JPH05318734A - 液滴噴射装置用駆動電極の保護膜形成方法 - Google Patents
液滴噴射装置用駆動電極の保護膜形成方法Info
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- JPH05318734A JPH05318734A JP13343392A JP13343392A JPH05318734A JP H05318734 A JPH05318734 A JP H05318734A JP 13343392 A JP13343392 A JP 13343392A JP 13343392 A JP13343392 A JP 13343392A JP H05318734 A JPH05318734 A JP H05318734A
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/10—Finger type piezoelectric elements
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- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Ink Jet (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐食性が良好であり、安価である液滴噴射装
置用駆動電極の保護膜形成方法を提供することにある。 【構成】 圧力発生体を用いてインク流路の容積を変化
させることによりインク流路のインクを噴射する噴射装
置を多数備えた液滴噴射装置に於て、駆動電極が形成さ
れたインク流路の内面に、金属酸化物または金属水酸化
物の微粒子が溶解したゾル溶液をコーティングして、金
属酸化物または金属水酸化物を含むゲル薄膜を作製する
工程と、前記インク流路の内面に作製されたゲル薄膜を
熱処理などにより、酸化物薄膜とする工程とよりなる。
置用駆動電極の保護膜形成方法を提供することにある。 【構成】 圧力発生体を用いてインク流路の容積を変化
させることによりインク流路のインクを噴射する噴射装
置を多数備えた液滴噴射装置に於て、駆動電極が形成さ
れたインク流路の内面に、金属酸化物または金属水酸化
物の微粒子が溶解したゾル溶液をコーティングして、金
属酸化物または金属水酸化物を含むゲル薄膜を作製する
工程と、前記インク流路の内面に作製されたゲル薄膜を
熱処理などにより、酸化物薄膜とする工程とよりなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液滴噴射装置に用いら
れる駆動電極の保護膜の形成方法に関するものである。
れる駆動電極の保護膜の形成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、プリンタヘッドに圧電式インクジ
ェットを利用したものが提案されている。これは、圧電
アクチュエータの寸法変位によってインク室の容積を変
化させることにより、その容積減少時にインク室内のイ
ンクを噴射し、容積増大時にインク室内にインクを導入
するようにしたものであり、ドロップオンデマンド方式
と呼ばれている。そして、このような噴射装置を多数互
いに近接して配設し、所定の位置の噴射装置からインク
を噴射させることにより、所望の文字や画像を形成する
ことができるものである。
ェットを利用したものが提案されている。これは、圧電
アクチュエータの寸法変位によってインク室の容積を変
化させることにより、その容積減少時にインク室内のイ
ンクを噴射し、容積増大時にインク室内にインクを導入
するようにしたものであり、ドロップオンデマンド方式
と呼ばれている。そして、このような噴射装置を多数互
いに近接して配設し、所定の位置の噴射装置からインク
を噴射させることにより、所望の文字や画像を形成する
ことができるものである。
【０００３】このような液滴噴射装置としては、例えば
図３に示すようなものがある。以下、具体的に説明する
と、アレイ１は複数の壁４を有し、かつ矢印２１の方向
に分極処理を施した圧電セラミックス板２とフタ１３と
を接合することで、横方向に互いに間隔を有する多数の
平行なインク流路３を構成している。そのインク流路３
