JPH05294850A - 光学活性有機化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 不斉炭素の立体配置の反転を伴う置換反応に
よる高収率の光学活性有機化合物製造法を提供する。 【構成】 式（１） Ｒ^１Ｒ^２Ｃ^＊ＨＲ^３（１） （式中、Ｒ^１はアルキル基、シクロアルキル基等、Ｒ^２
はアルキル基もしくはアルコキシカルボニル基、又はＲ
^１とＲ^２とは、一緒に環を形成；Ｒ^３はアロイルオキシ
基、アシルオキシ基等又は式（２） −ＣＲ^４Ｒ^５Ｒ^６（２） （式中、Ｒ^４及びＲ^５は独立的にシアノ基、アルコキシ
カルボニル基等；Ｒ^６は水素又はアルキル基である）で
表される基である；そしてＣ＊は不斉炭素原子である）
で表される光学活性有機化合物を製造するために、式
（３） Ｒ^１Ｒ^２Ｃ^＊＊ＨＯＳＯ_２Ｒ^７（３） （式中、Ｒ^１及びＲ^２は上記で定義した通り；Ｒ^７はア
ルキル基又はアリール基である；そしてＣ^＊＊は、Ｃ^＊
とは立体配置が反転した不斉炭素原子を表す）で表され
る光学活性スルホネート化合物を、フッ化セシウムの存
在下で式（４） Ｈ−Ｒ^３（４） （式中、Ｒ^３は上記で定義した通り）の化合物と反応さ
せる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、医薬や農薬等の原料
として有用な光学活性有機化合物の製造方法に関する。
より詳しくは、立体配置の反転を伴なう置換反応を利用
して、光学活性スルホネート化合物からその光学活性中
心の不斉炭素原子の立体配置が反転した光学活性有機化
合物を選択的に製造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光学活性有機化合物は有機化学工業にお
いて、香料、医薬、農薬として、またそれらの中間体と
して有用な化合物であり、それを製造する方法には種々
の方法が知られている。その一つの方法として、光学活
性中心の不斉炭素原子の立体配置の反転を伴なう置換反
応を利用する方法が知られている。

【０００３】従来、このような方法として： （１）ジエチル アゾジカルボキシレートとトリフェニ
ルホスフィンとを用いる方法（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１
（１９８１））； （２）Ｓ_Ｎ２置換反応における求核剤としてセシウムカ
ルボキシレートを用いる方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，４６，４３２１（１９８１））；及び （３）リチウムアルキル銅錯体を用いる方法（Ｔｅｔｒ
ａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，３１，２１４９（１
９９０）；及びＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５４，５８３
１（１９８９））などが知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法（１）の場合には、目的とする置換反応に対して競
争的にかなりの割合で副反応としての脱離反応が進行
し、その結果、目的化合物の収率を向上させるこができ
ないという問題があった。

【０００５】また上記の方法（２）の場合には、セシウ
ムカーボネートをまず合成しなければならず、その点手
間がかかるという問題があった。更に、求核剤としてセ
シウムカーボネートだけが使用可能であり、他の求核剤
を使用することができないという問題があった。

【０００６】方法（３）の場合には、リチウムアルキル
銅錯体自体が非常に高価なものなので、目的化合物の製
造コストを低減できないという問題があった。更に、そ
の反応性が非常に高いために反応基質が非常に限定さ
れ、また、反応条件も非常に制約されたものとなるとい
う問題もあった。

【０００７】この発明は、このような従来技術の課題を
解決し、簡便な反応操作或いは温和な反応条件で、不斉
炭素の立体配置の反転を伴う置換反応により高収率で光
学活性有機化合物を製造できるようにすることを目的と
する。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この発明者は、光学活性
スルホネート化合物に、フッ化セシウムの存在下で種々
の求核剤を反応させることにより、上述の目的が達成で
きることを見出し、この発明を完成させるに至った。

