JPH05286971A - β−ラクタムのエステル開裂方法 - Google Patents
β−ラクタムのエステル開裂方法Info
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- JPH05286971A JPH05286971A JP5024157A JP2415793A JPH05286971A JP H05286971 A JPH05286971 A JP H05286971A JP 5024157 A JP5024157 A JP 5024157A JP 2415793 A JP2415793 A JP 2415793A JP H05286971 A JPH05286971 A JP H05286971A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D413/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing three or more hetero rings
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D463/00—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D463/02—Preparation
- C07D463/06—Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D499/00—Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 β−ラクタムのエステル開裂法を提供する。
【構成】 誘電定数約0〜約15を有する非塩基溶媒
中、ヨウ化リチウムと、化合物[II]または塩を形成す
ることができる化合物[II]の塩を反応させて式[I]
のβ−ラクタム化合物またはその薬学的に許容される塩
を製造する方法。 [式中WはLiイオン;W1はカルボキシ保護基;Zは
−S(O)n−(但し、n=0〜2)または−CH
2−;R9,R10はHまたは両者が合一して形成され
る二重結合;fは0(この場合AはC1〜6アルキルで
ある)または1(この場合、R9,R10は二重結合を
形成する);R1,R2はH,C1〜6アルキル、アミ
ノ保護基、またはR−COで表わされるカルボン酸残
基;AはH、ハロゲン、CN,OH,N3、(置換)C
1〜6アルキル、C1〜6アルキルチオ、C1〜6アル
コキシ、CF3SO2−O−等;を示す。]
中、ヨウ化リチウムと、化合物[II]または塩を形成す
ることができる化合物[II]の塩を反応させて式[I]
のβ−ラクタム化合物またはその薬学的に許容される塩
を製造する方法。 [式中WはLiイオン;W1はカルボキシ保護基;Zは
−S(O)n−(但し、n=0〜2)または−CH
2−;R9,R10はHまたは両者が合一して形成され
る二重結合;fは0(この場合AはC1〜6アルキルで
ある)または1(この場合、R9,R10は二重結合を
形成する);R1,R2はH,C1〜6アルキル、アミ
ノ保護基、またはR−COで表わされるカルボン酸残
基;AはH、ハロゲン、CN,OH,N3、(置換)C
1〜6アルキル、C1〜6アルキルチオ、C1〜6アル
コキシ、CF3SO2−O−等;を示す。]
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はβ−ラクタムのエステル
開裂方法に関する。本発明は、有機化学および抗生物質
合成の分野に属し、温和な条件を用いてセファロスポリ
ン、カルバセファロスポリン、ペニシリンおよびアゼチ
ジン−2−オン−カルボン酸類からカルボキシ保護基を
脱離する方法を提供する。これらの化合物の合成過程に
おいて、いずれにしてもその酸性カルボキシ官能基を、
分子中の他のサイトにおける所要の反応と競合する反応
に関係することから封鎖または保護するため、該カルボ
キシ基を保護するのが好ましい。化学工程で処理するた
めにエステル型が好ましく経済的でもあるが、化合物は
抗生物質として酸型または塩型のいずれかで使用される
ので、最終的にはエステル基を脱離しなければならな
い。β−ラクタム化合物は加熱、酸性、および塩基性に
感受性を有するので、そのカルボキシ保護基を温和な条
件で脱離できることは有用である。
開裂方法に関する。本発明は、有機化学および抗生物質
合成の分野に属し、温和な条件を用いてセファロスポリ
ン、カルバセファロスポリン、ペニシリンおよびアゼチ
ジン−2−オン−カルボン酸類からカルボキシ保護基を
脱離する方法を提供する。これらの化合物の合成過程に
おいて、いずれにしてもその酸性カルボキシ官能基を、
分子中の他のサイトにおける所要の反応と競合する反応
に関係することから封鎖または保護するため、該カルボ
キシ基を保護するのが好ましい。化学工程で処理するた
めにエステル型が好ましく経済的でもあるが、化合物は
抗生物質として酸型または塩型のいずれかで使用される
ので、最終的にはエステル基を脱離しなければならな
い。β−ラクタム化合物は加熱、酸性、および塩基性に
感受性を有するので、そのカルボキシ保護基を温和な条
件で脱離できることは有用である。
【0002】
【従来の技術】エステル開裂方法は、マーチ(March,
J.著:最新有機化学・反応・機構および構造(Advanced
Organic Chemistry,Reactions,Mechanisms,and
Structure)第3版John Wiley of Sons,NY,
386頁に記載されている。マーチによればエステル体
とヨウ化リチウムをピリジンまたは高沸点アミン中で加
熱することにより反応を完成することができるとのこと
である。マーチは、反応完結に導くために、より高い温
度または他の求核剤を必要とすると述べている。一般に
本発明に使用する化合物はこれらの条件で安定性がな
い。
J.著:最新有機化学・反応・機構および構造(Advanced
Organic Chemistry,Reactions,Mechanisms,and
Structure)第3版John Wiley of Sons,NY,
386頁に記載されている。マーチによればエステル体
とヨウ化リチウムをピリジンまたは高沸点アミン中で加
熱することにより反応を完成することができるとのこと
である。マーチは、反応完結に導くために、より高い温
度または他の求核剤を必要とすると述べている。一般に
本発明に使用する化合物はこれらの条件で安定性がな
い。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、特に
酸、塩基および加熱に感受性を有するβ−ラクタム化合
物を用いるための温和な条件下、たとえば最小限の加熱
条件下で行なうことができるエステル開裂方法を提供す
ることになる。本発明の方法は、エステル開裂のための
誘電定数約0〜約15を有する非塩基溶媒中、ヨウ化リ
チウムを使用する方法を提供する。反応を完成させるた
め、誘電定数約0〜約15の値を有する非塩基溶媒を使
用することは、加熱または他の求核剤を必要としないの
で、感受性化合物特に熱感受性化合物のためには理想的
である。
酸、塩基および加熱に感受性を有するβ−ラクタム化合
物を用いるための温和な条件下、たとえば最小限の加熱
条件下で行なうことができるエステル開裂方法を提供す
ることになる。本発明の方法は、エステル開裂のための
誘電定数約0〜約15を有する非塩基溶媒中、ヨウ化リ
チウムを使用する方法を提供する。反応を完成させるた
め、誘電定数約0〜約15の値を有する非塩基溶媒を使
用することは、加熱または他の求核剤を必要としないの
で、感受性化合物特に熱感受性化合物のためには理想的
である。
【0004】セファロスポリン類の製造は、シボレー
(Chauvette)(米国特許第4,064,343号)により広
く開示されている。l−カルバセファロスポリン類の製
造は、クリステンセン(Christensen)ら(米国特許第4,
226,866号)およびミュンロー(Munroe)(米国特許
第4,791,106号)に広く開示されている。ペニシ
リン類の製造は、シェーハン(J.C.Sheehan)およびラ
ウバッハ(G.D.Laubach)(1951年)(ジャーナル・
オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエテー(J.Am.Che
m.Soc.)第73巻第4376);シェーハン(J.C.Shee
han)およびコレイ(E.J.Corey)(1951年)(J.Am.
Chem.Soc.第73巻4756);シェーハン(J.C.She
ehan)およびラウバッハ(G.D.Laubach)(1951年)
(J.Am.Chem.Soc.第73巻4752)により開示さ
れている。アゼチジン−2−オン類の製造は、エバンズ
(Evans)ら(米国特許第4,665,171号)に広く開示
されている。
(Chauvette)(米国特許第4,064,343号)により広
く開示されている。l−カルバセファロスポリン類の製
造は、クリステンセン(Christensen)ら(米国特許第4,
226,866号)およびミュンロー(Munroe)(米国特許
第4,791,106号)に広く開示されている。ペニシ
リン類の製造は、シェーハン(J.C.Sheehan)およびラ
ウバッハ(G.D.Laubach)(1951年)(ジャーナル・
オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエテー(J.Am.Che
m.Soc.)第73巻第4376);シェーハン(J.C.Shee
han)およびコレイ(E.J.Corey)(1951年)(J.Am.
