し、全反射ミラー７、レンズ８を経
て、励起光としてチタンサファイアレーザー発振器９の
増幅用チタンサファイアレーザーロッド１５へ入射し、
該増幅用チタンサファイアレーザーロッド１５が励起さ
れ、前記発振用チタンサファイアレーザーロッド１０か
ら増幅用チタンサファイアレーザーロッド１５へ入射し
た波長７８７．５ｎｍのチタンサファイアレーザー基本
波が増幅される。

【００４７】増幅用チタンサファイアレーザーロッド１
５によって増幅された波長７８７．５ｎｍのチタンサフ
ァイアレーザー基本波は、チタンサファイアレーザー第
２高調波発生器１７へ入射し、該チタンサファイアレー
ザー第２高調波発生器１７から、前記（１）式の関係に
より、波長３９３．７５ｎｍのチタンサファイアレーザ
ー第２高調波が発生し、また、前記チタンサファイアレ
ーザー基本波がチタンサファイアレーザー第２高調波発
生器１７を透過し、チタンサファイアレーザー第２高調
波発生器１７により発生したチタンサファイアレーザー
第２高調波はダイクロイックミラー２５によって反射
し、また、チタンサファイアレーザー第２高調波発生器
１７を透過したチタンサファイアレーザー基本波はダイ
クロイックミラー２５を透過する。

【００４８】更に、ダイクロイックミラー２５によって
反射したチタンサファイアレーザー第２高調波はダイク
ロイックミラー２６により反射して差周波発生器２７へ
入射する。

【００４９】一方、ダイクロイックミラー３を透過した
ＹＡＧレーザー基本波は、差周波発生用ＹＡＧレーザー
第２高調波発生器２０へ入射し、該差周波発生用ＹＡＧ
レーザー第２高調波発生器２０によりＹＡＧレーザー基
本波から前記（１）式の関係により波長５３２ｎｍのＹ
ＡＧレーザー第２高調波が発生し、更に、ＹＡＧレーザ
ー第２高調波は、ダイクロイックミラー２１、レンズ２
３等の光学素子によって励起光として差周波発生用チタ
ンサファイアレーザー発振器２４へ導かれ、該差周波発
生用チタンサファイアレーザー発振器２４から波長１０
５０ｎｍのチタンサファイアレーザー基本波が発振さ
れ、該チタンサファイアレーザー基本波はダイクロイッ
クミラー２６を透過して差周波発生器２７へ入射する。

【００５０】差周波発生器２７は、波長１０５０ｎｍの
チタンサファイアレーザー基本波と波長３９３．７５ｎ
ｍのチタンサファイアレーザー第２高調波が入射する
と、チタンサファイアレーザー基本波と、チタンサファ
イアレーザー第２高調波により、前記（３）式の関係に
よって波長６３０ｎｍのレーザービームを発生させ、差
周波発生器２７を透過したチタンサファイアレーザー基
本波、チタンサファイアレーザー第２高調波と、差周波
発生器２７によって発生した波長６３０ｎｍのレーザー
ビームは、プリズム２８によって分離される。

【００５１】更に、プリズム２８によって分離された波
長６３０ｎｍのレーザービームは、ファイバースコープ
５４の照射用光ファイバー５９を介して病巣部５５へ照
射され、波長６３０ｎｍのレーザービームによってヘマ
トポルフィリン誘導体を吸収した癌組織が破壊される。

【００５２】なお、本実施例においては、ヘマトポルフ
ィリン誘導体を用いる場合について説明したが、他の充
感受性物質を使用する際には、波長選択素子１４，４５
の光学的特性を変化させることにより、チタンサファイ
アレーザー第２高調波発生器１７、差周波発生器２７に
よって発生するレーザー光の波長を前記光感受性物質の
特性に合致するように変化させればよい。

【００５３】図３は本発明の癌の治療装置の第２の実施
例であり、本実施例は本発明の請求項２及び３に対応す
る。

【００５４】なお、図３において、固体レーザー発生装
置５１は図１、図２に示すものと同一の構成を有し、ま
た、図１及び図２と同一の符号を付した部分は同一物を
表わしている。

【００５５】８０は、病巣部５５の観察、診断、及び治
療を行うためのファイバースコープであり、該ファイバ
ースコープ８０は図１に示すファイバースコープ５４
に、診断用光ファイバー８１を加えた構成を有してい
る。

