JPH05339344A - 熱硬化性樹脂組成物、接着剤シート、接着剤付きポリイミドフィルム及び金属はく張りポリイミドフィルム - Google Patents

熱硬化性樹脂組成物、接着剤シート、接着剤付きポリイミドフィルム及び金属はく張りポリイミドフィルム

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JPH05339344A
JPH05339344A JP4153943A JP15394392A JPH05339344A JP H05339344 A JPH05339344 A JP H05339344A JP 4153943 A JP4153943 A JP 4153943A JP 15394392 A JP15394392 A JP 15394392A JP H05339344 A JPH05339344 A JP H05339344A
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JP
Japan
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general formula
bis
polyimide film
adhesive
diamino
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Application number
JP4153943A
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English (en)
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Takayuki Suzuki
隆之 鈴木
Masashi Tanaka
正史 田中
Shuichi Matsuura
秀一 松浦
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Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】 一般式(A)で表される構成単位を含むポリ
イミド、ポリマレイミド及びエポキシ樹脂を含有する樹
脂組成物。 一般式(A)中、Arは、一般式(B)又は(C)で表
される基であり、一般式(B)中、Zは−CO−、−S
2−、−O−、−S−、−(CH2m−、−NHCO
−、−C(CH32−、−C(CF32−、−COO−
を示す。一般式(C)中、R1、R2、R3、及びR4は、
それぞれ独立に水素又は炭素数1〜4のアルキル基若し
くはアルコキシ基を示し、Xは−CH2−、−C(C
32−、−O−、−SO2−、−CO−、−NHCO
−を示す。 【効果】 180℃以下の温度で接着硬化でき、耐熱性
が良好である。フレキシブル印刷配線板基板や薄膜多層
基板を製造するときの、耐熱性接着剤として有用であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、低温で接着硬化できる
ポリイミド樹脂組成物に関する。本発明の樹脂組成物
は、印刷回路基板、TAB(Tape Automat
ed Bonding)用テープ、複合リ−ドフレ−
ム、積層材料などに用いることができる耐熱性に優れた
熱硬化性接着剤として有用である。
【0002】
【従来の技術】電子材料用の絶縁性接着剤として、アク
リル系、フェノール系、エポキシ系、ポリイミド系など
の接着剤が知られている。またホットメルト接着剤もこ
のような用途に使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする問題】ところが、アクリル
系、フェノール系及びエポキシ系の接着剤は、接着性に
優れているが、耐熱性が劣っている。ホットメルト接着
剤は、接着温度が300℃前後と高いため被着体および
加熱装置の制約を受け、ホットメルトであるため、接着
した後再び高温にさらすと接着剤が軟化し、強度を保て
ない。ポリイミド系接着剤は接着するために275℃、
5MPaという高温高圧を必要とする。本発明は、耐熱
性、接着性ともに優れ、かつ180℃以下の低温で接着
可能な熱硬化性樹脂組成物及びこの熱硬化性樹脂組成物
の接着剤としての応用製品を提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式化5で
表される構成単位を含むポリイミド、一般式化8で表さ
れるポリマレイミド及びエポキシ樹脂を含有することを
特徴とする熱硬化性樹脂組成物である。
【0005】
【化5】 (一般式化5中、Arは、一般式化6又は化7で表され
る基であり、一般式化6で表される基が10〜100モ
ル%、一般式化7で表される基が90〜0モル%であ
る)
【0006】
【化6】 (一般式化6中、Zは−CO−、−SO2−、−O−、
−S−、−(CH2m−、−NHCO−、−C(C
32−、−C(CF32−、−COO−又は結合を示
し、mは1以上の整数であり、複数個のZはそれぞれ同
一でも異なっていてもよく、各ベンゼン環の水素は置換
基で適宜置換されていてもよい)
【0007】
【化7】 (一般式化7中、R1、R2、R3、及びR4は、それぞれ
独立に水素又は炭素数1〜4のアルキル基若しくはアル
コキシ基を示し、これらのうち少なくとも2個以上はア
ルキル基又はアルコキシ基であり、Xは−CH2−、−
C(CH32−、−O−、−SO2−、−CO−、−N
HCO−を示す)
【0008】
【化8】 (一般式化8中、kは2以上の整数であり、R5はk価
の炭素数2以上の基を示す)
【0009】前記一般式化6において、ベンゼン環に結
合していてもよい置換基としては、低級アルキル基例え
ば、メチル基、エチル基、イソプロピル基など、アルコ