Chem.Soc.第73巻4756);シェーハン(J.C.She
ehan)およびラウバッハ(G.D.Laubach)(1951年)
(J.Am.Chem.Soc.第73巻4752)により開示さ
れている。アゼチジン−2−オン類の製造は、エバンズ
(Evans)ら(米国特許第4,665,171号)に広く開示
されている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、式:
【化24】 で示される化合物[I]またはその薬学的に許容される
塩類の製造法を提供する。すなわち、本発明は誘電定数
約0〜約15を有する非塩基溶媒中、ヨウ化リチウム
と、式:
塩類の製造法を提供する。すなわち、本発明は誘電定数
約0〜約15を有する非塩基溶媒中、ヨウ化リチウム
と、式:
【化25】 で示される化合物[II]もしくは塩を形成することがで
きる化合物[II]の塩を反応させることから成る化合物
[1]またはその薬学的に許容される塩の製造法を提供す
る。[式中、Wはリチウムイオン;W1はカルボキシ保護
基;Zは−S−、−S(O)−、−SO2−または−CH2
−;R9は水素、C1〜C6アルキル、またはR10と合して
形成される二重結合;R10は水素、またはR9と合して形
成される二重結合;fは0または1(ただしfが1であると
き、R9およびR10はこの双方が結合して二重結合を形
成し、fが0であるとき、AはC1〜C6アルキル);R1お
よびR2は個別に水素、C1〜C6アルキル、アミノ保護
基または−C(O)−R(Rはカルボン酸残基)(ただしR1
またはR2の一方が−C(O)−Rであるとき、他方は水
素であることができない);Aは水素、またはセファロス
ポリン、1−カルバセファロスポリンもしくはペニシリ
ン技術において見いだされる置換基から選ばれる置換基
を表わす。
きる化合物[II]の塩を反応させることから成る化合物
[1]またはその薬学的に許容される塩の製造法を提供す
る。[式中、Wはリチウムイオン;W1はカルボキシ保護
基;Zは−S−、−S(O)−、−SO2−または−CH2
−;R9は水素、C1〜C6アルキル、またはR10と合して
形成される二重結合;R10は水素、またはR9と合して形
成される二重結合;fは0または1(ただしfが1であると
き、R9およびR10はこの双方が結合して二重結合を形
成し、fが0であるとき、AはC1〜C6アルキル);R1お
よびR2は個別に水素、C1〜C6アルキル、アミノ保護
基または−C(O)−R(Rはカルボン酸残基)(ただしR1
またはR2の一方が−C(O)−Rであるとき、他方は水
素であることができない);Aは水素、またはセファロス
ポリン、1−カルバセファロスポリンもしくはペニシリ
ン技術において見いだされる置換基から選ばれる置換基
を表わす。
【0006】典型的A置換基は、水素、ハロ、シアノ、
ヒドロキシ、アジド、C1〜C6アルキル、ハロ(C1〜C
6)アルキル、シアノ(C1〜C6)アルキル、C1〜C6アル
キルチオ、C1〜C6アルコキシ、トリフルオロメタンス
ルホニルオキシまたは式:−C(O)−R3で示される基 [基中、R3はヒドロキシ、ハロ、アジド、C1〜C6アル
コキシ、2−[トリ(C1〜C4)アルキルシリル]エトキ
シ、C2〜C6アルケニルオキシ、C2〜C6アルキニルオ
キシ、C1〜C4アルコキシカルボニルオキシ、フェノキ
シまたは置換フェノキシ;またはR3は同一もしくは異な
る置換基1ないし2個で置換されたC1〜C6アルコキシ
(置換基はヒドロキシ、アミノ、C1〜C4アルキルアミ
ノ、ジ(C1〜C4)アルキルアミノ、C1〜C4アルカノイ
ルアミノ、ハロ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキ
ルチオ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシカル
ボニル、カルバモイル、カルバモイルオキシ、N−(C1
〜C4)アルキルカルバモイルオキシ、N,N−ジ(C1〜
C4)アルキルカルバモイルオキシ、C1〜C4アルコキシ
カルボニルオキシ、フェノキシカルボニルオキシ、C1
〜C4アルコキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボ
ニルアミノ、N−(C1〜C4)アルキルカルバモイルアミ
ノ、N,N−ジ(C1〜C4)アルキルカルバモイルアミ
ノ、N−フェニルカルバモイルアミノ、アニリノ、置換
アニリノ、フェニル、置換フェニルまたは式:−NHR4
で示される異項環アミノ基(基中、R4はチエニル、フリ
ルまたは式:
ヒドロキシ、アジド、C1〜C6アルキル、ハロ(C1〜C
6)アルキル、シアノ(C1〜C6)アルキル、C1〜C6アル
キルチオ、C1〜C6アルコキシ、トリフルオロメタンス
ルホニルオキシまたは式:−C(O)−R3で示される基 [基中、R3はヒドロキシ、ハロ、アジド、C1〜C6アル
コキシ、2−[トリ(C1〜C4)アルキルシリル]エトキ
シ、C2〜C6アルケニルオキシ、C2〜C6アルキニルオ
キシ、C1〜C4アルコキシカルボニルオキシ、フェノキ
シまたは置換フェノキシ;またはR3は同一もしくは異な
る置換基1ないし2個で置換されたC1〜C6アルコキシ
(置換基はヒドロキシ、アミノ、C1〜C4アルキルアミ
ノ、ジ(C1〜C4)アルキルアミノ、C1〜C4アルカノイ
ルアミノ、ハロ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキ
ルチオ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシカル
ボニル、カルバモイル、カルバモイルオキシ、N−(C1
〜C4)アルキルカルバモイルオキシ、N,N−ジ(C1〜
C4)アルキルカルバモイルオキシ、C1〜C4アルコキシ
カルボニルオキシ、フェノキシカルボニルオキシ、C1
〜C4アルコキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボ
ニルアミノ、N−(C1〜C4)アルキルカルバモイルアミ
ノ、N,N−ジ(C1〜C4)アルキルカルバモイルアミ
ノ、N−フェニルカルバモイルアミノ、アニリノ、置換
アニリノ、フェニル、置換フェニルまたは式:−NHR4
で示される異項環アミノ基(基中、R4はチエニル、フリ
ルまたは式:
【化26】 で示される窒素含有5員異項環基(R4aは水素、C1〜
C4アルキルまたは置換C1〜C4アルキル(置換基はカル
ボキシ、スルホまたはジ(C1〜C4)アルキルアミノ))、
またはR4は式:
C4アルキルまたは置換C1〜C4アルキル(置換基はカル
ボキシ、スルホまたはジ(C1〜C4)アルキルアミノ))、
またはR4は式:
【化27】 で示される窒素含有6員環基(R4bは水素またはC1〜C
4アルキル))、または式;−SR5で示される異項環チオ
基(R5はフェニル、置換フェニルまたは前記のようなR
4基);または式:
4アルキル))、または式;−SR5で示される異項環チオ
基(R5はフェニル、置換フェニルまたは前記のようなR
4基);または式:
【化28】 で示される第四級異項環基(
【化29】 )は式:
【化30】 で示される窒素含有異項環基(R6aはC1〜C4アルキ
ル、ベンジルまたは−CH2COCH3)、Xはハライ
ド、硫酸または硝酸アニオン));または式:
ル、ベンジルまたは−CH2COCH3)、Xはハライ
ド、硫酸または硝酸アニオン));または式:
【化31】 で示される異項環基(
【化32】 およびXは前記と同意義);または前記のような異項環基
R4;またはR3は式:−NR3aR3bで示されるアミノ基
(R3aおよびR3bは個別に水素、フェニル、置換フェニ
ル、C1〜C4アルキルまたは同一もしくは異なる置換基
1ないし2個で置換されたC1〜C4アルキル(置換基は
ハロ、ヒドロキシ、C1〜C4アルカノイルオキシ、C1
〜C4アルキルスルホニルオキシ、フェニル、置換フェ
ニル、アミノまたはC1〜C4アルカノイルアミノから選
ばれる基)またはR3aおよびR3bはこれらが結合する窒
素原子と合して形成されることができる式:
R4;またはR3は式:−NR3aR3bで示されるアミノ基
(R3aおよびR3bは個別に水素、フェニル、置換フェニ
ル、C1〜C4アルキルまたは同一もしくは異なる置換基
1ないし2個で置換されたC1〜C4アルキル(置換基は
ハロ、ヒドロキシ、C1〜C4アルカノイルオキシ、C1
〜C4アルキルスルホニルオキシ、フェニル、置換フェ
ニル、アミノまたはC1〜C4アルカノイルアミノから選
ばれる基)またはR3aおよびR3bはこれらが結合する窒
素原子と合して形成されることができる式:
【化33】 で示される5〜7員環基(Yは(−CH2−)pまたは−C
H2−Y1−CH2−(pは2、3または4、Y1は−O−、
−S−または−N(R3c)−(R3cは水素またはC1〜C4
アルキル))、またはR3aは水素、およびR3bは置換C1
〜C4アルキル(置換基は異項環基R4、異項環アミノ基
−NHR4、異項環チオ基−SR4または第四級異項環基
H2−Y1−CH2−(pは2、3または4、Y1は−O−、
−S−または−N(R3c)−(R3cは水素またはC1〜C4
アルキル))、またはR3aは水素、およびR3bは置換C1
