JPH05332705A - タッチ信号プローブ - Google Patents

タッチ信号プローブ

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JPH05332705A
JPH05332705A JP13879392A JP13879392A JPH05332705A JP H05332705 A JPH05332705 A JP H05332705A JP 13879392 A JP13879392 A JP 13879392A JP 13879392 A JP13879392 A JP 13879392A JP H05332705 A JPH05332705 A JP H05332705A
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国俊 西村
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俊隆 下村
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 機械的固有振動数を下げることなく、高い検
出感度を備え、かつ、構成的にも簡易で安価なタッチ信
号プローブを提供する。 【構成】 スタイラス21と被測定物との接触状態を電
気的に検出してタッチ信号を発する検出手段41を、ス
タイラス21の表面に化学的処理により形成された歪み
ゲージ42と、この歪みゲージの抵抗値の変化からスタ
イラスと被測定物との接触状態を電気的に検出する信号
処理回路46とを含み構成する。スタイラスの表面に化
学的処理により歪みゲージを形成してあるから、機械的
固有振動数を下げることがない上、高い検出感度が得ら
れる。しかも、単純な構成であるから安定性、信頼性が
高く、安価に構成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被測定物との接触状態
を電気的に検出してタッチ信号を発するタッチ信号プロ
ーブに関する。例えば、三次元測定機やハイトゲージな
どに利用することができる。
【0002】
【背景技術】例えば、三次元測定機では、プローブと定
盤上に載置された被測定物とを三次元方向へ相対移動さ
せ、プローブが被測定物に接触した瞬間を捉え、この瞬
間を電気的トリガとして各送り軸方向の座標値を読み取
り、その座標値から被測定物の寸法や形状などを測定し
ている。従って、測定精度の向上をはかるためには、次
の性質を備えたタッチ信号プローブを実現する必要があ
る。
【0003】つまり、a.三次元測定機は停止命令が発せ
られてもある距離は行き過ぎるため、これを許容できる
ようにスタイラスの許容変位量が大きいこと、b.静止位
置が正確に確定されること、c.応答信号が迅速であるこ
と、d.スタイラスに働く力が十分小さいときにタッチ信
号を発生できること、e.プローブを加速または減速する
際にスタイラスまたはプローブの他の構成部材に作用す
る慣性力により疑似信号が発生しないこと、などが要求
される。
【0004】これらの要求のうち、前の2つ( a および
b)は逃げ機構に関する要求性能である。後の3つ(c
, d および e )は、検出機構に関するもので、検出感
度が高く、かつ、固有振動数が高いことと集約される。
検出機構に関しては、従来から各種提案されているが、
その中から、代表的なものを3つ示す。
【0005】特開昭54−78164号公報 これは、スタイラスの一部に圧電素子を組み込み、スタ
イラスの先端部分が被測定物に接触した場合の衝撃によ
る電圧変化や、圧電素子を振動させておき、スタイラス
の先端部分が被測定物に接触した場合の振動波形の変化
から、被測定物との接触を電気的に検出するものであ
る。
【0006】特開昭56−8502号公報 これは、スタイラスの基部とハウジングとの間に圧電素
子を設け、スタイラスの先端部分が被測定物に接触した
場合の衝撃による電圧変化から、被測定物との接触を電
気的に検出するものである。
【0007】特公平1−39522号公報 これは、スタイラスホルダと基体との間に圧電結晶体か
らなる3つの検知装置を等間隔に配置し、スタイラスの
先端部分が被測定物に接触した場合の衝撃による電圧変
化から、被測定物との接触を電気的に検出するものであ
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】まず、上記の例で
は、スタイラスの一部に圧電素子を組み込まなければな
らないから、精度の高い加工技術や組立技術が要求され
る。また、上記およびの例では、検出感度を高める
ためには機械的な剛性を下げる必要がある。このこと
は、機械的な固有振動数を低下させることになり、外乱
の影響を受けやすくなるという欠点につながる。