キシ基例えば、メトキシ基、エトキシ基など、フッ素置
換アルキル基例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフ
ルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロ
ヘキシル基、パーフルオロオクチル基など及びハロゲン
元素例えば、フッ素、塩素、臭素など、があり、これら
の置換基が複数個ある場合、同一でも異なっていてもよ
い。
【0010】前記一般式化6で表される基が、一般式化
【0011】
【化9】 (一般式化9中、Z1、Z2及びZ3はそれぞれ独立に−
SO2−、−O−、−CO−又は−C(CH32−を示
す)で表される基である場合に、後記するマレイミドと
の組成物から得られる硬化物の耐溶剤性が優れ、特に好
ましい。
【0012】本発明のポリイミドは、3,3’,4,
4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物と、一
般式化10で表される化合物及び一般式化11で表され
る化合物とを反応させて製造することができる。
【0013】
【化10】 (一般式化10中、Z、n及びmは一般式化6と同じで
あり、Yはアミノ基又はイソシアネート基を示し、各ベ
ンゼン環の水素は一般式化6において、ベンゼン環に結
合していてもよい置換基として例示したような置換基で
適宜置換されていてもよい)
【0014】
【化11】 (一般式化11中、R1、R2、R2、R4及びXは、前記
一般式化7と同じであり、Yはアミノ基又はイソシアネ
ート基を示す)
【0015】前記の反応において酸二無水物として、
3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物以外の酸二無水物を、本発明の目的を損なわな
い範囲で併用してもよい。このような酸二無水物として
は、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,
3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,
3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸
二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルオキシテト
ラカルボン酸二無水物、4,4’−〔2,2,2−トリ
フルオロ−1−(トリフルオロメチル)エチリデン〕ビ
ス(1,2−ベンゼンジカルボン酸無水物)、エチレン
ビストリメリテート二無水物、カテコールビストリメリ
テート二無水物、レゾルシノールビストリメリテート二
無水物、ジヒドロキシベンゼンビストリメリテート二無
水物、ビスフェノールAビストリメリテートニ無水物、
テトラクロロビスフェノールAビストリメリテート二無
水物、テトラブロモビスフェノールAビストリメリテー
ト二無水物、ビフェニルビストリメリテート二無水物な
どがある。これらは、酸二無水物全量に対して50モル
%を超えないように、特に30モル%以下で使用するの
が好ましい。
【0016】前記一般式化10で表される化合物のう
ち、一般式化12で表される化合物が特に好ましい。
【0017】
【化12】 (一般式化12中、Z1、Z2及びZ3は前記一般式化9
と同じであり、Yはアミノ基又はイソシアネ−ト基を示
す)
【0018】前記した一般式化10で表される化合物の
うち、Yがアミノ基であるものとしては、次にに示すよ
うな化合物がある。
【0019】4,4’−ビス(3−アミノクミル)ベン
ゼン、4,3’−ビス(3−アミノクミル)ベンゼン、
3,3’−ビス(3−アミノクミル)ベンゼン、4,
4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,
3’−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、3,
3’−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス
〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、
ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホ
ン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕ケ
トン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕
ケトン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕エーテル、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕エーテル、2,2−ビス〔4−(3−アミノフ
ェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、ビス
〔4−(3−アミノフェノキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、ビス〔4−(3−アミノ
ベンゾイル)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(4−ア
ミノベンゾイル)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3
−アミノベンゾイル)フェニル〕ケトン、ビス〔4−
(4−アミノベンゾイル)フェニル〕ケトン、ビス〔4
−(3−アミノベンゾイル)フェニル〕エーテル、ビス