〜C4アルキル(置換基は異項環基R4、異項環アミノ基
−NHR4、異項環チオ基−SR4または第四級異項環基
【化34】 (R4、
【化35】 およびXは前記と同意義)));またはR3はフェニル、置
換フェニルまたは異項環アミノ基−NHR4(R4は前記
と同意義);またはR3はC1〜C4アルキルまたは置換C1
〜C4アルキル(置換基はヒドロキシ、C1〜C4アルカノ
イルオキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチ
オ、ハロ、カルボキシ、シアノ、アミノ、C1〜C4アル
キルアミノ、ジ(C1〜C4)アルキルアミノ、C1〜C4ア
ルカノイルアミノ、C1〜C4アルキルスルホニルアミ
ノ、C1〜C4アルキルスルホニルオキシ、フェニル、置
換フェニル、フェニルチオ、置換フェニルチオ、フェノ
キシ、置換フェノキシ、アニリノ、置換アニリノ、異項
環基R4、異項環アミノ基−NHR4、異項環チオ基−S
R4または第四級異項環基
換フェニルまたは異項環アミノ基−NHR4(R4は前記
と同意義);またはR3はC1〜C4アルキルまたは置換C1
〜C4アルキル(置換基はヒドロキシ、C1〜C4アルカノ
イルオキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチ
オ、ハロ、カルボキシ、シアノ、アミノ、C1〜C4アル
キルアミノ、ジ(C1〜C4)アルキルアミノ、C1〜C4ア
ルカノイルアミノ、C1〜C4アルキルスルホニルアミ
ノ、C1〜C4アルキルスルホニルオキシ、フェニル、置
換フェニル、フェニルチオ、置換フェニルチオ、フェノ
キシ、置換フェノキシ、アニリノ、置換アニリノ、異項
環基R4、異項環アミノ基−NHR4、異項環チオ基−S
R4または第四級異項環基
【化36】 もしくは
【化37】 (R4、
【化38】 およびXは前記と同意義));またはR3はフェニル、チエ
ニル、フリル、ピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、
ピラゾリル、テトラゾリル、オキサゾリル、チアゾリ
ル、チアジアゾリルまたはオキサジアゾリルまたは同一
もしくは異なる置換基1ないし2個で置換された上記フ
ェニルまたは異項環基(置換基はC1〜C4アルキル、C1
〜C4アルコキシ、ハロ、アミノもしくはヒドロキシか
ら選ばれる基);またはR3はカルボキシ基またはこれか
ら誘導される式:−C(O)R7で示される基(R7は水素、
ヒドロキシ、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、置換フ
ェノキシ、トリ(C1〜C4)アルキルシリルオキシ、アミ
ノ、C1〜C4アルキルアミノ、ジ(C1〜C4)アルキルア
ミノ、フェニル、置換フェニルまたはC1〜C4アルキ
ル);またはR3は式:
ニル、フリル、ピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、
ピラゾリル、テトラゾリル、オキサゾリル、チアゾリ
ル、チアジアゾリルまたはオキサジアゾリルまたは同一
もしくは異なる置換基1ないし2個で置換された上記フ
ェニルまたは異項環基(置換基はC1〜C4アルキル、C1
〜C4アルコキシ、ハロ、アミノもしくはヒドロキシか
ら選ばれる基);またはR3はカルボキシ基またはこれか
ら誘導される式:−C(O)R7で示される基(R7は水素、
ヒドロキシ、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、置換フ
ェノキシ、トリ(C1〜C4)アルキルシリルオキシ、アミ
ノ、C1〜C4アルキルアミノ、ジ(C1〜C4)アルキルア
ミノ、フェニル、置換フェニルまたはC1〜C4アルキ
ル);またはR3は式:
【化39】 で示される基(Xは前記と同意義、
【化40】 はピリジニウムまたは同一もしくは異なる置換基1ない
し2個で置換されたピリジニウム(置換基はC1〜C4ア
ルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、
ヒドロキシ、ハロ、トリフルオロメチル、シアノ、カル
ボキシ、カルバモイル、アミノまたはC1〜C4アルコキ
シカルボニル)、または
し2個で置換されたピリジニウム(置換基はC1〜C4ア
ルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、
ヒドロキシ、ハロ、トリフルオロメチル、シアノ、カル
ボキシ、カルバモイル、アミノまたはC1〜C4アルコキ
シカルボニル)、または
【化41】 は、隣接する炭素原子上に、式:(−CH2−)q(qは3、
4ないし5)で示される二価のアルキレン基、またはか
かる二価のアルキレン基の中に酸素、硫黄もしくは1な
いし2個の窒素原子が介在する基を有し、加うるにこの
二価のアルキレン基が1ないし2個の二重結合を含有す
ることができる二価のアルキレン基を有するピリジニウ
ム、および+R8が置換ピリジニウムであるとき、いず
れかの環上、前記のような置換基から選ばれる同一もし
くは異なる置換基1ないし2個を有することができる上
記のようなピリジニウム;または
4ないし5)で示される二価のアルキレン基、またはか
かる二価のアルキレン基の中に酸素、硫黄もしくは1な
いし2個の窒素原子が介在する基を有し、加うるにこの
二価のアルキレン基が1ないし2個の二重結合を含有す
ることができる二価のアルキレン基を有するピリジニウ
ム、および+R8が置換ピリジニウムであるとき、いず
れかの環上、前記のような置換基から選ばれる同一もし
くは異なる置換基1ないし2個を有することができる上
記のようなピリジニウム;または
【化42】 はチアゾリウムまたは同一もしくは異なる置換基1ない
し2個で置換されたチアゾリウム(置換基はアミノ、C1
〜C4アルキル、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アル
コキシまたは置換C1〜C4アルキル(置換基はヒドロキ
シ、C1〜C4アルカノイルオキシ、C1〜C4アルキルス
ルホニルオキシ、ハロ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4
アルキルチオまたはアミノから選ばれる基));または
し2個で置換されたチアゾリウム(置換基はアミノ、C1
〜C4アルキル、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アル
コキシまたは置換C1〜C4アルキル(置換基はヒドロキ
シ、C1〜C4アルカノイルオキシ、C1〜C4アルキルス
ルホニルオキシ、ハロ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4
アルキルチオまたはアミノから選ばれる基));または
【化43】 は、隣接する炭素原子上に式:(−CH2−)q(qは3、4
ないし5)で示される二価のアルキレン基を有するチア
ゾリウム)を表わす]
ないし5)で示される二価のアルキレン基を有するチア
ゾリウム)を表わす]
【0007】また本発明は式:
【化44】 で示される化合物[III]またはその薬学的に許容され
る塩類の製造法を提供する。すなわち本発明は誘電定数
約0〜約15を有する非塩基溶媒中、ヨウ化リチウム
と、式:
る塩類の製造法を提供する。すなわち本発明は誘電定数
約0〜約15を有する非塩基溶媒中、ヨウ化リチウム
と、式:
【化45】 示される化合物[IV]または塩を形成することができ
る化合物[IV]の塩を反応させることから成る化合物
[III]またはその薬学的に許容される塩の製造法を提
供する。[式中、W2はリチウムイオン;W3はカルボキシ
保護基;R21およびR22は個別に水素、C1〜C6アルキ
ル、アミノ保護基または−C(O)−R(Rはカルボン酸
残基)(ただしR21とR22の一方が−C(O)−Rであると
き、他方は水素であることができない);Lは−CH2−
CH2−または−CH=CH−:R23はフェニル、フェニ
ル(C1〜C6)アルキル、フェニル(C1〜C6)アルコキ
シ、ハロフェニル、フリルまたはナフチルを表わす]。
る化合物[IV]の塩を反応させることから成る化合物
[III]またはその薬学的に許容される塩の製造法を提
供する。[式中、W2はリチウムイオン;W3はカルボキシ
保護基;R21およびR22は個別に水素、C1〜C6アルキ
ル、アミノ保護基または−C(O)−R(Rはカルボン酸
残基)(ただしR21とR22の一方が−C(O)−Rであると
き、他方は水素であることができない);Lは−CH2−
CH2−または−CH=CH−:R23はフェニル、フェニ
ル(C1〜C6)アルキル、フェニル(C1〜C6)アルコキ
シ、ハロフェニル、フリルまたはナフチルを表わす]。
【0008】本発明の製造法により製せられる化合物は
β−ラクタム技術において知られている。この化合物の
理解および本発明で用いる出発化合物であるエステル体
の理解を確実にするため、次に化学式について検討、説
明する。
β−ラクタム技術において知られている。この化合物の
理解および本発明で用いる出発化合物であるエステル体
の理解を確実にするため、次に化学式について検討、説
明する。
【0009】前記一般式において、多くの基を記載する