【００５６】ファイバースコープ８０に照射用の光を供
給する照明用キセノンランプ５６には、照明用の光を断
続的に病巣部５５へ導くためのオプティカルチョッパー
９３が設けられている。

【００５７】オプティカルチョッパー９３は所要箇所に
開口を設けた円盤を有し、該円盤をモータ９４によって
回転させることにより、照明用キセノンランプ５６の光
を断続的に病巣部５５へ導くようになっている。

【００５８】８２は病巣部５５を観察し、また、診断す
るための画像表示装置であり、該画像表示装置８２は、
観察用光ファイバー５８を介して病巣部５５の撮影を行
い、画像信号７０を出力するカラーテレビカメラ６３
と、観察用光ファイバー５８を介して病巣部５５が発す
る蛍光を受光したうえ増幅し、蛍光増幅信号８３を出力
する光増幅部８４と、該光増幅部８４が出力した蛍光増
幅信号８３を画像信号８５に変換する高感度カメラ８６
と、診断用光ファイバー８１を介して病巣部５５が発す
る蛍光を受光したうえ、所定の波長を有する蛍光を分光
する分光器８７と、該分光器８７が分光した蛍光９０を
受光したうえ増幅し、画像信号８８を出力する光増幅部
８９と、前記カラーテレビカメラ６３が出力した画像信
号７０、高感度カメラ８６が出力した画像信号８５、光
増幅部８９が出力した画像信号８８を画像処理信号９１
に変換する画像処理部９２と、該画像処理部９２が出力
した画像処理信号９１に基づき、病巣部５５の実写画
像、蛍光部位画像、あるいは病巣部５５から発生した蛍
光の光スペクトルの分布グラフを映像表示するテレビモ
ニター６５と、前記画像処理部９２が出力した画像処理
信号９１を記録し、且つ記録した画像処理信号９１を画
像処理部９２を介してテレビモニター６５へ送り、病巣
部５５の実写画像、蛍光部位画像、あるいは蛍光の光ス
ペクトルの分布をテレビモニター６５により再生映像表
示させ得る記録再生装置６６を備えている。

【００５９】更に、図３において、９５は取扱い者が観
察、診断、治療の目的に応じて入力操作を行うことによ
り、前記固体レーザー発生装置５１、画像表示装置６
２、照明用キセノンランプ５６、オプティカルチョッパ
ー９３等を作動させるための指令信号９６を出力する操
作パネル、９７は前記指令信号９６に基づき、固体レー
ザー発生装置５１を作動させるための作動信号７３をＹ
ＡＧレーザー発生部５２へ、また、画像表示装置８２を
作動させるための作動信号７４を画像処理部９２へ、更
に、照明用キセノンランプ５６に点灯指示信号７５を出
力するコンピューターである。

【００６０】更にまた、コンピューター９７は、観察、
診断、治療の目的に応じて切換信号９８を出力するよう
になっている。

【００６１】９９は前記切換信号９８に基づき指令信号
１００，１０１を出力する切換装置であり、指令信号１
００に基づき、オプティカルチョッパー９３のモータ９
４が作動し、また、指令信号１０１に基づいて光増幅部
８４、分光器８７のシャッター１０２，１０３が作動す
るようになっている。

【００６２】以下、本実施例の作動を説明する。

【００６３】なお、本実施例において、病巣部５５の治
療を行う際の作動は、前述した本発明の第１の実施例の
装置と同様であるので、病巣部５５の治療を行う際の作
動に関する説明は省略する。

【００６４】病巣部５５が癌組織に侵されているか否か
を診断する際には、図２に示すチタンサファイヤレーザ
ー発振器９の波長選択素子１４の角度を、波長８２０ｎ
ｍのレーザー光が透過し、且つ他の波長のレーザー光を
吸収するように設定しておく（波長８２０ｎｍのレーザ
ー光からチタンサファイアレーザー第２高調波発生器１
７によって前記（１）式の関係により波長４１０ｎｍの
レーザー光が発生する）。