は長方形断面の長くて狭いものであり、壁４はインク流
路３の全長にわたって伸び、インク流路３軸に垂直に変
形可能であり、それによりインク流路３内のインク圧を
変化させるように構成されている。前記壁４の表面の下
半分（あるいは上半分）の領域には、駆動電界印加用の
駆動電極５が蒸着されており、該駆動電極５の表面には
インクと電極との絶縁を行なうための絶縁処理として保
護膜６が形成されている。上述したように、インク流路
３と該インク流路３の一端に連通する噴射口（図示しな
い）と他端に連通するインク供給部（図示しない）と該
インク流路３を形成する圧電変形可能な壁４とから噴射
装置７が構成される。
図３に示すようなものがある。以下、具体的に説明する
と、アレイ１は複数の壁４を有し、かつ矢印２１の方向
に分極処理を施した圧電セラミックス板２とフタ１３と
を接合することで、横方向に互いに間隔を有する多数の
平行なインク流路３を構成している。そのインク流路３
は長方形断面の長くて狭いものであり、壁４はインク流
路３の全長にわたって伸び、インク流路３軸に垂直に変
形可能であり、それによりインク流路３内のインク圧を
変化させるように構成されている。前記壁４の表面の下
半分（あるいは上半分）の領域には、駆動電界印加用の
駆動電極５が蒸着されており、該駆動電極５の表面には
インクと電極との絶縁を行なうための絶縁処理として保
護膜６が形成されている。上述したように、インク流路
３と該インク流路３の一端に連通する噴射口（図示しな
い）と他端に連通するインク供給部（図示しない）と該
インク流路３を形成する圧電変形可能な壁４とから噴射
装置７が構成される。
【０００４】アレイ１には、図４に示されている電気回
路が設けられている。この電気回路において、駆動電極
５ａ〜５ｈはそれぞれ別々にＬＳＩチップ８に接続さ
れ、クロックライン９、データライン１０、電圧ライン
１１およびアースライン１２もＬＳＩチップ８に接続さ
れている。インク流路３ａ〜３ｃは隣合わない第１、第
２のグループに分けられており、クロックライン９から
供給された連続するクロックパルスがこの第１、第２グ
ループを続けて駆動する。データライン１０上に現れる
多ビット・ワード形式のデータが各グループのうちのど
ちらのインク流路３ａ〜３ｃを作動すべきかを決定し、
ＬＳＩチップ８の回路により選ばれたグループの流路の
駆動電極５ａ〜５ｈに電圧ライン１１の電圧Ｖを印加す
る。この電圧により選ばれたインク流路３ａ〜３ｃの両
側の壁４ａ〜４ｄが圧電効果による変形をし、従って各
グループに於て全てのインク流路３ａ〜３ｃが作動可能
になる。このとき作動されていない同一グループのイン
ク流路３ａ〜３ｃの駆動電極５ａ〜５ｈと、他のグルー
プに属する全てのインク流路３ａ〜３ｃの駆動電極５ａ
〜５ｈは接地される。
路が設けられている。この電気回路において、駆動電極
５ａ〜５ｈはそれぞれ別々にＬＳＩチップ８に接続さ
れ、クロックライン９、データライン１０、電圧ライン
１１およびアースライン１２もＬＳＩチップ８に接続さ
れている。インク流路３ａ〜３ｃは隣合わない第１、第
２のグループに分けられており、クロックライン９から
供給された連続するクロックパルスがこの第１、第２グ
ループを続けて駆動する。データライン１０上に現れる
多ビット・ワード形式のデータが各グループのうちのど
ちらのインク流路３ａ〜３ｃを作動すべきかを決定し、
ＬＳＩチップ８の回路により選ばれたグループの流路の
駆動電極５ａ〜５ｈに電圧ライン１１の電圧Ｖを印加す
る。この電圧により選ばれたインク流路３ａ〜３ｃの両
側の壁４ａ〜４ｄが圧電効果による変形をし、従って各
グループに於て全てのインク流路３ａ〜３ｃが作動可能
になる。このとき作動されていない同一グループのイン
ク流路３ａ〜３ｃの駆動電極５ａ〜５ｈと、他のグルー
プに属する全てのインク流路３ａ〜３ｃの駆動電極５ａ
〜５ｈは接地される。
【０００５】図６は所定の印字データに従って、噴射装
置７ｂが選択された場合を示しており、インク流路３ｂ
内の駆動電極５ｄ，５ｅに電圧ライン１１の電圧Ｖが印
加され、他の駆動電極５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｆ，５ｇ，
５ｈは接地されている。壁４ｂ，４ｃの駆動電極５を形
