JPH05329219A - レ−ザ治療装置 - Google Patents
レ−ザ治療装置Info
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- JPH05329219A JPH05329219A JP4164398A JP16439892A JPH05329219A JP H05329219 A JPH05329219 A JP H05329219A JP 4164398 A JP4164398 A JP 4164398A JP 16439892 A JP16439892 A JP 16439892A JP H05329219 A JPH05329219 A JP H05329219A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 放熱が少なく空冷の冷却機構でも熱風や騒音
の問題の発生を押さえることができるレ−ザ治療装置を
提供する。 【構成】 治療用レ−ザ発振器から発振された治療光を
患部に照射して、レ−ザ治療を行うレ−ザ治療装置にお
いて、照射待機時にレ−ザチュ−ブの放電電流を放電維
持可能な低レベルの電流に維持する電流維持手段を有す
ることを特徴とする。
の問題の発生を押さえることができるレ−ザ治療装置を
提供する。 【構成】 治療用レ−ザ発振器から発振された治療光を
患部に照射して、レ−ザ治療を行うレ−ザ治療装置にお
いて、照射待機時にレ−ザチュ−ブの放電電流を放電維
持可能な低レベルの電流に維持する電流維持手段を有す
ることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レ−ザ治療装置、特に
放出熱が少なくてすむレ−ザ治療装置に関する。
放出熱が少なくてすむレ−ザ治療装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のレ−ザ治療装置の治療光として
は、半導体レ−ザ光のように赤外域の光を使用するもの
やアルゴンレ−ザのように可視域の光を使用するものが
知られている。後者のような装置においては、凝固光と
して可視域のレ−ザ光を使用する場合は、照射位置を示
すエイミング光としても使用していた。この装置では、
レ−ザ光をエイミング光として使用するときは、出力を
相対的に低下させつつ減光フィルタを光路中に挿入す
る。凝固時には出力を高くすると共に減光フィルタを光
路外に脱出させる。このようなレ−ザ光凝固装置は従
来、冷却機構として水冷式のものを使用しているので、
特定の場所に固定的に設置されていた。近時、冷却機構
として空冷式の冷却機構を採用して場所が容易に移動可
能な装置も提案されている。
は、半導体レ−ザ光のように赤外域の光を使用するもの
やアルゴンレ−ザのように可視域の光を使用するものが
知られている。後者のような装置においては、凝固光と
して可視域のレ−ザ光を使用する場合は、照射位置を示
すエイミング光としても使用していた。この装置では、
レ−ザ光をエイミング光として使用するときは、出力を
相対的に低下させつつ減光フィルタを光路中に挿入す
る。凝固時には出力を高くすると共に減光フィルタを光
路外に脱出させる。このようなレ−ザ光凝固装置は従
来、冷却機構として水冷式のものを使用しているので、
特定の場所に固定的に設置されていた。近時、冷却機構
として空冷式の冷却機構を採用して場所が容易に移動可
能な装置も提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記のような、レ−ザ
光を凝固光として使用する他、エイミング光としても使
用すると、レ−ザのチュ−ブに流す電流は、常にレ−ザ
光の発振する範囲内で制御される。このようにレ−ザチ
ュ−ブを常に発振状態にしておくと、熱の放出が激しく
効率が悪いという欠点がある。即ち、レ−ザチュ−ブの
熱は放電電流(レ−ザ出力)の大きさによって大きく異
なるが、眼科においては特別な治療を除けば、レ−ザ光
を患部に照射している時間は50%にも満たない。ま
た、レ−ザ出力が高くなると、照射時間の割合が減少す
る傾向も指摘されている。とりわけ、アルゴンレ−ザは