【０００９】即ち、この発明は、式（１） Ｒ^１Ｒ^２Ｃ^＊ＨＲ^３ （１） （式中、Ｒ^１はアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基もしくはアラルキル基であり、Ｒ^２はアルキル基も
しくはアルコキシカルボニル基であり、又はＲ^１とＲ^２
とは一緒になって環を形成してもよい；Ｒ^３はアロイル
オキシ基、アシルオキシ基、アリールチオ基、アシルチ
オ基、イミド基又は式（２） −ＣＲ^４Ｒ^５Ｒ６ （２） （式中、Ｒ^４及びＲ^５は独立的にシアノ基、アルコキシ
カルボニル基、アリルオキシカルボニル基であり、Ｒ^６
は水素又はアルキル基である）で表される基である；そ
してＣ^＊は不斉炭素原子である）で表される光学活性有
機化合物の製造方法において、式（３） Ｒ^１Ｒ^２Ｃ^＊＊ＨＯＳＯ_２Ｒ^７ （３） （式中、Ｒ^１及びＲ^２は上記で定義した通りである；Ｒ
^７はアルキル基又はアリール基である；そしてＣ
^＊＊は、式（１）のＣ^＊と同じ炭素原子であるが、Ｃ^＊
の立体配置が反転した配置を有する不斉炭素原子を表し
ている）で表される光学活性スルホネート化合物を、フ
ッ化セシウムの存在下で式（４） Ｈ−Ｒ^３ （４） （式中、Ｒ^３は上記で定義した通りである）の化合物と
反応させることを特徴とする式（１）の光学活性有機化
合物の製造方法を提供する。この場合、光学活性有機化
合物の製造コストを低減するために、Ｒ^７としてメチル
基を選択することが好ましい。

【００１０】ここで、上述の化学式中の置換基の定義に
おいてアルキル基とは、好ましくは炭素数１〜１０の直
鎖もしくは分岐アルキル基、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ヘキシル
基などを意味する。シクロアルキル基とは、好ましくは
炭素数４〜１０のシクロアルキル基、例えばシクロペン
チル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、
シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ジメチルシクロ
オクチル基などを意味する。アリール基とは、フラニル
基、ピリジル基等の複素芳香族基や芳香族炭化水素基、
好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素基、例えば
フェニル基、４−メチルフェニル基、２−メチルフェニ
ル基、２、４−ジメチルフェニル基などを意味する。ア
ラルキル基とは、前述のアリール基を置換基として有す
るアルキル基、好ましくは炭素数７〜１０のフェニルア
ルキル基、例えばベンジル基、１−フェニルエチル基、
２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基などを
意味する。アルコキシカルボニル基とは、好ましくは炭
素数１〜５の低級アルコキシカルボニル基、例えばメト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシ
カルボニル基などを意味する。Ｒ^１とＲ^２とが一緒にな
って形成する環とは、炭素原子のみで環を構成してもよ
いし酸素原子や窒素原子等を含めて環を構成してもよい
が、好ましくは炭素数５以上で構成される炭素環、例え
ばシクロヘキサン環、２，２−ジメチル−３−オン−シ
クロヘキサン環、更にコレステロール等の縮合環などを
意味する。アロイルオキシ基とは、好ましくは炭素数７
〜１０のベンゾイルオキシ基、４−メチルベンゾイルオ
キシ基などを意味する。アシルオキシ基とは、好ましく
は炭素数２〜１０のアシルオキシ基、好ましくはアセト
キシ基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基な
どを意味する。アリールチオ基のアリール部分は前述で
定義した通りのものを意味し、好ましくは炭素数６〜１
０のフェニルチオ基、例えばフェニルチオ基、４−メチ
ルフェニルチオ基などを意味する。アシルチオ基とは、
好ましくは炭素数２〜１０のアシルチオ基、例えばアセ
チルチオ基、プロピオニルチオ基、ブタノイルチオ基な
どを意味する。イミド基とは、好ましくは炭素数４〜１
０の無水イミド基、例えばコハク酸イミド基、マレイン
酸イミド基、フタル酸イミド基などを意味する。アリル
オキシカルボニル基とは、好ましくは炭素数４〜５のア
リルオキシカルボニル基、例えばアリルオキシカルボニ
ル基、３−メチルアリルオキシカルボニル基、３，３−
ジメチル−アリルオキシカルボニル基などを意味する。
なお、これらの置換基には、この発明を特徴づける置換
反応を妨害しない限り、ヒドロキシ基、ハロゲン原子な
どの種々の置換基を更に有していてもよい。

