JPH05290319A - 浮上型複合磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高密度記録化にともなう狭トラック化、コア
材料の飽和磁化の増大化並びに高周波特性の改善に適し
た浮上型複合磁気ヘッドを提供する。 【構成】 浮上面を有し非磁性材からなるスライダ−体
に、磁気ギャップを形成する一対の磁性体コアを有する
浮上型複合磁気ヘッドにおいて、磁性体コアが記録媒体
進行方向と平行に磁性膜と非磁性膜とを積層した積層型
コアであり、スライダ−体の長手方向で深さが変化する
トラック幅を規制する切り欠きを有し、その切り欠き
は、ヘッドの浮上面に対する角度が０．５〜５０°で、
磁気ギャップの位置における深さがギャップ深さ以上
で、ガラスによりモ−ルドされており、磁気ギャップと
平行に磁気ギャップの少なくとも一方に、厚さ１０μｍ
以下の前記積層コアを構成する磁性膜と同等以上の飽和
磁束密度及び透磁率を有する第２の磁性膜を配置した浮
上型複合磁気ヘッド。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録再生装置、主と
して磁気ディスク装置に用いる積層膜を有する積層型の
浮上型複合磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録技術の分野における最近の記録
密度の向上は著しく、これに伴って例えば電磁変換素子
としての磁気ヘッドに対する狭トラック化、および、コ
ア材料の飽和磁化の増大化並びに高周波領域における透
磁率の改善といった要求が高まっている。近年、上記要
求を満たす磁気ヘッドとして、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金膜
等の軟磁性膜と非磁性膜との積層膜で磁気回路が構成さ
れている積層型磁気ヘッドが急速に注目を浴びている。
その一例が特開昭６４−３７７０５、平３−７１４０９
に記載されている。磁気ディスク装置用としては、例え
ば特開平３−４９０１９がある。図４はそのヘッドの外
観を示す斜視図、図５は磁気ギャップ近傍の積層膜部の
拡大斜視図を示す。前記積層膜を有する磁気ヘッドで
は、磁性膜と非磁性膜との積層膜厚自体が記録再生を行
うトラック幅となるように設定されている。最近の高密
度記録の磁気ディスク装置では、トラック幅は１０μｍ
以下のヘッドが要求されており、積層膜厚自体をトラッ
ク幅とする磁気ヘッドでは積層膜厚を１０μｍ以下とす
ることが必要となる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来の積層型磁気ヘッ
ドでは、トラック幅が積層膜の膜厚となるため、トラッ
ク幅が１０μｍ以下となると磁気抵抗が大きくなり再生
効率の低下は否めない。トラック幅を１０μｍとしたと
き、透磁率μ＝１５００の磁性膜を使用した積層型磁気
ヘッドは、フェライト（μ＝８００）にギャップ近傍の
み磁性膜（μ＝１５００）を付着させたＭＩＧヘッドに
比べ２０〜３０％の再生効率の低下が予想される。従っ
て、ＭＩＧヘッド並み以上の再生効率を得るためには積
層型磁気ヘッドの磁気抵抗を改善する事が必要である。
また、従来の磁気ヘッドの構造では、磁気ギャップを形
成するための一対の半割体を接合する際、図５に示す様
なトラックズレが発生し易く、高精度の磁気ギャップを
得ることが難しい。従って、トラックの位置合わせを精
度良く行う事が必要であることから、前記作業工程にお
ける作業工数の増加および歩留りの低下は否めない。

【０００４】

【課題を解決するための手段】前記課題に対し本発明で
は以下の手段により解決した。本発明の浮上型磁気ヘッ
ドは、浮上面を具備し非磁性体からなるスライダ−体
に、磁気ギャップを形成する一対の磁性体コアを具備し
てなる浮上型複合磁気ヘッドであって、磁気記録媒体進
行方向に対して平行な磁性膜と非磁性膜とを積層した積
層膜を有し、その積層膜磁気ギャップ近傍に、スライダ
−体の長手方向に深さが変化するトラック幅を規制する
切り欠きを有する。トラック幅を規制する前記切り欠き
は、磁気ヘッドの浮上面に対する角度θが０．５〜５０
°で、磁気ギャップの位置における深さＤが磁気ギャッ
プ深さＧｄ以上であり、ガラスによりモ−ルドされてい
る。また、本発明の浮上型複合磁気ヘッドは、積層膜の
磁気ギャップ部に、少なくとも磁気ギャップの一方に接
して磁気ギャップと平行に積層膜の磁性膜と同等以上の
飽和磁束密度と透磁率を有する第２磁性膜を配置し、そ
の磁性膜の膜厚が１０μｍ以下である浮上型複合磁気ヘ
ッドでもある。