〔4−(4−アミノベンゾイル)フェニル〕エーテル、
2,2−ビス〔4−(3−アミノベンゾイル)フェニ
ル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノベンゾ
イル)フェニル〕プロパン、ビス〔4−(3−アミノフ
ェニルスルホニル)フェニル〕エーテル、ビス〔4−
(4−アミノフェニルスルホニル)フェニル〕エーテ
ル、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェノル〕ス
ルホン、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕ケトン、2,2−ビス〔4−(3−アミノフェニル
スルホニル)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェニルスルホニル)フェニル〕プロパ
ン、ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕エ
ーテル、ビス〔3−(3−アミノベンゾイル)フェニ
ル〕スルホン、ビス〔3−(3−アミノベンゾイル)フ
ェニル〕ケトン、ビス〔3−(3−アミノベンゾイル)
フェニル〕エーテル、ビス〔3−(3−アミノフェニル
スルホニル)フェニル〕エーテル、2,2−ビス〔3−
(3−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、4,
4’−ビス〔3−(4−アミノ−α,α’−ジメチルベ
ンジル)フェノキシ〕ジフェニルスルホン、4,4’−
ビス〔3−(4−アミノ−α,α’−ジメチルベンジ
ル)フェノキシ〕ベンゾフェノン、4,4’−ビス〔4
−(4−アミノ−α,α’−ジメチルベンジル)フェノ
キシ〕ジフェニルスルホン、4,4’−ビス〔4−(4
−アミノ−α,α’−ジメチルベンジル)フェノキシ〕
ベンゾフェノン、4−〔3−(4−アミノ−α,α’−
ジメチルベンジル)フェノキシ〕−4’−〔4−(4−
アミノ−α,α’−ジメチルベンジル)フェノキシ〕ジ
フェニルスルホン、4−〔3−(4−アミノ−α,α’
ジメチルベンジル)フェノキシ〕−4’−〔4−アミノ
−α,α’−ジメチルベンジル)フェノキシ〕ベンゾフ
ェノン、4,4’−ビス〔3−(3−アミノ−α,α’
−ジメチルベンジル)フェノキシ〕ジフェニルスルホ
ン、4,4’−ビス〔3−(3−アミノ−α,α’ジメ
チルベンジル)フェノキシ〕ベンゾフェノン、4,4’
−ビス〔2−(4−アミノ−α,α’−ジメチルベンジ
ル)フェノキシ〕ジフェニルスルホン、4,4’−ビス
〔2−(4−アミノ−α,α’−ジメチルベンジル)フ
ェノキシ〕ベンゾフェノン、3,3’−ビス〔3−(4
−アミノ−α,α’−ジメチルベンジル)フェノキシ〕
ジフェニルスルホン、3,3’−ビス〔3−(4−アミ
ノ−α,α’−ジメチルベンジル)フェノキシベンゾフ
ェノン。
【0020】前記した一般式化10で表される化合物の
うち、Yがイソシアネート基であるものとしては、上記
に例示したジアミンにおいて、アミノ基をイソシアネー
ト基に代えたものを挙げることができる。以下に若干の
例を挙げる。
【0021】ジフェニルメタンジイソシアネート、トル
イレンジイソシアネート、4,4’−ビス〔3−(4−
イソシアネート−α,α’−ジメチルベンジル)フェノ
キシ〕ジフェニルケトン、4,4’−ビス〔3−(4−
イソシアネート−α,α’−ジメチルベンジル)フェノ
キシ〕ジフェニルスルホン。
【0022】前記した一般式化11で表される化合物の
うち、Yがアミノ基であるものとしては、次に示すよう
な化合物がある。
【0023】4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’
−テトラメチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ
−3,3’,5,5’−テトラエチルジフェニルメタ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラ
n−プロピルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−
3,3’,5,5’−テトライソプロピルジフェニルメ
タン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テト
ラブチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,
3’−ジメチル−5,5’−ジエチルジフェニルメタ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチル−5,
5’−ジイソプロピルジフェニルメタン、4,4’−ジ
アミノ−3,3’−ジエチル−5,5’−ジイソプロピ
ルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,5−ジ
メチル−3’,5’−ジエチルジフェニルメタン、4,
4’−ジアミノ−3,5−ジメチル−3’,5’−ジイ
ソプロビルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−
3,5−ジエチル−3’,5’−ジイソプロピルジフェ
ニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,5−ジエチル−
3’,5’−ジブチルジフェニルメタン、4,4’−ジ
アミノ−3,5−ジイソプロピル−3’,5’−ジブチ
ルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−
ジイソプロピル−5,5’−ジブチルジフェニルメタ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチル−5,