【００１１】この発明においては、式（３）の光学活性
スルホネート化合物と式（４）の求核剤とを反応させて
置換反応を行わせるが、この場合式（３）の光学活性ス
ルホネート化合物の（−ＯＳＯ_２Ｒ^７）基と、求核剤で
ある式（４）の化合物の（−Ｒ^３）基とが置換する。こ
の置換反応においては、ラセミ化がほとんど起こらず
に、（−ＯＳＯ_２Ｒ^７）基が結合している不斉炭素原子
Ｃ^＊の立体配置が反転する。従って、この発明により光
学純度の高い光学活性有機化合物を選択的に得ることが
可能となる。

【００１２】この発明においては、不斉炭素原子の立体
配置が反転する置換反応を行うための触媒として、フッ
化セシウムを使用する。フッ化セシウムの使用量は、式
（３）の光学活性スルホネート化合物に対して等モル以
上、好ましくは等モル〜５倍モルである。また、求核剤
である式（４）の化合物の使用量は、式（３）の光学活
性スルホネート化合物に対して等モル以上、好ましくは
等モル〜５倍モルである。

【００１３】また、この発明は好ましくは有機溶剤の存
在下で実施することが好ましい。このような有機溶媒と
しては、置換反応に悪影響を与えない非プロトン性極性
溶媒を使用することができる。例えばジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−ピロリドン、ジメチ
ルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド
などを好ましく使用することができる。このような溶媒
の使用量は、式（３）の光学活性スルホネート化合物に
対して、好ましくは約３０重量倍以内で使用する。

【００１４】また、この発明を実施する際の反応温度
は、使用する溶媒や式（３）の化合物や式（４）の化合
物の種類等により異なるが、一般に室温乃至１５０℃、
好ましくは４０乃至１１０℃である。反応時間は、使用
する溶媒や式（３）の化合物や式（４）の化合物の種類
等によりことなるが、一般には２４時間以内である。

【００１５】なお、この発明を実施する際には大気下で
も実施可能であるが、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不
活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい。

【００１６】この発明の製造方法は、通常の手段により
実施可能である。例えば、反応容器にフッ化セシウムと
式（４）の求核剤を入れ、好ましくは更に溶媒を加え、
そして反応容器内を窒素置換する。この状態で室温で約
０．５〜１時間撹拌した後、式（３）の光学活性スルホ
ネート化合物を、好ましくは溶媒に希釈したものを反応
容器に添加し、所定の反応温度で撹拌しながら反応させ
ることにより式（１）の光学活性有機化合物を製造する
ことができる。

【００１７】目的物である光学活性有機化合物の反応混
合物からの分離精製も常法により行うことができる。例
えば、反応液を室温まで冷却し、酢酸エチルなどで反応
液を希釈した後に冷水に注ぎ入れることにより反応を停
止させ、分離した有機層を５％重曹水などのアルカリ水
溶液で洗浄し、食塩水で更に洗浄する。この有機層を無
水硫酸ナトリウム等で乾燥し、減圧下で溶媒を除去する
ことにより残渣として目的物である式（１）の光学活性
有機化合物を得ることができる。なお、この残渣をシリ
カクロマトグラフィ処理或いは蒸留処理することにより
容易に精製することができる。

