JPH05325135A - 薄膜型磁気ヘッド - Google Patents
薄膜型磁気ヘッドInfo
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- JPH05325135A JPH05325135A JP4131290A JP13129092A JPH05325135A JP H05325135 A JPH05325135 A JP H05325135A JP 4131290 A JP4131290 A JP 4131290A JP 13129092 A JP13129092 A JP 13129092A JP H05325135 A JPH05325135 A JP H05325135A
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- G11B5/10—Structure or manufacture of housings or shields for heads
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1274—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with "composite" cores, i.e. cores composed in some parts of magnetic particles and in some other parts of magnetic metal layers
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄膜型磁気ヘッドの小型化を出力低下を防止
しながら可能にする。 【構成】 非磁性基板１に挾持された金属磁性膜２を磁
気コアとする薄膜型磁気ヘッドにおいて、その磁気コア
の外縁部の一部に、その磁気コアと直交して補助コアの
作用をする高透磁率の軟磁性膜１１を設けることによ
り、磁気コアのバック部の幅ｈ１やサイド部の幅ｈ２を
狭くすることを可能にして、薄膜型磁気ヘッドの小型化
を可能にする。
しながら可能にする。 【構成】 非磁性基板１に挾持された金属磁性膜２を磁
気コアとする薄膜型磁気ヘッドにおいて、その磁気コア
の外縁部の一部に、その磁気コアと直交して補助コアの
作用をする高透磁率の軟磁性膜１１を設けることによ
り、磁気コアのバック部の幅ｈ１やサイド部の幅ｈ２を
狭くすることを可能にして、薄膜型磁気ヘッドの小型化
を可能にする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はコンピュータ用磁気ディ
スク装置などに用いられる薄膜型磁気ヘッドに関する。
スク装置などに用いられる薄膜型磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録密度の向上の要求に応えるため
に、磁気記録媒体の高保磁力化とともに磁気ヘッドの高
性能化が図られている。磁気ヘッドにおいては、高保磁
力の磁気記録媒体の性能を十分に引き出すために、従来
のフェライト材に代わって、高飽和磁束密度のＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ系合金、Ｎｉ−Ｆｅ系合金、Ｃｏ系アモルファ
ス合金などの金属磁性材料が用いられるようになってい
る。記録密度の向上に伴って、磁気ヘッドのトラック幅
が狭くなり、また転送レートも高くなり、高周波での良
好な記録再生特性が要求されている。このような要求に
応えるために、非磁性基板に挾持された金属磁性膜を磁
気コアとする薄膜型磁気ヘッドが開発されている。
に、磁気記録媒体の高保磁力化とともに磁気ヘッドの高
性能化が図られている。磁気ヘッドにおいては、高保磁
力の磁気記録媒体の性能を十分に引き出すために、従来
のフェライト材に代わって、高飽和磁束密度のＦｅ−Ａ
ｌ−Ｓｉ系合金、Ｎｉ−Ｆｅ系合金、Ｃｏ系アモルファ
ス合金などの金属磁性材料が用いられるようになってい
る。記録密度の向上に伴って、磁気ヘッドのトラック幅
が狭くなり、また転送レートも高くなり、高周波での良
好な記録再生特性が要求されている。このような要求に
応えるために、非磁性基板に挾持された金属磁性膜を磁
気コアとする薄膜型磁気ヘッドが開発されている。