成した部分には分極方向と直交する駆動電界２２、２３
が各々印加されるので圧電厚みすべり効果の変形により
該壁４ｂ，４ｃが、くの字形にインク流路３ｂの外に向
かって変形する。このためインク流路３ｂの容積増加に
伴って図示しない前記インク供給部からインクが補充さ
れる。また、電圧の印加が遮断され壁４ｂ，４ｃが元の
位置まで戻されると、前記インク流路３ｂの容積が減少
し流路内のインクが噴射口（図示しない）を通って噴射
される。尚、例えば他の噴射装置７ｃが選択された場合
には、壁４ｃ，４ｄが変形させられてインク流路３ｃ内
のインクが噴射される。
置７ｂが選択された場合を示しており、インク流路３ｂ
内の駆動電極５ｄ，５ｅに電圧ライン１１の電圧Ｖが印
加され、他の駆動電極５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｆ，５ｇ，
５ｈは接地されている。壁４ｂ，４ｃの駆動電極５を形
成した部分には分極方向と直交する駆動電界２２、２３
が各々印加されるので圧電厚みすべり効果の変形により
該壁４ｂ，４ｃが、くの字形にインク流路３ｂの外に向
かって変形する。このためインク流路３ｂの容積増加に
伴って図示しない前記インク供給部からインクが補充さ
れる。また、電圧の印加が遮断され壁４ｂ，４ｃが元の
位置まで戻されると、前記インク流路３ｂの容積が減少
し流路内のインクが噴射口（図示しない）を通って噴射
される。尚、例えば他の噴射装置７ｃが選択された場合
には、壁４ｃ，４ｄが変形させられてインク流路３ｃ内
のインクが噴射される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来の液滴噴射装置用駆動電極の保護膜形成方
法においては、例えば特開平２−１５０３５５号公報に
開示されているように、駆動電極の保護膜の必要性につ
いては言及しているが、その形成方法については示され
ていない。従って、耐食性の良好な保護膜を簡便に安価
に作製できる駆動電極の保護膜形成方法の確立が必要で
あった。
たような従来の液滴噴射装置用駆動電極の保護膜形成方
法においては、例えば特開平２−１５０３５５号公報に
開示されているように、駆動電極の保護膜の必要性につ
いては言及しているが、その形成方法については示され
ていない。従って、耐食性の良好な保護膜を簡便に安価
に作製できる駆動電極の保護膜形成方法の確立が必要で
あった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の液滴噴射装置用駆動電極の保護膜形成方法
は、駆動電極が形成されたインク流路の内面に、金属酸
化物または金属水酸化物の微粒子が溶解したゾル溶液を
コーティングしてゲル状の薄膜を作製する工程と前記薄
膜を熱処理等により酸化物薄膜とする工程とからなる。
に本発明の液滴噴射装置用駆動電極の保護膜形成方法
は、駆動電極が形成されたインク流路の内面に、金属酸
化物または金属水酸化物の微粒子が溶解したゾル溶液を
コーティングしてゲル状の薄膜を作製する工程と前記薄
膜を熱処理等により酸化物薄膜とする工程とからなる。
【０００８】
【作用】上記の構成を有する本発明の液滴噴射装置用駆
動電極の保護膜形成方法によれば、駆動電極が形成され
たインク流路の内面に、金属酸化物または金属水酸化物
の微粒子が溶解したゾル溶液を浸漬、引き上げ等により
コーティングを行なうと、コーティングされた薄膜の膜
厚が０．１〜０．３μｍと薄いために、ゾル溶液が大気
中にさらされる割合が大きく増加し、その結果としてゾ
ル溶液中の反応生成物であるアルコールが蒸発しやすく
なり、従って、ゾル中の化合物の加水分解、重合反応が
進行し、コーティングされた薄膜はゲル化する。
動電極の保護膜形成方法によれば、駆動電極が形成され
たインク流路の内面に、金属酸化物または金属水酸化物
の微粒子が溶解したゾル溶液を浸漬、引き上げ等により
コーティングを行なうと、コーティングされた薄膜の膜
厚が０．１〜０．３μｍと薄いために、ゾル溶液が大気
中にさらされる割合が大きく増加し、その結果としてゾ
ル溶液中の反応生成物であるアルコールが蒸発しやすく
なり、従って、ゾル中の化合物の加水分解、重合反応が
進行し、コーティングされた薄膜はゲル化する。
【０００９】このゲル化した薄膜を、１００℃〜５００