5’−ジブチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ
−3,3’−ジエチル−5,5’−ジブチルジフェニル
メタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジメチルジフ
ェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジエチ
ルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−
ジn−プロピルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ
−3,3’−ジイソプロピルジフェニルメタン、4,
4’−ジアミノ−3,3’−ジブチルジフェニルメタ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5−トリメチルジ
フェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5−
トリエチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−
3,3’,5−トリn−プロピルジフェニルメタン、
4,4’−ジアミノ−3,3’,5−トリイソプロピル
ジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5
−トリブチルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−
3−メチル−3’−エチルジフェニルメタン、4,4’
−ジアミノ−3−メチル−3’−イソプロピルジフェニ
ルメタン、4,4’−ジアミノ−3−エチル−3’−イ
ソプロピルジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−3
−エチル−3’−イソプロピルジフェニルメタン、4,
4’−ジアミノ−3−イソプロピル−3’−ブチルジフ
ェニルメタン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス
(3,3’,5,5’−テトラメチルジフェニル)イソ
プロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(3,
3’,5,5’−テトラエチルジフェニル)イソプロパ
ン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(3,3’,
5,5’−テトラn−プロピルジフェニル)イソプロパ
ン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(3,3’,
5,5’−テトライソプロピルジフェニル)イソプロパ
ン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(3,3’,
5,5’−テトラブチルジフェニル)イソプロパン、
4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラメチ
ルジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−3,
3’,5,5’−テトラエチルジフェニルエーテル、
4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラn−
プロピルジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−
3,3’,5,5’−テトライソプロピルジフェニルエ
ーテル、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テ
トラブチルジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−
3,3’,5,5’−テトラメチルジフェニルスルホ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラ
エチルジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノ−3,
3’,5,5’−テトラn−プロピルジフェニルスルホ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラ
イソプロビルジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノ
−3,3’,5,5’−テトラブチルジフェニルスルホ
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラ
メチルジフェニルケトン、4,4’−ジアミノ−3,
3’,5,5’−テトラエチルジフェニルケトン、4,
4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラn−プロ
ピルジフェニルケトン、4,4’−ジアミノ−3,
3’,5,5’−テトライソプロピルジフェニルケト
ン、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラ
ブチルジフェニルケトン、4,4’−ジアミノ−3,
3’,5,5’−テトラメチルベンズアニリド、4,
4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テトラエチルン
ズアニリド、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’