【０００３】図６に非磁性基板に挾持された金属磁性膜
を磁気コアとする従来の薄膜型磁気ヘッドの斜視図を示
す。従来の薄膜型磁気ヘッドは、非磁性基板１に挟まれ
た金属磁性膜２のみが磁気コアとして動作し、そのトラ
ック幅は金属磁性膜２の膜厚により決まるので、狭トラ
ック化が容易である。薄膜型磁気ヘッドの外観形状は従
来のフェライト製のバルク型ヘッドとほとんど同じであ
る。そして、この薄膜型磁気ヘッドは、記録時には、巻
線窓３に巻いたコイル４が、励磁コイルとして作用し、
金属磁性膜２よりなる磁気コアを磁化して、磁気ギャッ
プ５からの漏洩磁界により磁気媒体に記録を行う。また
再生時には、コイル４がピックアップコイルとして動作
し、前記磁気コアを通過する記録媒体からの漏洩磁束の
変化を誘導起電力として検出する。
を磁気コアとする従来の薄膜型磁気ヘッドの斜視図を示
す。従来の薄膜型磁気ヘッドは、非磁性基板１に挟まれ
た金属磁性膜２のみが磁気コアとして動作し、そのトラ
ック幅は金属磁性膜２の膜厚により決まるので、狭トラ
ック化が容易である。薄膜型磁気ヘッドの外観形状は従
来のフェライト製のバルク型ヘッドとほとんど同じであ
る。そして、この薄膜型磁気ヘッドは、記録時には、巻
線窓３に巻いたコイル４が、励磁コイルとして作用し、
金属磁性膜２よりなる磁気コアを磁化して、磁気ギャッ
プ５からの漏洩磁界により磁気媒体に記録を行う。また
再生時には、コイル４がピックアップコイルとして動作
し、前記磁気コアを通過する記録媒体からの漏洩磁束の
変化を誘導起電力として検出する。
【０００４】金属磁性膜２には上記のようにＦｅ−Ａｌ
−Ｓｉ合金などの飽和磁束密度が高く、また透磁率の周
波数特性が良好な材料が用いられるので、薄膜型磁気ヘ
ッドは、フェライトヘッドに比べて優れた記録能力と高
周波特性を有しており、保磁力１４００エルステッド以
上の高保磁力媒体への記録が可能であり、また１０ＭＨ
ｚ以上の高周波域においても使用することができる。金
属磁性膜２は多くの場合、高周波での渦電流損失を抑え
るために二酸化珪素などの絶縁膜との積層構造をとる。
−Ｓｉ合金などの飽和磁束密度が高く、また透磁率の周
波数特性が良好な材料が用いられるので、薄膜型磁気ヘ
ッドは、フェライトヘッドに比べて優れた記録能力と高
周波特性を有しており、保磁力１４００エルステッド以
上の高保磁力媒体への記録が可能であり、また１０ＭＨ
ｚ以上の高周波域においても使用することができる。金
属磁性膜２は多くの場合、高周波での渦電流損失を抑え
るために二酸化珪素などの絶縁膜との積層構造をとる。
【０００５】薄膜型磁気ヘッドは、コンピュータ用磁気
ディスク装置に用いられる場合には、図７の（ａ）およ
び（ｂ）に示すような磁気ヘッドスライダーとして用い
られる。図７の（ａ）は非磁性基板よりなる浮動スライ
ダー６にガラス接着層７により薄膜型磁気ヘッド８を接
着したコンポジット構造の磁気ヘッドスライダーの例で
ある。図７の（ｂ）は薄膜型磁気ヘッドの非磁性基板１
が浮動スライダーを形成している一体型の磁気ヘッドス
ライダーの例である。
ディスク装置に用いられる場合には、図７の（ａ）およ
び（ｂ）に示すような磁気ヘッドスライダーとして用い
られる。図７の（ａ）は非磁性基板よりなる浮動スライ
ダー６にガラス接着層７により薄膜型磁気ヘッド８を接
着したコンポジット構造の磁気ヘッドスライダーの例で
ある。図７の（ｂ）は薄膜型磁気ヘッドの非磁性基板１
が浮動スライダーを形成している一体型の磁気ヘッドス
ライダーの例である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】近年、磁気ディスク装
置の小型化、高容量化が進み、磁気ヘッドスライダーに
対しても、小型化が強く求められている。現在は全高ｈ
が約６００μｍのスライダー（７０％スライダー）が主
流であるが、将来的には全高ｈが４００μｍ程度の、よ
り小型のスライダーが主流になることが予想されてい
る。
置の小型化、高容量化が進み、磁気ヘッドスライダーに
対しても、小型化が強く求められている。現在は全高ｈ
が約６００μｍのスライダー（７０％スライダー）が主
流であるが、将来的には全高ｈが４００μｍ程度の、よ
り小型のスライダーが主流になることが予想されてい
る。
【０００７】上記の薄膜型磁気ヘッドにおいては、十分