低出力時のエネルギ効率が悪いので、エイミング光とし
て使用する出力低下時には熱発生が相対的に高くなる。
こうした装置において空冷の冷却機構を採用すると、冷
却ファンからの熱風や騒音の問題がある。他方冷却効果
の高い水冷式の冷却機構を採用すると、装置の移動が困
難となる。本発明は上記欠点に鑑み案出されたもので、
放熱が少なく空冷の冷却機構でも熱風や騒音の問題の発
生を押さえることができるレ−ザ治療装置を提供するこ
とを技術課題とする。
光を凝固光として使用する他、エイミング光としても使
用すると、レ−ザのチュ−ブに流す電流は、常にレ−ザ
光の発振する範囲内で制御される。このようにレ−ザチ
ュ−ブを常に発振状態にしておくと、熱の放出が激しく
効率が悪いという欠点がある。即ち、レ−ザチュ−ブの
熱は放電電流(レ−ザ出力)の大きさによって大きく異
なるが、眼科においては特別な治療を除けば、レ−ザ光
を患部に照射している時間は50%にも満たない。ま
た、レ−ザ出力が高くなると、照射時間の割合が減少す
る傾向も指摘されている。とりわけ、アルゴンレ−ザは
低出力時のエネルギ効率が悪いので、エイミング光とし
て使用する出力低下時には熱発生が相対的に高くなる。
こうした装置において空冷の冷却機構を採用すると、冷
却ファンからの熱風や騒音の問題がある。他方冷却効果
の高い水冷式の冷却機構を採用すると、装置の移動が困
難となる。本発明は上記欠点に鑑み案出されたもので、
放熱が少なく空冷の冷却機構でも熱風や騒音の問題の発
生を押さえることができるレ−ザ治療装置を提供するこ
とを技術課題とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明のレ−ザ治療装置
は、上記課題を解決するために、次のような構成をもつ
ことを特徴とする。 (1) 治療用レ−ザ発振器から発振された治療光を患
部に照射して、レ−ザ治療を行うレ−ザ治療装置におい
て、照射待機時にレ−ザチュ−ブの放電電流を放電維持
可能な低レベルの電流に維持する電流維持手段を有する
ことを特徴とする。
は、上記課題を解決するために、次のような構成をもつ
ことを特徴とする。 (1) 治療用レ−ザ発振器から発振された治療光を患
部に照射して、レ−ザ治療を行うレ−ザ治療装置におい
て、照射待機時にレ−ザチュ−ブの放電電流を放電維持
可能な低レベルの電流に維持する電流維持手段を有する
ことを特徴とする。
【0005】(2) (1)の電流維持手段は照射時の
放電電流信号と待機時の放電電流信号とを選択する選択
スイッチが設けられていることを特徴とする。
放電電流信号と待機時の放電電流信号とを選択する選択
スイッチが設けられていることを特徴とする。
【0006】(3) (1)の低レベルの電流とは放電
維持可能な最低量の電流であることを特徴とする。
維持可能な最低量の電流であることを特徴とする。
【0007】(4) (1)のレ−ザ治療装置におい
て、前記治療光は可視領域の光であると共に、エイミン
グ用の可視光を出射する光源と、該光源を出射するエイ
ミング光と治療光の光軸を同軸にする光学系とを具備す
ることを特徴とする。
て、前記治療光は可視領域の光であると共に、エイミン
グ用の可視光を出射する光源と、該光源を出射するエイ
ミング光と治療光の光軸を同軸にする光学系とを具備す
ることを特徴とする。
【0008】(5) (4)のエイミング用の可視光を
出射する光源とは、可視の半導体レ−ザであることを特
徴とする。
出射する光源とは、可視の半導体レ−ザであることを特
徴とする。
【0009】(6) (1)のレ−ザ治療装置におい
て、治療用レ−ザ発振器の冷却手段として空冷式の冷却
装置を設けたことを特徴とする。
て、治療用レ−ザ発振器の冷却手段として空冷式の冷却
装置を設けたことを特徴とする。
【0010】(7) (1)の治療用レ−ザ発振器はア
ルゴンレ−ザであることを特徴とする。
ルゴンレ−ザであることを特徴とする。
【0011】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
図1はスリットランプデリバリ光学系を使用するアルゴ
ンレ−ザ光凝固装置の全体構成を示す図であり、構成を
光学系と電気系に分けて説明する。
