JPS5840938B2 - 置換又は未置換α−オキシコハク酸エステルの製造方法 - Google Patents
置換又は未置換α−オキシコハク酸エステルの製造方法Info
- Publication number
- JPS5840938B2 JPS5840938B2 JP10944576A JP10944576A JPS5840938B2 JP S5840938 B2 JPS5840938 B2 JP S5840938B2 JP 10944576 A JP10944576 A JP 10944576A JP 10944576 A JP10944576 A JP 10944576A JP S5840938 B2 JPS5840938 B2 JP S5840938B2
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- Japan
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- acid ester
- group
- unsubstituted
- oxysuccinic acid
- alkyl group
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は置換又は未置換α−オキシコハク酸エステルを
製造する方法に関するものである。
製造する方法に関するものである。
更に詳しくは、四塩化チタン存在下、当量のα−ケトカ
ルボン酸エステルとケテンシリルアセタールとを反応さ
せ、次いで加水分解することにより置換又は未置換α−
オキシコノ・り酸エステルを製造すル方法に関するもの
である。
ルボン酸エステルとケテンシリルアセタールとを反応さ
せ、次いで加水分解することにより置換又は未置換α−
オキシコノ・り酸エステルを製造すル方法に関するもの
である。
本発明の方法で製造される置換又は未置換αオキシコハ
ク酸エステルは一般式 (式中、R1は水素原子、アルキル基又はアリール基、
R2はアルキル基又はアリール基、R3及びR4は水素
原子又は低級アルキル基、R5は低級アルキル基であり
、R3又はR4とR5は一体となり炭素鎖で連結されて
もよい。
ク酸エステルは一般式 (式中、R1は水素原子、アルキル基又はアリール基、
R2はアルキル基又はアリール基、R3及びR4は水素
原子又は低級アルキル基、R5は低級アルキル基であり
、R3又はR4とR5は一体となり炭素鎖で連結されて
もよい。
)で表わされる化合物であるが、これらのエステルは加
水分解により容易に対応するジカルボン酸に導くことが
できる。
水分解により容易に対応するジカルボン酸に導くことが
できる。
この方法で製造されるα−オキシジカルボン酸エステル
及びそのジカルボン酸のうちでリンゴ酸(R1〜R5=
H)は清涼飲料水の酸味剤、冷菓酸味剤、加工食品酸味
剤、医薬用制酸剤、天然ジュース等の色調保持、保存剤
等に用いられ、また工業用需要としては消臭剤、洗剤、
酸洗浄、染色用等がある。
及びそのジカルボン酸のうちでリンゴ酸(R1〜R5=
H)は清涼飲料水の酸味剤、冷菓酸味剤、加工食品酸味
剤、医薬用制酸剤、天然ジュース等の色調保持、保存剤
等に用いられ、また工業用需要としては消臭剤、洗剤、
酸洗浄、染色用等がある。
又、α−メチルリンゴ酸、α−オキシ−α・l−ジメチ
ルコハク酸、トリメチルリンゴ酸等の置換又は未置換α
−オキシコハク酸はそれぞれイソ吉草酸の硝酸酸化、メ
チルアセト酢酸エステルシアンヒドリンの加水分解、α
・α−ジメチルアセト酢酸エステルシアンヒドリンの加
水分解によつて合成されている(大有機化学、脂肪族化
合物■、朝倉書店、p53〜64)が、これらの製造法
の原料+坏飽和ジカルボン酸又はβ−ケトカルボン酸エ
ステルに限られている。
ルコハク酸、トリメチルリンゴ酸等の置換又は未置換α
−オキシコハク酸はそれぞれイソ吉草酸の硝酸酸化、メ
チルアセト酢酸エステルシアンヒドリンの加水分解、α
・α−ジメチルアセト酢酸エステルシアンヒドリンの加
水分解によつて合成されている(大有機化学、脂肪族化
合物■、朝倉書店、p53〜64)が、これらの製造法
の原料+坏飽和ジカルボン酸又はβ−ケトカルボン酸エ
ステルに限られている。
本発明者等はα−ケトカルボン酸エステルを原料として
一連の置換又は未置換α−オキシコハク酸エステルを製
造する汎用性の高い製造方法の開発を目指し鋭意検討を
重ねた結果、本発明を完成するに至ったものである。
一連の置換又は未置換α−オキシコハク酸エステルを製
造する汎用性の高い製造方法の開発を目指し鋭意検討を