【０００５】

【作用】このようなトラック幅を規制する切り欠きを形
成することにより、トラック近傍部以外の磁性膜厚を厚
くする事が可能であり、磁気回路の断面積が増し磁気抵
抗が低減でき再生効率がアップする。また、切り欠きに
よりトラック幅を規制するために、トラック合わせによ
るトラックズレの問題も解消される。切り欠きの深さＤ
を磁気ギャップの位置では少なくとも磁気ギャップの深
さＧｄ以上でかつ極力浅くし、形状をヘッド浮上面に対
し角度θを為す様な構造にする事で、機械加工が容易に
可能であり積層膜の磁気抵抗が大となる薄い膜の部分
（トラック幅部）を少なくでき、磁気ギャップから効率
良く記録磁界を漏洩させ、磁気抵抗が小さく再生効率の
優れたヘッドを得ることができる。また、薄い膜の部分
（トラック幅部）を極力少なくすることで強度的にも優
れ、狭トラック化が可能となる。さらにその切り欠き部
にガラスを流入し露出した積層膜のトラック部を保護し
て、トラック部の破損の危険が少なくなる。磁気記録の
高密度化の為には、磁気ヘッドの磁気ギャップから漏洩
する記録磁界を高保磁力の媒体でも記録できるように強
く、かつ急峻に発生させる事が必要である。そのための
方法として、磁気ギャップ近傍にのみ磁気ギャップの一
方あるいは両方に接してギャップと平行に、積層膜を構
成する磁性膜と同等以上の飽和磁束密度及び透磁率を有
する第２の磁性膜を形成し、切り欠きによりトラック幅
を規制する本発明の積層膜を有する浮上型複合磁気ヘッ
ドは、さらなる高記録密度化に有効な手段である。

【０００６】

【実施例】以下実施例にもとづき説明する。図１は本発
明による一実施例の浮上型複合磁気ヘッド１の斜視図で
ある。図２は、図１の積層磁気コアギャップ近傍の平面
図を示す。図３はギャップ近傍の斜視図を示す。図１の
浮上型複合磁気ヘッド１は２つの磁気ヘッドブロック３
と４から構成されており、かつこの２つのブロックを対
向させて接合することにより磁気ギャップ９を形成す
る。

【０００７】積層膜２は、２つの磁気ヘッドブロック３
と４に各々スパッタリング手法等により磁性膜と非磁性
膜とを形成し、各々非磁性ブロック６を磁性膜に接合し
ておき、その形成の後に磁気ギャップ９を形成しつつ接
合する。浮上型磁気ヘッド１には、磁気信号と電気信号
を相互変換をするコイルを巻線するための巻線窓７と、
巻線溝８が形成され、磁気ギャップ９の近傍には、積層
膜２のトラック幅を規制するための切欠きが形成されて
いる。図２，３はその状態を示す図である。図２，３に
示すように、切り欠き１３は浮上面５に対し角度θをな
すように形成され、保護ガラス１４によって埋められて
いる。浮上面５は磁気ヘッドブロック３と４を接合した
後に空気逃げ溝１０を研削加工等により設ける事により
形成される。角度θは、磁気ギャップの位置における深
さＤと、磁気ギャップからび距離Ｌによって決まる。深
さＤは、記録再生効率の点から浅いことが望ましいが、
少なくともギャップ深さＧｄ以上にすることが必要であ
り、２〜５０μｍが好ましい。Ｌ寸法については、記録
時のトラック幅方向の書きにじみを考慮すると、最小
０．０３mmは必要であり、最大では再生効率の点から
０．２mm以下にするのが望ましい。この条件を満たす
Ｄ，Ｌの寸法範囲を示すのが図６である。同図より上記
Ｄ，Ｌの条件を満たす為には、角度θ（θ＝ｔａｎ-
¹(Ｄ／Ｌ））は０．５〜５の°範囲となる。