【００１８】なお、この発明の製造方法に於ける出発原
料となる式（３）の光学活性スルホネート化合物は、例
えば対応する光学活性アルコール類とスルホン酸類との
エステル化反応により容易に製造することができる。

【００１９】

【作用】この発明によれば、フッ化セシウムの存在下で
式（３）の光学活性スルホネート化合物と式（４）の求
核剤とを反応させて置換反応を行わせるので、（３）の
光学活性スルホネート化合物の（−ＯＳＯ_２Ｒ^７）基
と、求核剤である式（４）の化合物の（−Ｒ^３）基とが
置換し、しかもその置換反応の際に式（３）中の不斉炭
素原子Ｃ^＊の立体配置が反転し、得られる式（１）の化
合物の不斉炭素原子Ｃ^＊＊の立体配置は、式（３）の光
学活性スルホネート化合物の不斉炭素原子Ｃ^＊の立体配
置が反転したものとなる。

【００２０】

【実施例】この発明を以下の実施例により更に詳細に説
明する。

【００２１】実施例１

【００２２】

【化１】 ６１１ｍｇ（５ｍｍｏｌ）の安息香酸と７６０ｍｇ（５
ｍｍｏｌ）のフッ化セシウムとを反応容器に仕込み、反
応容器内を窒素置換した後に、ジメチルホルムアミド
（以下ＤＭＦと略する）２ｍｌを更に添加し、室温で３
０分間撹拌した。これに、１ｍｌのＤＭＦに溶解した２
０８ｍｇ（１ｍｍｏｌ）の式（５）の化合物を添加し、
６０℃に加温し撹拌して反応させた。

【００２３】薄層クロマトグラフィ（ＴＬＣ）で原料の
消失を確認後、反応液をエーテル抽出し、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後にエーテルを除去し、式（６）の化合物
を得た。

【００２４】これを、カラムクロマトグラフィ（シリカ
ゲル（メルク社製）、ヘキサン／２０％酢酸エチル）に
より精製し、単離収率５１％（１１５ｍｇ）で式（６）
の化合物を得た。この化合物の旋光度は［α」_Ｄ＝−３
０．３５°（Ｃ＝０．９７５，２６℃，ＣＨＣｌ_３）で
あった。

【００２５】実施例２

【００２６】

【化２】 １８３ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）の安息香酸と２２８ｍｇ
（１．５ｍｍｏｌ）のフッ化セシウムとを反応容器に仕
込み、反応容器内を窒素置換した後に、ＤＭＦ２ｍｌを
更に添加し、室温で撹拌した。これに、１ｍｌのＤＭＦ
に溶解した１９６ｍｇ（１ｍｍｏｌ）の式（７）の化合
物を添加し、５０℃に加温し撹拌して反応させた。

【００２７】ＴＬＣで原料の消失を確認後、反応液をエ
ーテル抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後に溶媒を除
去し、式（８）の化合物を６２．４％のガスクロマトグ
ラフィ収率（ＨＲ−Ｔｈｅｒｍｏｎ ３０００Ｂ，昇温
１０℃／分，α＝０．６３５８，内部標準＝ｎ−オクタ
デカン）で得た。

【００２８】これを、カラムクロマトグラフィ（シリカ
ゲル（メルク社製）、ベンゼン／３％酢酸エチル）によ
り精製し、単離収率５３％（１１８ｍｇ）で式（８）の
化合物を得た。この化合物の旋光度は［α」_Ｄ＝＋１
３．５７°（Ｃ＝１．１４６，２６℃，ＣＨＣｌ_３）で
あった。

【００２９】実施例３

【００３０】

【化３】 ３０５ｍｇ（２．５ｍｍｏｌ）の安息香酸と３８０ｍｇ
（２．５ｍｍｏｌ）のフッ化セシウムとを反応容器に仕
込み、反応容器内を窒素置換した後に、ＤＭＦ１ｍｌを
更に添加し、室温で３０分間撹拌した。これに、０．５
ｍｌのＤＭＦに溶解した１２０ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）
の式（９）の化合物を添加し、１００℃〜１１０℃に加
温し４時間撹拌して反応させた。