重ねた結果、本発明を完成するに至ったものである。
即ち、α−ケトカルボン酸エステルとケテンシリルアセ
タールとをルイス酸存在下で反応させて、次いで加水分
解することにより置換又は未置換α−オキシコハク酸エ
ステルを高収率で製造することができる。
タールとをルイス酸存在下で反応させて、次いで加水分
解することにより置換又は未置換α−オキシコハク酸エ
ステルを高収率で製造することができる。
本発明の実施にあたり使用し得るα−ケトカルボン酸エ
ステルは一般式 %式% (式中、R1及びR2はメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、アリル基、クロチル基、ビニル基、フロ
ベニル基、ベンジル基、エチニル基、プロピニル基又は
シクロヘキシル基の如きアルキル基又はフェニル基、ナ
フチル基、トリル基、キシリル基、アニシル基、クロル
フェニル基、フロムフェニル基又はジメチルアミノフェ
ニル基の如きアリール基である(R1は水素を含む)。
ステルは一般式 %式% (式中、R1及びR2はメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、アリル基、クロチル基、ビニル基、フロ
ベニル基、ベンジル基、エチニル基、プロピニル基又は
シクロヘキシル基の如きアルキル基又はフェニル基、ナ
フチル基、トリル基、キシリル基、アニシル基、クロル
フェニル基、フロムフェニル基又はジメチルアミノフェ
ニル基の如きアリール基である(R1は水素を含む)。
)で表わされる。
又、本発明の実施にあたり使用し得るケテンシリルアセ
タールは一般式 (式中、R3及びR4は水素原子又は低級アルキル基、
R5は低級アルキル基であり、R3又はR4とR5は一
体となり炭素鎖で連結されてもよい。
タールは一般式 (式中、R3及びR4は水素原子又は低級アルキル基、
R5は低級アルキル基であり、R3又はR4とR5は一
体となり炭素鎖で連結されてもよい。
R6、R7及びR8はアルキル基又はアリール基を示す
。
。
)で表わされる。本発明は四塩化チタンの存在下に行う
ことが必要である。
ことが必要である。
本発明の方法によれば当量のα−ケトカルボン酸エステ
ルとケテンシリルアセタール並びに1/4〜1当量の四
塩化チタンを塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素
、エーテル、ベンゼン、キシレン又はヘキサン等の不活
性溶媒中に溶解あるいは懸濁させ一り0℃〜室温で攪拌
混合し、反応停止後加水分解することにより置換又は未
置換α−オキシコハク酸エステルを高収率で製造するこ
とができる。
ルとケテンシリルアセタール並びに1/4〜1当量の四
塩化チタンを塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素
、エーテル、ベンゼン、キシレン又はヘキサン等の不活
性溶媒中に溶解あるいは懸濁させ一り0℃〜室温で攪拌
混合し、反応停止後加水分解することにより置換又は未
置換α−オキシコハク酸エステルを高収率で製造するこ
とができる。
尚、本発明に使用するケテンシリルアセタールは一般に
加水分解し易いので無水条件下で反応を行うことが望ま
しい。
加水分解し易いので無水条件下で反応を行うことが望ま
しい。
本発明の方法によれば光学活性なα−オキシコハク酸エ
ステル、置換α−オキシコハク酸エステル及び対応する
ジカルボン酸の製造を行うこともできる。
ステル、置換α−オキシコハク酸エステル及び対応する
ジカルボン酸の製造を行うこともできる。
即ち、原料であるα−ケトカルボン酸エステルのエステ
ル置換基(R2)に光学活性点が存在するとケテンシリ
ルアセタールとの反応において生成するα−オキシコハ
ク酸エステルあるいは置換α−オキシコハク酸エステル
のα位の炭素は光学活性点になるからである。
ル置換基(R2)に光学活性点が存在するとケテンシリ
ルアセタールとの反応において生成するα−オキシコハ
ク酸エステルあるいは置換α−オキシコハク酸エステル
のα位の炭素は光学活性点になるからである。
これらのエステルを加水分解することにより光学活性な
α−オキシコハク酸あるいは置換α−オキシコハク酸を
得ることができる。
α−オキシコハク酸あるいは置換α−オキシコハク酸を
得ることができる。
原料に用いる光学活性なα−ケトカルボン酸エステルは
α−ケトカルボン酸と光学活性なアルコールとの縮合に
より極めて容易に合成することができる。
α−ケトカルボン酸と光学活性なアルコールとの縮合に
より極めて容易に合成することができる。