図1はスリットランプデリバリ光学系を使用するアルゴ
ンレ−ザ光凝固装置の全体構成を示す図であり、構成を
光学系と電気系に分けて説明する。
【0012】(光学系)アルゴンレ−ザ1からの主波長
488nm、514.5nmのレ−ザビ−ムはビ−ムエキス
パンダ2によって光束が拡大される。3はビ−ムスプリ
ッタであり、ビ−ムスプリッタ3で反射したレ−ザビ−
ムは集光レンズ4を介してフォトダイオ−ド5によって
受光され、その受光量はレ−ザパワ−のモニタデ−タと
して使用される。6はダイクロイックミラ−であり、可
視半導体レ−ザ7からのエイミング光(主波長685n
m)の光軸を凝固光であるレ−ザビ−ムの光軸と同軸に
する。
488nm、514.5nmのレ−ザビ−ムはビ−ムエキス
パンダ2によって光束が拡大される。3はビ−ムスプリ
ッタであり、ビ−ムスプリッタ3で反射したレ−ザビ−
ムは集光レンズ4を介してフォトダイオ−ド5によって
受光され、その受光量はレ−ザパワ−のモニタデ−タと
して使用される。6はダイクロイックミラ−であり、可
視半導体レ−ザ7からのエイミング光(主波長685n
m)の光軸を凝固光であるレ−ザビ−ムの光軸と同軸に
する。
【0013】8は安全シャッタであり、所定の場合に光
路に挿入されレ−ザビ−ムを遮断する。9は集光レンズ
であり、レ−ザビ−ムを集光して光ファイバ10に入光
させる。光ファイバ10はレ−ザビ−ムをスリットラン
プデリバリ光学系11に導光する。光ファイバ10を出
射したレ−ザビ−ムはコリメ−ティングレンズ12、フ
ォ−カシングレンズ13によりミラ−14、コンタクト
レンズ15を介して患者眼16の眼底に集光される。1
7は双眼の顕微鏡であり、術者眼18が患者眼16を観
察する。
路に挿入されレ−ザビ−ムを遮断する。9は集光レンズ
であり、レ−ザビ−ムを集光して光ファイバ10に入光
させる。光ファイバ10はレ−ザビ−ムをスリットラン
プデリバリ光学系11に導光する。光ファイバ10を出
射したレ−ザビ−ムはコリメ−ティングレンズ12、フ
ォ−カシングレンズ13によりミラ−14、コンタクト
レンズ15を介して患者眼16の眼底に集光される。1
7は双眼の顕微鏡であり、術者眼18が患者眼16を観
察する。
【0014】(電気系) (a) 電気系は、パネル操作部20、制御部30、ア
ルゴンレ−ザ用電源回路40、冷却部50から大略構成
される。
ルゴンレ−ザ用電源回路40、冷却部50から大略構成
される。
【0015】(b) パネル操作部20はレ−ザ凝固の
条件等の入力及び表示をする。パネル操作部20は制御
部30に接続され、パネル操作部20で入力されたレ−
ザの設定条件を制御部30に送信する。制御部30はレ
−ザの設定条件を電源回路40に出力する。また、制御
部30は可視半導体レ−ザ7を駆動する駆動回路31を
制御する。可視半導体レ−ザのレ−ザパワ−が治療光の
パワ−と比較して十分小さいときは、治療光照射時にお
いてもエイミング光を照射し続けることができる。アル
ゴンレ−ザの照射を指令するトリガスイッチ32の信号
を受けて制御部30はレ−ザ電源40を制御する。さら
に、制御部30はシャッタ駆動回路33を介してシャッ
タ用ソレノイド34を駆動し安全シャッタ8の開閉を行
う。安全シャッタ8は、過大出力、過大凝固時間等の異
常動作が検出された場合やレ−ザの状態をセルフテスト
する場合に閉じられる。
条件等の入力及び表示をする。パネル操作部20は制御
部30に接続され、パネル操作部20で入力されたレ−
ザの設定条件を制御部30に送信する。制御部30はレ
−ザの設定条件を電源回路40に出力する。また、制御
部30は可視半導体レ−ザ7を駆動する駆動回路31を
制御する。可視半導体レ−ザのレ−ザパワ−が治療光の
パワ−と比較して十分小さいときは、治療光照射時にお
いてもエイミング光を照射し続けることができる。アル
ゴンレ−ザの照射を指令するトリガスイッチ32の信号
を受けて制御部30はレ−ザ電源40を制御する。さら
に、制御部30はシャッタ駆動回路33を介してシャッ
タ用ソレノイド34を駆動し安全シャッタ8の開閉を行
う。安全シャッタ8は、過大出力、過大凝固時間等の異