な再生出力を得るためには、コイル４は３０〜５０ター
ンの巻線数が必要であり、コイル４に用いる被覆導線の
径は２０〜３０μｍであるので、巻線を行う際の作業性
も考慮すると巻線窓３の形状は小さくすることが困難で
あり、薄膜型磁気ヘッドの小型化を図るには、磁気コア
のバック部の幅ｈ１およびサイド部の幅ｈ２（図６参
照）を小さくすることが必要になる。しかし、従来の薄
膜型磁気ヘッドでは、金属磁性膜２のみが磁気コアの働
きをするので、磁気コアの幅ｈ１、ｈ２をある程度以上
に狭くすると、その狭くなった部分の磁気抵抗が増大し
て磁気コアの効率ηが低下し、再生出力が低下するとい
う問題があった。
な再生出力を得るためには、コイル４は３０〜５０ター
ンの巻線数が必要であり、コイル４に用いる被覆導線の
径は２０〜３０μｍであるので、巻線を行う際の作業性
も考慮すると巻線窓３の形状は小さくすることが困難で
あり、薄膜型磁気ヘッドの小型化を図るには、磁気コア
のバック部の幅ｈ１およびサイド部の幅ｈ２（図６参
照）を小さくすることが必要になる。しかし、従来の薄
膜型磁気ヘッドでは、金属磁性膜２のみが磁気コアの働
きをするので、磁気コアの幅ｈ１、ｈ２をある程度以上
に狭くすると、その狭くなった部分の磁気抵抗が増大し
て磁気コアの効率ηが低下し、再生出力が低下するとい
う問題があった。
【０００８】出力の低下が生じるコア幅ｈ１、ｈ２の限
界値は、金属磁性膜２の膜厚や透磁率およびコアの形状
により変化するが、おおむね１００〜１５０μｍである
ことが知られている。
界値は、金属磁性膜２の膜厚や透磁率およびコアの形状
により変化するが、おおむね１００〜１５０μｍである
ことが知られている。
【０００９】一例として、図８に、金属磁性膜２よりな
る磁気コアの厚みが７μｍ、透磁率２０００の薄膜型磁
気ヘッドにおいて、サイド部のコア幅ｈ２を２００μｍ
として、バック部のコア幅ｈ１を変化させた場合のヘッ
ドの再生出力の変化を示す。図５に示すように、バック
部のコア幅ｈ１が１５０μｍ以下になると出力が低下す
る。
る磁気コアの厚みが７μｍ、透磁率２０００の薄膜型磁
気ヘッドにおいて、サイド部のコア幅ｈ２を２００μｍ
として、バック部のコア幅ｈ１を変化させた場合のヘッ
ドの再生出力の変化を示す。図５に示すように、バック
部のコア幅ｈ１が１５０μｍ以下になると出力が低下す
る。
【００１０】本発明は上記問題を解決するもので、出力
を低下させることなく小型化を図ることのできる薄膜型
磁気ヘッドを提供することを目的とするものである。
を低下させることなく小型化を図ることのできる薄膜型
磁気ヘッドを提供することを目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に本発明は、非磁性基板に挾持された金属磁性膜からな
る磁気コアの縁部の一部に、その磁気コアと直交する高
透磁率の軟磁性膜を設けたものである。
に本発明は、非磁性基板に挾持された金属磁性膜からな
る磁気コアの縁部の一部に、その磁気コアと直交する高
透磁率の軟磁性膜を設けたものである。
【００１２】
【作用】上記構成により、高透磁率の軟磁性膜は、磁気
コアの金属磁性膜と磁気的に結合して補助コアとして作
用し、コア幅の減少に伴い発生する出力低下を防止す
る。これにより、出力低下を防止しながらコア幅を減少
させて小型化することができる。
コアの金属磁性膜と磁気的に結合して補助コアとして作
用し、コア幅の減少に伴い発生する出力低下を防止す
る。これにより、出力低下を防止しながらコア幅を減少
させて小型化することができる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。なお、従来と同機能のものには同符号を付す。
る。なお、従来と同機能のものには同符号を付す。
【００１４】図１は本発明の一実施例に係る薄膜型磁気
ヘッドの斜視図である。図１に示すように、非磁性基板
１により金属磁性膜２が挟持されており、この金属磁性
膜２はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金で形成されて、膜厚は７μ
ｍ、１ＭＨｚでの初透磁率は約２０００とされている。
そして、この金属磁性膜２からなる磁気コアの外縁部に
おける磁気ヘッドの背面部位置に、前記磁気コアと直交