【０００８】以下、製造方法について順次詳細に説明す
る。まず磁気ヘッドブロック３及び４に相当する非磁性
基板を準備する。次に、前記基板上にＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ
系のセンダスト磁性膜１１をスパッタリング法を用いて
一層２〜３μｍとし数層積層する。この時、中間層１２
として非磁性体を挿入すると高周波における透磁率が良
好となる。センダスト磁性膜１１のかわりにＦｅ系、Ｃ
ｏ系の磁性膜を使用しても良い。積層のト−タル膜厚
は、トラック幅の１．５〜１５倍の間が適当である。そ
の上に非磁性ブロック６に相当する非磁性基板を接合す
る。そして、その接合体をスライダ−の大きさに切断分
割し、更に磁気ヘッドブロック３と４に切断し、磁気ヘ
ッドブロック３にコイルの巻線窓７を形成した後、磁気
ヘッドブロック３と４の互いの対向面にそれぞれ第２磁
性膜１５を厚さ約２μｍスパッタリング手法等により形
成する。第２磁性膜１５は、磁気コアを構成する積層磁
性膜１１と同じセンダスト膜を使用した。センダスト膜
の代わりにセンダスト膜と同等以上の磁気特性（飽和磁
束密度、透磁率）を有する磁性膜を使用しても良い。次
に磁気ヘッドブロック３あるいは４に所定のギャップ長
となるようにギャップ規制膜を成膜し、磁気ヘッドブロ
ック３と４を接合する。その後、その接合体を治具等に
より角度θ傾斜させ、ダイサ−等の機械加工により切り
欠き１３を２箇所形成する。その間隔はトラック幅に相
当する。切り欠きの傾斜角度θは、磁気ギャップの位置
での深さＤと磁気ギャップからの距離Ｌにより決まる。
但し、深さＤは、ギャップ深さＧｄ以上とする事が必要
である。切り欠き１３形成後は、その部分にガラス１４
を流入しモ−ルドし、その後浮上面側の余分なガラスを
除去する。次に、磁気ヘッドブロック４及び３に巻線溝
８と空気逃げ溝１０を切削加工等により設け、浮上面５
をラップにより仕上げる。

【０００９】

【発明の効果】本発明によれば磁気ヘッドのトラック幅
を１０μｍ以下としても磁気抵抗の増加が少なく、従来
の磁気ヘッドと比較して３０％以上高い再生出力が得ら
れ、また、トラックズレの問題も無く低コストで積層型
磁気ヘッドが得られる。更に、切り欠きの間隔をかえる
ことにより、トラック幅の異なるヘッドが容易に作製で
き顧客ニ−ズに容易に対応可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例による浮上型複合磁気ヘッドの斜視図
である。

【図２】本実施例による浮上型複合磁気ヘッドの磁気ギ
ャップ部の正面図である。

【図３】本実施例による浮上型複合磁気ヘッドの磁気ギ
ャップ近傍部の斜視図である。

【図４】従来の浮上型複合磁気ヘッドの斜視図である。

【図５】従来の浮上型複合磁気ヘッドの斜視図である。

【図６】切欠き部のＬ，Ｄ，θの関係を示す図である。

【符号の説明】

１ 浮上型複合磁気ヘッド ２ 積層膜 ３ 磁気ヘッドブロック ４ 磁気ヘッドブロック ５ 浮上面 ６ 非磁性ブロック ７ 巻線窓 ８ 巻線溝 ９ 磁気ギャップ １０ 空気逃げ溝 １１ センダスト磁性膜 １２ 中間膜 １３ 非磁性基板 １４ 保護ガラス １５ 第２磁性膜

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 浮上面を具備し非磁性体からなるスライ
   ダ−体に、磁気ギャップを形成する一対の磁性体コアを
   具備してなる浮上型複合磁気ヘッドにおいて、磁気記録
   媒体進行方向に対して平行な磁性膜と非磁性膜とを積層
   した積層膜を有し、その積層膜磁気ギャップ近傍に、ス
   ライダ−体の長手方向に深さが変化するトラック幅を規
   制する切り欠きを有することを特徴とする浮上型複合磁
   気ヘッド。
2. 【請求項２】 トラック幅を規制する前記切り欠きは、
   磁気ヘッドの浮上面に対する角度θが０．５〜５０°
   で、磁気ギャップの位置における深さが磁気ギャップ深
   さ以上である請求項１記載の浮上型複合磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 前記切り欠き部は、ガラスによりモ−ル
   ドされている請求項１、または、２記載の浮上型複合磁
   気ヘッド。
4. 【請求項４】前記積層膜の磁気ギャップ部に、少なくと
   も磁気ギャップの一方に接して磁気ギャップと平行に積
   層膜の磁性膜と同等以上の飽和磁束密度と透磁率を有す
   る第２の磁性膜を配置し、その磁性膜の膜厚が１０μｍ
   以下である請求項１乃至３の何れかに記載の浮上型複合
   磁気ヘッド。