JPH05307555A - プロセスフロー作成システム - Google Patents
プロセスフロー作成システムInfo
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- JPH05307555A JPH05307555A JP11056992A JP11056992A JPH05307555A JP H05307555 A JPH05307555 A JP H05307555A JP 11056992 A JP11056992 A JP 11056992A JP 11056992 A JP11056992 A JP 11056992A JP H05307555 A JPH05307555 A JP H05307555A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 105
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- 238000012356 Product development Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/30—Computing systems specially adapted for manufacturing
Landscapes
- General Factory Administration (AREA)
- Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】プロセスフロー設計時間を短縮し、かつ処理条
件設定の間違いを防止する。 【構成】関連情報登録手段20は各製造工程間の処理条件
の関連情報23を登録し、処理条件設定手段40で各製造工
程31の処理条件32を設定する。また、この処理条件設定
手段40で任意の製造工程31に処理条件32を設定する際
に、関連情報検索手段50で関連する処理条件32を関連情
報23から検索し、この関連情報検索手段50で検索した関
連情報23を元に関連処理条件設定手段60で処理条件32を
関連する製造工程31に同時に設定する。すなわち、その
処理条件32と関連する工程が存在するときには関連する
工程の処理条件32は同時に設定する。
件設定の間違いを防止する。 【構成】関連情報登録手段20は各製造工程間の処理条件
の関連情報23を登録し、処理条件設定手段40で各製造工
程31の処理条件32を設定する。また、この処理条件設定
手段40で任意の製造工程31に処理条件32を設定する際
に、関連情報検索手段50で関連する処理条件32を関連情
報23から検索し、この関連情報検索手段50で検索した関
連情報23を元に関連処理条件設定手段60で処理条件32を
関連する製造工程31に同時に設定する。すなわち、その
処理条件32と関連する工程が存在するときには関連する
工程の処理条件32は同時に設定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体などの電子デバイ
ス製造支援システムなどに用いる、複数個の工程を順次
処理する手続きを規定するプロセスフローを作成するプ
ロセスフロー作成システムに関するものである。
ス製造支援システムなどに用いる、複数個の工程を順次
処理する手続きを規定するプロセスフローを作成するプ
ロセスフロー作成システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６は従来のプロセスフロー作成システ
ムの機能ブロック図であり、半導体の製品開発・製造を
行う場合のプロセスフローの作成を例に挙げて説明す
る。図６において、複数の関連する半導体製造工程の処
理条件を規定するプロセスフロー作成の場合、工程マス
ター登録手段１は、半導体の製品開発・製造を行うとき
の基本となる工程群を工程マスターテーブルに登録す
る。また、工程抽出手段２は、製品開発・製造の目的に
合わせて工程マスターテーブルから所望の工程群を抽出
してプロセスフローテーブルに登録し、工程の処理順序
を規定する。さらに、処理条件設定手段３は、製品開発
・製造の目的に合わせて抽出した工程群の処理条件を個
々に規定してプロセスフローテーブルに登録する。
ムの機能ブロック図であり、半導体の製品開発・製造を
行う場合のプロセスフローの作成を例に挙げて説明す
る。図６において、複数の関連する半導体製造工程の処
理条件を規定するプロセスフロー作成の場合、工程マス
ター登録手段１は、半導体の製品開発・製造を行うとき
の基本となる工程群を工程マスターテーブルに登録す
