JPH05341852A - るつぼ液レベルモニタ装置 - Google Patents
るつぼ液レベルモニタ装置Info
- Publication number
- JPH05341852A JPH05341852A JP15337492A JP15337492A JPH05341852A JP H05341852 A JPH05341852 A JP H05341852A JP 15337492 A JP15337492 A JP 15337492A JP 15337492 A JP15337492 A JP 15337492A JP H05341852 A JPH05341852 A JP H05341852A
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- metal
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 るつぼ内の溶融金属の液レベル状態を長期間
安定して判断できるるつぼ液レベルモニタ装置を提供す
る。 【構成】 るつぼ１２内の金属原料１１を電子ビーム等
で加熱溶融し金属蒸気を発生させる金属蒸気発生装置に
設けられ、レーザ光１５をるつぼ内金属表面上に導く反
射ミラー１７と、るつぼ内金属表面からの反射光１８を
テレビモニタ２２に導くミラー１９，２０と、テレビモ
ニタ２２からの出力を画像処理する画像処理装置２３と
を具えてなり、るつぼ内１２の液面を監視するるつぼ液
レベルモニタ装置において、前記ミラー１７，１９の反
射面側に真空容器外から操作により光路を遮るシャッタ
３０，３１を設けてなり、前記画像処理２３への映像信
号の取り込み中にのみシャッタ３０，３１を開放し、画
像処理実行中にはシャッタを閉じる。
安定して判断できるるつぼ液レベルモニタ装置を提供す
る。 【構成】 るつぼ１２内の金属原料１１を電子ビーム等
で加熱溶融し金属蒸気を発生させる金属蒸気発生装置に
設けられ、レーザ光１５をるつぼ内金属表面上に導く反
射ミラー１７と、るつぼ内金属表面からの反射光１８を
テレビモニタ２２に導くミラー１９，２０と、テレビモ
ニタ２２からの出力を画像処理する画像処理装置２３と
を具えてなり、るつぼ内１２の液面を監視するるつぼ液
レベルモニタ装置において、前記ミラー１７，１９の反
射面側に真空容器外から操作により光路を遮るシャッタ
３０，３１を設けてなり、前記画像処理２３への映像信
号の取り込み中にのみシャッタ３０，３１を開放し、画
像処理実行中にはシャッタを閉じる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空中でるつぼ内の溶
融金属を電子ビーム等で加熱して金属蒸気を発生させる
装置に使用されるるつぼ内の液レベルを監視するるつぼ
液レベルモニタ監視装置に関する。
融金属を電子ビーム等で加熱して金属蒸気を発生させる
装置に使用されるるつぼ内の液レベルを監視するるつぼ
液レベルモニタ監視装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空容器内に設けられたるつぼ内の溶融
金属の液面を電子ビームで加熱して温度を上昇させて金
属蒸気を発生させ、当該蒸発原料の薄膜をターゲットの
表面に真空蒸着させたりする蒸発装置では、金属蒸気発
生量に対応してるつぼ内の溶融金属が減少していくの
で、良好な運転条件を維持するためには運転中にるつぼ
内液レベルを監視し、るつぼ液面が低下すると、真空容
器に取り付けられた原料供給装置で原料金属を任意に補
給して、るつぼ内の溶融金属量を設定条件範囲内に維持
することが必要である。
金属の液面を電子ビームで加熱して温度を上昇させて金
属蒸気を発生させ、当該蒸発原料の薄膜をターゲットの
表面に真空蒸着させたりする蒸発装置では、金属蒸気発
生量に対応してるつぼ内の溶融金属が減少していくの
で、良好な運転条件を維持するためには運転中にるつぼ
内液レベルを監視し、るつぼ液面が低下すると、真空容
器に取り付けられた原料供給装置で原料金属を任意に補
給して、るつぼ内の溶融金属量を設定条件範囲内に維持
することが必要である。
【０００３】この従来におけるるつぼ液レベルモニタ監
視装置の概略を図３に示す。同図に示すように、図示し
ない真空排気装置によって内部が真空引きされ得る真空
容器１０内には、溶融金属１１を投入したるつぼ１２
と、このるつぼ１２中の溶融金属１１を例えば電子ビー