この光学活性なα−ケトカルボン酸エステルを用いて合
成した光学活性なα−オキシコハク酸エステルあるいは
置換α−オキシコハク酸エステルを加水分解すると対応
する光学活性なα−オキシコハク酸あるいは置換α−オ
キシコハク酸を得ることができ、また、同時に原料で用
いた光学活性アルコールを回収することができる(次式
参照)。
成した光学活性なα−オキシコハク酸エステルあるいは
置換α−オキシコハク酸エステルを加水分解すると対応
する光学活性なα−オキシコハク酸あるいは置換α−オ
キシコハク酸を得ることができ、また、同時に原料で用
いた光学活性アルコールを回収することができる(次式
参照)。
光学活性なアルコールとしては(→メントール、(ハ)
ボルネオール、(ホ)ネオメントール、(−)イソボル
ネオール、(−)−2−メチル−1−ブタノール、(−
)−2−オクタツール、7β−コレスタノール、(川−
1−(α−ナフチル)−2−ナフトール、(ト)α−フ
ェニルジヒトロチパインビスメチル、(+)−α−フェ
ニルジヒトロチパイン等を例示することができる。
ボルネオール、(ホ)ネオメントール、(−)イソボル
ネオール、(−)−2−メチル−1−ブタノール、(−
)−2−オクタツール、7β−コレスタノール、(川−
1−(α−ナフチル)−2−ナフトール、(ト)α−フ
ェニルジヒトロチパインビスメチル、(+)−α−フェ
ニルジヒトロチパイン等を例示することができる。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例 1
1.31 (0,01モル)ヒルピン酸フロビルの30
m1塩化メチレン溶液を寒剤浴で一18℃に冷却し、四
塩化チタンの塩化メチレン溶液(IM)1011Llを
加えて15分間攪拌したのち、1.74 f(0,01
モル)のO−メチル−〇−)リメチルシリルジメチルケ
テンアセタールの51nl塩化メチレレン溶液をゆっく
り滴下した。
m1塩化メチレン溶液を寒剤浴で一18℃に冷却し、四
塩化チタンの塩化メチレン溶液(IM)1011Llを
加えて15分間攪拌したのち、1.74 f(0,01
モル)のO−メチル−〇−)リメチルシリルジメチルケ
テンアセタールの51nl塩化メチレレン溶液をゆっく
り滴下した。
滴下後−18℃で2時間攪拌したのち室温にもどして更
に30分攪拌を続げた。
に30分攪拌を続げた。
その後反応混合物を50TILlの氷水に注いで加水分
解を行った。
解を行った。
有機層と水層とを分離し、水層を100ydの塩化メチ
レンで2回抽出し、この抽出液を有機層と一緒に無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。
レンで2回抽出し、この抽出液を有機層と一緒に無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。
溶媒をロータリーエバポレーターで留去したのち減圧蒸
留したところ沸点91〜92’c/ 0.65mtrt
Hgを有するトリメチルリンゴ酸メチルプロピルが得ら
れた(1.9=1.84%)。
留したところ沸点91〜92’c/ 0.65mtrt
Hgを有するトリメチルリンゴ酸メチルプロピルが得ら
れた(1.9=1.84%)。
実施例 2
2.88S’(0,01モル)のペンソイルキ酸メンチ
ルと1.74r(0,01モル)のO−メチル−〇−ト
リメチルシリルジメチルケテンアセタールを用いて実施
例1と同様に行い、3.31ft(85%)のα−オキ
シ−α−フェニル−d−d−ジメチルコハク酸メチルメ
ンチルを得た。
ルと1.74r(0,01モル)のO−メチル−〇−ト
リメチルシリルジメチルケテンアセタールを用いて実施
例1と同様に行い、3.31ft(85%)のα−オキ
シ−α−フェニル−d−d−ジメチルコハク酸メチルメ
ンチルを得た。
α−炭素の光学純度はNMRシフト試薬、Eu (fo
d)3を添加したNMRスペクトルにより66%と判明
した。
d)3を添加したNMRスペクトルにより66%と判明
した。
実施例 3
2.26S’(0,01モル)のピルビン酸メンチルと
1.74S’(0,01モル)のO−メチル−〇−トリ
メチルシリルジメチルケテンアセタールを用いて実施例
1と同様に反応を行い、2.72S’(83%)のトリ
メチルリンゴ酸メチルメンチルを得た。
1.74S’(0,01モル)のO−メチル−〇−トリ
メチルシリルジメチルケテンアセタールを用いて実施例
1と同様に反応を行い、2.72S’(83%)のトリ
メチルリンゴ酸メチルメンチルを得た。
α−炭素の光学純度は実施例2と同様の方法により14
%と判明した。