ために種々の定められた用語を用いる。定められた用語
は有機化学における通常の意義を有する。本明細書で述
べる温度はすべて摂氏温度である。本明細書で用いる測
定値単位はすべて重量単位(ただし液体については容量
単位)である。
ために種々の定められた用語を用いる。定められた用語
は有機化学における通常の意義を有する。本明細書で述
べる温度はすべて摂氏温度である。本明細書で用いる測
定値単位はすべて重量単位(ただし液体については容量
単位)である。
【0010】用語“C1〜C6アルキル"は炭素原子1〜
6個を有する直鎖もしくは分枝状アルキル鎖を表わす。
典型的C1〜C6アルキル基はメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチ
ル、t−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシルな
どを包含する。用語“C1〜C6アルキル"は、この定義
内に“C1〜C4アルキル"および“C1〜C3アルキル"を
包含する。
6個を有する直鎖もしくは分枝状アルキル鎖を表わす。
典型的C1〜C6アルキル基はメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチ
ル、t−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシルな
どを包含する。用語“C1〜C6アルキル"は、この定義
内に“C1〜C4アルキル"および“C1〜C3アルキル"を
包含する。
【0011】“ハロ"はクロロ、フルオロ、ブロモまた
はヨードを表わす。“C1〜C4アルコキシカルボニル"
はカルボニル基に結合した炭素原子1〜4個の直鎖もし
くは分枝状アルコキシを表わす。典型的C1〜C4アルコ
キシカルボニル基はメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、ブトキシカルボニルを包含する。
はヨードを表わす。“C1〜C4アルコキシカルボニル"
はカルボニル基に結合した炭素原子1〜4個の直鎖もし
くは分枝状アルコキシを表わす。典型的C1〜C4アルコ
キシカルボニル基はメトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、ブトキシカルボニルを包含する。
【0012】“C1〜C6アルコキシ"は炭素原子に結合
した炭素原子1〜6個を有する直鎖もしくは分枝状アル
キルを表わす。典型的C1〜C6アルコキシ基はメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、t−ブトキシ、ペン
トキシ、ネオペントキシ、ヘキソキシなどを包含する。
用語“C1〜C6アルコキシ"はこの定義内に用語“C1〜
C4アルコキシ"を包含する。
した炭素原子1〜6個を有する直鎖もしくは分枝状アル
キルを表わす。典型的C1〜C6アルコキシ基はメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、t−ブトキシ、ペン
トキシ、ネオペントキシ、ヘキソキシなどを包含する。
用語“C1〜C6アルコキシ"はこの定義内に用語“C1〜
C4アルコキシ"を包含する。
【0013】“C1〜C4アルコキシカルボニルオキシ"
はカルボニルオキシ基に結合した炭素原子1〜4個を有
する直鎖もしくは分枝状アルコキシ基を表わす。典型的
C1〜C4アルコキシカルボニルオキシ基はメトキシカル
ボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、プロポキシ
カルボニルオキシ、イソプロポキシカルボニルオキシ、
ブトキシカルボニルオキシなどを包含する。
はカルボニルオキシ基に結合した炭素原子1〜4個を有
する直鎖もしくは分枝状アルコキシ基を表わす。典型的
C1〜C4アルコキシカルボニルオキシ基はメトキシカル
ボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、プロポキシ
カルボニルオキシ、イソプロポキシカルボニルオキシ、
ブトキシカルボニルオキシなどを包含する。
【0014】“C1〜C6アルキルチオ"は硫黄原子に結
合した炭素原子1〜6個を有する直鎖もしくは分枝状ア
ルキル基を表わす。典型的C1〜C6アルキルチオ基はメ
チルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、t
−ブチルチオ、ペンチルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキ
シルチオなどを包含する。用語“C1〜C6アルキルチ
オ"はこの定義内に用語“C1〜C4アルキルチオ"を包含
する。
合した炭素原子1〜6個を有する直鎖もしくは分枝状ア
ルキル基を表わす。典型的C1〜C6アルキルチオ基はメ
チルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、t
−ブチルチオ、ペンチルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキ
シルチオなどを包含する。用語“C1〜C6アルキルチ
オ"はこの定義内に用語“C1〜C4アルキルチオ"を包含
する。
【0015】“ハロ(C1〜C6)アルキル"は炭素原子1
〜6個を有する直鎖もしくは分枝状アルキル基にハロゲ
ン原子1〜6個が結合した基を表わす。典型的ハロ(C1
〜C6)アルキル基はクロロメチル、トリフルオロメチ
ル、2−ブロモエチル、1−クロロイソプロピル、2−
クロロイソプロピル、2−フルオロプロピル、3−ブロ
モブチル、3−クロロイソブチル、フルオロ−t−ブチ
ル、5−ヨードペンチル、1,1−ジクロロイソペンチ
ル、6,6,6−トリブロモヘキシルなどを包含する。用
語“ハロ(C1〜C6)アルキル"はこの定義内に用語“ハ
ロ(C1〜C4)アルキル"を包含する。
〜6個を有する直鎖もしくは分枝状アルキル基にハロゲ
ン原子1〜6個が結合した基を表わす。典型的ハロ(C1
〜C6)アルキル基はクロロメチル、トリフルオロメチ
ル、2−ブロモエチル、1−クロロイソプロピル、2−
クロロイソプロピル、2−フルオロプロピル、3−ブロ
モブチル、3−クロロイソブチル、フルオロ−t−ブチ
ル、5−ヨードペンチル、1,1−ジクロロイソペンチ
ル、6,6,6−トリブロモヘキシルなどを包含する。用
語“ハロ(C1〜C6)アルキル"はこの定義内に用語“ハ
ロ(C1〜C4)アルキル"を包含する。
【0016】“シアノ(C1〜C6)アルキル"は炭素原子
1〜6個を有する直鎖もしくは分枝状アルキル基にシア
ノ基を結合した基を表わす。典型的シアノ(C1〜C6)ア
ルキル基はシアノメチル、2−シアノエチル、2−シア
ノプロピル、1−シアノイソプロピル、4−シアノブチ
ル、3−シアノイソブチル、シアノ−t−ブチル、4−
シアノペンチル、6−シアノヘキシルなどを包含する。
用語“シアノ(C1〜C6)アルキル"はこの定義内に用語
“シアノ(C1〜C4)アルキル"を包含する。
1〜6個を有する直鎖もしくは分枝状アルキル基にシア
ノ基を結合した基を表わす。典型的シアノ(C1〜C6)ア
ルキル基はシアノメチル、2−シアノエチル、2−シア
ノプロピル、1−シアノイソプロピル、4−シアノブチ
ル、3−シアノイソブチル、シアノ−t−ブチル、4−
シアノペンチル、6−シアノヘキシルなどを包含する。
用語“シアノ(C1〜C6)アルキル"はこの定義内に用語
“シアノ(C1〜C4)アルキル"を包含する。
【0017】“C1〜C4アルキルアミノ"はアミノ基の
窒素原子に結合した炭素原子1〜4個を有する直鎖もし
くは分枝状アルキルアミノ基を表わす。典型的C1〜C4
アルキルアミノ基はメチルアミノ、エチルアミノ、プロ
ピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、イソ
ブチルアミノ、sec−ブチルアミノなどを包含する。
窒素原子に結合した炭素原子1〜4個を有する直鎖もし
くは分枝状アルキルアミノ基を表わす。典型的C1〜C4
アルキルアミノ基はメチルアミノ、エチルアミノ、プロ
ピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、イソ
ブチルアミノ、sec−ブチルアミノなどを包含する。
【0018】“ジ(C1〜C4)アルキルアミノ"はアミノ
基の共通(common)窒素原子に結合した炭素原子1〜4個
のアルキル基2個を有する直鎖もしくは分枝状ジアルキ
ルアミノ基を表わす。典型的ジ(C1〜C4)アルキルアミ
ノ基はジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、メチルイ
ソプロピルアミノ、t−ブチルイソプロピルアミノ、ジ
−t−ブチルアミノなどを包含する。
基の共通(common)窒素原子に結合した炭素原子1〜4個
のアルキル基2個を有する直鎖もしくは分枝状ジアルキ
ルアミノ基を表わす。典型的ジ(C1〜C4)アルキルアミ
ノ基はジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、メチルイ
ソプロピルアミノ、t−ブチルイソプロピルアミノ、ジ
−t−ブチルアミノなどを包含する。