常動作が検出された場合やレ−ザの状態をセルフテスト
する場合に閉じられる。
【0016】また、制御部30にはレ−ザ出力信号、チ
ュ−ブ電流等、レ−ザに関する信号が入力される。アル
ゴンレ−ザ用電源回路40はアルゴンレ−ザ1を駆動す
る回路であり、スイッチ21を介して交流電源22と接
続され、フォトダイオ−ド5のパワ−モニタ用信号はア
ンプ23により増幅され電源回路40に入力される。
ュ−ブ電流等、レ−ザに関する信号が入力される。アル
ゴンレ−ザ用電源回路40はアルゴンレ−ザ1を駆動す
る回路であり、スイッチ21を介して交流電源22と接
続され、フォトダイオ−ド5のパワ−モニタ用信号はア
ンプ23により増幅され電源回路40に入力される。
【0017】(c)アルゴンレ−ザ用電源回路 アルゴンレ−ザ用電源回路40の構成を図2にしたがっ
て説明する。交流電源22はスイッチ21を経由して交
流、直流変換のための整流平滑回路41に接続され、整
流平滑回路41は150〜200Vの直流電流に変換す
る。整流平滑回路41のマイナス側はフィラメントトラ
ンス42の2次側の中間部に接続され、フィラメントト
ランス42はレ−ザのカソ−ド100に接続される。プ
ラス側はチュ−ブ電流検出用抵抗器43、レ−ザチュ−
ブ101の電流制御回路44、スタ−タ45を経由して
レ−ザのアノ−ド102に接続される。
て説明する。交流電源22はスイッチ21を経由して交
流、直流変換のための整流平滑回路41に接続され、整
流平滑回路41は150〜200Vの直流電流に変換す
る。整流平滑回路41のマイナス側はフィラメントトラ
ンス42の2次側の中間部に接続され、フィラメントト
ランス42はレ−ザのカソ−ド100に接続される。プ
ラス側はチュ−ブ電流検出用抵抗器43、レ−ザチュ−
ブ101の電流制御回路44、スタ−タ45を経由して
レ−ザのアノ−ド102に接続される。
【0018】レ−ザパワ−比較器46は照射時のレ−ザ
パワ−設定信号とアンプ23からのレ−ザパワ−信号を
比較し、アルゴンレ−ザ1からのレ−ザビ−ムの出力を
パワ−設定値に一致させると共に安定させるように出力
調整信号を出力する。スイッチ47は電流比較増幅器4
8への設定電流値をレ−ザ照射時である「動作」状態ま
たは非照射時である「待機」状態に切換える。「待機」
側の電流は可変抵抗器49により放電維持可能な値に設
定される。電流比較増幅器48は、電流検出用抵抗器4
3及び電流検出器49aにより得られるチュ−ブ電流と
スイッチ47で選択された設定電流値とを比較する。電
流比較増幅器48の比較信号は電流制御回路44に入力
され、電流制御回路44はレ−ザチュ−ブ101の電流
を設定値と同等な値に安定させる。
パワ−設定信号とアンプ23からのレ−ザパワ−信号を
比較し、アルゴンレ−ザ1からのレ−ザビ−ムの出力を
パワ−設定値に一致させると共に安定させるように出力
調整信号を出力する。スイッチ47は電流比較増幅器4
8への設定電流値をレ−ザ照射時である「動作」状態ま
たは非照射時である「待機」状態に切換える。「待機」
側の電流は可変抵抗器49により放電維持可能な値に設
定される。電流比較増幅器48は、電流検出用抵抗器4
3及び電流検出器49aにより得られるチュ−ブ電流と
スイッチ47で選択された設定電流値とを比較する。電
流比較増幅器48の比較信号は電流制御回路44に入力
され、電流制御回路44はレ−ザチュ−ブ101の電流
を設定値と同等な値に安定させる。
【0019】スタ−タ45は制御部30からのチュ−ブ
放電スタ−ト信号により動作し、アノ−ド102にアル
ゴンガスを十分電離するに足る電圧をかける。アンプ2
3のレ−ザ出力信号と電流検出器49aのチュ−ブ電流
出力信号は、制御部30へ出力され、制御部30内でア
ナログ/デジタル変換された後マイクロコンピュ−タ
(図示せず)に入力され、アルゴンレ−ザ1の監視デ−
タとされる。
放電スタ−ト信号により動作し、アノ−ド102にアル
ゴンガスを十分電離するに足る電圧をかける。アンプ2
3のレ−ザ出力信号と電流検出器49aのチュ−ブ電流
出力信号は、制御部30へ出力され、制御部30内でア
ナログ/デジタル変換された後マイクロコンピュ−タ
(図示せず)に入力され、アルゴンレ−ザ1の監視デ−