−テトラn−プロピルベンズアニリド、4,4’−ジア
ミノ−3,3’,5,5’−テトライソプロピルベンア
ニリド、4,4’−ジアミノ−3,3’,5,5’−テ
トラブチルベンズアニリド。
【0024】前記した一般式化11で表される化合物の
うち、Yがイソシアネート基であるものとしては、上記
に例示したジアミンにおいて、アミノ基をイソシアネー
ト基に代えたものを挙げることができる。
【0025】一般式化10で表される化合物と他のジア
ミン又はジイソシアネート、一般式化11で表される化
合物と他のジアミン又はジイソシアネートを本発明の目
的を損なわない範囲で併用してもよい。この場合、他の
ジアミン又はジイソシアネートの量を、酸二無水物の反
応の相手の総量に対して30モル%以下とするのが好ま
しい。
【0026】このようなジアミンとしては、ジアミノジ
フェニルメタン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミ
ノジフェニルケトン、ジアミノジフェニルプロパン、フ
ェニルレンジアミン、トルエンジアミン、ジアミノジフ
ェニルスルフィド、ジアミノジフェニルヘキサフルオロ
プロパン、ジアミノジアルキルジフェニルメタンなどが
挙げられ、またジイソシアネートとしては、上記ジアミ
ンのアミノ基をイソシアネート基に代えたものが挙げら
れる。
【0027】一般式化10で表される化合物と一般式化
11で表される化合物は、一般式化10で表される化合
物を10〜100モル%、好ましくは50〜90モル
%、一般式化11で表される化合物が90〜0モル%、
好ましくは、50〜10モル%になるように使用する。
この比(化10/化11)が大きいと溶剤に対する溶解
性が低下し、小さいと硬化物の耐溶剤性が低下する。
【0028】一般式化5で表されるポリイミドは、酸二
無水物とジアミンとを反応させる場合、例えば、次のよ
うにして製造される。
【0029】酸二無水物とジアミンとを有機溶媒中、必
要に応じてトリブチルアミン、トリエチルアミン、亜リ
ン酸トリフェニルなどの触媒の存在下に100℃以上、
好ましくは180℃以上に加熱して直接ポリイミドとす
る。触媒は、反応成分の総量に対して0〜15重量%使
用するのが好ましく、特に0.01〜15重量%使用す
るのが好ましい。
【0030】酸二無水物とジアミンとを有機溶媒中10
0℃未満で反応させてポリイミドの前駆体であるポリア
ミド酸のワニスを製造し、この後、このワニスを加熱し
てイミド化するか、酸無水物例えば、、無水酢酸、無水
プロピオン酸、無水安息香酸など又はカルボジイミド化
合物例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの閉
環剤と必要に応じてピリジン、イソキノリン、トリメチ
ルアミン、アミノピリジン、イミダゾ−ルなどのの閉環
触媒を添加して化学閉環(イミド化)してポリイミドと
する。閉環剤及び閉環触媒は、それぞれ、酸無水物1モ
ルに対して1〜8モルの範囲内で使用するのが好まし
い。
【0031】有機溶媒としては、N−メチル−ピロリド
ン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ヘ
キサメチルリン酸トリアミド、1,3−ジメチル−2−
イミダゾリドンなどの非プロトン性極性溶媒、フェノ−
ル、クレゾ−ル、キシレノ−ル、p−クロルフェノ−ル
などのフェノ−ル系溶媒が使用される。この他、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、アセト
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテルアセテ−ト、メタ
ノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ル、塩化メチレ
ン、クロロホルム、トリクロロエチレン、テトラクロロ
エタンなどのうち、原料モノマ−及びポリイミド又はポ
リアミド酸を溶解するものを使用してもよく、原料モノ
マ−及びポリイミド又はポリアミド酸を溶解しないもの
であっても、溶解性を損なわない範囲で混合して用いて
もよい。
【0032】また、ポリイミド及びその前駆体であるポ
リアミド酸はの固相反応又は300℃以下での溶融反応
などによっても製造できる。
【0033】また、、酸二無水物とジイソシアネ−トと
を反応させ、一般式化5で表されるポリイミドを製造す
るには、前記酸二無水物とジアミンとを反応させ直接ポ
リイミドを得る方法に準じて行うことができる。ただ
し、反応温度は室温以上、特に60℃以上であれば充分
である。
【0034】酸二無水物とその反応の相手は、ほぼ等モ
ルずつ反応させるのがもっとも好ましいが、いずれか一
方が10モル%まで、特に好ましくは5モル%まで過剰
となっていてもよい。
【0035】一般式化5で表されるポリイミドに配合す
るポリマレイミドとしては、次のような化合物があり、
これらは単独又は二種以上を混合して用いられる。
【0036】N,N’−(4,4’−ジフエニルメタ
ン)ビスマレイミド、N,N’−(4,4’−ジフェニ
ルオキシ)ビスマレイミド、N,N’−p−フェニレン
ビスマレイミド、N,N’−m−フェニレンビスマレイ
ミド、N,N’−2,4−トリレンビスマレイミド、
N,N’−2,6−トリレンビスマレイミド、N,N’
−エチレンビスマレイミド、N,N’−〔4,4’−
〔2,2’−ビス(4,4’−フェノキシフェニル)イ
ソプロピリデン〕〕ビスマレイミド、N,N’−〔4,
4’−〔2,2’−ビス(4,4’−フェノキシフェニ
ル)ヘキサフルオロイソプロビリデン〕〕ビスマレイミ
ド、N,N’−〔4,4’−ビス(3,5−ジメチルフ
ェニル)メタン〕ビスマレイミド、N,N’−〔4,