【0009】ここに、本発明の目的は、このような従来
の欠点を解消し、機械的固有振動数を下げることなく、
高い検出感度を備え、かつ、構成的にも簡易で安価なタ
ッチ信号プローブを提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明のタッ
チ信号プローブは、プローブ本体と、スタイラスと、こ
のスタイラスを前記プローブ本体の中立位置に保持する
とともにそのスタイラスを中立位置に対して変位可能か
つ復帰可能に保持する保持機構と、前記スタイラスと被
測定物との接触状態を電気的に検出してタッチ信号を発
する検出手段とを有するタッチ信号プローブにおいて、
前記検出手段を、前記スタイラスの表面に化学的処理に
より形成された歪みゲージと、この歪みゲージの抵抗値
の変化からスタイラスと被測定物との接触状態を電気的
に検出する信号処理回路とを含み構成した、ことを特徴
とする。
【0011】
【作用】スタイラスの表面に化学的処理により歪みゲー
ジを形成してあるから、機械的固有振動数を下げること
がない上、高い検出感度が得られる。しかも、単純な構
成であるから安定性、信頼性が高く、安価に構成するこ
とができる。
【0012】
【実施例】以下、本発明のタッチ信号プローブについて
好適な実施例を挙げ、添付図面を参照しながら詳細に説
明する。
【0013】図1は三次元測定機を示している。同図に
おいて、基台1の上には被測定物(図示省略)を載置す
るテーブル2が設けられている。テーブル2には、門型
コラム3が前後方向(Y軸方向)へ、また、門型コラム
3の水平ビーム4に沿ってスライダ5が左右方向(X軸
方向)へ、更に、スライダ5にZ軸スピンドル6が上下
方向(Z軸方向)へ、それぞれ移動可能に設けられてい
る。Z軸スピンドル6の下端には、本実施例のタッチ信
号プローブ7が設けられている。つまり、タッチ信号プ
ローブ7と被測定物とが、三次元方向へ相対移動可能に
構成されている。
【0014】前記タッチ信号プローブ7は、図2に示す
如く、前記Z軸スピンドル6の下端に着脱自在に取り付
けられるプローブ本体11と、スタイラス21と、この
スタイラス21を前記プローブ本体11の中立位置に保
持するとともにそのスタイラス21を中立位置に対して
変位可能かつ復帰可能に保持する保持機構31と、前記
スタイラス21と被測定物との接触状態を電気的に検出
してタッチ信号を発する検出手段41とから構成されて
いる。
【0015】前記プローブ本体11には、上壁面に前記
Z軸スピンドル6の下端に着脱自在に取り付けられるシ
ャンク12が形成されているとともに、底壁13より下
方に筒部14が形成されている。前記スタイラス21に
は、その下端に被測定物と接触する球状の接触球22が
一体的に形成されているとともに、前記プローブ本体1
1内に突出した上端部に支持盤23が直角にかつ一体的
に形成されている。
【0016】前記保持機構31は、支持盤23において
中立軸線L(一般にはシャンク12の軸線と同じ)を中
心とする同一円周上の120度間隔位置に中立軸線Lに
対して直角に突設された3本の係合ピン32A,32
B,32Cと、前記プローブ本体11の底壁13におい
て前記各係合ピン32A〜32Cを前記円周上の両側か
らテーパ状に挟む一対の保持ピンからなる保持部33
A,33B,33Cと、この各保持部33A〜33Cに
各係合ピン32A〜32Cが接触するように前記支持盤
23を中立軸線L方向へ付勢するコイルばね34とから
構成されている。
【0017】前記検出手段41は、前記スタイラス21
の軸外周表面に化学的処理により一体的に形成された歪
みゲージ42と、この歪みゲージ42の抵抗値の変化か
らスタイラス21と被測定物との接触状態を電気的に検
出する信号処理回路46とを含み構成されている。な
お、信号処理回路46は、前記プローブ本体11の筒部
14内に収納されている。
【0018】前記歪みゲージ42は、図3に示す如く、
スタイラス21の軸外周表面に化学的処理により、細幅
線状の導電膜をスタイライ21の周方向に沿ってジグザ
グ状に折り返し形成したもので、スタイラス21の軸方
向に沿ってX方向検出部43、Y方向検出部44、Z方
向検出部45を有する。なお、ジグザク状パターンの線
幅、折り返しの回数、ピッチ、長さなどは、歪みゲージ
42を構成する材料の特性、検出感度やスタイラス21
の形状などによって決められている。
【0019】前記X方向検出部43は、図4(A)に示
すように、Y軸を中心とする対称位置にX軸に対してお
およそ45度の範囲内に形成された2つの歪みゲージ素
子431,432 を含む。各歪みゲージ素子431,432
の端子番号をA1,2,3, 4 とすれば、前記信号処理
回路46において、図4(B)に示すブリッジ回路46
xが組まれている。なお、矩形枠で囲まれた抵抗はダミ