【0019】“C2〜C4アルケニル"は炭素原子2〜4
個を有する直鎖もしくは分枝状アルケニルを表わす。典
型的C2〜C4アルケニル基はエテニル、プロペニル、2
−メチル−1−プロペニル、1−ブテニル、2−ブテニ
ルなどを包含する。
個を有する直鎖もしくは分枝状アルケニルを表わす。典
型的C2〜C4アルケニル基はエテニル、プロペニル、2
−メチル−1−プロペニル、1−ブテニル、2−ブテニ
ルなどを包含する。
【0020】“C2〜C6アルケニルオキシ"は酸素原子
に結合した炭素原子2〜6個を有する直鎖もしくは分枝
状アルケニルを表わす。典型的C2〜C6アルケニルオキ
シ基はエテニルオキシ、プロペニルオキシ、2−プロペ
ニルオキシ、3−メチル−1−プロペニルオキシ、1−
ブテニルオキシ、3−ペンテニルオキシ、4−ヘキセニ
ルオキシなどを包含する。
に結合した炭素原子2〜6個を有する直鎖もしくは分枝
状アルケニルを表わす。典型的C2〜C6アルケニルオキ
シ基はエテニルオキシ、プロペニルオキシ、2−プロペ
ニルオキシ、3−メチル−1−プロペニルオキシ、1−
ブテニルオキシ、3−ペンテニルオキシ、4−ヘキセニ
ルオキシなどを包含する。
【0021】“C2〜C4アルキニル"は炭素原子2〜4
個を有する直鎖もしくは分枝状アルキニルを表わす。典
型的C2〜C4アルキニル基はエチニル、1−プロピニ
ル、2−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニルなど
を包含する。
個を有する直鎖もしくは分枝状アルキニルを表わす。典
型的C2〜C4アルキニル基はエチニル、1−プロピニ
ル、2−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニルなど
を包含する。
【0022】“C2〜C6アルキニルオキシ"は炭素原子
に結合した炭素原子2〜6個を有する直鎖もしくは分枝
状アルキニルを表わす。典型的C2〜C6アルキニルオキ
シ基はエチニルオキシ、1−プロピニルオキシ、2−プ
ロピニルオキシ、1−ブチニルオキシ、2−ペンチニル
オキシ、5−ヘキシニルオキシなどを包含する。
に結合した炭素原子2〜6個を有する直鎖もしくは分枝
状アルキニルを表わす。典型的C2〜C6アルキニルオキ
シ基はエチニルオキシ、1−プロピニルオキシ、2−プ
ロピニルオキシ、1−ブチニルオキシ、2−ペンチニル
オキシ、5−ヘキシニルオキシなどを包含する。
【0023】“C1〜C3アルキルスルホニル"はスルホ
ニル基に結合した炭素原子1〜3個を有する直鎖もしく
は分枝状アルキル基を表わす。典型的C1〜C3アルキル
スルホニル基はメチルスルホニル、エチルスルホニル、
プロピルスルホニルおよびイソプロピルスルホニルを包
含する。
ニル基に結合した炭素原子1〜3個を有する直鎖もしく
は分枝状アルキル基を表わす。典型的C1〜C3アルキル
スルホニル基はメチルスルホニル、エチルスルホニル、
プロピルスルホニルおよびイソプロピルスルホニルを包
含する。
【0024】“C1〜C4アルキルスルホニルアミノ"は
スルホニルアミノ基に結合した炭素原子1〜4個を有す
る直鎖もしくは分枝状アルキル基を表わす。典型的C1
〜C4アルキルスルホニルアミノ基はメチルスルホニル
アミノ、エチルスルホニルアミノ、プロピルスルホニル
アミノ、イソプロピルスルホニルアミノ、ブチルスルホ
ニルアミノ、イソブチルスルホニルアミノ、sec−ブチ
ルスルホニルアミノおよびt−ブチルスルホニルアミノ
を包含する。
スルホニルアミノ基に結合した炭素原子1〜4個を有す
る直鎖もしくは分枝状アルキル基を表わす。典型的C1
〜C4アルキルスルホニルアミノ基はメチルスルホニル
アミノ、エチルスルホニルアミノ、プロピルスルホニル
アミノ、イソプロピルスルホニルアミノ、ブチルスルホ
ニルアミノ、イソブチルスルホニルアミノ、sec−ブチ
ルスルホニルアミノおよびt−ブチルスルホニルアミノ
を包含する。
【0025】“C1〜C4アルカノイル"はカルボニル基
に結合した炭素原子1〜4個の直鎖もしくは分枝状アル
キル基を表わす。典型的C1〜C4アルカノイル基はエタ
ノイル、プロパノイル、イソプロパノイル、ブタノイ
ル、イソブタノイル、sec−ブタノイル、t−ブタノイ
ル、ペンタノイルなどを包含する。
に結合した炭素原子1〜4個の直鎖もしくは分枝状アル
キル基を表わす。典型的C1〜C4アルカノイル基はエタ
ノイル、プロパノイル、イソプロパノイル、ブタノイ
ル、イソブタノイル、sec−ブタノイル、t−ブタノイ
ル、ペンタノイルなどを包含する。
【0026】“C1〜C4アルカノイルオキシ"はカルボ
ニルオキシ基に結合した炭素原子1〜4個をする直鎖も
しくは分枝状アルキル基を表わす。典型的C1〜C4アル
カノイルオキシ基はエタノイルオキシ、プロパノイルオ
キシ、イソプロパノイルオキシ、ブタノイルオキシ、イ
ソブタノイルオキシ、sec−ブタノイルオキシ、t−ブタ
ノイルオキシ、ペンタノイルオキシなどを包含する。
ニルオキシ基に結合した炭素原子1〜4個をする直鎖も
しくは分枝状アルキル基を表わす。典型的C1〜C4アル
カノイルオキシ基はエタノイルオキシ、プロパノイルオ
キシ、イソプロパノイルオキシ、ブタノイルオキシ、イ
ソブタノイルオキシ、sec−ブタノイルオキシ、t−ブタ
ノイルオキシ、ペンタノイルオキシなどを包含する。
【0027】“C1〜C4アルカノイルアミノ"はカルボ
ニルアミノ基に結合した炭素原子1〜4個を有する直鎖
もしくは分枝状アルキル基を表わす。典型的C1〜C4ア
ルカノイルアミノ基はエタノイルアミノ、プロパノイル
アミノ、イソプロパノイルアミノ、ブタノイルアミノ、
イソブタノイルアミノ、sec−ブタノイルアミノ、t−ブ
タノイルアミノ、ペンタノイルアミノなどを包含する。
ニルアミノ基に結合した炭素原子1〜4個を有する直鎖
もしくは分枝状アルキル基を表わす。典型的C1〜C4ア
ルカノイルアミノ基はエタノイルアミノ、プロパノイル
アミノ、イソプロパノイルアミノ、ブタノイルアミノ、
イソブタノイルアミノ、sec−ブタノイルアミノ、t−ブ
タノイルアミノ、ペンタノイルアミノなどを包含する。
【0028】“N−(C1〜C4)アルキルカルバモイルオ
キシ"はカルバモイルオキシ基の窒素原子に結合した炭
素原子1〜4個を有する直鎖もしくは分枝状アルキルを
表わす。典型的N−(C1〜C4)アルキルカルバモイルオ
キシ基はN−メチルカルバモイルオキシ、N−エチルカ
ルバモイルオキシ、N−プロピルカルバモイルオキシ、
N−イソプロピルカルバモイルオキシ、N−ブチルカル
バモイルオキシなどを包含する。
キシ"はカルバモイルオキシ基の窒素原子に結合した炭
素原子1〜4個を有する直鎖もしくは分枝状アルキルを
表わす。典型的N−(C1〜C4)アルキルカルバモイルオ
キシ基はN−メチルカルバモイルオキシ、N−エチルカ
ルバモイルオキシ、N−プロピルカルバモイルオキシ、
N−イソプロピルカルバモイルオキシ、N−ブチルカル
バモイルオキシなどを包含する。
【0029】“N,N−ジ(C1〜C4)アルキルカルバモ
イルオキシ"はカルバモイルオキシ基の窒素原子に結合
する炭素原子1〜4個を有する直鎖もしくは分枝状アル
キル基2個の基を表わす。典型的N,N−ジ(C1〜C4)
アルキルカルバモイルオキシ基はN,N−ジメチルカル
バモイルオキシ、N−メチル−N−エチルカルバモイル
オキシ、N−メチル−N−プロピルカルバモイルオキ
シ、N−エチル−N−イソプロピルカルバモイルオキ
シ、N−プロピル−N−t−ブチルカルバモイルオキシ
などを包含する。
イルオキシ"はカルバモイルオキシ基の窒素原子に結合
する炭素原子1〜4個を有する直鎖もしくは分枝状アル
キル基2個の基を表わす。典型的N,N−ジ(C1〜C4)
アルキルカルバモイルオキシ基はN,N−ジメチルカル
バモイルオキシ、N−メチル−N−エチルカルバモイル
オキシ、N−メチル−N−プロピルカルバモイルオキ
シ、N−エチル−N−イソプロピルカルバモイルオキ
シ、N−プロピル−N−t−ブチルカルバモイルオキシ
などを包含する。
【0030】“N−(C1〜C4)アルキルカルバモイルア
ミノ"はカルバモイルアミノ基の窒素原子に結合した炭
素原子1〜4個を有する直鎖もしくは分枝状アルキルを
表わす。典型的なN−(C1〜C4)アルキルカルバモイル
アミノ基はN−メチルカルバモイルアミノ、N−エチル
カルバモイルアミノ、N−プロピルカルバモイルアミ
ノ、N−イソプロピルカルバモイルアミノ、N−ブチル
カルバモイルアミノなどを包含する。
ミノ"はカルバモイルアミノ基の窒素原子に結合した炭
素原子1〜4個を有する直鎖もしくは分枝状アルキルを
表わす。典型的なN−(C1〜C4)アルキルカルバモイル
アミノ基はN−メチルカルバモイルアミノ、N−エチル
カルバモイルアミノ、N−プロピルカルバモイルアミ
ノ、N−イソプロピルカルバモイルアミノ、N−ブチル
カルバモイルアミノなどを包含する。
【0031】“N,N−ジ(C1〜C4)アルキルカルバモ
イルアミノ"はカルバモイルアミノ基の窒素原子に結合
した炭素原子1〜4個の直鎖もしくは分枝状アルキル基
2個を有する基を表わす。典型的N,N−ジ(C1〜C4)
アルキルカルバモイルアミノ基はN,N−ジメチルカル
バモイルアミノ、N−メチル−N−エチルカルバモイル