4’−ビス(3,5−ジエチルフェニル)メタン〕ビス
マレイミド、N,N’−〔4,4’−(3−メチル−5
−エチルフェニル)メタン〕ビスマレイミド、N,N’
−〔4,4−ビス(3,5−ジイソプロピルフェニル)
メタン〕ビスマレイミド、化13〜化18で表されるマ
レイミド。
【0037】
【化13】
【0038】
【化14】
【0039】
【化15】
【0040】
【化16】
【0041】
【化17】
【0042】
【化18】 (化18式中、rは1以上の整数である。)
【0043】また、一般式化5で表されるポリイミドに
配合するエポキシ樹脂としては、エポキシ基を1分子あ
たり平均2個以上有する次のようなエポキシ化合物があ
り、これらは、単独又は二種以上を混合して用いられ
る。ビスフェノール系エポキシ樹脂、ハロゲン化ビスフ
ェノール系エポキシ樹脂、フェノールノボラック系エポ
キシ樹脂、ハロゲン化フェノールノボラック系エポキシ
樹脂、アルキルフェノールノボラック系エポキシ樹脂、
ポリフェノール系エポキシ樹脂、ポリグリコール系エポ
キシ樹脂、環状脂肪族系エポキシ樹脂。
【0044】ポリイミドと熱硬化性成分すなわちポリマ
レイミド及びエポキシ樹脂との混合割合は、熱硬化性成
分をポリイミドに対して10〜50重量%とするのが好
ましく、さらに好ましい混合割合は30〜40重量%で
ある。熱硬化性成分が10重量%より少ないと硬化が十
分でなく、50重量%より多いと樹脂組成物がもろくな
って成形できなくなる。
【0045】熱硬化性成分中のポリマレイミドとエポキ
シ樹脂の割合は、任意であるが、本発明の樹脂組成物を
180℃以下で硬化させるために、好ましくは、エポキ
シ樹脂を20重量%以上とし、さらに好ましくは、エポ
キシ樹脂を40〜80重量%とする。
【0046】ポリマレイミド及びエポキシ樹脂を180
℃以下で硬化反応させるために、必要により硬化剤及び
硬化促進剤を使用する。ポリマレイミドを硬化させるた
めの硬化剤としては、次に挙げるようなジアミンがあ
る。
【0047】4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、
4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジア
ミノジフェニルスルホン、2,2−ビス〔4−(4−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス
〔3−メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル〕ブタン、2,2−ビス〔3−メチル−
4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ブタン、2,
2−ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−アミノフェノ
キシ)フェニル〕ブタン、2,2−ビス〔3,5−ジブ
ロモ−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ブタ
ン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2
−ビス〔3−メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕プロパン、ビス〔4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕エーテル、ビス〔4−(3−アミノ
フェノキシ)フェニル〕スルホン、4,4’−カルボニ
ルビス(p−フェニレンオキシ)ジアニリン、4,4’
−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、メタフェ
ニレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、テトラメチ
レンジアミン。
【0048】これらのうちでは、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパンが好まし
い。必要ならば、上記ジアミンの混合物を用いても良
い。
【0049】ポリマレイミドの硬化促進剤としては、次
に挙げるようなパ−オキシド類がある。
【0050】t−ブチルハイドロパーオキシド、キュメ
ンハイドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼンハイ
ドロ−オキシド、ジ−t−ブチルパーオキシド、t−ブ
チルクミルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、2,
5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘ
キサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパ
ーオキシ)ヘキシン−3,2,5−ジメチル−2,5−
ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン。
【0051】これらのうちではジクミルパーオキシドが
好ましい。
【0052】エポキシ樹脂の硬化剤としては、ジシアン
ジアミド、ポリフェノ−ル類及び酸無水物等一般的にエ
ポキシ樹脂の硬化剤として使用されるものであればよ
く、特に限定されない。また、硬化促進剤も2−メチル
イミダゾール、2−メチル−4−エチルイミダゾール、
2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダ
ゾール等のイミダゾール類及びそれらの誘導体やジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン等のアミン類、BF3−アミン錯体