る。また、工程抽出手段２は、製品開発・製造の目的に
合わせて工程マスターテーブルから所望の工程群を抽出
してプロセスフローテーブルに登録し、工程の処理順序
を規定する。さらに、処理条件設定手段３は、製品開発
・製造の目的に合わせて抽出した工程群の処理条件を個
々に規定してプロセスフローテーブルに登録する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、工程抽出手段２で抽出した工程群全てに対
して、処理条件設定手段３によって個々に処理条件の設
定を行わなければならなかった。すなわち、プロセスフ
ロー作成において、多くの工程群に個々に処理条件を設
定しなければならず、プロセスフロー設計に多大な時間
がかかるばかりではなく、工程間で関連する処理条件の
設定に間違いを起こすという問題を有していた。
の構成では、工程抽出手段２で抽出した工程群全てに対
して、処理条件設定手段３によって個々に処理条件の設
定を行わなければならなかった。すなわち、プロセスフ
ロー作成において、多くの工程群に個々に処理条件を設
定しなければならず、プロセスフロー設計に多大な時間
がかかるばかりではなく、工程間で関連する処理条件の
設定に間違いを起こすという問題を有していた。
【０００４】本発明は上記従来の問題を解決するもの
で、プロセスフロー設計時間を短縮することができ、か
つ処理条件設定の間違いを防止することができるプロセ
スフロー作成システムを提供することを目的とするもの
である。
で、プロセスフロー設計時間を短縮することができ、か
つ処理条件設定の間違いを防止することができるプロセ
スフロー作成システムを提供することを目的とするもの
である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のプロセスフロー作成システムは、複数の関連
する工程の処理条件を規定するプロセスフローを作成す
るプロセスフロー作成システムであって、前記各工程間
の処理条件の関連情報を登録する関連情報登録手段と、
前記各工程の処理条件を設定する処理条件設定手段と、
前記処理条件設定手段で任意の工程に処理条件を設定す
る際に、関連する処理条件を前記関連情報から検索する
関連情報検索手段と、前記関連情報検索手段で検索した
関連情報を元に処理条件を関連する工程に同時に設定す
る関連処理条件設定手段とを備えたものである。
に本発明のプロセスフロー作成システムは、複数の関連
する工程の処理条件を規定するプロセスフローを作成す
るプロセスフロー作成システムであって、前記各工程間
の処理条件の関連情報を登録する関連情報登録手段と、
前記各工程の処理条件を設定する処理条件設定手段と、
前記処理条件設定手段で任意の工程に処理条件を設定す
る際に、関連する処理条件を前記関連情報から検索する
関連情報検索手段と、前記関連情報検索手段で検索した
関連情報を元に処理条件を関連する工程に同時に設定す
る関連処理条件設定手段とを備えたものである。
【０００６】
【作用】上記構成により、関連情報登録手段で各工程間
の処理条件の関連情報を登録し、処理条件設定手段で各
工程の処理条件を設定し、さらに、この処理条件設定手
段で任意の工程に処理条件を設定する際に、関連情報検
索手段で関連する処理条件を関連情報から検索し、この
関連情報検索手段で検索した関連情報を元に関連処理条
件設定手段で処理条件を関連する工程に同時に設定する
ので、その処理条件と関連する工程が存在するときには
関連する工程の処理条件は同時に設定されてプロセスフ
ロー設計時間の短縮が図られ、かつ処理条件設定の間違
いも防止される。
の処理条件の関連情報を登録し、処理条件設定手段で各
工程の処理条件を設定し、さらに、この処理条件設定手
段で任意の工程に処理条件を設定する際に、関連情報検
索手段で関連する処理条件を関連情報から検索し、この
関連情報検索手段で検索した関連情報を元に関連処理条
件設定手段で処理条件を関連する工程に同時に設定する
ので、その処理条件と関連する工程が存在するときには
関連する工程の処理条件は同時に設定されてプロセスフ
ロー設計時間の短縮が図られ、かつ処理条件設定の間違
いも防止される。
【０００７】
【実施例】以下、本発明のプロセスフロー作成システム
の一実施例をコンピュータを用いた半導体の製品開発・
製造を行う場合のプロセスフローの作成に適用した場合
について説明する。
の一実施例をコンピュータを用いた半導体の製品開発・
製造を行う場合のプロセスフローの作成に適用した場合
について説明する。
【０００８】図１は本発明の一実施例のプロセスフロー
作成システムの機能ブロック図であり、図２は図１のプ