アミノ、N−メチル−N−プロピルカルバモイルアミ
ノ、N−エチル−イソプロピルカルバモイルアミノ、N
−プロピル−N−t−ブチルカルバモイルアミノなどを
包含する。
イルアミノ"はカルバモイルアミノ基の窒素原子に結合
した炭素原子1〜4個の直鎖もしくは分枝状アルキル基
2個を有する基を表わす。典型的N,N−ジ(C1〜C4)
アルキルカルバモイルアミノ基はN,N−ジメチルカル
バモイルアミノ、N−メチル−N−エチルカルバモイル
アミノ、N−メチル−N−プロピルカルバモイルアミ
ノ、N−エチル−イソプロピルカルバモイルアミノ、N
−プロピル−N−t−ブチルカルバモイルアミノなどを
包含する。
【0032】“フェニル(C1〜C6)アルキル"はフェニ
ル基を有する炭素原子1〜6個の直鎖もしくは分枝状ア
ルキルを表わす。典型的フェニル(C1〜C6)アルキル基
はフェニルメチル、2−フェニルエチル、3−フェニル
プロピル、1−フェニルイソプロピル、4−フェニルブ
チル、3−フェニルイソブチル、2−フェニル−sec−
ブチル、5−フェニルペンチル、3−フェニルヘキシ
ル、4,4−ジメチル−4−フェニルブチルなどを包含
する。
ル基を有する炭素原子1〜6個の直鎖もしくは分枝状ア
ルキルを表わす。典型的フェニル(C1〜C6)アルキル基
はフェニルメチル、2−フェニルエチル、3−フェニル
プロピル、1−フェニルイソプロピル、4−フェニルブ
チル、3−フェニルイソブチル、2−フェニル−sec−
ブチル、5−フェニルペンチル、3−フェニルヘキシ
ル、4,4−ジメチル−4−フェニルブチルなどを包含
する。
【0033】“フェニル(C1〜C6)アルコキシ"はフェ
ニル基を結合して有する炭素原子1〜6個の直鎖もしく
は分枝状アルコキシを表わす。典型的フェニル(C1〜C
6)アルコキシ基はフェニルメトキシ、2−フェニルエト
キシ、3−フェニルプロポキシ、1−フェニルイソプロ
ポキシ、4−フェニルブトキシ、3−フェニルイソブト
キシ、2−フェニル−sec−ブトキシ、5−フェニルペ
ントキシ、4−フェニルヘキソキシ、4,4−ジメチル
−4−フェニルブトキシなどを包含する。
ニル基を結合して有する炭素原子1〜6個の直鎖もしく
は分枝状アルコキシを表わす。典型的フェニル(C1〜C
6)アルコキシ基はフェニルメトキシ、2−フェニルエト
キシ、3−フェニルプロポキシ、1−フェニルイソプロ
ポキシ、4−フェニルブトキシ、3−フェニルイソブト
キシ、2−フェニル−sec−ブトキシ、5−フェニルペ
ントキシ、4−フェニルヘキソキシ、4,4−ジメチル
−4−フェニルブトキシなどを包含する。
【0034】“置換C1〜C6アルキル"はシアノ、カル
ボキシ、ハロ、アミノ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4
アルキルチオ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロ
メチルチオで置換されたC1〜C6アルキル基を表わす。
典型的置換C1〜C6アルキル基はシアノメチル、2−カ
ルボキシエチル、1−クロロイソプロピル、2−エトキ
シブチル、1−アミノイソプロピル、2−エトキシブチ
ル、1−メチルチオプロピル、3−トリフルオロメチル
イソブチル、5−トリフルオロメチルチオペンチル、
1,1−ジメチル−4−クロロブチル、6−シアノヘキ
シルなどを包含する。
ボキシ、ハロ、アミノ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4
アルキルチオ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロ
メチルチオで置換されたC1〜C6アルキル基を表わす。
典型的置換C1〜C6アルキル基はシアノメチル、2−カ
ルボキシエチル、1−クロロイソプロピル、2−エトキ
シブチル、1−アミノイソプロピル、2−エトキシブチ
ル、1−メチルチオプロピル、3−トリフルオロメチル
イソブチル、5−トリフルオロメチルチオペンチル、
1,1−ジメチル−4−クロロブチル、6−シアノヘキ
シルなどを包含する。
【0035】用語“置換フェニル"、“置換フェノキ
シ"、置換フェニルチオ"、“置換アニリノ"および“置
換ピリジル"は、本明細書で使用するとき、かかるフェ
ノキシ環上、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、
メチレンジオキシ、ハロ、ヒドロキシ、アミノ、C1〜
C4アルキルアミノ、ジ(C1〜C4)アルキルアミノ、C1
〜C4アルカノイルアミノ、カルボキシ、カルバモイ
ル、シアノ、トリフルオロメチルおよびC1〜C4アルカ
ノイルから選ばれる同一もしくは異なる置換基1〜2個
を有する基を表わす。かかる置換基を有する基の例とし
て、4−ヒドロキシフェニル、4−メチルフェニル、4
−クロロフェニル、3−クロロ−4−ヒドロキシフェニ
ル、4−メトキシフェニル、4−メチレンジオキシフェ
ニル、3−アミノフェニル、4−クロロフェノキシ、3
−エチルフェノキシ、3−ヒドロキシフェノキシ、2−
フルオロフェノキシ、4−トリフルオロメチルフェノキ
シ、2,5−ジメチルフェノキシ、4−クロロフェニル
チオ、3,4−ジクロロフェニルチオ、2−メトキシフ
ェニルチオ、4−フルオロフェニルチオ、3−アセチル
アミノフェニルチオ、3−シアノフェニルチオ、4−メ
チルアニリノ、2,4−ジメチルアニリノ、3−カルボ
キシアニリノ、4−メトキシアニリノ、4−クロロアニ
リノ、3−ブロモアニリノ、3−クロロ−4−エトキシ
アニリノ、4−シアノアニリノ、4−カルバモイルアニ
リノなどが挙げられる。
シ"、置換フェニルチオ"、“置換アニリノ"および“置
換ピリジル"は、本明細書で使用するとき、かかるフェ
ノキシ環上、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、
メチレンジオキシ、ハロ、ヒドロキシ、アミノ、C1〜
C4アルキルアミノ、ジ(C1〜C4)アルキルアミノ、C1
〜C4アルカノイルアミノ、カルボキシ、カルバモイ
ル、シアノ、トリフルオロメチルおよびC1〜C4アルカ
ノイルから選ばれる同一もしくは異なる置換基1〜2個
を有する基を表わす。かかる置換基を有する基の例とし
て、4−ヒドロキシフェニル、4−メチルフェニル、4
−クロロフェニル、3−クロロ−4−ヒドロキシフェニ
ル、4−メトキシフェニル、4−メチレンジオキシフェ
ニル、3−アミノフェニル、4−クロロフェノキシ、3
−エチルフェノキシ、3−ヒドロキシフェノキシ、2−
フルオロフェノキシ、4−トリフルオロメチルフェノキ
シ、2,5−ジメチルフェノキシ、4−クロロフェニル
チオ、3,4−ジクロロフェニルチオ、2−メトキシフ
ェニルチオ、4−フルオロフェニルチオ、3−アセチル
アミノフェニルチオ、3−シアノフェニルチオ、4−メ
チルアニリノ、2,4−ジメチルアニリノ、3−カルボ
キシアニリノ、4−メトキシアニリノ、4−クロロアニ
リノ、3−ブロモアニリノ、3−クロロ−4−エトキシ
アニリノ、4−シアノアニリノ、4−カルバモイルアニ
リノなどが挙げられる。
【0036】“アリール"はナフチル、チエニル、フリ
ル、ベンゾチエニル、ベンゾフリル、ピリジル、4−ピ
リジルチオ、ピリミジル、ピリダジニル、インドリル、
ピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラゾリ
ル、オキサゾリル、チアゾリル、オキサジアゾリルまた
はチアジアゾリルから選ばれる構造を表わす。
ル、ベンゾチエニル、ベンゾフリル、ピリジル、4−ピ
リジルチオ、ピリミジル、ピリダジニル、インドリル、
ピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラゾリ
ル、オキサゾリル、チアゾリル、オキサジアゾリルまた
はチアジアゾリルから選ばれる構造を表わす。
【0037】“アリールメチル"はメチレン部分に結合
したアリール基を表わす。典型的アリールメチル基はナ
フチルメチル、チエニルメチル、フリルメチル、ベンゾ
チエニルメチル、ベンゾチアゾリルメチル、ベンゾフリ
ルメチルなどを包含する。
したアリール基を表わす。典型的アリールメチル基はナ
フチルメチル、チエニルメチル、フリルメチル、ベンゾ
チエニルメチル、ベンゾチアゾリルメチル、ベンゾフリ
ルメチルなどを包含する。
【0038】“置換アリールメチル"は、この基中のア
リール環がアミノ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、ハ
ロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェニ
ル、置換フェニルまたはC1〜C4アルキルスルホニルア
ミノで置換されたアリールメチル基を表わす。典型的置
換アリールメチル基は2−アミノナフチルメチル、4−
ヒドロキシチエニルメチル、3−シアノフリルメチルな
どを包含する。
リール環がアミノ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、ハ
ロ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、フェニ
ル、置換フェニルまたはC1〜C4アルキルスルホニルア