などが使用でき、特に限定されない。
【0053】本発明の樹脂組成物は、あらかじめシ−ト
状に成形しておき、シ−ト状接着剤として用いると便宜
である。また、本発明の樹脂組成物をガラス布、ガラス
マット、芳香族ポリアミド繊維布、芳香族ポリアミド繊
維マットなどにワニスとして含浸し、樹脂を半硬化させ
て繊維強化型のシ−ト状接着剤として用いることもでき
る。
【0054】本発明の樹脂組成物をワニスとし、そのま
ま被着物に塗布、乾燥し、他の被着物と加熱加圧して接
着してもよい。温度100〜250℃、圧力0.1〜1
0MPaで20分以上で加熱加圧するのが好ましい。特
に、温度150〜200℃、圧力1〜3MPaで60〜
90分間加熱加圧するのがより好ましい。
【0055】本発明の樹脂組成物をワニスとし、このワ
ニスをポリイミドフィルムの片面または両面に塗布し乾
燥した接着剤層付ポリイミドフィルムは、これと金属は
くとを重ね合わせて加熱加圧してフレキシブル印刷回路
用基板、TAB用テ−プなどを製造するのに有用であ
る。また、両面接着剤層付ポリイミドフィルムを印刷回
路基板どうし又は印刷回路基板と金属はく、例えば銅は
く、アルミはく、42合金はくなどと接着し、薄膜多層
回路基板や金属複合基板などを製造できる。
【0056】本発明の接着剤ワニスを片面金属はく張り
ポリイミドフィルムの金属はくの張ってないポリイミド
フィルム面に塗布乾燥させた接着剤層付片面金属はく張
りポリイミドフィルムは、これとフレキシブル印刷回路
基板や42合金はくと加熱加圧着することにより薄膜多
層回路基板や複合リードフレームなどの製造に特に有用
である。
【0057】
【実施例】
実施例1 温度計、撹拌器、窒素導入管および冷却管を取り付けた
4口フラスコに、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)
フェニル)スルフォン88.1g(0.204mol)
と4,4’−メチレンビス(2,6−ジイソプロピルア
ニリン)13.2g(0.036mol)を入れ、窒素
雰囲気下でN,N−ジメチルホルムアミド536gを加
えて溶解した。この溶液に3,3’,4,4−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物77.3g(0.24
mol)を温度が30℃を越えないように注意しながら
加えた。
【0058】その後室温で3時間撹拌し、N,N−ジメ
チルホルムアミド178gを加えて希釈した後、無水酢
酸61g及びピリジン47gを加え、引き続き、30℃
で5時間撹拌した。得られた反応液をメタノール中に投
入して、重合体を単離した。単離した重合体をアセトン
中で30分間還流して精製し、減圧下で乾燥した。
【0059】得られた重合体粉末17.5gと臭素化ビ
スフェノール系エポキシ樹脂5g、ビスマレイミドジア
ミノジフェニルメタン3.7g、ジシアンアミド0.1
24g、2−エチル−4−メチルイミダゾール0.01
25g及びジクミルパーオキシド0.75gをN,N−
ジメチルホルムアミド90gに溶解した。
【0060】得られたワニスをガラス板上に流延し、1
00℃で10分間乾燥後、ガラス板から引きはがし、鉄
わくに固定し、150℃で20分間乾燥し、厚み25μ
mのシートを得た。得られたシート2枚の外側に厚み3
5μmの銅はくを配し、温度180℃、圧力3MPaで
60分間加熱加圧し、両面銅張りフレキシブル積層板を
得た。
【0061】実施例2 実施例1で得られたワニスを片面銅張りポリイミドフィ
ルムのフィルム面に塗布し、100℃で10分間、続い
て150℃で20分間加熱して厚み10μmの接着剤層
を設けた。得られた接着剤層付片面銅張りポリイミドフ
ィルム2枚を接着剤層面を合わせて、温度180℃、圧
力3MPaで60分間加熱加圧し、両面銅張りフレキシ
ブル積層板とした。
【0062】実施例3 実施例1で得られたワニスを厚み75μmのポリイミド
フィルム片面に塗布して、100℃で10分間、続いて
150℃で20分間加熱して厚み20μmの接着剤層を
形成した。
【0063】得られた接着剤層付き片面ポリイミドフィ
ルムと35μm銅はくを温度180℃シリンダー圧力
0.5MPa、速度1m/minの条件でロールラミネ
ーターにより張り合わせた。その後温度180℃の乾燥
機中で60分間硬化させ、片面銅張りポリイミドフィル
ムを得た。
【0064】以上の各実施例で得られたフレキシブル積
層板及び片面銅張りポリイミドフィルムについて、引き
はがし強さとはんだ耐熱性(288℃のはんだ浴に1分
間浮かべた後の外観)を調べた。その結果を、表1に示
す。
【0065】
【表1】
【0066】比較例1 アクリル系の接着シートを用いて実施例1と同様の構成
及び同条件で加熱加圧し、両面同張りフレキシブル積層
板を得た。このフレキシブル積層板の室温における引き
はがし強さは2.2kN/mであったが、150℃にお
ける引きはがし強さは0.5kN/mに低下した。また
288℃のはんだ浴に1分間浮かべた後に、ふくれを生
じた。
【0067】比較例2 ポリイミド系の接着シートを用いて実施例1と同様の構
成及び条件で加熱加圧し、両面銅張りフレキシブル積層
板を得た。このフレキシブル積層板の室温における引き
はがし強さは非常に弱く、測定できなかった。
【0068】
【発明の効果】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、接着剤
として使用するときに、180℃程度の温度で接着でき
る。従来の耐熱性接着剤と異なり、接着に高温を要せ
ず、ロールツーロールでの張り合わせも可能で、取り扱
い易い。しかも、高温まで優れた接着力を有する。ま
た、あらかじめ、シート状に加工しておくこともでき