【００３１】ＴＬＣで原料の消失を確認後、反応液を酢
酸エチル抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後に溶媒を
除去し、式（１０）の化合物を９０％のガスクロマトグ
ラフィ収率（ＯＶ−１７，昇温１０℃／分，α＝０．５
１３２，内部標準＝ｎ−ヘプタデカン）で得た。

【００３２】これを、カラムクロマトグラフィ（シリカ
ゲル（メルク社製）、ベンゼン／５％酢酸エチル）によ
り精製し、単離収率９８％（１３６ｍｇ）で式（１０）
の化合物を得た。この化合物の旋光度は［α」_Ｄ＝−
１．３９°（Ｃ＝０．９５８，２６℃，ＣＨＣｌ_３）で
あった。

【００３３】実施例４

【００３４】

【化４】 ６１１ｍｇ（５ｍｍｏｌ）の安息香酸と７６０ｍｇ（５
ｍｍｏｌ）のフッ化セシウムとを反応容器に仕込み、反
応容器内を窒素置換した後に、ＤＭＦ１．５ｍｌを更に
添加し、室温で３０分間撹拌した。これに、１．５ｍｌ
のＤＭＦに溶解した４６７ｍｇ（１ｍｍｏｌ）の式（１
１）の化合物を添加し、１００℃に加温し７時間撹拌し
て反応させた。

【００３５】ＴＬＣで原料の消失を確認後、反応液を酢
酸エチル抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後に溶媒を
除去し、式（１２）の化合物を得た。

【００３６】これを、カラムクロマトグラフィ（シリカ
ゲル（メルク社製）、ヘキサン／１０％酢酸エチル）に
より精製し、単離収率７０％（３４５ｍｇ）で式（１
２）の化合物を得た。この化合物の旋光度は［α」_Ｄ＝
＋２２．７３°（Ｃ＝１．００，２６℃，ＣＨＣｌ_３）
であった。

【００３７】実施例５

【００３８】

【化５】 ３８０ｍｇ（２．５ｍｍｏｌ）のフッ化セシウムを反応
容器に仕込み、反応容器内を窒素置換した後に、ＤＭＦ
３ｍｌに溶解した１１０ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）の式
（１３）の化合物を添加し、更に３０５ｍｇ（２．５ｍ
ｍｏｌ）の安息香酸を加え９０℃で撹拌して反応させ
た。

【００３９】８時間反応させて原料の消失を確認した
後、反応液を室温まで冷却し、反応液に酢酸エチルと氷
水２０ｍｌとを加え酢酸エチル抽出を行った。酢酸エチ
ル層を３０ｍｌの飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、３０
ｍｌの飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後に溶媒を除去し、式（１４）の化合物を得た。

【００４０】これを、カラムクロマトグラフィ（シリカ
ゲル（メルク社製）、ベンゼン／３％酢酸エチル）によ
り精製し、単離収率６３％（７８ｍｇ）で式（１４）の
化合物を得た。この化合物の旋光度は［α」_Ｄ＝−４
７．４°（Ｃ＝０．９，２２℃，ＣＨＣｌ_３）であっ
た。また、Ｅｕ（ｈｆｃ）_３を用いてＮＭＲにより光学
純度を測定したところ９６％ｅｅであった。

【００４１】実施例６

【００４２】

【化６】 ０．５ｍｌ（５ｍｍｏｌ）のチオフェノールと７６０ｍ
ｇ（５ｍｍｏｌ）のフッ化セシウムとを反応容器に仕込
み、反応容器内を窒素置換した後に、ＤＭＦ２ｍｌを更
に添加し、室温で３０分間撹拌した。これに、２ｍｌの
ＤＭＦに溶解した２０８ｍｇ（１ｍｍｏｌ）の式（５）
の化合物を添加し、５０℃に加温し撹拌して反応させ
た。