ム１３によって加熱溶融させるための電子銃１４とが設
けられている。
視装置の概略を図３に示す。同図に示すように、図示し
ない真空排気装置によって内部が真空引きされ得る真空
容器１０内には、溶融金属１１を投入したるつぼ１２
と、このるつぼ１２中の溶融金属１１を例えば電子ビー
ム１３によって加熱溶融させるための電子銃１４とが設
けられている。
【０００４】また、真空容器１０の側壁には外部から投
射されるレーザー光１５を導入するレーザー導入口１６
が設けられている。
射されるレーザー光１５を導入するレーザー導入口１６
が設けられている。
【０００５】この導入されたレーザー光１５は反射ミラ
ー１７によってるつぼ１２内の溶融金属の表面に導か
れ、溶融金属１１の液表面での反射光１８は反射ミラー
１９，２０を介して出射口２１から出射され、テレビモ
ニタ２２でモニタされる。
ー１７によってるつぼ１２内の溶融金属の表面に導か
れ、溶融金属１１の液表面での反射光１８は反射ミラー
１９，２０を介して出射口２１から出射され、テレビモ
ニタ２２でモニタされる。
【０００６】このテレビモニタ２２に接続した画像処理
装置２３においてその状態を適宜画像化している。
装置２３においてその状態を適宜画像化している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来の液レベ
ルモニタ装置では、真空容器内のるつぼ内の金属表面に
光を導くためのミラー及びるつぼからの反射光をＴＶカ
メラ等へ導くためのミラーが蒸発金属の付着のため曇る
等の原因で、長時間運転が難しいという問題点がある。
ルモニタ装置では、真空容器内のるつぼ内の金属表面に
光を導くためのミラー及びるつぼからの反射光をＴＶカ
メラ等へ導くためのミラーが蒸発金属の付着のため曇る
等の原因で、長時間運転が難しいという問題点がある。
【０００８】本発明は上記問題に鑑み、るつぼ内の溶融
金属の液レベル状態を長期間に亘って安定して判断でき
る液レベルモニタ装置を提供することを目的とする。
金属の液レベル状態を長期間に亘って安定して判断でき
る液レベルモニタ装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明の第１の液レベルモニタ装置の構成は真空容器
内に配置されたるつぼ内の金属原料を電子ビーム等で加
熱溶融し金属蒸気を発生させる金属蒸気発生装置に設け
られ、レーザ光をるつぼ内金属表面上に導く反射ミラー
と、るつぼ内金属表面からの反射光を撮像装置に導くミ
ラーと、撮像装置からの出力を画像処理する画像処理装
置とを具えてなり、るつぼ内の液面を監視するるつぼ液
レベルモニタ装置において、前記ミラーの反射面側に真
空容器外から操作により光路を遮るシャッタを設けてな
り、前記画像処理への映像信号の取り込み中にのみシャ
ッタを開放し、画像処理実行中にはシャッタを閉じるこ
とを特徴とする。
の本発明の第１の液レベルモニタ装置の構成は真空容器
内に配置されたるつぼ内の金属原料を電子ビーム等で加
熱溶融し金属蒸気を発生させる金属蒸気発生装置に設け
られ、レーザ光をるつぼ内金属表面上に導く反射ミラー
と、るつぼ内金属表面からの反射光を撮像装置に導くミ
ラーと、撮像装置からの出力を画像処理する画像処理装
置とを具えてなり、るつぼ内の液面を監視するるつぼ液
レベルモニタ装置において、前記ミラーの反射面側に真
空容器外から操作により光路を遮るシャッタを設けてな
り、前記画像処理への映像信号の取り込み中にのみシャ
ッタを開放し、画像処理実行中にはシャッタを閉じるこ
とを特徴とする。
【００１０】また、本発明の第２の液レベルモニタ装置
の構成は真空容器内に配置されたるつぼ内の金属原料を
電子ビーム等で加熱溶融し金属蒸気を発生させる金属蒸
気発生装置に設けられ、レーザ光をるつぼ内金属表面上
に導く反射ミラーと、るつぼ内金属表面からの反射光を
撮像装置に導くミラーと、撮像装置からの出力を画像処
理する画像処理装置とを具えてなり、るつぼ内の液面を
監視するるつぼ液レベルモニタ装置において、前記ミラ
ーの反射面側に真空容器外から操作により光路を遮る巻
取式金網を設けたことを特徴とする。
の構成は真空容器内に配置されたるつぼ内の金属原料を
電子ビーム等で加熱溶融し金属蒸気を発生させる金属蒸
気発生装置に設けられ、レーザ光をるつぼ内金属表面上
に導く反射ミラーと、るつぼ内金属表面からの反射光を
撮像装置に導くミラーと、撮像装置からの出力を画像処