る。さらに、溶剤に可溶であるので、あらかじめ被着体
に塗布して、他の被着体と接着させることもできる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09J 7/02 JHR 6770−4J JKA 6770−4J JKE 6770−4J

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式化1で表される構成単位を含むポ
    リイミド、一般式化4で表されるポリマレイミド及びエ
    ポキシ樹脂を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組
    成物。 【化1】 (一般式化1中、Arは、一般式化2又は化3で表され
    る基であり、一般式化2で表される基が10〜100モ
    ル%、一般式化3で表される基が90〜0モル%であ
    る) 【化2】 (一般式化2中、Zは−CO−、−SO2−、−O−、
    −S−、−(CH2m−、−NHCO−、−C(C
    32−、−C(CF32−、−COO−又は結合を示
    し、mは1以上の整数であり、複数個のZはそれぞれ同
    一でも異なっていてもよく、各ベンゼン環の水素は置換
    基で適宜置換されていてもよい) 【化3】 (一般式化3中、R1、R2、R3、及びR4は、それぞれ
    独立に水素又は炭素数1〜4のアルキル基若しくはアル
    コキシ基を示し、これらのうち少なくとも2個以上はア
    ルキル基又はアルコキシ基であり、Xは−CH2−、−
    C(CH32−、−O−、−SO2−、−CO−、−N
    HCO−を示す) 【化4】 (一般式化4中、kは2以上の整数であり、R5はk価
    の炭素数2以上の基を示す)
  2. 【請求項2】 請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物をシ
    −ト状にした接着剤シ−ト。
  3. 【請求項3】 ポリイミドフィルムの片面又は両面に請
    求項1記載の熱硬化性樹脂組成物からなる接着剤層を設
    けた接着剤付ポリイミドフィルム。
  4. 【請求項4】 ポリイミドフィルムの片面に金属はくを
    張り、他の面に請求項1記載の熱硬化性樹脂組成物から
    なる接着剤層を設けた片面金属はく張りポリイミドフィ
    ルム。
  5. 【請求項5】 ポリイミドフィルムの片面又は両面に請
    求項1記載の樹脂組成物を接着剤として金属はくを張り
    合わせてなる金属はく張りポリイミドフィルム。
JP4153943A 1992-01-07 1992-06-15 熱硬化性樹脂組成物、接着剤シート、接着剤付きポリイミドフィルム及び金属はく張りポリイミドフィルム Pending JPH05339344A (ja)

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DE1993604086 DE69304086T2 (de) 1992-01-07 1993-01-06 Polyimide, ritzehärtbare Harzzusammensetzungen mit den Polyimide, Formkörper auf die Harzzusammensetzungen und Verfahren zur Herstellung von deren Polyimiden
EP19930100097 EP0553612B1 (en) 1992-01-07 1993-01-06 Polyimides, thermosetting resin compositions containing the polyimides, formed articles of the resin compositions, and production process of the polyimides
US08/270,182 US5510425A (en) 1992-01-07 1994-07-01 Polyimides, thermosetting resin compositions containing the polyimides, formed articles of the resin compositions, and production process of the polyimides
US08/307,543 US5508357A (en) 1992-01-07 1994-09-16 Polyimides, thermosetting resin compositions containing the polyimides, formed articles of the resin compositions, and production process of polyimides

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006104337A (ja) * 2004-10-06 2006-04-20 Mitsui Chemicals Inc 樹脂組成物及び金属積層板
JP2011014727A (ja) * 2009-07-02 2011-01-20 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 複合樹脂層付銅箔、複合樹脂層付銅箔の製造方法、フレキシブル両面銅張積層板及び立体成型プリント配線板の製造方法
JP2020090570A (ja) * 2018-12-03 2020-06-11 味の素株式会社 樹脂組成物

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