ロセスフロー作成システムの工程マスターテーブル図で
あり、図３は図１のプロセスフロー作成システムの関連
情報テーブル図であり、図４は図１のプロセスフロー作
成システムのプロセスフローテーブル図である。図１〜
図４において、プロセスフロー作成システムの工程マス
ター登録手段10は、図２の工程11をデータアイテムとし
て持つ補助記憶上の工程マスターテーブル12に、レコー
ド毎に半導体の製品開発・製造を行うときの基本単位と
なる工程群を登録する。また、関連情報登録手段20は、
図３の工程21、関連行程22および関連行程23をデータア
イテムとして持つ補助記憶上の関連情報テーブル24に、
レコード毎に各工程間で関連し合っている処理条件の関
連情報群を登録する。この登録はキーボードなどから行
う。レコード25は、「Ｓｉ3 Ｎ4 デポジション」工程の
処理条件が「Ｓｉ3 Ｎ4 エッチング」工程の処理条件に
関連しており、その関連情報は「エッチング時間＝堆積
膜厚ｘ0.8 ＋20」であることを登録している。
作成システムの機能ブロック図であり、図２は図１のプ
ロセスフロー作成システムの工程マスターテーブル図で
あり、図３は図１のプロセスフロー作成システムの関連
情報テーブル図であり、図４は図１のプロセスフロー作
成システムのプロセスフローテーブル図である。図１〜
図４において、プロセスフロー作成システムの工程マス
ター登録手段10は、図２の工程11をデータアイテムとし
て持つ補助記憶上の工程マスターテーブル12に、レコー
ド毎に半導体の製品開発・製造を行うときの基本単位と
なる工程群を登録する。また、関連情報登録手段20は、
図３の工程21、関連行程22および関連行程23をデータア
イテムとして持つ補助記憶上の関連情報テーブル24に、
レコード毎に各工程間で関連し合っている処理条件の関
連情報群を登録する。この登録はキーボードなどから行
う。レコード25は、「Ｓｉ3 Ｎ4 デポジション」工程の
処理条件が「Ｓｉ3 Ｎ4 エッチング」工程の処理条件に
関連しており、その関連情報は「エッチング時間＝堆積
膜厚ｘ0.8 ＋20」であることを登録している。
【０００９】また、工程抽出手段30は、工程マスターテ
ーブル12から所望の工程群を含むレコードを検索・抽出
し、図４の工程31、処理条件32をデータアイテムとして
持つ補助記憶上のプロセスフローテーブル33の工程31ア
イテムに抽出した工程群をレコード毎に登録する。この
とき、製品開発・製造の目的に合わせて工程処理を行う
順に第１レコードから順々に登録する。たとえば、工程
マスターテーブル12の各レコードの内容をディスプレイ
上に一覧表として表示し、キーボードなどを利用して選
択した順にプロセスフローテーブル33に登録する。ま
た、処理条件設定手段40は、プロセスフローテーブル33
の各レコードの処理条件32アイテムに製品開発・製造の
目的に合わせて工程処理条件を設定する。たとえば、プ
ロセスフローテーブル33の各レコードの内容をディスプ
レイ上に表示させ、キーボードなどを利用して各レコー
ド毎に処理条件を入力し、プロセスフローテーブル33に
登録する。
ーブル12から所望の工程群を含むレコードを検索・抽出
し、図４の工程31、処理条件32をデータアイテムとして
持つ補助記憶上のプロセスフローテーブル33の工程31ア
イテムに抽出した工程群をレコード毎に登録する。この
とき、製品開発・製造の目的に合わせて工程処理を行う
順に第１レコードから順々に登録する。たとえば、工程
マスターテーブル12の各レコードの内容をディスプレイ
上に一覧表として表示し、キーボードなどを利用して選
択した順にプロセスフローテーブル33に登録する。ま
た、処理条件設定手段40は、プロセスフローテーブル33
の各レコードの処理条件32アイテムに製品開発・製造の
目的に合わせて工程処理条件を設定する。たとえば、プ
ロセスフローテーブル33の各レコードの内容をディスプ
レイ上に表示させ、キーボードなどを利用して各レコー
ド毎に処理条件を入力し、プロセスフローテーブル33に
登録する。
【００１０】さらに、関連情報検索手段50は、処理条件
設定手段40でプロセスフローテーブル33の各レコード毎
に処理条件を設定する際に、そのレコードの工程31アイ
テム値と合致する関連情報テーブル24の工程21アイテム
値が存在するかどうかを検索する。たとえば、Ｓｉ3 Ｎ
4 デポジション34工程の処理条件を設定する際に、関連
情報テーブル24の工程21アイテム値がＳｉ3 Ｎ4 デポジ
ションと合致するレコード25を検索する。また、関連処
理条件設定手段60は、関連情報検索手段50で関連情報テ
ーブル24から検索したレコードの関連工程22アイテム値