℃の温度で熱処理を行うことにより、酸化物薄膜に変化
させるが、酸化物薄膜が非常に薄いために、熱処理時間
が数十秒で良く、圧電トランスデューサを形成している
圧電材料のキュリー点までは圧電材料自体の温度は上昇
せず、従って影響を及ぼさない。
℃の温度で熱処理を行うことにより、酸化物薄膜に変化
させるが、酸化物薄膜が非常に薄いために、熱処理時間
が数十秒で良く、圧電トランスデューサを形成している
圧電材料のキュリー点までは圧電材料自体の温度は上昇
せず、従って影響を及ぼさない。
【００１０】
【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図１お
よび図２を参照して詳細に説明する。なお都合上、従来
例と同一部位、及び均等部位には同一符合をつけて説明
する。
よび図２を参照して詳細に説明する。なお都合上、従来
例と同一部位、及び均等部位には同一符合をつけて説明
する。
【００１１】図１に本発明による駆動電極の保護膜を作
製した後のインク流路が設けられている圧電セラミック
スの断面図を示す。図１に示すアレイ１は、強誘電性を
有するチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）系のセラミック
ス材料に、矢印２１の方向に分極処理を施した厚さ約１
ｍｍの板を用意し、ダイヤモンドカッティング円盤の回
転またはレーザー等により平行な複数の溝を切り、イン
ク流路３を形成した圧電セラミックス板２からなる。前
記インク流路３は例えば幅９０μｍ、高さ４００μｍの
長方形断面で紙面に対して垂直方向に約１０ｍｍの長さ
で延びている。該インク流路３のピッチは所望の印字解
像度、例えば１７０μｍである。このインク流路を形成
している壁４の側面の開口端から半分の領域には、駆動
電界印加用の駆動電極５が、真空蒸着などにより形成さ
れている。
製した後のインク流路が設けられている圧電セラミック
スの断面図を示す。図１に示すアレイ１は、強誘電性を
有するチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）系のセラミック
ス材料に、矢印２１の方向に分極処理を施した厚さ約１
ｍｍの板を用意し、ダイヤモンドカッティング円盤の回
転またはレーザー等により平行な複数の溝を切り、イン
ク流路３を形成した圧電セラミックス板２からなる。前
記インク流路３は例えば幅９０μｍ、高さ４００μｍの
長方形断面で紙面に対して垂直方向に約１０ｍｍの長さ
で延びている。該インク流路３のピッチは所望の印字解
像度、例えば１７０μｍである。このインク流路を形成
している壁４の側面の開口端から半分の領域には、駆動
電界印加用の駆動電極５が、真空蒸着などにより形成さ
れている。
【００１２】前記駆動電極が形成された後のアレイ１を
図２に示すような工程により、インク流路３の表面に駆
動電極５の保護膜６を形成する。以下、図２に示す工程
図にそってＳｉＯ2膜を保護膜６としてコーティングす
る例を説明する。
図２に示すような工程により、インク流路３の表面に駆
動電極５の保護膜６を形成する。以下、図２に示す工程
図にそってＳｉＯ2膜を保護膜６としてコーティングす
る例を説明する。
【００１３】第１の工程として、金属アルコキシドとし
てテトラエトキシラン（Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4）、溶媒と
してのエチルアルコール（Ｃ2Ｈ5ＯＨ）、加水分解のた
めの水（Ｈ2Ｏ）及び触媒として塩酸（ＨＣｌ）を混合
して、金属アルコキシド溶液すなわちゾル溶液を作製す
る。この時の各成分の割合は適宜選択されるが、例えば
モル比にて、テトラエトキシシラン：エチルアルコー
ル：水：塩酸＝１：７：１１：０．０７にて混合すれば
よい。例として金属アルコキシドとしてエトキシドであ
るテトラエトキシシランを用いたが、メトキシドである
テトラメトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣＨ3）4）を用いても
よく、また同様に金属元素としてＳｉを含むブトキシ
ド、イソプロポキシド等の金属アルコキシドであって、
水、アルコールなどの溶媒に溶けるものであればすべて