理する画像処理装置とを具えてなり、るつぼ内の液面を
監視するるつぼ液レベルモニタ装置において、前記ミラ
ーの反射面側に真空容器外から操作により光路を遮る巻
取式金網を設けたことを特徴とする。
【００１１】
【作用】レーザーを使ったるつぼ内の液レベルモニタ装
置で、真空容器内のるつぼ内の金属表面にレーザー光を
導くためのミラーとるつぼ内の金属表面からの反射光を
撮像装置へ導くためのミラーの曇りをレーザー光の光路
を遮るシャッタあるいは巻取式金網により減少させ、長
時間運転を可能とする。
置で、真空容器内のるつぼ内の金属表面にレーザー光を
導くためのミラーとるつぼ内の金属表面からの反射光を
撮像装置へ導くためのミラーの曇りをレーザー光の光路
を遮るシャッタあるいは巻取式金網により減少させ、長
時間運転を可能とする。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の好適な実施例を説明する。
【００１３】図１は本発明の第１の構成に係る実施例の
るつぼ液レベルモニタ装置の概略を示す。
るつぼ液レベルモニタ装置の概略を示す。
【００１４】同図に示すように、図示しない真空排気装
置によって内部が真空引きされ得る真空容器１０内に
は、溶融金属１１を投入したるつぼ１２と、このるつぼ
１２中の溶融金属１１を例えば電子ビーム１３によって
加熱溶融させるための電子銃１４とが設けられている。
置によって内部が真空引きされ得る真空容器１０内に
は、溶融金属１１を投入したるつぼ１２と、このるつぼ
１２中の溶融金属１１を例えば電子ビーム１３によって
加熱溶融させるための電子銃１４とが設けられている。
【００１５】また、真空容器１０の側壁には外部から投
射されるレーザー光１５を導入するレーザー導入口１６
が設けられている。
射されるレーザー光１５を導入するレーザー導入口１６
が設けられている。
【００１６】この導入されたレーザー光１５は反射ミラ
ー１７によってるつぼ１２内の溶融金属の表面に導か
れ、溶融金属１１の液表面での反射光１８は反射ミラー
１９，２０を介して出射口２１から出射され、テレビモ
ニタ２２でモニタされる。このテレビモニタ２２に接続
した画像処理装置２３においてその状態を適宜画像化し
ている。
ー１７によってるつぼ１２内の溶融金属の表面に導か
れ、溶融金属１１の液表面での反射光１８は反射ミラー
１９，２０を介して出射口２１から出射され、テレビモ
ニタ２２でモニタされる。このテレビモニタ２２に接続
した画像処理装置２３においてその状態を適宜画像化し
ている。
【００１７】前記ミラー１７，１９の反射面側には、シ
ャッタ３０，３１がレーザー光の光路を遮るように各々
設けられており、真空容器１０の外部に設けた駆動装置
３２，３３の操作により開閉するようにしている。
ャッタ３０，３１がレーザー光の光路を遮るように各々
設けられており、真空容器１０の外部に設けた駆動装置
３２，３３の操作により開閉するようにしている。
【００１８】このシャッタ３０，３１は、真空容器１０
の外部に設けられたテレビモニタ２２等に接続した画像
処理装置２３における演算処理によって、制御装置３４
と連動させて駆動装置３２，３３により開閉時間等を制
御されている。
の外部に設けられたテレビモニタ２２等に接続した画像
処理装置２３における演算処理によって、制御装置３４
と連動させて駆動装置３２，３３により開閉時間等を制
御されている。
【００１９】前記構成において、連続的に金属蒸気を発
生させている間において、るつぼ１２内の溶融金属１１
の液レベルを監視するには、ミラー１７，１９が蒸発金
属によって曇るのを防止するため、シャッタ３０，３１
によって閉じた状態としておく。
生させている間において、るつぼ１２内の溶融金属１１
の液レベルを監視するには、ミラー１７，１９が蒸発金
属によって曇るのを防止するため、シャッタ３０，３１
によって閉じた状態としておく。
【００２０】そして画像処理装置２３の演算処理による
指令によって画像処理装置２３へ画像処理信号を取り込
む瞬間のみ駆動装置３２，３３を駆動させてシャッタ３
０，３１を開放し、その他の状態の場合には、はシャッ
タ３０，３１を閉じた状態とする。
指令によって画像処理装置２３へ画像処理信号を取り込
む瞬間のみ駆動装置３２，３３を駆動させてシャッタ３
０，３１を開放し、その他の状態の場合には、はシャッ
タ３０，３１を閉じた状態とする。
【００２１】一度取り込んだ画像は、画像処理装置２３