タとされる。
【0020】(d)冷却部 冷却部50の詳細を図3に基づいて説明する。レ−ザ冷
却用ファン50は冷却ファン回転制御回路51により回
転が制御される。52は排気ダクト中に置かれた排気温
度センサであり、その検出信号は排気温度検出回路53
により温度に対応する電圧に変換される。電圧信号は冷
却ファン回転制御回路51に入力され、冷却用ファン5
0の回転数を制御する。排気温度に対する冷却用ファン
50の回転数はレ−ザチュ−ブ101の温度に対する安
全範囲に基づいて決定されるが、冷却ファン回転制御回
路51にその関係を予め設定しておく。レ−ザチュ−ブ
101が急激に加熱され温度の安全範囲を越える自体に
対処するために、レ−ザチュ−ブ101のアノ−ド10
2にアノ−ド温度センサ54を取り付ける。温度センサ
54の信号はアノ−ド温度検出回路55に送られ、アノ
−ド温度検出回路55はアノ−ド温度に対応する電圧を
出力する。所定の温度を越えた場合には冷却ファン50
を最大限の回転数とする。さらに、アノ−ド温度検出回
路55の信号は制御部30に送られ、アノ−ド102の
温度が許容限界値となるときは、レ−ザチュ−ブ101
の破壊を防ぐために、レ−ザの放電を強制的に止める。
却用ファン50は冷却ファン回転制御回路51により回
転が制御される。52は排気ダクト中に置かれた排気温
度センサであり、その検出信号は排気温度検出回路53
により温度に対応する電圧に変換される。電圧信号は冷
却ファン回転制御回路51に入力され、冷却用ファン5
0の回転数を制御する。排気温度に対する冷却用ファン
50の回転数はレ−ザチュ−ブ101の温度に対する安
全範囲に基づいて決定されるが、冷却ファン回転制御回
路51にその関係を予め設定しておく。レ−ザチュ−ブ
101が急激に加熱され温度の安全範囲を越える自体に
対処するために、レ−ザチュ−ブ101のアノ−ド10
2にアノ−ド温度センサ54を取り付ける。温度センサ
54の信号はアノ−ド温度検出回路55に送られ、アノ
−ド温度検出回路55はアノ−ド温度に対応する電圧を
出力する。所定の温度を越えた場合には冷却ファン50
を最大限の回転数とする。さらに、アノ−ド温度検出回
路55の信号は制御部30に送られ、アノ−ド102の
温度が許容限界値となるときは、レ−ザチュ−ブ101
の破壊を防ぐために、レ−ザの放電を強制的に止める。
【0021】以上のような構成の装置において、次にそ
の動作を説明する。スイッチ21を閉じると、制御部3
0内のマイクロコンピュ−タにより装置の初期設定が行
われる。シャッタ用ソレノイド34が駆動され安全シャ
ッタ8が閉じられ、アルゴンレ−ザ1の出力値が500
mwとなるようにレ−ザパワ−設定信号が付与され、スイ
ッチ47は「動作」側に切換えられる。カソ−ド100
に電力が供給されてから30秒後に、スタ−タ45が動
作しレ−ザチュ−ブ101の放電が開始され、アルゴン
レ−ザ1より500mwのレ−ザビ−ムが出力される。そ
の後、制御部30内のマイクロコンピュ−タはレ−ザパ
ワ−設定信号を20mw〜最大出力までレ−ザ出力の信号
を読み取れる速度で変化させる。電流検出用抵抗器43
及び電流検出器49aから得られるチュ−ブ電流信号と
レ−ザパワ−信号によりレ−ザの状態を読み取り、これ
を過去に記憶されたレ−ザのデ−タと比較して良否の判
断を行う。
の動作を説明する。スイッチ21を閉じると、制御部3
0内のマイクロコンピュ−タにより装置の初期設定が行
われる。シャッタ用ソレノイド34が駆動され安全シャ
ッタ8が閉じられ、アルゴンレ−ザ1の出力値が500
mwとなるようにレ−ザパワ−設定信号が付与され、スイ
ッチ47は「動作」側に切換えられる。カソ−ド100
に電力が供給されてから30秒後に、スタ−タ45が動
作しレ−ザチュ−ブ101の放電が開始され、アルゴン
レ−ザ1より500mwのレ−ザビ−ムが出力される。そ
の後、制御部30内のマイクロコンピュ−タはレ−ザパ
ワ−設定信号を20mw〜最大出力までレ−ザ出力の信号
を読み取れる速度で変化させる。電流検出用抵抗器43
及び電流検出器49aから得られるチュ−ブ電流信号と
レ−ザパワ−信号によりレ−ザの状態を読み取り、これ