【００６５】更に、癌組織に対して親和性を有する光感
受性物質であるヘマトポルフィリン誘導体（ＨＰＤ）
を、患者の血管へ注入しておく。

【００６６】もし、病巣部５５が癌組織に侵されていた
とすると、ヘマトポルフィリン誘導体は癌組織に吸収さ
れる。

【００６７】また、ヘマトポルフィリン誘導体を吸収し
た病巣部５５に波長４１０ｎｍのレーザービームを照射
すると、病巣部５５から波長６３０ｎｍの蛍光が発生す
る。

【００６８】ヘマトポルフィリン誘導体を注入したなら
ば、ファイバースコープ８０をその先端部が病巣部５５
とほぼ対峙するように位置させる。

【００６９】この状態で操作パネル９５を操作すること
により、該操作パネル９５から画像表示装置８２を作動
させるための指令信号９６をコンピューター９７へ出力
させ、また、切換装置９９へ切換信号９８を出力させて
切換装置９９が出力する指令信号１０１により分光器８
７のシャッター１０３を開放し、光増幅部８４のシャッ
ター１０２を開放させる。

【００７０】更に、操作パネル９５を操作することによ
り、該操作パネル９５から固体レーザー発生装置５１を
作動させるための指令信号７２をＹＡＧレーザー発生部
５２へ出力させる。

【００７１】ＹＡＧレーザー発生部５２に作動信号７３
が入力されると、ＹＡＧレーザー発振器１が作動し、前
述した本発明の第１の実施例の装置と同様に固体レーザ
ー発生装置５１から波長５３２ｎｍのレーザービームが
発生する。

【００７２】波長５３２ｎｍのレーザービームは、チタ
ンサファイアレーザー発振器９の発振用チタンサファイ
アレーザーロッド１０へ入射し、該発振用チタンサファ
イアヤレーザーロッド１０によって波長６７０〜１１０
０ｎｍのチタンサファイアレーザー基本波が発振され、
該チタンサファイアレーザー基本波はフロントミラー１
２、エンドミラー１３によって共振される際に、波長８
２０ｎｍのチタンサファイアレーザー基本波のみが波長
選択素子１４を通過し、よって、チタンサファイアレー
ザー発振器９から波長８２０ｎｍのチタンサファイアレ
ーザー基本波が発生する。

【００７３】波長８２０ｎｍのチタンサファイアレーザ
ー基本波は、チタンサファイアレーザー第２高調波発生
器１７へ入射し、該チタンサファイアレーザー第２高調
波発生器１７によって、前記（１）式の関係により波長
４１０ｎｍのチタンサファイアレーザー第２高調波が発
生する。

【００７４】チタンサファイアレーザー第２高調波は、
チタンサファイアレーザー第３高調波発生器１８へ入射
し、該チタンサファイアレーザー第３高調波発生器１８
を透過したチタンサファイア第２高調波はプリズム１９
によって他の波長のレーザービームと分離される。

【００７５】更に、プリズム１９によって分離された波
長４１０ｎｍのレーザービームは、ファイバースコープ
８０の照射用光ファイバー５９を介して病巣部５５へ照
射される。

【００７６】このとき、病巣部５５が癌組織に侵されて
いると、ヘマトポルフィリン誘導体を吸収した病巣部５
５から波長６３０ｎｍの蛍光が発生する。

【００７７】病巣部５５が蛍光を発すると、分光器８７
が蛍光を受光して波長６３０ｎｍの蛍光を分光し、分光
器８７によって分光された波長６３０ｎｍの蛍光は、光
増幅部８９により増幅されたうえ、画像信号８８として
画像処理部９２へ入力される。

【００７８】更に、画像処理部９２は、画像信号８８を
変換した画像処理信号９１をテレビモニター６５へ出力
し、該テレビモニター６５は前記画像処理信号９１に基
づき、病巣部５５から発生した蛍光の光スペクトルの分
布がグラフ表示される。

【００７９】また、病巣部５５全体に対する癌組織の割
合を観察する際には、操作パネル９５を操作することに
より、分光器８７のシャッター１０３を閉止し、光増幅
部８４のシャッター１０２を開放し、固体レーザー発生
装置５１によって波長４１０ｎｍのレーザービームを発
生させ、該レーザービームをファイバースコープ８０に
よって病巣部５５へ照射する。

【００８０】このとき、病巣部５５が癌組織に侵されて
いると、ヘマトポルフィリン誘導体を吸収した病巣部５
５から波長６３０ｎｍの蛍光が発生する。

【００８１】病巣部５５が蛍光を発すると、光増幅部８
４が蛍光を受光して蛍光増幅信号８３を出力し、高感度
カメラ８６が蛍光増幅信号８３を画像信号８５に変換す
る。

【００８２】更に、画像処理部９２が画像信号８５を変
換した画像処理信号９１がテレビモニター６５へ出力さ
れ該テレビモニター６５は画像処理信号９１に基づき、
病巣部５５の蛍光部位を画像表示する。