【００４３】３時間反応させて原料の消失を確認後、反
応液をベンゼン抽出し、１規定水酸化ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後
にエーテルを除去し、式（１５）の化合物を９７％のガ
スクロマトグラフィ収率（ＨＲ−Ｔｈｅｒｍｏｎ ３０
００Ｂ，昇温１０℃／分，α＝０．８２６５，内部標準
＝ｎ−ペンタデカン）で得た。

【００４４】これを、カラムクロマトグラフィ（シリカ
ゲル（メルク社製）、ヘキサン）により精製し、単離収
率９４％（２１４ｍｇ）で式（１５）の化合物を得た。
この化合物の旋光度は［α」_Ｄ＝−１．３５°（Ｃ＝
１．１８０，２７℃，ＣＨＣｌ_３）であった。

【００４５】実施例７

【００４６】

【化７】 ４５６ｍｇ（３ｍｍｏｌ）のフッ化セシウムを反応容器
に仕込み、反応容器内を窒素置換した後に、ＤＭＦ２ｍ
ｌと０．２ｍｌ（３ｍｍｏｌ）のチオ酢酸を加えて室温
で６０分間撹拌した。これに、１ｍｌのＤＭＦに溶解し
た２０８ｍｇ（１ｍｍｏｌ）の式（５）の化合物を添加
し、４０℃に加温し撹拌して反応させた。

【００４７】ＴＬＣで原料の消失を確認後、反応液を室
温まで冷却し、酢酸エチルで抽出した。これを飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後に溶媒を除去し、式（１６）の化合
物を得た。

【００４８】これを、実施例６と同様にカラムクロマト
グラフィにより精製し、単離収率５２％（９７ｍｇ）で
式（１６）の化合物を得た。

【００４９】実施例８

【００５０】

【化８】 ７３６ｍｇ（５ｍｍｏｌ）のフタル酸イミドと７６０ｍ
ｇ（５ｍｍｏｌ）のフッ化セシウムとを反応容器に仕込
み、反応容器内を窒素置換した後に、ＤＭＦ２ｍｌを更
に添加し、室温で３０分間撹拌した。これに、１ｍｌの
ＤＭＦに溶解した２０８ｍｇ（１ｍｍｏｌ）の式（５）
の化合物を添加し、５０℃に加温し２４時間撹拌して反
応させた。

【００５１】ＴＬＣで原料の消失を確認後、反応液をエ
ーテル抽出し、１規定水酸化ナトリウム水溶液、飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後に溶媒を除
去し、式（１７）の化合物を３２％のガスクロマトグラ
フィ収率（ＣＢＰ−５，昇温１０℃／分，α＝１．１６
１４，内部標準＝ｎ−デカン）で得た。

【００５２】これを、カラムクロマトグラフィ（シリカ
ゲル（メルク社製）、ヘキサン／２０％酢酸エチル）に
より精製し、単離収率６６％（１７２ｍｇ）で式（１
７）の化合物を得た。この化合物の旋光度は［α」_Ｄ＝
−１７．２３°（Ｃ＝１．００，２６℃，ＣＨＣｌ_３）
であった。

【００５３】実施例９

【００５４】

【化９】 ４５６ｍｇ（３ｍｍｏｌ）のフッ化セシウムをドライパ
ック中で１０ｍｌの反応容器に仕込み、反応容器内を窒
素置換した後に、０．５ｍｌ（３ｍｍｏｌ）のマロン酸
ジエチルを加え室温で６０分間撹拌した。ついで、反応
混合物にＤＭＦ５ｍｌに溶解した１９６．２１ｍｇ（１
ｍｍｏｌ）の式（７）の化合物を添加し、温度４５℃で
５時間撹拌して反応させた。

