JPH05338794A - 製品搬送用ハンド - Google Patents

製品搬送用ハンド

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JPH05338794A
JPH05338794A JP15213492A JP15213492A JPH05338794A JP H05338794 A JPH05338794 A JP H05338794A JP 15213492 A JP15213492 A JP 15213492A JP 15213492 A JP15213492 A JP 15213492A JP H05338794 A JPH05338794 A JP H05338794A
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silicon wafer
hand
quartz glass
chuck
holding
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Naohiko Fujino
直彦 藤野
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 シリコンウェハ端部のウェハ搬送用ハンドの
チャックとの接触摺動に伴うダメージを防止する。 【構成】 少なくとも製品との当接部分が硬度7より軟
らかい材料で構成された。具体的には、ボロンまたはリ
ンがドープされた石英ガラスで構成したり、テフロン膜
がコーティングされた石英ガラスで構成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、シリコンウェハを保
持搬送するときに用いるシリコンウェハ搬送用ハンドに
関するものである。
【0002】
【従来の技術】図1は、従来のシリコンウェハの保持搬
送に供されている石英ガラスで構成されたシリコンウェ
ハ搬送用ハンドの斜視図である。図において、1はシリ
コンウェハ3を保持するための保持溝2が設けられた石
英ガラス製チャックで、これを支える石英ガラス製チャ
ック支持ハンド4に接続されている。なお、図2に保持
溝2の部分を拡大して断面図で示している。チャック支
持ハンド4はハンド支持アーム6を介して、チャック支
持ハンド4を開閉するための開閉アクチュエータ7(ハ
ンド支持アーム6を回転させることでチャック支持ハン
ド4を開閉する)に接続されている。開閉アクチュエー
タ7はシリコンウェハ搬送用ハンド全体を上下移動させ
る上下移動アクチュエータ8に接続されている。さらに
上下移動アクチュエータ8は左右移動アクチュエータ
(図示せず)に接続されている。
【0003】次に動作について説明する。シリコンウェ
ハ3は、図4の斜視図に示すようにシリコンウェハ保持
用ホルダー10に保持されて置かれている。以下この様
なシリコンウェハ保持用ホルダー10に保持されて置か
れているシリコンウェハ3を石英ガラス製で構成された
シリコンウェハ搬送用ハンドで保持し別のシリコンウェ
ハ保持用ホルダーまで移動させる動作について説明す
る。
【0004】左右移動アクチュエータを用いてシリコン
ウェハ保持用ホルダー10の上方に石英ガラス製チャッ
ク1を移動させる。つぎに開閉アクチュエータ7によっ
て石英ガラス製チャック支持ハンド4を開く。そして上
下移動アクチュエータ8により石英ガラス製チャック1
をシリコンウェハ3をつかめる位置(保持溝2にシリコ
ンウェハ3が収まる位置)まで下降移動させた後に、開
閉アクチュエータ7によって石英ガラス製チャック支持
ハンド4を閉じることでシリコンウェハ3をつかむ。そ
してそのまま上下移動アクチュエータ8により石英ガラ
ス製チャック1を上昇移動させ、シリコンウェハ3を保
持用ホルダー10からとり外す。この状態で、石英ガラ
ス製チャック1を左右移動アクチュエータを用い別の保
持用ホルダーの上方となる位置まで移動させる。そし
て、上下移動アクチュエータ8により石英ガラス製チャ
ック1をシリコンウェハ3を置く位置(保持用ホルダー
の保持溝にシリコンウェハ3が収まる位置)まで下降移
動させた後に、開閉アクチュエータ7によって石英ガラ
ス製チャック支持ハンド4を開くことでシリコンウェハ
3を別の保持用ホルダーまで移動し保持させる。そし
て、上下移動アクチュエータ8により石英ガラス製チャ