【００８３】図４及び図５は本発明の癌の治療装置の第
３の実施例であり、本実施例は本発明の請求項４に対応
する。

【００８４】なお、図４及び図５において、ファイバー
スコープ５４、照明用キセノンランプ５６、画像表示装
置６２、操作パネル６８、制御装置６９は、図１及び図
２に示すものと同一の構成を有し、また、図４及び図５
の図中、図１及び図２と同一の符号を付した部分は同一
物を表わしている。

【００８５】７６は固体レーザー発生装置であり、該固
体レーザー発生装置７６は、所定の波長のレーザービー
ムを発生させるＹＡＧレーザー発生部７７と、該ＹＡＧ
レーザー発生部７７によって発生したレーザービームに
より励起され、所定の波長のレーザービームを発生させ
るチタンサファイアレーザー発生部７８と、前記ＹＡＧ
レーザー発生部５２によって発生したレーザービームよ
り所定の波長のレーザービームを発生させる光パラメト
リック発振部７９とから構成されている。

【００８６】以下、前記固体レーザー発生装置７６のＹ
ＡＧレーザー発生部７７の構成を図４により説明する。

【００８７】２９はＹＡＧレーザー第２高調波発生器２
によって発生した波長５３２ｎｍのＹＡＧレーザー第２
高調波と、ＹＡＧレーザー第２高調波発生器２において
変換されずに残った波長１０６４ｎｍのＹＡＧレーザー
基本波の双方を反射させる全反射ミラー、３０はＹＡＧ
レーザー基本波の偏光面はそのままでＹＡＧレーザー第
２高調波の偏光面のみを９０゜回転させ得る波長板４７
とダイクロイック偏光ミラー３１と該ダイクロイック偏
光ミラー３１による反射光を遮断し得るビームダンパー
３２等を備えた光路切替スイッチであり、前記ダイクロ
イック偏光ミラー３１には、全反射ミラー２９によって
反射したＹＡＧレーザー第２高調波とＹＡＧレーザー基
本波が入射するようになっている。

【００８８】光路切替スイッチ３０は、ダイクロイック
偏光ミラー３１からの反射光がビームダンパー３２によ
って遮断されない状態では、ダイクロイック偏光ミラー
３１に入射したＹＡＧレーザー第２高調波、ＹＡＧレー
ザー基本波の双方を反射し、また、ビームダンパー３２
によってダイクロイック偏光ミラー３１からの反射光が
遮断される状態では、ダイクロイック偏光ミラー３１に
入射したＹＡＧレーザー基本波とＹＡＧレーザー第２高
調波のうち、ＹＡＧレーザー基本波成分を反射しＹＡＧ
レーザー第２高調波のみを透過させるようになってい
る。

【００８９】３３は光路切替スイッチ３０によって反射
したＹＡＧレーザー第２高調波とＹＡＧレーザー基本波
から前記（２）式の関係によって波長３５５ｎｍのレー
ザー光（ＹＡＧレーザー第３高調波）を発生させるＹＡ
Ｇレーザー第３高調波発生器、３４はＹＡＧレーザー第
３高調波発生器３３において第３高調波に変換されずに
残ったＹＡＧレーザー基本波、ＹＡＧレーザー第２高調
波及びＹＡＧレーザー第３高調波発生器３３によって発
生したＹＡＧレーザー第３高調波のうち基本波成分及び
第２高調波成分を透過させ、第３高調波成分のみを反射
するダイクロイックミラー、３５はダイクロイックミラ
ー３４によって反射されるＹＡＧレーザー第３高調波を
反射する全反射ミラー、３６はダイクロイックミラー３
４を透過したＹＡＧレーザー基本波、ＹＡＧレーザー第
２高調波を遮断するビームダンパーである。

【００９０】次に、チタンサファイアレーザー発生部７
８の構成を説明する。

【００９１】チタンサファイアレーザー発生部７８は、
図２に示すチタンサファイアレーザー発生部５３から、
差周波発生用チタンサファイアレーザー発振器２４、ダ
イクロイックミラー２５，２６、差周波発生器２７、ペ
リンブロカプリズム２８を省いた構成を有し、また、チ
タンサファイアレーザー発振器９、チタンサファイアレ
ーザー第２高調波発生器１７、チタンサファイアレーザ
ー第３高調波発生器１８、ペリンブロカプリズム１９
は、図２に示すものと同様に構成されている。