ー抵抗である(以下、同様である。)。従って、ブリッ
ジ回路46xからは、スタイラス21に作用するX方向
の力Fxに比例した出力Vxを得ることができる。
【0020】前記Y方向検出部44は、図5(A)に示
すように、X軸を中心とする対称位置にY軸に対してお
およそ45度の範囲内に形成された2つの歪みゲージ素
子441,442 を含む。各歪みゲージ素子441,442
の端子番号をB1,2,3, 4 とすれば、前記信号処理
回路46において、図5(B)に示すブリッジ回路46
yが組まれている。従って、ブリッジ回路46yから
は、スタイラス21に作用するY方向の力Fyに比例し
た出力Vyを得ることができる。
【0021】前記Z方向検出部45は、図6(A)に示
すように、XおよびY軸に対しておおよそ45度で4分
割した範囲内に形成された4つの歪みゲージ素子451,
45 2,453,454 を含む。各歪みゲージ素子451
454 の端子番号をC1,2,3,4,C5,6,7,8
とすれば、前記信号回路46において、図6(B)に示
す2つのブリッジ回路46Z1, 46Z2が組まれている。
従って、2つのブリッジ回路46Z1, 46Z2の出力V
Z1, Z2を加算すれば、スタイラス21に作用するZ方
向の力Fzに比例した出力VZ1+VZ2を得ることができ
る。
【0022】なお、図4(B)、図5(B)、図6
(B)のブリッジ回路46x,46y,46Z1, 46Z2
において、矩形枠で囲まれたダミー抵抗は、信号処理回
路46内に抵抗素子として設けても、あるいは、スタイ
ラス21の軸表面の応力変化を受けない部分に歪みゲー
ジと同様な方法で形成してもよい。温度補償の立場から
は後者の方が好ましい。
【0023】ところで、前記スタイラス21の表面に歪
みゲージ42を化学的処理により一体的に形成するに
は、次のようにして行う。図7はそのプロセスを示して
いる。なお、ここでは、スタイラス21が金属製の場合
である。まず、(A)において、スタイラス21を回転
させ、そのスタイラス21の表面にCVD法などにより
絶縁膜51(例えば、SiO2 など)を形成する。続い
て、(B)において、この絶縁膜51の上に蒸着、メッ
キなどの処理により金属膜や半導体膜などの導電膜52
を形成する。
【0024】次に、(C)において、その上にポジ形レ
ジスト膜53をコーティングした後、(D)において、
レーザビーム54などにより図3に示すジグザグパター
ンを描く。このとき、歪みゲージ42の部分における線
は細く、配線部分における線は十分太く描く。続いて、
(E)において、現像により光を照射した部分以外のレ
ジスト膜53を取り去ったのち、露出した導電膜52を
エッチングにより除去する。これにより、図3に示す歪
みゲージができるが、最後に保護膜で覆えば完成であ
る。
【0025】ちなみに、ここで説明した化学的処理は、
LSI製造のプロセスとほぼ同様であるが、パターン形
成の表面が平坦でなく、円筒面であるある点で異なる。
しかし、LSIの製造装置にスタイラス21を回転させ
るための回転駆動機構を付加すれば実現することができ
る。しかも、パターンルールが100μmオーダ以上で
あることを考えれば、LSI製造よりはるかに容易であ
る。
【0026】次に、本実施例の作用を説明する。測定に
当たって、テーブル2上に被測定物を載置したのち、タ
ッチ信号プローブ7を三次元方向へ移動させながら被測
定物に接触させる。つまり、門型コラム3を前後方向
(Y軸方向)へ、スライダ5を左右方向(X軸方向)
へ、Z軸スピンドル6を上下方向(Z軸方向)へそれぞ
れ移動させながら、タッチ信号プローブ7を被測定物に
接触させる。
【0027】いま、タッチ信号プローブ7が被測定物に
接触したとき、タッチ信号プローブ7のスタイラス21
にX方向の力Fxが作用すると、その力Fxによってス
タイラス21が撓む。すると、X方向検出部43の2つ
の歪みゲージ素子431,43 2 のうちの一方の抵抗値が
増加し、他方の抵抗値が減少するので、ブリッジ回路4
6xからは力Fxに比例した出力Vxが得られる。
【0028】また、タッチ信号プローブ7が被測定物に
接触したとき、タッチ信号プローブ7のスタイラス21
にY方向の力Fyが作用すると、その力Fyによってス
タイラス21が撓む。すると、Y方向検出部44の2つ
の歪みゲージ素子441,44 2 のうちの一方の抵抗値が
増加し、他方の抵抗値が減少するので、ブリッジ回路4
6yからは力Fyに比例した出力Vyが得られる。
【0029】また、タッチ信号プローブ7が被測定物に
接触したとき、タッチ信号プローブ7のスタイラス21
にZ方向の力Fzが作用すると、その力Fzによってス
タイラス21が軸方向に縮む。すると、Z方向検出部4
5の4つの歪みゲージ素子451,452,453,454