%と判明した。
実施例 4〜7
実施例1と同様にして第1表の結果を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 四塩化チタン存在下、一般式 %式% で表わされるα−ケトカルボン酸エステルと一般式 で表わされるケテンシリルアセタールとを反応させ、次
いで加水分解させることを特徴とする、置換又は未置換
α−オキシコハク酸エステルの製造方法(式中、R1は
水素原子、アルキル基又はアリール基、R2はアルキル
基又はアリール基、R3及びR4は水素原子又は低級ア
ルキル基、R5は低級アルキル基であり、R3又はR4
とR5は一体となり炭素鎖で連結されてもよい。 R6、R7及びR8はアルキル基又はアリール基である
。 )。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10944576A JPS5840938B2 (ja) | 1976-09-14 | 1976-09-14 | 置換又は未置換α−オキシコハク酸エステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10944576A JPS5840938B2 (ja) | 1976-09-14 | 1976-09-14 | 置換又は未置換α−オキシコハク酸エステルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5334719A JPS5334719A (en) | 1978-03-31 |
JPS5840938B2 true JPS5840938B2 (ja) | 1983-09-08 |
Family
ID=14510410
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10944576A Expired JPS5840938B2 (ja) | 1976-09-14 | 1976-09-14 | 置換又は未置換α−オキシコハク酸エステルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5840938B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63107313A (ja) * | 1986-10-24 | 1988-05-12 | Kayaba Ind Co Ltd | パルス幅変調回路 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5110869A (en) * | 1986-05-29 | 1992-05-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | β-(keto or sulfonyl)esters from reaction of silyketene acetal and acyl or sulfonyl compound |
US4983679A (en) * | 1986-05-29 | 1991-01-08 | E. I. Dupont De Nemours And Company | β-(keto or sulfonyl)esters from reaction of silylketene acetal and acyl or sulfonyl compound |
US5260424A (en) * | 1986-05-29 | 1993-11-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | B-(keto or sulfonyl) esters from reaction of silylketene acetal and acyl or sulfonyl compound |
-
1976
- 1976-09-14 JP JP10944576A patent/JPS5840938B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63107313A (ja) * | 1986-10-24 | 1988-05-12 | Kayaba Ind Co Ltd | パルス幅変調回路 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5334719A (en) | 1978-03-31 |
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