ック1を上昇移動させ、シリコンウェハ3を別の保持用
ホルダーに保持させ一連の動作を完了する。
【0005】このような搬送用ハンドのチャック1は、
薄いシリコンウェハ3を浅い保持溝2で(保持溝が深い
とシリコンウェハ3上の有効な製品製造面積が減少す
る)確実に保持する必要があるため、高精度の機械加工
を要する。また、チャック材料としては、製品に対して
悪影響を与える元素を含むもの等は用いることはできな
い。このような制約に対して、強い機械的強度、および
ある程度の機械的加工性を有し、かつ、製品に悪影響を
与える元素を含まない材質としてはそう多くない。この
ような材質としては、不純物を含まない石英ガラスを用
いるのが一般的である。なぜなら、通常のガラスは製品
に悪影響を与える不純物が多く、金属はそのものが製品
に悪影響を与える不純物となり、テフロン等は機械的強
度が弱いためである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来のシリコンウェハ
搬送用ハンドは、モース硬度7の石英ガラスで構成され
た前記のような石英ガラス製チャック1をもつ構造物で
あるため、保持溝2の中に挿入されるモース硬度7のシ
リコンウェハ3の端部は必ず保持溝2の側面と接触す
る。そのため、モース硬度7のシリコンウェハ3はモー
ス硬度7の保持溝2の側面と接触摺動しダメージを被る
ため図5に示すような接触摺動位置5(シリコンウェハ
3の端部)に傷(マイクロクラック、結晶のスリップ
等)が発生するという問題があった。
【0007】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、シリコンウェハ端部のウェハ搬
送用ハンドのチャックとの接触摺動に伴うダメージを防
止することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明に係るシリコン
ウェハ搬送用ハンドは、少なくともシリコンウェハとの
当接部分がシリコンウェハの硬度より軟らかい材料で構
成されたものである。
【0009】
【作用】本発明によるシリコンウェハ搬送用ハンドの少
なくともシリコンウェハとの当接部分の構成材料をシリ
コンウェハより軟らかい硬度の材料で構成したため、シ
リコンウェハ端面と保持溝の側面との接触摺動に伴うダ
メージはほとんど保持溝の側面にかかるようになり、結
果的にシリコンウェハ端面へのダメージがほとんどなく
なり、シリコンウェハ端部に傷が発生するという問題が
なくなる。
【0010】
【実施例】
実施例1.図1、図2に示すシリコンウェハ搬送用ハン
ドと同じ形状の搬送用ハンド本体のチャック1をモース
硬度6のボロンドープドガラスで作成することで実施例
1の搬送用ハンドを作成した。
【0011】実施例2.図1、図2に示す搬送用ハンド
と同じ形状の搬送用ハンド本体のチャック1を、モース
硬度5のボロンドープドガラスで作成することで実施例
2の搬送用ハンドを作成した。
【0012】実施例3.図1、図2に示す製品搬送用ハ
ンドと同じ形状の搬送用ハンド本体のチャック1を、モ
ース硬度2のテフロン樹脂で作成することで実施例3の
製品搬送用ハンドを作成した。この場合、テフロン樹脂
は軟かいので加工が困難で機械的強度が弱いという不都
合はある。
【0013】実施例4.図3は本発明の他の実施例に係
るチャックの断面図で、モース硬度7の従来の石英ガラ
ス製チャックの表面をシリコンウェハより軟らかいモー
ス硬度6のボロンドープドガラスのコーティング膜9で
覆うことで実施例4の搬送用ハンドを作成した。
【0014】実施例5.図3に示す構成の搬送用ハンド
本体のチャック1において、表面をモース硬度2のテフ
ロン樹脂のコーティング膜9で覆うことで実施例5の搬
送用ハンドを作成した。このように機械的強度が弱くて
加工等の不都合のため単独では用いにくいテフロン樹脂
でも、硬い材質にコーティングすることで少なくともシ
リコンウェハとの当接部分はシリコンウェハより軟らか
い材料とすることができる。
【0015】比較例1.図1、図2に示す搬送用ハンド
と同じ形状の搬送用ハンド本体のチャック1を、モース
硬度7の石英ガラス製で作成することで比較例1の搬送
用ハンドを作成した。
【0016】比較例2.図3に示す搬送用ハンドと同じ
構成の搬送用ハンド本体のチャック1において、表面を