よく、あるいはアルコキシドのアルコキシ基の一部をア
ルキル基に置換した物であってもよい。一部アルキル基
に置換したものを用いて薄膜を作製すると膜の構造が柔
構造となるために変形に対して強くなる。
てテトラエトキシラン（Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4）、溶媒と
してのエチルアルコール（Ｃ2Ｈ5ＯＨ）、加水分解のた
めの水（Ｈ2Ｏ）及び触媒として塩酸（ＨＣｌ）を混合
して、金属アルコキシド溶液すなわちゾル溶液を作製す
る。この時の各成分の割合は適宜選択されるが、例えば
モル比にて、テトラエトキシシラン：エチルアルコー
ル：水：塩酸＝１：７：１１：０．０７にて混合すれば
よい。例として金属アルコキシドとしてエトキシドであ
るテトラエトキシシランを用いたが、メトキシドである
テトラメトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣＨ3）4）を用いても
よく、また同様に金属元素としてＳｉを含むブトキシ
ド、イソプロポキシド等の金属アルコキシドであって、
水、アルコールなどの溶媒に溶けるものであればすべて
よく、あるいはアルコキシドのアルコキシ基の一部をア
ルキル基に置換した物であってもよい。一部アルキル基
に置換したものを用いて薄膜を作製すると膜の構造が柔
構造となるために変形に対して強くなる。
【００１４】また、触媒も塩酸に限らず、硫酸、硝酸、
酢酸、リン酸などの酸、あるいはアンモニアようなアル
カリを用いてもよく、溶媒としてのアルコールもメチル
アルコール、イソプロピルアルコール等を用いてもさし
つかえない。また、乾燥制御剤としてアセチルアセトン
やフォルムアミドのような添加物を加えてもよい。
酢酸、リン酸などの酸、あるいはアンモニアようなアル
カリを用いてもよく、溶媒としてのアルコールもメチル
アルコール、イソプロピルアルコール等を用いてもさし
つかえない。また、乾燥制御剤としてアセチルアセトン
やフォルムアミドのような添加物を加えてもよい。
【００１５】第２の工程として、複数の溝を切ってイン
ク流路３を形成し、真空蒸着により駆動電極を作製した
後の圧電セラミックス板２製のアレイ１を、第１の工程
にて作製した金属アルコキシド溶液に浸漬し、引き上げ
る。この場合の金属アルコキシド溶液温度は室温で良
く、引き上げ速度は１〜２mm/sec程度の一定速度で引き
上げて、ゲル薄膜を作製する。
ク流路３を形成し、真空蒸着により駆動電極を作製した
後の圧電セラミックス板２製のアレイ１を、第１の工程
にて作製した金属アルコキシド溶液に浸漬し、引き上げ
る。この場合の金属アルコキシド溶液温度は室温で良
く、引き上げ速度は１〜２mm/sec程度の一定速度で引き
上げて、ゲル薄膜を作製する。
【００１６】第３の工程として、ゲル薄膜を１００℃〜
５００℃の恒温槽もしくは電気炉に数十秒間保持して、
酸化物薄膜に変化させる。
５００℃の恒温槽もしくは電気炉に数十秒間保持して、
酸化物薄膜に変化させる。
【００１７】第２、第３の工程からなる１回のコーティ
ングにて膜厚が０．１〜０．３μｍ程度の保護膜６を作
製することができる。耐食性を向上させるために厚膜化
する場合は、第２、第３の工程を繰り返すことにより１
〜５μｍの保護膜６が作製できるが、一般的な使用環境
においては０．５〜１μｍで良い。
ングにて膜厚が０．１〜０．３μｍ程度の保護膜６を作
製することができる。耐食性を向上させるために厚膜化
する場合は、第２、第３の工程を繰り返すことにより１
〜５μｍの保護膜６が作製できるが、一般的な使用環境
においては０．５〜１μｍで良い。
【００１８】なお、本発明は前記した実施例のみに限定
されるものではなく、例えば第１の工程においてＺｒ、
Ｔｉ、Ａｌを含む金属アルコキシドを原料に用いること
により、作製できる保護膜６の材質は各々ＺｒＯ2、Ｔ
ｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3となる。従って、保護膜６として作製
したい金属酸化物膜の金属を含む金属アルコキシドを用
いて、金属アルコキシド溶液すなわちゾル溶液を作製す
れば、所望する金属酸化物の薄膜が作製できる。
されるものではなく、例えば第１の工程においてＺｒ、