【００９２】更に、光パラメトリック発振部７９の構成
を説明する。

【００９３】３７はＢＢＯ結晶等の非線形光学結晶３
８、フロントミラー３９、エンドミラー４０等を備え、
全反射ミラー３５によって反射したＹＡＧレーザー第３
高調波から、１／λ₉＝１／λ₇＋１／λ₈…（４）（λ₉：励起光波（例えばＹＡＧレーザー第３高調
波）、λ₇，λ₈：発生す光波）の関係（光パラメトリッ
ク発振）によって、λ₇に相当する波長のレーザー光
と、λ₈に相当する波長のレーザー光を発生させる光パ
ラメトリック発振器、４６は光パラメトリック発振器３
７によって発生したレーザー光（λ₇、λ₈に相当する波
長の光）を、光パラメトリック発振器３７によって変換
されなかったＹＡＧレーザー第３高調波と分離するペリ
ンブロカプリズムである。

【００９４】前記非線形光学結晶３８では、前記（４）
式における励起波長λ₉が決まれば結晶の角度によって
自動的に発生波長λ₇，λ₈が定まるようになっている。

【００９５】以下、本実施例の作動を説明する。

【００９６】病巣部５５の治療を行う際には、図５に示
す非線形光学結晶３８の結晶の角度を、前記（４）式の
λ₇あるいはλ₈の一方が６３０ｎｍになるように設定
し、また、光路切替スイッチ３０のブロック板３２を、
ダイクロイックミラー３１によるレーザービームの反射
を抑止しないように位置設定しておく。

【００９７】この状態で、ＹＡＧレーザー発振器１によ
って波長１０６４ｎｍのＹＡＧレーザー基本波を発振さ
せると、ＹＡＧレーザー第２高調波発生器２によって、
ＹＡＧレーザー基本波より波長５３２ｎｍのＹＡＧレー
ザー第２高調波が発生し、該ＹＡＧレーザー第２高調波
及びＹＡＧレーザー第２高調波発生器２を透過したＹＡ
Ｇレーザー基本波は、全反射ミラー２９、ダイクロイッ
クミラー３１によって反射してＹＡＧレーザー第３高調
波発生器３３へ入射し、該ＹＡＧレーザー第３高調波発
生器３３によって、ＹＡＧレーザー基本波、ＹＡＧレー
ザー第２高調波より、前記（２）式の関係により波長３
５５ｎｍのＹＡＧレーザー第３高調波が発生するととも
に、ＹＡＧレーザー基本波、ＹＡＧレーザー第２高調波
がＹＡＧレーザー第３高調波発生器３３を透過する。

【００９８】ＹＡＧレーザー第３高調波発生器３３によ
って発生したＹＡＧレーザー第３高調波と、ＹＡＧレー
ザー第３高調波発生器３３を透過したＹＡＧレーザー基
本波、ＹＡＧレーザー第２高調波は全反射ミラー３４に
よって反射してダイクロイックミラー３５へ入射し、Ｙ
ＡＧレーザー基本波、ＹＡＧレーザー第２高調波はダイ
クロイックミラー３５を透過してビームダンパー３６に
より遮断され、一方、ＹＡＧレーザー第３高調波はダイ
クロイックミラー３５によって反射し、光パラメトリッ
ク発振器３７へ入射する。

【００９９】光パラメトリック発振器３７にＹＡＧレー
ザー第３高調波が入射すると、前記（４）式の関係によ
って、ＹＡＧレーザー第３高調波より、波長６３０ｎｍ
のレーザービームと、波長８１３ｎｍのレーザービーム
が発生するとともに、ＹＡＧレーザー第３高調波が光パ
ラメトリック発振器３７を透過し、光パラメトリック発
振器３７によって発生した波長６３０ｎｍのレーザービ
ーム、波長８１３ｎｍのレーザービームと、光パラメト
リック発振器３７を透過したＹＡＧレーザー第３高調波
は、プリズム４６に入射して分離される。