と合致するプロセスフローテーブル33の工程31アイテム
値を含むレコードを検索し、関連情報23アイテム値から
求めた処理条件を検索したレコードの処理条件32アイテ
ムに登録する。たとえば、先に検索したレコード25の関
連工程22アイテム値Ｓｉ3 Ｎ4 エッチング26と合致する
プロセスフローテーブル33の工程31アイテム値を含むレ
コード35を検索し、関連情報23アイテム値の処理条件、
すなわちエッチング時間116 ｓｅｃを処理条件32アイテ
ム値に設定する。
設定手段40でプロセスフローテーブル33の各レコード毎
に処理条件を設定する際に、そのレコードの工程31アイ
テム値と合致する関連情報テーブル24の工程21アイテム
値が存在するかどうかを検索する。たとえば、Ｓｉ3 Ｎ
4 デポジション34工程の処理条件を設定する際に、関連
情報テーブル24の工程21アイテム値がＳｉ3 Ｎ4 デポジ
ションと合致するレコード25を検索する。また、関連処
理条件設定手段60は、関連情報検索手段50で関連情報テ
ーブル24から検索したレコードの関連工程22アイテム値
と合致するプロセスフローテーブル33の工程31アイテム
値を含むレコードを検索し、関連情報23アイテム値から
求めた処理条件を検索したレコードの処理条件32アイテ
ムに登録する。たとえば、先に検索したレコード25の関
連工程22アイテム値Ｓｉ3 Ｎ4 エッチング26と合致する
プロセスフローテーブル33の工程31アイテム値を含むレ
コード35を検索し、関連情報23アイテム値の処理条件、
すなわちエッチング時間116 ｓｅｃを処理条件32アイテ
ム値に設定する。
【００１１】したがって、図５に示すように、関連情報
登録手段20は各製造工程間の処理条件の関連情報23を登
録し、処理条件設定手段40で各製造工程31の処理条件32
を設定する。また、この処理条件設定手段40で任意の製
造工程31に処理条件32を設定する際に、関連情報検索手
段50で関連する処理条件32を関連情報23から検索し、こ
の関連情報検索手段50で検索した関連情報23を元に関連
処理条件設定手段60で処理条件32を関連する製造工程31
に同時に設定する。すなわち、その処理条件32と関連す
る工程が存在するときには関連する工程の処理条件32は
同時に設定する。これにより、プロセスフロー設計時間
の短縮を図ることができ、かつ処理条件設定の間違いも
防止することができる。
登録手段20は各製造工程間の処理条件の関連情報23を登
録し、処理条件設定手段40で各製造工程31の処理条件32
を設定する。また、この処理条件設定手段40で任意の製
造工程31に処理条件32を設定する際に、関連情報検索手
段50で関連する処理条件32を関連情報23から検索し、こ
の関連情報検索手段50で検索した関連情報23を元に関連
処理条件設定手段60で処理条件32を関連する製造工程31
に同時に設定する。すなわち、その処理条件32と関連す
る工程が存在するときには関連する工程の処理条件32は
同時に設定する。これにより、プロセスフロー設計時間
の短縮を図ることができ、かつ処理条件設定の間違いも
防止することができる。
【００１２】なお、本実施例においては各テーブルの記
憶手段として補助記憶装置を用いたが主記憶装置を用い
ても良い。また、テーブルの代わりにリスト構造を用い
た記憶手段を用いても良い。さらに、工程マスター登録
手段10と関連情報登録手段20の登録順序は問わない。
憶手段として補助記憶装置を用いたが主記憶装置を用い
ても良い。また、テーブルの代わりにリスト構造を用い
た記憶手段を用いても良い。さらに、工程マスター登録
手段10と関連情報登録手段20の登録順序は問わない。
【００１３】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、各工程の
処理条件を設定する際に、その処理条件と関連する工程
が存在するときは関連する工程の処理条件を同時に設定
することができて、プロセスフロー設計時間を短縮する
ことができるだけではなく、処理条件設定間違いをも防
止することができ、その実用的効果は大きい。
処理条件を設定する際に、その処理条件と関連する工程
が存在するときは関連する工程の処理条件を同時に設定
することができて、プロセスフロー設計時間を短縮する
ことができるだけではなく、処理条件設定間違いをも防
止することができ、その実用的効果は大きい。
【図１】本発明の一実施例におけるプロセスフロー作成
システムの機能ブロック図である。
システムの機能ブロック図である。
【図２】図１のプロセスフロー作成システムの工程マス
ターテーブル図である。