【００５５】反応終了後、反応液を６０ｍｌの酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を２０ｍｌの飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、２０ｍｌの飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後に溶媒を除去し、式（１８）
の化合物を８６％のガスクトマトグラフィ収率（内部標
準＝ｎ−ノナデカン（１５０ｍｇ））で得た。

【００５６】これを、クーゲル（２５ｍｍＨｇ、１３０
〜１４０℃）で、まず低沸点流出物を除去し、カラムク
ロマトグラフィ（シリカゲル（メルク社製）、ヘキサン
／３％酢酸エチル）により精製し、単離収率４６％（１
２０ｍｇ）で式（１８）の化合物を得た。この化合物１
０ｍｇを重クロロホルムに溶解し、Ｅｕ（ｈｆｃ）_３を
用いて（ＣＨ_３ＣＨ）のメチル水素原子の強度をＮＭＲ
測定した。この結果，光学純度は９９．２％ｅｅであっ
た。

【００５７】実施例１０

【００５８】

【化１０】 １４００ｍｇ（９ｍｍｏｌ）のフッ化セシウムをドライ
パック中で１０ｍｌの反応容器に仕込み、反応容器内を
窒素置換した後に、１．０ｍｌ（９ｍｍｏｌ）のシアノ
酢酸エチルを加え室温で６０分間撹拌した。ついで、反
応混合物にＤＭＦ５ｍｌに溶解した５８９ｍｇ（３ｍｍ
ｏｌ）の式（７）の化合物を添加し、温度６０℃で６時
間撹拌して反応させた。

【００５９】反応終了後、反応液を６０ｍｌの酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を２０ｍｌの飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、２０ｍｌの飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後に溶媒を除去し、８６％のガ
スクロマトグラフィ収率（内部標準＝ノルマルテトラデ
カン（１７１ｍｇ））で得た。

【００６０】これを、クーゲル（２５ｍｍＨｇ、１３０
〜１４０℃）で、まず低沸点流出物を除去し、カラムク
ロマトグラフィ（シリカゲル（メルク社製）、ヘキサン
／３％酢酸エチル）により精製し、単離収率５９％（３
７２ｍｇ）の式（１９）の化合物を得た。この化合物１
０ｍｇを重クロムホルムに溶解し、Ｅｕ（ｈｆｃ）_３を
加えて（ＣＨ_３ＣＨ）のメチル水素原子の強度をＮＭＲ
測定した。この結果，光学純度は９１．０％ｅｅであっ
た。

【００６１】実施例１１ 式（７）の化合物を１ｍｍｏｌ、シアノ酢酸エチルを３
ｍｍｏｌ、フッ化セシウム３ｍｍｏｌを使用し、反応温
度を４５℃とし、更に反応時間を８時間とする以外は実
施例１０を繰り返すことにより式（１９）の化合物を、
ガスクロマトグラフィ収率６６％、単離収率５０％、光
学純度８１．４％ｅｅで得た。

【００６２】実施例１２ 反応温度を３０℃とし、反応時間を１９時間とする以外
は実施例１１を繰り返すことにより式（１９）の化合物
を、ガスクロマトグラフィ収率８９％、単離収率６１
％、光学純度８５．８％ｅｅで得た。

【００６３】実施例１３

【００６４】

【化１１】 ４５５．７ｍｇ（３ｍｍｏｌ）のフッ化セシウムをドラ
イパック中で１０ｍｌの反応容器に仕込み、反応容器内
を窒素置換した後に、３７８ｍｇ（３ｍｍｏｌ）のシア
ノ酢酸アリルを加え室温で６０分間撹拌した。ついで、
反応混合物にＤＭＦ５ｍｌに溶解した１９６．２ｍｇ
（１ｍｍｏｌ）の式（７）の化合物を添加し、温度４５
℃で６時間撹拌して反応させた。