ミノで置換されたアリールメチル基を表わす。典型的置
換アリールメチル基は2−アミノナフチルメチル、4−
ヒドロキシチエニルメチル、3−シアノフリルメチルな
どを包含する。
【0039】用語“カルボキシ保護基"は、化合物上の
カルボン酸基以外の他の官能基の反応を行なう間に該カ
ルボン酸基を封鎖または保護するために用いる基を表わ
す。かかるカルボン酸保護基の例は、メチル、p−ニト
ロベンジル、p−メチルベンジル、p−メトキシベンジ
ル、3,4−ジメトキシベンジル、2,4−ジメトキシベ
ンジル、2,4,6−トリメトキシベンジル、2,4,6−
トリメチルベンジル、ペンタメチルベンジル、3,4−
メチレンジオキシベンジル、ベンズヒドリル、4,4'−
ジメトキシベンズヒドリル、2,2',4,4'−テトラメ
トキシベンズヒドリル、t−ブチル、t−アミル、トリチ
ル、4−メトキシトリチル、4,4'−ジメトキシトリチ
ル、4,4',4"−トリメトキシトリチル、2−フェニル
プロプ−2−イル、トリメチルシリル、t−ブチルジメ
チルシリル、フェナシル、2,2,2−トリクロロエチ
ル、β−(ジ(n−ブチル)メチルシリル)エチル、p−トル
エンスルホニルエチル、4−ニトロベンジルスルホニル
エチル、アリル、シンナミル、1−(トリメチルシリル
メチル)プロプ−1−エン−3−イルなどを包含する。
好ましいカルボキシ保護基はp−ニトロベンジル、p−メ
トキシベンジルおよびメチルである。これらの基の例は
更に次の文献中に見い出される。ハスラム(E.Hasla
m)著“有機化学における保護基"(Protective Groups
in Organic Chemistry)(J.G.W.McOmie編
Plenum Press, New Yerk, N.Y.1973年)第
5章: およびグリーン(T.W.Greene)著“有機合成
における保護基"(Protective Groups in Organic
Synthesis)(John Wiley and Sons, New Ye
rk, N.Y.1981年)第5章。関連する用語“保護さ
れたカルボキシ"は前記カルボキシ保護基で置換された
カルボキシ基を意味する。
カルボン酸基以外の他の官能基の反応を行なう間に該カ
ルボン酸基を封鎖または保護するために用いる基を表わ
す。かかるカルボン酸保護基の例は、メチル、p−ニト
ロベンジル、p−メチルベンジル、p−メトキシベンジ
ル、3,4−ジメトキシベンジル、2,4−ジメトキシベ
ンジル、2,4,6−トリメトキシベンジル、2,4,6−
トリメチルベンジル、ペンタメチルベンジル、3,4−
メチレンジオキシベンジル、ベンズヒドリル、4,4'−
ジメトキシベンズヒドリル、2,2',4,4'−テトラメ
トキシベンズヒドリル、t−ブチル、t−アミル、トリチ
ル、4−メトキシトリチル、4,4'−ジメトキシトリチ
ル、4,4',4"−トリメトキシトリチル、2−フェニル
プロプ−2−イル、トリメチルシリル、t−ブチルジメ
チルシリル、フェナシル、2,2,2−トリクロロエチ
ル、β−(ジ(n−ブチル)メチルシリル)エチル、p−トル
エンスルホニルエチル、4−ニトロベンジルスルホニル
エチル、アリル、シンナミル、1−(トリメチルシリル
メチル)プロプ−1−エン−3−イルなどを包含する。
好ましいカルボキシ保護基はp−ニトロベンジル、p−メ
トキシベンジルおよびメチルである。これらの基の例は
更に次の文献中に見い出される。ハスラム(E.Hasla
m)著“有機化学における保護基"(Protective Groups
in Organic Chemistry)(J.G.W.McOmie編
Plenum Press, New Yerk, N.Y.1973年)第
5章: およびグリーン(T.W.Greene)著“有機合成
における保護基"(Protective Groups in Organic
Synthesis)(John Wiley and Sons, New Ye
rk, N.Y.1981年)第5章。関連する用語“保護さ
れたカルボキシ"は前記カルボキシ保護基で置換された
カルボキシ基を意味する。
【0040】用語“アミノ保護基"は化合物の官能基を
反応させる間に、反応させるべきでないアミノ官能基を
封鎖または保護するために通常使用するアミノ基上の置
換基を表わす。かかるアミノ保護基の例は、ホルミル、
トリチル、フタルイミド、トリクロロアセチル、クロロ
アセチル、ブロモアセチル、ヨードアセチル、ベンゾイ
ルメチルスルホニル、2−(ニトロ)フェニルスルフェニ
ル、4−フェニルオキサゾリジン−2−オンおよびウレ
タン型封鎖基(ベンジルオキシカルボニル、4−フェニ
ルベンジルオキシカルボニル、2−メチルベンジルオキ
シカルボニル、2,4−ジクロロベンジルオキシカルボ
ニル、4−ブロモベンジルオキシカルボニル、4−ニト
ロベンジルオキシカルボニル、1,1−ジフェニルエチ
−1−イルオキシカルボニル、2−フェニルプロプ−2
−イルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボ
ニル、1−メチルシクロペンチルオキシカルボニル、シ
クロヘキシルオキシカルボニル、1−メチルシクロヘキ
シルオキシカルボニル、2−(4−トルイルスルホニル)
エトキシカルボニル、2−(メチルスルホニル)エトキシ
カルボニル、2−(トリフェニルホスフィノ)エトキシカ
ルボニル、9−フルオレニルメトキシカルボニル(“F
MOC")、アリルオキシカルボニル、1−(トリメチル
シリルメチル)プロプ−1エニルオキシカルボニル、4
−アセトキシベンジルオキシカルボニル、2,2,2−ト
リクロロエトキシカルボニル、2−エチニル−2−プロ
ポキシカルボニル、シクロプロピルメトキシカルボニ
ル、4−(デシルオキシ)ベンジルオキシカルボニル、イ
ソボルニルオキシカルボニル、1−ピペリジルオキシカ
ルボニルのようなウレタン型封鎖基)などを包含する。
好ましいアミノ保護基はベンジルオキシカルボニルおよ
び4−フェニルオキサゾリジン−2−オンである。この
用語で表わされる基の例は、更に次の文献中に記載され
ている。バートン(J.W.Barton)著 “有機化学にお
ける保護基" (Protective Groups In Organic
Chemistry)(J.G.W.McOmie編 Plenum Pres
s, New Yerk, N.Y.1973年)第5章: およびグ
リーン(T.W.Greene)著 “有機合成における保護
基" (Protective Groups in Organic Synthesi
s)(John Wiley and Sons, New Yerk, N.Y.
1981年)第7章。関連用語 “保護されたアミノ" は
前記アミノ保護基で置換されたアミノ基を意味する。
反応させる間に、反応させるべきでないアミノ官能基を
封鎖または保護するために通常使用するアミノ基上の置
換基を表わす。かかるアミノ保護基の例は、ホルミル、
トリチル、フタルイミド、トリクロロアセチル、クロロ
アセチル、ブロモアセチル、ヨードアセチル、ベンゾイ
ルメチルスルホニル、2−(ニトロ)フェニルスルフェニ
ル、4−フェニルオキサゾリジン−2−オンおよびウレ
タン型封鎖基(ベンジルオキシカルボニル、4−フェニ
ルベンジルオキシカルボニル、2−メチルベンジルオキ
シカルボニル、2,4−ジクロロベンジルオキシカルボ
ニル、4−ブロモベンジルオキシカルボニル、4−ニト
ロベンジルオキシカルボニル、1,1−ジフェニルエチ
−1−イルオキシカルボニル、2−フェニルプロプ−2
−イルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボ
ニル、1−メチルシクロペンチルオキシカルボニル、シ
クロヘキシルオキシカルボニル、1−メチルシクロヘキ
シルオキシカルボニル、2−(4−トルイルスルホニル)
エトキシカルボニル、2−(メチルスルホニル)エトキシ
カルボニル、2−(トリフェニルホスフィノ)エトキシカ
ルボニル、9−フルオレニルメトキシカルボニル(“F
MOC")、アリルオキシカルボニル、1−(トリメチル
シリルメチル)プロプ−1エニルオキシカルボニル、4
−アセトキシベンジルオキシカルボニル、2,2,2−ト
リクロロエトキシカルボニル、2−エチニル−2−プロ
ポキシカルボニル、シクロプロピルメトキシカルボニ
ル、4−(デシルオキシ)ベンジルオキシカルボニル、イ
ソボルニルオキシカルボニル、1−ピペリジルオキシカ
ルボニルのようなウレタン型封鎖基)などを包含する。
好ましいアミノ保護基はベンジルオキシカルボニルおよ
び4−フェニルオキサゾリジン−2−オンである。この
用語で表わされる基の例は、更に次の文献中に記載され
ている。バートン(J.W.Barton)著 “有機化学にお
ける保護基" (Protective Groups In Organic
Chemistry)(J.G.W.McOmie編 Plenum Pres
s, New Yerk, N.Y.1973年)第5章: およびグ
リーン(T.W.Greene)著 “有機合成における保護
基" (Protective Groups in Organic Synthesi
s)(John Wiley and Sons, New Yerk, N.Y.