ターテーブル図である。
【図３】図１のプロセスフロー作成システムの関連情報
テーブル図である。
テーブル図である。
【図４】図１のプロセスフロー作成システムのプロセス
フローテーブル図である。
フローテーブル図である。
【図５】図１のプロセスフロー作成システムの動作を説
明するためのブロック図である。
明するためのブロック図である。
【図６】従来のプロセスフロー作成システムの機能ブロ
ック図である。
ック図である。
21，31 工程 20 関連情報登録手段 22 関連工程 23 関連情報 24 関連情報テーブル 25，35 レコード 26 Ｓｉ3 Ｎ4 エッチング 32 処理条件 33 プロセスフローテーブル 34 Ｓｉ3 Ｎ4 デポジション 40 処理条件設定手段 50 関連情報検索手段 60 関連処理条件設定手段
Claims (1)
- 【請求項１】複数の関連する工程の処理条件を規定する
プロセスフローを作成するプロセスフロー作成システム
であって、前記各工程間の処理条件の関連情報を登録す
る関連情報登録手段と、前記各工程の処理条件を設定す
る処理条件設定手段と、前記処理条件設定手段で任意の
工程に処理条件を設定する際に、関連する処理条件を前
記関連情報から検索する関連情報検索手段と、前記関連
情報検索手段で検索した関連情報を元に処理条件を関連
する工程に同時に設定する関連処理条件設定手段とを備
えたプロセスフロー作成システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11056992A JP3447067B2 (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | プロセスフロー作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11056992A JP3447067B2 (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | プロセスフロー作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05307555A true JPH05307555A (ja) | 1993-11-19 |
| JP3447067B2 JP3447067B2 (ja) | 2003-09-16 |
Family
ID=14539160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11056992A Expired - Fee Related JP3447067B2 (ja) | 1992-04-30 | 1992-04-30 | プロセスフロー作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3447067B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5862050A (en) * | 1996-06-07 | 1999-01-19 | Nec Corporation | System for preparing production process flow |
| JP2007294773A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-08 | Tokyo Electron Ltd | 群管理システム、プロセス情報管理装置、制御装置、およびプログラム |
-
1992
- 1992-04-30 JP JP11056992A patent/JP3447067B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5862050A (en) * | 1996-06-07 | 1999-01-19 | Nec Corporation | System for preparing production process flow |
| JP2007294773A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-08 | Tokyo Electron Ltd | 群管理システム、プロセス情報管理装置、制御装置、およびプログラム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3447067B2 (ja) | 2003-09-16 |
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