【００６５】反応終了後、反応液を６０ｍｌの酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を２０ｍｌの飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、２０ｍｌの飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後に溶媒を除去し、式（２０）
の化合物を９２％のガスクトマトグラフィ収率（内部標
準＝Ｃ_２４Ｈ_５０（６１ｍｇ））で得た。

【００６６】これを、クーゲル（２５ｍｍＨｇ、１３０
〜１４０℃）で、まず低沸点流出物を除去し、カラムク
ロマトグラフィ（シリカゲル（メルク社製）、ヘキサン
／３％酢酸エチル）により精製し、単離収率６６％（１
４０ｍｇ）の式（２０）の化合物を得た。この化合物１
０ｍｇを重クロロホルムに溶解し、Ｅｕ（ｈｆｃ）_３を
加えて（ＣＨ_３ＣＨ）のメチル水素原子の強度をＮＭＲ
測定した。この結果、光学純度は９３．６％ｅｅであっ
た。

【００６７】実施例１４ 式（７）の化合物を１ｍｍｏｌ、シアノ酢酸アリルを３
ｍｍｏｌ、フッ化セシウム３ｍｍｏｌを使用し、反応温
度を６０℃とし、更に反応時間を４時間とする以外は実
施例１３を繰り返すことにより式（２０）の化合物を、
ガスクロマトグラフィ収率８３％、単離収率４３％、光
学純度８９％ｅｅで得た。

【００６８】実施例１５ 反応温度を３０℃とし、反応時間を１７時間とする以外
は実施例１４を繰り返すことにより式（２０）の化合物
を、ガスクロマトグラフィ収率９２％、単離収率５０
％、光学純度８９．４％ｅｅで得た。

【００６９】

【発明の効果】この発明によれば、簡便な反応操作或い
は温和な反応条件で、不斉炭素の立体配置の反転を伴う
置換反応により高収率で光学活性有機化合物を製造でき
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/76 Ｚ 9279−4Ｈ 255/19 6917−4Ｈ 321/28 7419−4Ｈ 327/22 8619−4Ｈ Ｃ０７Ｊ 9/00 9051−4Ｃ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式（１） Ｒ^１Ｒ^２Ｃ^＊ＨＲ^３ （１） （式中、Ｒ^１はアルキル基、シクロアルキル基、アリー
   ル基もしくはアラルキル基であり、Ｒ^２はアルキル基も
   しくはアルコキシカルボニル基であり、又はＲ^１とＲ^２
   とは一緒になって環を形成してもよい；Ｒ^３はアロイル
   オキシ基、アシルオキシ基、アリールチオ基、アシルチ
   オ基、イミド基又は式（２） −ＣＲ^４Ｒ^５Ｒ^６ （２） （式中、Ｒ^４及び^Ｒ５は独立的にシアノ基、アルコキシ
   カルボニル基、アリルオキシカルボニル基であり、Ｒ^６
   は水素又はアルキル基である）で表される基である；そ
   してＣ^＊は不斉炭素原子である）で表される光学活性有
   機化合物の製造方法において、式（３） Ｒ^１Ｒ^２Ｃ^＊＊ＨＯＳＯ_２Ｒ^７ （３） （式中、Ｒ^１及びＲ^２は上記で定義した通りである；Ｒ
   ^７はアルキル基又はアリール基である；そしてＣ^＊＊は
   式（１）のＣ^＊と同じ炭素原子であるが、Ｃ^＊の立体配
   置が反転した配置を有する不斉炭素原子を表している）
   で表される光学活性スルホネート化合物を、フッ化セシ
   ウムの存在下で式（４） Ｈ−Ｒ^３ （４） （式中、Ｒ^３は上記で定義した通りである）の化合物と
   反応させることを特徴とする式（１）の光学活性有機化
   合物の製造方法。
2. 【請求項２】 Ｒ^７がメチル基である請求項１の製造方
   法。