モース硬度9のシリコンカーバイドのコーティング膜4
で覆うことで比較例2の搬送用ハンドを作成した。
【0017】上記実施例1〜実施例5および比較例1〜
比較例2のシリコンウェハ搬送用ハンドを用いて、信越
シリコン社製6インチシリコンウェハを同じ状態で10
回脱着させ(なお10回の脱着試験後、ウェハ表面のダ
ストを取り除くために一度RCA洗浄をほどこした。R
CA洗浄については、例えばDabid Puotinen,RCA Revie
w,p.187,June1970等に詳細に記載されている。)、その
脱着試験前後でのシリコンウェハ端面の表面状態(図5
に示すような接触摺動位置5に相当する部分)の変化を
ノマルスキー型微分干渉顕微鏡で観察することで評価し
た結果を表1に示す。なお、用いた信越シリコン社製6
インチシリコンウェハ(評価に用いた6インチシリコン
ウェハ全てにおいて)は、そのオリフラの右側面の端面
に若干のマイクロクラックを有する(恐らくメーカサイ
ドでのシリコンウェハ保持時に発生したものと思われ
る)ものの、他の部分においては、全くマイクロクラッ
ク等の傷は観察されなかった。そのため、今回の実施例
1〜実施例5および比較例1〜比較例2の評価に用いた
シリコンウェハ3の端面評価位置(図5に示すような接
触摺動位置5に相当する部分)は、オリフラの右側面の
端面位置を除いた位置でおこなった。
【0018】
【表1】
【0019】表1から、本発明のモース硬度6以下の実
施例1〜実施例5のシリコンウェハ搬送用ハンドを用い
た場合、いずれも10回の脱着ではシリコンウェハ表面
にマイクロクラック等の傷の発生が無いことがわかる。
一方、モース硬度7以上の比較例1および比較例2のシ
リコンウェハ搬送用ハンドを用いた場合、いずれも10
回の脱着でマイクロクラック等の傷の発生があることが
わかる。
【0020】なお、製品に悪影響を与えない元素として
は、ボロン、リン、シリコン、酸素、アルゴン、水素、
チッ素等があるが、これらのうち石英ガラスに添加して
硬度を下げるのに有効なものはボロンやリンである。一
方、洗浄用の薬液等としてフッ酸を被る可能性がある場
合、ガラスはフッ酸に溶けるため使用できない。そこで
テフロン樹脂の使用が考えられるが、テフロン樹脂は機
械的強度が弱いためシリコンウェハ搬送用ハンドとして
直接用いることは難しい。しかしながら実施例5で示し
たように石英ガラス製のウェハ搬送用ハンドの表面にテ
フロン樹脂をコーティングすることにより、高精度な機
械的加工が可能でしかもシリコンウェハを傷つけるのを
防止できるのでより良い。
【0021】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、少な
くともシリコンウェハとの当接部分がシリコンウェハの
硬度より軟らかい材料で構成されているので、シリコン
ウェハ端部のウェハ保持用受台の保持溝との接触摺動に
伴うダメージが防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来およびこの発明によるシリコンウェハ搬送
用ハンドを示す斜視図である。
【図2】図1のシリコンウェハ搬送用ハンドのシリコン
ウェハとの当接部を拡大して示す断面図である。
【図3】この発明の他の実施例の要部を示す断面図であ
る。
【図4】製品保持用受け台にシリコンウェハを保持した
ときの斜視図である。
【図5】シリコンウェハが製品搬送用ハンドに保持され
るときの接触摺動により発生するシリコンウェハ端面部
分の傷の発生部を示す正面図である。
【符号の説明】 1 シリコンウェハ保持用チャック 2 溝 3 シリコンウェハ 9 コーティング層
【手続補正書】
【提出日】平成4年10月30日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 製品搬送用ハンド
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0001
【補正方法】変更
【補正内容】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、ウェハや磁気ディス
ク用の基板等を保持搬送するときに用いる製品搬送用ハ
ンドに関するものである。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0005