するように高透磁率を有する軟磁性膜１１が設けられて
いる。
ヘッドの斜視図である。図１に示すように、非磁性基板
１により金属磁性膜２が挟持されており、この金属磁性
膜２はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金で形成されて、膜厚は７μ
ｍ、１ＭＨｚでの初透磁率は約２０００とされている。
そして、この金属磁性膜２からなる磁気コアの外縁部に
おける磁気ヘッドの背面部位置に、前記磁気コアと直交
するように高透磁率を有する軟磁性膜１１が設けられて
いる。
【００１５】この軟磁性膜１１は、スパッター法で形成
した厚み２μｍのＣｏ系アモルファス合金膜であり、１
ＭＨｚでの初透磁率は２０００程度である。軟磁性膜１
１には、Ｎｉ−Ｆｅ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｎ膜な
どの窒化膜、Ｆｅ−Ｓｉ／Ｎｉ−Ｆｅなどの多層膜など
も用いることができる。
した厚み２μｍのＣｏ系アモルファス合金膜であり、１
ＭＨｚでの初透磁率は２０００程度である。軟磁性膜１
１には、Ｎｉ−Ｆｅ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ−Ｎ膜な
どの窒化膜、Ｆｅ−Ｓｉ／Ｎｉ−Ｆｅなどの多層膜など
も用いることができる。
【００１６】上記構成により、高透磁率の軟磁性膜１１
が、磁気コアの金属磁性膜２と磁気的に結合して補助コ
アとして作用し、コア幅の減少に伴い発生する出力低下
が防止される。
が、磁気コアの金属磁性膜２と磁気的に結合して補助コ
アとして作用し、コア幅の減少に伴い発生する出力低下
が防止される。
【００１７】この薄膜型磁気ヘッドにおいて、サイド部
分のコア幅ｈ２を２００μｍとして、バック部のコア幅
ｈ１を２００〜２０μｍの範囲で変化させた場合のヘッ
ドの再生出力の変化を図２に示す。また、従来の薄膜型
磁気ヘッドにおいて同じ実験を行った結果を図２の破線
部で併せて示す。なお、磁気媒体には保磁力１４００エ
ルステッド、Ｂｒ（残留磁束密度）δ（膜厚）＝４５０
μｍＧのものを用いて、浮上量０．１μｍ、媒体速度
８．３ｍ／ｓ、記録周波数６ＭＨｚにて測定を行った。
図２の結果から、従来の薄膜型磁気ヘッドではバック部
のコア幅ｈ１が１５０μｍ以下になると、再生出力の低
下が発生するが、本実施例の薄膜型磁気ヘッドではバッ
ク部のコア幅ｈ１を２０μｍにまで小さくしても出力の
低下は生じていないことがわかる。
分のコア幅ｈ２を２００μｍとして、バック部のコア幅
ｈ１を２００〜２０μｍの範囲で変化させた場合のヘッ
ドの再生出力の変化を図２に示す。また、従来の薄膜型
磁気ヘッドにおいて同じ実験を行った結果を図２の破線
部で併せて示す。なお、磁気媒体には保磁力１４００エ
ルステッド、Ｂｒ（残留磁束密度）δ（膜厚）＝４５０
μｍＧのものを用いて、浮上量０．１μｍ、媒体速度
８．３ｍ／ｓ、記録周波数６ＭＨｚにて測定を行った。
図２の結果から、従来の薄膜型磁気ヘッドではバック部
のコア幅ｈ１が１５０μｍ以下になると、再生出力の低
下が発生するが、本実施例の薄膜型磁気ヘッドではバッ
ク部のコア幅ｈ１を２０μｍにまで小さくしても出力の
低下は生じていないことがわかる。
【００１８】すなわち、従来の薄膜型磁気ヘッドでは全
高ｈを５００μｍ以下にすることが困難であったが、本
実施例の薄膜型磁気ヘッドでは全高ｈを４００μｍ以下
にすることが可能であることがわかる。
高ｈを５００μｍ以下にすることが困難であったが、本
実施例の薄膜型磁気ヘッドでは全高ｈを４００μｍ以下
にすることが可能であることがわかる。
【００１９】なお、軟磁性膜１１の非透磁率μと膜厚ｄ
（単位μｍ）については、その積が３０００以上である
ことが必要である。その理由は非透磁率μと膜厚ｄの積
が３０００以下では、軟磁性膜１１の補助コアとしての
働きが不十分になるからである。ここで、バック部のコ
ア幅ｈ１＝５０μｍ、サイド部のコア幅ｈ２＝２００μ
ｍの本実施例の薄膜型磁気ヘッドにおいて軟磁性膜１１
の比透磁率μと膜厚ｄの積によるヘッド出力の変化を調
べた結果を図３に示す。軟磁性膜１１の比透磁率μと膜
厚ｄの積が３０００以下になると出力が低下しており、
３０００以上の値が必要であることがわかる。
（単位μｍ）については、その積が３０００以上である