【０１００】更に、プリズム４６によって分離された波
長６３０ｎｍのレーザービームは、ファイバースコープ
５４の照射用光ファイバー５９を介して病巣部５５へ照
射され、波長６３０ｎｍのレーザービームによってヘマ
トポルフィリン誘導体を吸収した癌組織が破壊される。

【０１０１】なお、本実施例においは、ヘマトポルフィ
リン誘導体を用いる場合について説明したが、他の光感
受性物質を使用する際には、非線形光学結晶３８の角度
を変化させることにより、光パラメトリック発振器３７
によって発生するレーザービームの波長を、前記光感受
性物質の特性に合致するように変化させればよい。

【０１０２】図６は本発明の癌の治療装置の第４の実施
例であり、本実施例は本発明の請求項５及び６に対応す
る。

【０１０３】本実施例は、図３に示す癌の治療装置の固
体レーザー発生装置５１を、図４に示す固体レーザー発
生装置７６に置換した構成を有しており、本実施例の装
置によっても、前述した図３に示す装置と同様な作用効
果を奏し得る。

【０１０４】なお、本発明は上述した実施例のみに限定
されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内
で種々変更を加え得ることは勿論である。

【０１０５】

【発明の効果】本発明の癌の治療装置によれば、下記の
ような種々の優れた効果を奏し得る。

【０１０６】（１）本発明の請求項１から６に記載した
癌の治療装置のいずれにおいても、病巣部に照射するレ
ーザービームを固体レーザー発生装置により発生させる
ので、色素溶液の循環装置、色素の交換、色素の交換時
における色素循環系の洗浄が不要になって、装置のメン
テナンスが容易に行え、可燃性の溶剤の使用や劣化した
色素溶液の処理作業がなくなるうえ、レーザー媒質の寿
命が長い。

【０１０７】（２）本発明の請求項１から３に記載した
癌の治療装置では、波長選択素子の角度を変化させるこ
とにより、発生するレーザービームの波長を変えること
ができるので、種々の光感受性物質に対応することがで
きる。

【０１０８】（３）本発明の請求項４から６に記載した
癌の治療装置では、光パラメトリック発振器の光学的特
性を変化させることにより、発生するレーザービームの
波長を変えることができるので、種々の光感受性物質に
対応することができる。

【０１０９】（４）本発明の請求項２，３，５，６に記
載した癌の治療装置では、癌の治療に加えて、癌の診断
を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の癌の治療装置の第１の実施例の概念図
である。

【図２】図１に示す固体レーザー発生装置の概念図であ
る。

【図３】本発明の癌の治療装置の第２の実施例の概念図
である。

【図４】本発明の癌の治療装置の第３の実施例の概念図
である。

【図５】図４に示す固体レーザー発生装置の概念図であ
る。

【図６】本発明の癌の治療装置の第４の実施例の概念図
である。

【符号の説明】

１ＹＡＧレーザー発振器２ＹＡＧレーザー第２高調波発生器９チタンサファイアレーザー発振器１７チタンサファイアレーザー第２高調波発生器２０差周波発生用ＹＡＧレーザー第２高調波発生器２４差周波発生用チタンサファイアレーザー発振器２７差周波発生器３３ＹＡＧレーザー第３高調波発生器３７光パラメトリック発振器５１，７６固体レーザー発生装置５４，８０ファイバースコープ５５病巣部６２，８２画像表示装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者天野壯泰東京都江東区豊洲三丁目１番15号石川島播磨重工業株式会社東二テクニカルセンター内 (72)発明者塩崎宏行東京都江東区豊洲三丁目１番15号石川島播磨重工業株式会社東二テクニカルセンター内 (72)発明者森実紀夫東京都江東区豊洲三丁目１番15号石川島播磨重工業株式会社東二テクニカルセンター内 (72)発明者出川定男東京都江東区豊洲三丁目１番15号石川島播磨重工業株式会社東二テクニカルセンター内 (72)発明者加藤治文東京都新宿区北新宿１−30−15−305