を過去に記憶されたレ−ザのデ−タと比較して良否の判
断を行う。
【0022】レ−ザの状態のテストが終了すると、スイ
ッチ47を「待機」側に切換えてアルゴンレ−ザ1の発
振を止める。待機時のチュ−ブ電流は可変抵抗器49に
より設定される放電維持電流であるが、実施例では放電
維持電流を1.5〜2.0A、チュ−ブ消費電力を50
0〜600wとしている。ちなみに、アルゴンレ−ザ1
をエイミング光として用いた場合には、チュ−ブ電流が
7〜13A、チュ−ブ消費電力は1700〜3000w
となり、本発明を使用すると待機/観察時において熱の
発生が極めて少ないことが分かる。詳細は省略するが、
制御部30のマイクロコンピュ−タは、レ−ザの状態の
テストと同時に、冷却ファン50や排気温度の異常の有
無等、安全動作上の機能及び光凝固上の機能について自
己診断を行う。
ッチ47を「待機」側に切換えてアルゴンレ−ザ1の発
振を止める。待機時のチュ−ブ電流は可変抵抗器49に
より設定される放電維持電流であるが、実施例では放電
維持電流を1.5〜2.0A、チュ−ブ消費電力を50
0〜600wとしている。ちなみに、アルゴンレ−ザ1
をエイミング光として用いた場合には、チュ−ブ電流が
7〜13A、チュ−ブ消費電力は1700〜3000w
となり、本発明を使用すると待機/観察時において熱の
発生が極めて少ないことが分かる。詳細は省略するが、
制御部30のマイクロコンピュ−タは、レ−ザの状態の
テストと同時に、冷却ファン50や排気温度の異常の有
無等、安全動作上の機能及び光凝固上の機能について自
己診断を行う。
【0023】次に、術者は双眼の顕微鏡17を用いて患
者眼16の眼底を観察しながら光凝固する部位を決定す
る。光凝固する部位が決定されると、パネル操作部20
のエイミングスイッチをONにし安全シャッタ8を開く
と共に、制御部30は駆動回路31を介して可視半導体
レ−ザ7を発振させる。眼底を観察しながら、エイミン
グ光を光凝固予定部位に移動する。パネル操作部20の
レ−ザ照射可能スイッチ(図示せず)を押して、トリガ
スイッチ32が作動可能な状態にする。トリガスイッチ
32が押されると、スイッチ47は「動作」側に切換え
られる。パネル操作部20で入力されたレ−ザパワ−に
相応するレ−ザパワ−設定信号が制御部30から設定時
間だけ出力される。電流制御回路44はスタ−タ45を
介してチュ−ブ電流を制御して、設定されたパワ−のレ
−ザビ−ムが前述の光学系を介して患者眼16の眼底に
照射される。照射終了後、直ちにスイッチ47は「待
機」状態に切換えられ、次のレ−ザ照射を待つ。
者眼16の眼底を観察しながら光凝固する部位を決定す
る。光凝固する部位が決定されると、パネル操作部20
のエイミングスイッチをONにし安全シャッタ8を開く
と共に、制御部30は駆動回路31を介して可視半導体
レ−ザ7を発振させる。眼底を観察しながら、エイミン
グ光を光凝固予定部位に移動する。パネル操作部20の
レ−ザ照射可能スイッチ(図示せず)を押して、トリガ
スイッチ32が作動可能な状態にする。トリガスイッチ
32が押されると、スイッチ47は「動作」側に切換え
られる。パネル操作部20で入力されたレ−ザパワ−に
相応するレ−ザパワ−設定信号が制御部30から設定時
間だけ出力される。電流制御回路44はスタ−タ45を
介してチュ−ブ電流を制御して、設定されたパワ−のレ
−ザビ−ムが前述の光学系を介して患者眼16の眼底に
照射される。照射終了後、直ちにスイッチ47は「待
機」状態に切換えられ、次のレ−ザ照射を待つ。
【0024】
【発明の効果】本発明によれば、放熱が少なく空冷の冷
却機構でも熱風や騒音の問題の発生を押さえることがで
きる。
却機構でも熱風や騒音の問題の発生を押さえることがで
きる。
【図1】スリットランプデリバリ光学系を使用するアル
ゴンレ−ザ光凝固装置の全体構成を示す図である。
ゴンレ−ザ光凝固装置の全体構成を示す図である。
【図2】アルゴンレ−ザ用電源回路の構成を示した図で
ある。
ある。
【図3】本装置の冷却部の構成を示した図である。
1 アルゴンレ−ザ 20 パネル操作部 30 制御部 40 アルゴンレ−ザ用電源回路 50 冷却部
Claims (7)