ことが必要である。その理由は非透磁率μと膜厚ｄの積
が３０００以下では、軟磁性膜１１の補助コアとしての
働きが不十分になるからである。ここで、バック部のコ
ア幅ｈ１＝５０μｍ、サイド部のコア幅ｈ２＝２００μ
ｍの本実施例の薄膜型磁気ヘッドにおいて軟磁性膜１１
の比透磁率μと膜厚ｄの積によるヘッド出力の変化を調
べた結果を図３に示す。軟磁性膜１１の比透磁率μと膜
厚ｄの積が３０００以下になると出力が低下しており、
３０００以上の値が必要であることがわかる。
【００２０】次に、本発明の他の実施例を図４により説
明する。なお、上記実施例と同機能のものには同符号を
付す。図４に示すように、この実施例においては金属磁
性膜２からなる磁気コアの外縁部における薄膜型磁気ヘ
ッドのサイド部分の巻線側に軟磁性膜１１を設けてい
る。図５に、バック部のコア幅ｈ１を２００μｍ（一
定）とし、サイド部のコア幅のうちスライダー側の幅ｈ
２を２００μｍ（一定）とし、巻線側の幅ｈ２′を２０
０〜２０μｍの範囲で変化させた場合の薄膜型磁気ヘッ
ドの再生出力の変化を示す。また、従来の薄膜型磁気ヘ
ッドにおいて同じ実験を行った結果を図５における破線
で併せて示す。なお、軟磁性膜１１には上記実施例と同
じものを用い、また評価も実施例と同じ条件で行った。
図５の結果より、従来の薄膜型磁気ヘッドでは巻線部分
のコアの幅ｈ２′は１５０μｍ以下にすることが困難で
あったが、本実施例によれば、１５０μｍ以下に小さく
することが可能である。巻線部のコア幅ｈ２′の小型化
は、巻線用のボビンの取り付けを容易にし、またコイル
４の空心インダクタンスを小さくする効果がある。
明する。なお、上記実施例と同機能のものには同符号を
付す。図４に示すように、この実施例においては金属磁
性膜２からなる磁気コアの外縁部における薄膜型磁気ヘ
ッドのサイド部分の巻線側に軟磁性膜１１を設けてい
る。図５に、バック部のコア幅ｈ１を２００μｍ（一
定）とし、サイド部のコア幅のうちスライダー側の幅ｈ
２を２００μｍ（一定）とし、巻線側の幅ｈ２′を２０
０〜２０μｍの範囲で変化させた場合の薄膜型磁気ヘッ
ドの再生出力の変化を示す。また、従来の薄膜型磁気ヘ
ッドにおいて同じ実験を行った結果を図５における破線
で併せて示す。なお、軟磁性膜１１には上記実施例と同
じものを用い、また評価も実施例と同じ条件で行った。
図５の結果より、従来の薄膜型磁気ヘッドでは巻線部分
のコアの幅ｈ２′は１５０μｍ以下にすることが困難で
あったが、本実施例によれば、１５０μｍ以下に小さく
することが可能である。巻線部のコア幅ｈ２′の小型化
は、巻線用のボビンの取り付けを容易にし、またコイル
４の空心インダクタンスを小さくする効果がある。
【００２１】なお、以上の実施例は外縁部に軟磁性膜１
１を設けた例を示したが、巻線窓３に面する内縁部に軟
磁性膜１１を設けても同様の効果を得ることができる
が、上記実施例のように外縁部に軟磁性膜１１を設ける
作業の方が軟磁性膜１１の取り付けが容易である利点を
有する。
１を設けた例を示したが、巻線窓３に面する内縁部に軟
磁性膜１１を設けても同様の効果を得ることができる
が、上記実施例のように外縁部に軟磁性膜１１を設ける
作業の方が軟磁性膜１１の取り付けが容易である利点を
有する。
【００２２】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、磁気コア
の縁部の一部にその磁気コアと直交する高透磁率の軟磁
性膜を設けたことにより、再生出力を低下させることな
く薄膜型磁気ヘッドの磁気コアの幅を小さくすることが
可能になり、薄膜型磁気ヘッドの小型化を図ることがで
きる。
の縁部の一部にその磁気コアと直交する高透磁率の軟磁
性膜を設けたことにより、再生出力を低下させることな
く薄膜型磁気ヘッドの磁気コアの幅を小さくすることが
可能になり、薄膜型磁気ヘッドの小型化を図ることがで
きる。
【００２３】また、磁気コアの外縁部の一部にその磁気
コアと直交する高透磁率の軟磁性膜を設けることによ
り、薄膜型磁気ヘッドをより容易に製造できる。また、
軟磁性膜の比透磁率μと膜厚ｄ（単位μｍ）との積が３
０００以上となるようにすることにより、出力の低下を
確実に防止することができる。
コアと直交する高透磁率の軟磁性膜を設けることによ
り、薄膜型磁気ヘッドをより容易に製造できる。また、