Ｔｉ、Ａｌを含む金属アルコキシドを原料に用いること
により、作製できる保護膜６の材質は各々ＺｒＯ2、Ｔ
ｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3となる。従って、保護膜６として作製
したい金属酸化物膜の金属を含む金属アルコキシドを用
いて、金属アルコキシド溶液すなわちゾル溶液を作製す
れば、所望する金属酸化物の薄膜が作製できる。
【００１９】また、所望する金属に、適当なアルコキシ
ドが無い場合や、合成が難しい場合、あるいは水、アル
コールなどの溶媒に溶けない場合には、金属アセチルア
セトネートや金属カルボキシレートあるいは金属無機化
合物を用いても良いし、微粒子酸化物をふたたびゾル化
して用いても良い。また、金属アルコキシド溶液の溶媒
についても、金属化合物を溶解するエチレングリコー
ル、エチレンオキシド、トリエタノールアミン、キシレ
ンなどを用いても良い。
ドが無い場合や、合成が難しい場合、あるいは水、アル
コールなどの溶媒に溶けない場合には、金属アセチルア
セトネートや金属カルボキシレートあるいは金属無機化
合物を用いても良いし、微粒子酸化物をふたたびゾル化
して用いても良い。また、金属アルコキシド溶液の溶媒
についても、金属化合物を溶解するエチレングリコー
ル、エチレンオキシド、トリエタノールアミン、キシレ
ンなどを用いても良い。
【００２０】第２の工程についても、金属アルコキシド
溶液中にアレイ１を浸漬し、引き上げて、アレイ１の表
面にゲル薄膜を作製したが、スプレーガンにより金属ア
ルコキシド溶液をインク流路３内面に吹き付けて、ゲル
薄膜を作製しても良い。
溶液中にアレイ１を浸漬し、引き上げて、アレイ１の表
面にゲル薄膜を作製したが、スプレーガンにより金属ア
ルコキシド溶液をインク流路３内面に吹き付けて、ゲル
薄膜を作製しても良い。
【００２１】また、第３の工程においても、恒温槽もし
くは電気炉に所定の温度で保持する方法にて、ゲル薄膜
を酸化物薄膜とする工程を説明をしたが、ホットプレー
ト、バーナーのようなものでゲル薄膜を加熱しても良い
し、Ｘ線、光、マイクロウェーブなどの電磁波のうちか
ら作製したゲル薄膜が吸収する波長を照射することによ
り酸化物薄膜としても良い。
くは電気炉に所定の温度で保持する方法にて、ゲル薄膜
を酸化物薄膜とする工程を説明をしたが、ホットプレー
ト、バーナーのようなものでゲル薄膜を加熱しても良い
し、Ｘ線、光、マイクロウェーブなどの電磁波のうちか
ら作製したゲル薄膜が吸収する波長を照射することによ
り酸化物薄膜としても良い。
【００２２】また、異なる金属酸化物の薄膜を多層化す
ることも容易に可能であり、例えばＺｒ（ＯＣＨ3）4を
含む金属アルコキシド溶液を用いてＺｒＯ2薄膜をアレ
イ１に作製した後に、Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4を含む金属ア
ルコキシド溶液を用いてＳｉＯ2薄膜を作製すれば、Ｓ
ｉＯ2／ＺｒＯ2の２層コーティングの保護膜６が作製で
きる。各々の金属アルコキシド溶液にて図２の第２工
程、第３工程を繰り返すことにより、ＳｉＯ2薄膜、Ｚ
ｒＯ2薄膜の膜厚を任意の値とすることが可能となる
し、また、交互にＳｉＯ2薄膜、ＺｒＯ2薄膜を作製する
ことも可能となる。ＺｒＯ2薄膜は塩害環境での耐食性
に優れており、ＳｉＯ2薄膜は高温多湿環境での耐食性
に優れているために、２層コーティングとすることによ
り、より耐食性が向上する。
ることも容易に可能であり、例えばＺｒ（ＯＣＨ3）4を
含む金属アルコキシド溶液を用いてＺｒＯ2薄膜をアレ
イ１に作製した後に、Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）4を含む金属ア
ルコキシド溶液を用いてＳｉＯ2薄膜を作製すれば、Ｓ
ｉＯ2／ＺｒＯ2の２層コーティングの保護膜６が作製で
きる。各々の金属アルコキシド溶液にて図２の第２工
程、第３工程を繰り返すことにより、ＳｉＯ2薄膜、Ｚ
ｒＯ2薄膜の膜厚を任意の値とすることが可能となる
し、また、交互にＳｉＯ2薄膜、ＺｒＯ2薄膜を作製する
ことも可能となる。ＺｒＯ2薄膜は塩害環境での耐食性
に優れており、ＳｉＯ2薄膜は高温多湿環境での耐食性
に優れているために、２層コーティングとすることによ