- 【請求項1】 治療用レ−ザ発振器から発振された治療
光を患部に照射して、レ−ザ治療を行うレ−ザ治療装置
において、照射待機時にレ−ザチュ−ブの放電電流を放
電維持可能な低レベルの電流に維持する電流維持手段を
有することを特徴とするレ−ザ治療装置。 - 【請求項2】 請求項1の電流維持手段は照射時の放電
電流信号と待機時の放電電流信号とを選択する選択スイ
ッチが設けられていることを特徴とするレ−ザ治療装
置。 - 【請求項3】 請求項1の低レベルの電流とは放電維持
可能な最低量の電流であることを特徴とするレ−ザ治療
装置。 - 【請求項4】 請求項1のレ−ザ治療装置において、前
記治療光は可視領域の光であると共に、エイミング用の
可視光を出射する光源と、該光源を出射するエイミング
光と治療光の光軸を同軸にする光学系とを具備すること
を特徴とするレ−ザ治療装置。 - 【請求項5】 請求項4のエイミング用の可視光を出射
する光源とは、可視の半導体レ−ザであることを特徴と
するレ−ザ治療装置。 - 【請求項6】 請求項1のレ−ザ治療装置において、治
療用レ−ザ発振器の冷却手段として空冷式の冷却装置を
設けたことを特徴とするレ−ザ治療装置。 - 【請求項7】 請求項1の治療用レ−ザ発振器はアルゴ
ンレ−ザであることを特徴とするレ−ザ治療装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4164398A JPH05329219A (ja) | 1992-05-30 | 1992-05-30 | レ−ザ治療装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4164398A JPH05329219A (ja) | 1992-05-30 | 1992-05-30 | レ−ザ治療装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05329219A true JPH05329219A (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=15792376
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4164398A Pending JPH05329219A (ja) | 1992-05-30 | 1992-05-30 | レ−ザ治療装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05329219A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006218290A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-08-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光線治療器 |
JP2009536718A (ja) * | 2006-02-01 | 2009-10-15 | ザ ジェネラル ホスピタル コーポレイション | 複数の電磁放射をサンプルに照射する装置 |
-
1992
- 1992-05-30 JP JP4164398A patent/JPH05329219A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006218290A (ja) * | 2005-01-11 | 2006-08-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光線治療器 |
JP4704213B2 (ja) * | 2005-01-11 | 2011-06-15 | パナソニック株式会社 | 光線治療器 |
JP2009536718A (ja) * | 2006-02-01 | 2009-10-15 | ザ ジェネラル ホスピタル コーポレイション | 複数の電磁放射をサンプルに照射する装置 |
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