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ＹＡＧレーザー基本波を発振するＹＡＧ
レーザー発振器１と、該ＹＡＧレーザー発振器１により
発振されたＹＡＧレーザー基本波からＹＡＧレーザー第
２高調波を発生させるＹＡＧレーザー第２高調波発生器
２と、該ＹＡＧレーザー第２高調波発生器２により発生
したＹＡＧレーザー第２高調波によって励起され、チタ
ンサファイアレーザー基本波を発振するチタンサファイ
アレーザー発振器９と、該チタンサファイアレーザー発
振器９により発振されたチタンサファイアレーザー基本
波からチタンサファイアレーザー第２高調波を発生させ
るチタンサファイアレーザー第２高調波発生器１７と、
前記ＹＡＧレーザー第２高調波発生器２においてＹＡＧ
レーザー第２高調波に変換されなかったＹＡＧレーザー
基本波成分からＹＡＧレーザー第２高調波を発生させる
差周波発生用ＹＡＧレーザー第２高調波発生器２０と、
該差周波発生用ＹＡＧレーザー第２高調波発生器２０に
より発生したＹＡＧレーザー第２高調波によって励起さ
れ、チタンサファイアレーザー基本波を発振する差周波
発生用チタンサファイアレーザー発振器２４と、該差周
波発生用チタンサファイアレーザー発振器２４によって
発振されたチタンサファイアレーザー基本波、及び前記
チタンサファイアレーザー第２高調波発生器１７によっ
て発生したチタンサファイアレーザー第２高調波から差
周波レーザー光を発生させる差周波発生器２７とを備え
た固体レーザー発生装置５１を有し、該固体レーザー発
生装置５１によって発生したレーザービームを病巣部５
５へ照射し得、且つ病巣部５５を観察するためのファイ
バースコープ５４と、該ファイバースコープ５４を介し
て病巣部５５の撮影を行い、該病巣部５５の実写画像を
表示する画像表示装置６２とを備えたことを特徴とする
癌の治療装置。
【請求項２】請求項１に記載の癌の治療装置におい
て、画像表示装置８２に、ファイバースコープ８０を介
して病巣部５５の撮影を行い、該病巣部５５から発した
蛍光の光スペクトラム分布を図形表示する機能を付加し
たことを特徴とする癌の治療装置。
【請求項３】請求項１に記載の癌の治療装置におい
て、画像表示装置８２に、ファイバースコープ８０を介
して病巣部５５の撮影を行い、該病巣部５５から発した
蛍光の部位を図形表示する機能を付加したことを特徴と
する癌の治療装置。
【請求項４】ＹＡＧレーザー基本波を発振するＹＡＧ
レーザー発振器１と、該ＹＡＧレーザー発振器１により
発振されたＹＡＧレーザー基本波からＹＡＧレーザー第
２高調波を発生させるＹＡＧレーザー第２高調波発生器
２と、該ＹＡＧレーザー第２高調波発生器２から発生し
たＹＡＧレーザー第２高調波によって励起され、チタン
サファイアレーザー基本波を発振するチタンサファイア
レーザー発振器９と、該チタンサファイアレーザー発振
器９により発振されたチタンサファイアレーザー基本波
からチタンサファイアレーザー第２高調波を発生させる
チタンサファイアレーザー第２高調波発生器１７と、前
記ＹＡＧレーザー第２高調波発生器２において第２高調
波に変換されずに残ったＹＡＧレーザー基本波、及びＹ
ＡＧレーザー第２高調波発生器２により発生したＹＡＧ
レーザー第２高調波によって、ＹＡＧレーザー第３高調
波を発生させるＹＡＧレーザー第３高調波発生器３３
と、該ＹＡＧレーザー第３高調波発生器３３により発生
したＹＡＧレーザー第３高調波によって、光パラメトリ
ック発振レーザー光を発生させる光パラメトリック発振
器３７とを備えた固体レーザー発生装置７６を有し、該
固体レーザー発生装置７６によって発生したレーザービ
ームを病巣部５５へ照射し得、且つ病巣部５５を観察す
るためのファイバースコープ５４と、該ファイバースコ
ープ５４を介して病巣部５５の撮影を行い、該病巣部５
５の実写画像を表示する画像表示装置６２とを備えたこ
とを特徴とする癌の治療装置。
【請求項５】請求項４に記載の癌の治療装置におい
て、画像表示装置８２に、ファイバースコープ８０を介
して病巣部５５の撮影を行い、該病巣部５５から発した
蛍光の光スペクトラム分布を図形表示する機能を付加し
たことを特徴とする癌の治療装置。
【請求項６】請求項４に記載の癌の治療装置におい
て、画像表示装置８２に、ファイバースコープ８０を介
して病巣部５５の撮影を行い、該病巣部５５から発した
蛍光の部位を図形表示する機能を付加したことを特徴と
する癌の治療装置。