り、より耐食性が向上する。
【００２３】いままでは、１種類の金属酸化物よりなる
薄膜を作製する場合について述べたが、２種類あるいは
それ以上の金属からなる酸化物の保護膜６も、２種ある
いは多種同時に分子中に含む二金属アルコキシド、三金
属アルコキシドをゾル溶液に用いて、図２に示す第２工
程、第３工程を行うことにより作製できる。従って、圧
電材料の薄膜も保護膜６として作製することが可能とな
り、例えばＢａ−Ｔｉ混合アルコキシドよりＢａＴｉＯ
3薄膜、Ｐｂ−Ｚｒ−Ｔｉ混合アルコキシドよりＰｂ
（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ3薄膜が作製できるために、アレイ１
を形成する圧電セラミックス板２と同材質の保護膜６を
形成することができることとなり、密着性が優れた保護
膜６が作製できる。
薄膜を作製する場合について述べたが、２種類あるいは
それ以上の金属からなる酸化物の保護膜６も、２種ある
いは多種同時に分子中に含む二金属アルコキシド、三金
属アルコキシドをゾル溶液に用いて、図２に示す第２工
程、第３工程を行うことにより作製できる。従って、圧
電材料の薄膜も保護膜６として作製することが可能とな
り、例えばＢａ−Ｔｉ混合アルコキシドよりＢａＴｉＯ
3薄膜、Ｐｂ−Ｚｒ−Ｔｉ混合アルコキシドよりＰｂ
（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ3薄膜が作製できるために、アレイ１
を形成する圧電セラミックス板２と同材質の保護膜６を
形成することができることとなり、密着性が優れた保護
膜６が作製できる。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したことから明かなように、本
発明の液滴噴射装置用駆動電極の保護膜形成方法は、ゾ
ル溶液をコーティングした後、熱処理等により酸化物薄
膜に変化させて保護膜とするために、容易に保護膜が形
成でき、且つ所望する多層膜も容易に作製することがで
きる。
発明の液滴噴射装置用駆動電極の保護膜形成方法は、ゾ
ル溶液をコーティングした後、熱処理等により酸化物薄
膜に変化させて保護膜とするために、容易に保護膜が形
成でき、且つ所望する多層膜も容易に作製することがで
きる。
【図１】本発明の液滴噴射装置用駆動電極に保護膜が形
成されている状態を示す断面図である。
成されている状態を示す断面図である。
【図２】本発明の液滴噴射装置用駆動電極に保護膜が形
成される工程を説明する図である。
成される工程を説明する図である。
【図３】従来の液滴噴射装置のアレイの一部を示す図で
ある。
ある。
【図４】従来の液滴噴射装置の構成を示す図である。
２ 圧電セラミックス板 ３ インク流路 ５ 駆動電極 ６ 保護膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 18/12 (72)発明者 菅原 宏人 名古屋市瑞穂区苗代町15番１号ブラザー工 業株式会社内 (72)発明者 鐘ケ江 隆弘 名古屋市瑞穂区苗代町15番１号ブラザー工 業株式会社内 (72)発明者 吉村 学 名古屋市瑞穂区苗代町15番１号ブラザー工 業株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 駆動電極に印加された電圧により変形を
生じる圧電トランスデューサを用いてインク流路の容積
を変化させることにより、インク流路内のインクを連通
する噴射口から噴射する液滴噴射装置用駆動電極の保護
膜形成方法に於て、 前記駆動電極が形成されたインク流路の内面に、金属酸
化物または金属水酸化物の微粒子が溶解したゾル溶液を
コーティングしてゲル状の薄膜を作製する工程と、 前記薄膜を熱処理等により酸化物薄膜とする工程とから
なることを特徴とする液滴噴射装置用駆動電極の保護膜
形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13343392A JPH05318734A (ja) | 1992-05-26 | 1992-05-26 | 液滴噴射装置用駆動電極の保護膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13343392A JPH05318734A (ja) | 1992-05-26 | 1992-05-26 | 液滴噴射装置用駆動電極の保護膜形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05318734A true JPH05318734A (ja) | 1993-12-03 |