軟磁性膜の比透磁率μと膜厚ｄ（単位μｍ）との積が３
０００以上となるようにすることにより、出力の低下を
確実に防止することができる。
【図１】本発明の一実施例に係る薄膜型磁気ヘッドの斜
視図である。
視図である。
【図２】同薄膜型磁気ヘッドの磁気コアのバック部の幅
ｈ１による再生出力の変化を示す特性図である。
ｈ１による再生出力の変化を示す特性図である。
【図３】同薄膜型磁気ヘッドの軟磁性膜の比透磁率μと
膜厚ｄの積によるヘッド出力の変化を示す特性図であ
る。
膜厚ｄの積によるヘッド出力の変化を示す特性図であ
る。
【図４】本発明の他の実施例に係る薄膜型磁気ヘッドの
斜視図である。
斜視図である。
【図５】同薄膜型磁気ヘッドの磁気コアのサイド部の幅
ｈ２′による再生出力の変化を示す特性図である。
ｈ２′による再生出力の変化を示す特性図である。
【図６】従来の薄膜型磁気ヘッドの斜視図である。
【図７】（ａ）および（ｂ）はそれぞれ同従来の薄膜型
磁気ヘッドを組み込んだ磁気ヘッドスライダーの斜視図
である。
磁気ヘッドを組み込んだ磁気ヘッドスライダーの斜視図
である。
【図８】同従来の薄膜型磁気ヘッドのバック部のコア幅
ｈ１による再生出力の変化を示す特性図である。
ｈ１による再生出力の変化を示す特性図である。
１ 非磁性基板 ２ 金属磁性膜 １１ 軟磁性膜 ｈ 全高 ｈ１ バック部のコア幅 ｈ２ サイド部のコア幅
Claims (3)
- 【請求項１】 非磁性基板に挾持された金属磁性膜を磁
気コアとする薄膜型磁気ヘッドであって、前記磁気コア
の縁部の一部に高透磁率の軟磁性膜を前記磁気コアと直
交させて設けた薄膜型磁気ヘッド。 - 【請求項２】 磁気コアの外縁部の一部にその磁気コア
と直交する高透磁率の軟磁性膜を設けた請求項１記載の
薄膜型磁気ヘッド。 - 【請求項３】 軟磁性膜の比透磁率μと膜厚ｄ（単位μ
ｍ）との積が３０００以上である請求項１または請求項
２記載の薄膜型磁気ヘッド。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4131290A JPH05325135A (ja) | 1992-05-25 | 1992-05-25 | 薄膜型磁気ヘッド |
| US08/063,302 US5726842A (en) | 1992-05-25 | 1993-05-19 | Thin-film type magnetic head having an auxiliary magnetic film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4131290A JPH05325135A (ja) | 1992-05-25 | 1992-05-25 | 薄膜型磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05325135A true JPH05325135A (ja) | 1993-12-10 |
Family
ID=15054507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4131290A Pending JPH05325135A (ja) | 1992-05-25 | 1992-05-25 | 薄膜型磁気ヘッド |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5726842A (ja) |
| JP (1) | JPH05325135A (ja) |
Families Citing this family (3)
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Family Cites Families (12)
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1993
- 1993-05-19 US US08/063,302 patent/US5726842A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5726842A (en) | 1998-03-10 |
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