全ての抵抗値が減少するので、各ブリッジ回路46Z1 ,
46Z2の出力VZ1, Z2を加算すれば、力Fzに比例し
た出力VZ1+VZ2が得られる。
【0030】従って、本実施例によれば、スタイラス2
1の軸外周表面に歪みゲージ42を形成してあるから、
機械的固有振動数を下げることがない上、高い検出感度
が得られる。しかも、単純な構成であるから安定性、信
頼性が高く、安価に構成することができる。
【0031】また、歪みゲージ42を化学的処理により
スタイラス21の軸外周表面に一体的に形成するように
したので、精度よく、安定した歪みゲージパターンを形
成することができる。更に、その歪みゲージ42から比
較的近接した位置に信号処理回路46を設けてあるか
ら、ノイズの影響が少なく、信頼性の高い検出を保障で
きる。
【0032】以上、本発明について好適な実施例を挙げ
て説明したが、本発明は、この実施例に限られるもので
なく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の改
良並びに設計の変更が可能である。
【0033】例えば、Z方向検出部45については、上
記実施例に限られるものでなく、図8に示す構成でもよ
い。これは、図8(A)に示す如く、X軸を中心として
2分割したジグザグパターンの2つの歪みゲージ素子4
5,456 を含んで構成してある。各歪みゲージ素子4
5,456 の端子番号をC9,10, 11, 12とすれ
ば、前記信号処理回路46において、図8(B)に示す
ブリッジ回路46zが組まれている。
【0034】また、歪みゲージ42については、上記実
施例のように3つの検出部をもつものに限らず、少なく
とも1つの検出部をもつものであればよい。つまり、一
方向の接触を検出できればよい。また、スタイラス21
の軸表面に歪みゲージ42を形成する場合、上記実施例
では、始めに絶縁膜を形成したが、スタイラス21の材
質が絶縁性素材、例えば、セラミックなどの場合には、
絶縁膜の形成工程は当然省略しても構わない。
【0035】また、保持機構31については、上記実施
例で述べた構造に限られるものでなく、他の構成でもよ
い。また、上記実施例では、三次元測定機に用いた例に
ついて説明したが、本発明のタッチ信号プローブについ
ては、これ以外に、ハイトゲージなどにも利用すること
ができる。
【0036】
【発明の効果】以上の通り、本発明のタッチ信号プロー
ブによれば、スタイラスの表面に歪みゲージを化学的処
理により形成してあるから、機械的固有振動数を下げる
ことがない上、高い検出感度が得られ、しかも、単純な
構成であるから安定性、信頼性が高く、安価に構成する
ことができるという効果が期待できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のタッチ信号プローブを三次元測定機に
適用した例を示す斜視図である。
【図2】図1のタッチ信号プローブを示す一部を切り欠
いた斜視図である。
【図3】図2のスタイラスの要部を示す拡大図である。
【図4】図3のX方向検出部43およびブリッジ回路を
示す図である。
【図5】図3のY方向検出部44およびブリッジ回路を
示す図である。
【図6】図3のZ方向検出部45およびブリッジ回路を
示す図である。
【図7】スタイラスの軸表面に歪みゲージを形成するプ
ロセスを示す図である。
【図8】Z方向検出部45およびブリッジ回路の他の例
を示す図である。
【符号の説明】
7 タッチ信号プローブ、 11 プローブ本体 21 スタイラス 31 保持機構 41 検出手段 42 歪みゲージ 43 X方向検出部 44 Y方向検出部 45 Z方向検出部 46 信号処理回路

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】プローブ本体と、スタイラスと、このスタ
    イラスを前記プローブ本体の中立位置に保持するととも
    にそのスタイラスを中立位置に対して変位可能かつ復帰
    可能に保持する保持機構と、前記スタイラスと被測定物
    との接触状態を電気的に検出してタッチ信号を発する検
    出手段とを有するタッチ信号プローブにおいて、 前記検出手段を、前記スタイラスの表面に化学的処理に
    より形成された歪みゲージと、この歪みゲージの抵抗値
    の変化からスタイラスと被測定物との接触状態を電気的
    に検出する信号処理回路とを含み構成した、ことを特徴
    とするタッチ信号プローブ。
JP4138793A 1992-05-29 1992-05-29 タッチ信号プローブ Expired - Lifetime JP2617651B2 (ja)

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