のメモリに記録して表示装置に表示されるため、シャッ
タ３０，３１が閉じていても人間によるレベルの監視に
は支障をきたすことはない。
のメモリに記録して表示装置に表示されるため、シャッ
タ３０，３１が閉じていても人間によるレベルの監視に
は支障をきたすことはない。
【００２２】図２は本発明の第２の構成に係る実施例の
るつぼ液レベルモニタ装置の概略を示す。
るつぼ液レベルモニタ装置の概略を示す。
【００２３】尚、前述した図１に示するつぼ液レベルモ
ニタ装置と同一の部材には同一の符号を付してその説明
を省略する。図２に示すように、本実施例に係るるつぼ
液レベルモニタ装置においては、真空容器１０内のるつ
ぼ１２の映像をテレビモニタ２２に導くためのミラー１
７，１９の反射面側に巻取り式の金網３５，３６及び金
網３５，３６を一方に巻取る金網巻取手段３７，３８と
が設けられており、該金網３５，３６に蒸発した金属を
付着させ、ミラー１７，１９に付着する量を減らすよう
にしている。
ニタ装置と同一の部材には同一の符号を付してその説明
を省略する。図２に示すように、本実施例に係るるつぼ
液レベルモニタ装置においては、真空容器１０内のるつ
ぼ１２の映像をテレビモニタ２２に導くためのミラー１
７，１９の反射面側に巻取り式の金網３５，３６及び金
網３５，３６を一方に巻取る金網巻取手段３７，３８と
が設けられており、該金網３５，３６に蒸発した金属を
付着させ、ミラー１７，１９に付着する量を減らすよう
にしている。
【００２４】ミラー１７，１９に付着する蒸発金属を金
網３５，３６によって防止する結果、ミラーの曇りが低
下し、るつぼ１２内の液レベルの判定を安定して行うこ
とが可能となる。
網３５，３６によって防止する結果、ミラーの曇りが低
下し、るつぼ１２内の液レベルの判定を安定して行うこ
とが可能となる。
【００２５】また、金網３５は所定時間経過後、真空容
器１０の外部に設けた駆動装置３２，３３をモータ制御
装置３４の指令によって駆動させ、巻取手段３６を介し
て巻取ることで新しい網と交換するようにしている。
器１０の外部に設けた駆動装置３２，３３をモータ制御
装置３４の指令によって駆動させ、巻取手段３６を介し
て巻取ることで新しい網と交換するようにしている。
【００２６】尚、巻取り金網３５は真空容器１０内に配
設する他のミラーの前に設けてもよく、更には前記図１
で示したシャッタと併用して設置するようにしてもよ
い。
設する他のミラーの前に設けてもよく、更には前記図１
で示したシャッタと併用して設置するようにしてもよ
い。
【００２７】
【発明の効果】以上、実施例と共に述べたようにレーザ
ーを使ったるつぼ内の液レベルモニタ装置では、真空容
器内るつぼの映像を覗き窓へ導くためのミラーが曇る等
の原因で、るつぼ内の液レベルが判断出来なくなり、短
時間で生産を中止せざるとえなかったが、ミラーに蒸発
金属が付着しないようにシャッタ又は巻取り金網を用い
て防止することで長時間運転が可能となり、次の効果が
ある。 （１）真空容器の開放頻度が少なくなり、保守・補修時
間が短縮できる。 （２）ミラーの交換頻度が少なくなる。
ーを使ったるつぼ内の液レベルモニタ装置では、真空容
器内るつぼの映像を覗き窓へ導くためのミラーが曇る等
の原因で、るつぼ内の液レベルが判断出来なくなり、短
時間で生産を中止せざるとえなかったが、ミラーに蒸発
金属が付着しないようにシャッタ又は巻取り金網を用い
て防止することで長時間運転が可能となり、次の効果が
ある。 （１）真空容器の開放頻度が少なくなり、保守・補修時
間が短縮できる。 （２）ミラーの交換頻度が少なくなる。
【図１】本発明の第１の構成のるつぼ液レベルモニタ装
置の概略図である。
置の概略図である。
【図２】本発明の第２の構成のるつぼ液レベルモニタ装
置の概略図である。
置の概略図である。
【図３】従来技術のるつぼ液レベルモニタ装置の概略図
である。
である。
１０ 真空容器 １１ 溶融金属 １２ るつぼ １３ 電子ビーム １４ 電子銃 １５ レーザー光 １６ レーザー導入口 １７，１９，２０ 反射ミラー １８ 反射光 ２１ 出射口 ２２ テレビモニタ ２３ 画像処理装置 ３０，３１ シャッタ ３２，３３ 駆動装置 ３４ 制御装置 ３５，３６ 金網 ３７，３８ 金網巻取手段
Claims (2)
- 【請求項１】 真空容器内に配置されたるつぼ内の金属
原料を電子ビーム等で加熱溶融し金属蒸気を発生させる
金属蒸気発生装置に設けられ、レーザ光をるつぼ内金属