【補正方法】変更
【補正内容】
【0005】このような搬送用ハンドのチャック1は、
薄いシリコンウェハ3を浅い保持溝2で(保持溝が深い
とシリコンウェハ3上の有効な製品製造面積が減少す
る)確実に保持する必要があるため、高精度の機械加工
を要する。また、チャック材料としては、製品に対して
悪影響を与える元素を含むもの等は用いることはできな
い。このような制約に対して、強い機械的強度、および
ある程度の機械的加工性を有し、かつ、製品に悪影響を
与える元素を含まない材質としてはそう多くない。この
ような材質としては、不純物を含まない石英ガラスを用
いるのが一般的である。なぜなら、通常のガラスは製品
に悪影響を与える不純物が多く、金属はそのものが製品
に悪影響を与える不純物となる。一方、テフロン等は機
械的強度が弱いため、高精度の機械加工は不可能であ
る。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0008
【補正方法】変更
【補正内容】
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明に係る製品搬送
用ハンドは、少なくとも製品との当接部分が硬度7より
軟らかい材料で構成されたものである。例えば、ボロン
またはリンがドープされた石英ガラスで構成されたもの
である。さらに、テフロン膜がコーティングされた石英
ガラスで構成されたものである。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0009
【補正方法】変更
【補正内容】
【0009】
【作用】本発明による製品搬送用ハンドの少なくとも
との当接部分の構成材料をシリコンウェハより軟らか
い硬度の材料で構成したため、例えばシリコンウェハ
を搬送する場合、シリコンウェハ端面と保持溝の側面と
の接触摺動に伴うダメージはほとんど保持溝の側面にか
かるようになり、結果的にシリコンウェハ端面へのダメ
ージがほとんどなくなり、シリコンウェハ端部に傷が発
生するという問題がなくなる。具体的には、ボロンまた
はリンがドープされた石英ガラスで構成したり、テフロ
ン膜がコーティングされた石英ガラスで構成すると良
い。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0020
【補正方法】変更
【補正内容】
【0020】なお、製品に悪影響を与えない元素として
は、ボロン、リン、シリコン、酸素、アルゴン、水素、
チッ素等があるが、これらのうち石英ガラスに添加して
硬度を下げるのに有効なものはボロンやリンである。一
方、洗浄用の薬液等としてフッ酸を被る可能性がある場
合、ガラスはフッ酸に溶けるため使用できない。そこで
テフロン樹脂の使用が考えられるが、テフロン樹脂は機
械的強度が弱いためシリコンウェハ搬送用ハンドとして
直接用いることは難しい。しかしながら実施例5で示し
たように石英ガラス製のウェハ搬送用ハンドの表面にテ
フロン樹脂をコーティングすることにより、高精度な機
械的加工が可能でしかもシリコンウェハを傷つけるのを
防止できるのでより良い。なお、上記実施例ではいずれ
も搬送される製品がシリコンウェハである場合について
説明したが、これに限るものではなく、例えば磁気ディ
スク用アルミ基板、サファイア基板、ジルコニア基板等
の基板やウェハに適用できるのは言うまでもない。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、少な
くとも製品との当接部分が硬度7より軟らかい材料で構
成されているので、例えば製品がシリコンウェハである
場合、シリコンウェハ端部のウェハ保持用受台の保持溝
との接触摺動に伴うダメージが防止できる。具体的に
は、ボロンまたはリンがドープされた石英ガラスで構成
したり、テフロン膜がコーティングされた石英ガラスで
構成できる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくともシリコンウェハとの当接部分
    がシリコンウェハの硬度より軟らかい材料で構成された
    シリコンウェハ搬送用ハンド。
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