Family
ID=15104664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13343392A Pending JPH05318734A (ja) | 1992-05-26 | 1992-05-26 | 液滴噴射装置用駆動電極の保護膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05318734A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4904793A (en) * | 1986-09-29 | 1990-02-27 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Triazole compounds, and their production |
| WO1998042513A1 (fr) * | 1997-03-26 | 1998-10-01 | Seiko Epson Corporation | Tete d'impression et enregistreur a stylet utilisant la tete d'impression |
| CN102673150A (zh) * | 2011-03-16 | 2012-09-19 | 东芝泰格有限公司 | 喷墨头以及喷墨头的制造方法 |
-
1992
- 1992-05-26 JP JP13343392A patent/JPH05318734A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4904793A (en) * | 1986-09-29 | 1990-02-27 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Triazole compounds, and their production |
| WO1998042513A1 (fr) * | 1997-03-26 | 1998-10-01 | Seiko Epson Corporation | Tete d'impression et enregistreur a stylet utilisant la tete d'impression |
| US6447107B1 (en) | 1997-03-26 | 2002-09-10 | Seiko Epson Corporation | Printing head and ink jet recording apparatus using the same |
| CN102673150A (zh) * | 2011-03-16 | 2012-09-19 | 东芝泰格有限公司 | 喷墨头以及喷墨头的制造方法 |
| JP2012192629A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Toshiba Tec Corp | インクジェットヘッドおよびインクジェットヘッドの製造方法 |
| US8662645B2 (en) | 2011-03-16 | 2014-03-04 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Inkjet head and method of manufacturing the same |
| US8777381B2 (en) | 2011-03-16 | 2014-07-15 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Inkjet head and method of manufacturing the same |
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