表面上に導く反射ミラーと、るつぼ内金属表面からの反
射光を撮像装置に導くミラーと、撮像装置からの出力を
画像処理する画像処理装置とを具えてなり、るつぼ内の
液面を監視するるつぼ液レベルモニタ装置において、 前記ミラーの反射面側に真空容器外から操作により光路
を遮るシャッタを設けてなり、前記画像処理への映像信
号の取り込み中にのみシャッタを開放し、画像処理実行
中にはシャッタを閉じることを特徴とするるつぼ液レベ
ルモニタ装置。 - 【請求項２】 真空容器内に配置されたるつぼ内の金属
原料を電子ビーム等で加熱溶融し金属蒸気を発生させる
金属蒸気発生装置に設けられ、レーザ光をるつぼ内金属
表面上に導く反射ミラーと、るつぼ内金属表面からの反
射光を撮像装置に導くミラーと、撮像装置からの出力を
画像処理する画像処理装置とを具えてなり、るつぼ内の
液面を監視するるつぼ液レベルモニタ装置において、 前記ミラーの反射面側に真空容器外から操作により光路
を遮る巻取式金網を設けたことを特徴とするるつぼ液レ
ベルモニタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15337492A JPH05341852A (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | るつぼ液レベルモニタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15337492A JPH05341852A (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | るつぼ液レベルモニタ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05341852A true JPH05341852A (ja) | 1993-12-24 |
Family
ID=15561065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15337492A Withdrawn JPH05341852A (ja) | 1992-06-12 | 1992-06-12 | るつぼ液レベルモニタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05341852A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2275588A1 (en) * | 2009-07-13 | 2011-01-19 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Vacuum vapor deposition apparatus |
| CN103572214A (zh) * | 2012-08-09 | 2014-02-12 | 三星显示有限公司 | 沉积装置及使用该沉积装置测量沉积材料的剩余量的方法 |
-
1992
- 1992-06-12 JP JP15337492A patent/JPH05341852A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2275588A1 (en) * | 2009-07-13 | 2011-01-19 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Vacuum vapor deposition apparatus |
| CN101956163A (zh) * | 2009-07-13 | 2011-01-26 | 三菱重工业株式会社 | 真空气相沉积装置 |
| CN103572214A (zh) * | 2012-08-09 | 2014-02-12 | 三星显示有限公司 | 沉积装置及使用该沉积装置测量沉积材料的剩余量的方法 |
| EP2695968A1 (en) * | 2012-08-09 | 2014-02-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Deposition apparatus and method of measuring the deposition material in it |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990831 |