1981年)第7章。関連用語 “保護されたアミノ" は
前記アミノ保護基で置換されたアミノ基を意味する。
【0041】用語 “薬学的に許容される塩" は生体に
対して実質的に非毒性の化合物[I]および[III]の塩
を意味する。セファロスポリン、カルバセファロスポリ
ン、ペニシリンおよびアゼチジン−2−オン化合物は、
適当な塩基との塩、特にその薬学的に許容される非毒性
塩類を形成する。カルボキシ基は水酸化アルカリ金属、
水酸化アルカリ土金属、炭酸アルカリ金属、炭酸アルカ
リ土金属、炭酸水素アルカリ金属または炭酸水素アルカ
リ土金属との塩を形成することができる。かかる薬学的
に許容される塩類の例はナトリウム塩、カリウム塩、カ
ルシウム塩およびマグネシウム塩である。またジベンジ
ルアミン、シクロヘキシルアミン、トリエチルアミン、
エタノールアミン、ジエタノールアミンおよび同様のア
ミンのようなアミン類と塩を形成することができる。同
様に化合物を、常套の塩形成方法により2個ないしそれ
以上のカルボキシ基で置換するとき、二塩および三塩が
得られる。加うるにセファロスポリン、カルバセファロ
スポリン、ペニシリンおよびアゼチジン−2−オン化合
物を適当な酸により塩を形成させて薬学的に許容される
塩を得ることができる。このための適当な酸の典型的な
例は塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、シュウ酸、炭
酸、クエン酸などを包含する。
対して実質的に非毒性の化合物[I]および[III]の塩
を意味する。セファロスポリン、カルバセファロスポリ
ン、ペニシリンおよびアゼチジン−2−オン化合物は、
適当な塩基との塩、特にその薬学的に許容される非毒性
塩類を形成する。カルボキシ基は水酸化アルカリ金属、
水酸化アルカリ土金属、炭酸アルカリ金属、炭酸アルカ
リ土金属、炭酸水素アルカリ金属または炭酸水素アルカ
リ土金属との塩を形成することができる。かかる薬学的
に許容される塩類の例はナトリウム塩、カリウム塩、カ
ルシウム塩およびマグネシウム塩である。またジベンジ
ルアミン、シクロヘキシルアミン、トリエチルアミン、
エタノールアミン、ジエタノールアミンおよび同様のア
ミンのようなアミン類と塩を形成することができる。同
様に化合物を、常套の塩形成方法により2個ないしそれ
以上のカルボキシ基で置換するとき、二塩および三塩が
得られる。加うるにセファロスポリン、カルバセファロ
スポリン、ペニシリンおよびアゼチジン−2−オン化合
物を適当な酸により塩を形成させて薬学的に許容される
塩を得ることができる。このための適当な酸の典型的な
例は塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、シュウ酸、炭
酸、クエン酸などを包含する。
【0042】用語 “非塩基溶媒" は遊離アミノ基を含
まない有機溶媒を表わす。典型的非塩基溶媒は塩化メチ
レン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、エチレングリ
コールジメチルエーテル、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル、二硫化炭素、クロロホルム、ヘキサン、四塩化炭
素、シクロヘキサンなどを包含する。
まない有機溶媒を表わす。典型的非塩基溶媒は塩化メチ
レン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、エチレングリ
コールジメチルエーテル、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル、二硫化炭素、クロロホルム、ヘキサン、四塩化炭
素、シクロヘキサンなどを包含する。
【0043】式[I]における−C(O)−R基中、Rによ
って表わされる用語 “カルボン酸の残基は、セファロ
スポリンおよびカルボセファロスポリン技術で知られた
7位側鎖の残基、ならびにペニシリン技術で知られた6
位側鎖の残基を包含する。これらの側鎖はC1〜C20カ
ルボン酸の残基であって、側鎖の例としてRが以下に示
す基である側鎖が挙げられる。Rは水素、C1〜C6アル
キル、置換C1〜C6アルキル、ナフチル、フェニル、置
換フェニル、アリールメチル、置換アリールメチルまた
は式:
って表わされる用語 “カルボン酸の残基は、セファロ
スポリンおよびカルボセファロスポリン技術で知られた
7位側鎖の残基、ならびにペニシリン技術で知られた6
位側鎖の残基を包含する。これらの側鎖はC1〜C20カ
ルボン酸の残基であって、側鎖の例としてRが以下に示
す基である側鎖が挙げられる。Rは水素、C1〜C6アル
キル、置換C1〜C6アルキル、ナフチル、フェニル、置
換フェニル、アリールメチル、置換アリールメチルまた
は式:
【化46】 で示される基(基中、aおよびa'は個別に水素、ハロ、ヒ
ドロキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルカノイル
オキシ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルキルチオ、ア
ミノ、C1〜C4アルカノイルアミノ、カルボキシ、カル
バモイル、アミノスルホニル、ヒドロキシメチル、アミ
ノメチルまたはカルボキシメチル、Eは−O−または−
S−、mは0または1)、またはRは式:
ドロキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルカノイル
オキシ、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルキルチオ、ア
ミノ、C1〜C4アルカノイルアミノ、カルボキシ、カル
バモイル、アミノスルホニル、ヒドロキシメチル、アミ
ノメチルまたはカルボキシメチル、Eは−O−または−
S−、mは0または1)、またはRは式:
【化47】 で示される基、(基中、ROはシクロヘキサ−1,4−ジ
エニル、フェニル、置換フェニルまたはアリール、Qは
ヒドロキシ、C1〜C4アルカノイルオキシ、カルボキ
シ、スルホ、アミノ、スルホアミノまたは式:
エニル、フェニル、置換フェニルまたはアリール、Qは
ヒドロキシ、C1〜C4アルカノイルオキシ、カルボキ
シ、スルホ、アミノ、スルホアミノまたは式:
【化48】
【化49】 で示される構造から選ばれる基、(基中、RXは水素また
はC1〜C3アルキル、RZは水素、C1〜C3アルキルス
ルホニル、C1〜C3アルキルまたはC1〜C4アルカノイ
ル、RYはC1〜C4アルキル、フリル、チエニル、フェ
ニル、ハロフェニル、ニトロフェニル、スチリル、ハロ
スチリル、ニトロスチリルまたは式:−NRXRZで示さ
れる基(RXおよびRZは前記と同意義)、RVはC1〜C4
アルキル、アミノ、カルボキシ、ヒドロキシまたはハ
ロ、RWはC1〜C4アルキル、カルボキシ、アミノまた
はハロ、rは2または3、sは1、2または3、tは0ま
たは1)))、またはRは式:
はC1〜C3アルキル、RZは水素、C1〜C3アルキルス
ルホニル、C1〜C3アルキルまたはC1〜C4アルカノイ
ル、RYはC1〜C4アルキル、フリル、チエニル、フェ
ニル、ハロフェニル、ニトロフェニル、スチリル、ハロ
スチリル、ニトロスチリルまたは式:−NRXRZで示さ
れる基(RXおよびRZは前記と同意義)、RVはC1〜C4
アルキル、アミノ、カルボキシ、ヒドロキシまたはハ
ロ、RWはC1〜C4アルキル、カルボキシ、アミノまた
はハロ、rは2または3、sは1、2または3、tは0ま
たは1)))、またはRは式:
【化50】 で示される基、(基中、R11はシクロヘキサ−1,4−ジ
エニル、フェニル、置換フェニルまたはアリール、R13
は水素またはハロ、R12は水素、C1〜C4アルキル、C
2〜C4アルケニル、アリールメチル、式:
エニル、フェニル、置換フェニルまたはアリール、R13
は水素またはハロ、R12は水素、C1〜C4アルキル、C
2〜C4アルケニル、アリールメチル、式:
【化51】 で示される環式ラクタム基(lは2、3または4、R14は
水素またはC1〜C3アルキル)、またはR12はカルボキ
シ置換アルキルまたは式:
水素またはC1〜C3アルキル)、またはR12はカルボキ
シ置換アルキルまたは式:
【化52】 で示されるシクロアルキル基(bおよびb'は個別に水素ま
たはC1〜C3アルキル、nは0、1、2または3、また
はbおよびb'はこれらが結合する炭素と合して形成され
る3〜6員炭素環式基、R15はヒドロキシ、C1〜C4ア
ルキルアミノまたはジ(C1〜C4)アルキルアミノ))を表
わす。
たはC1〜C3アルキル、nは0、1、2または3、また
はbおよびb'はこれらが結合する炭素と合して形成され
る3〜6員炭素環式基、R15はヒドロキシ、C1〜C4ア
ルキルアミノまたはジ(C1〜C4)アルキルアミノ))を表
わす。
【0044】前記種々の式のすべての組合わせにより、
本発明の製造法で処理できる化合物を提供するが、この
製造法のためある種の化合物が好ましい。たとえば化合
物[II]は、R1、R2およびW1が前記のような基; fが
1; R9およびR10が双方を合して形成される二重結合;
Zが−S−または−CH2−; およびAが水素、ハロ、
シアノ、ヒドロキシ、アジド、C1〜C6アルキル、ハロ
(C1〜C6)アルキル、シアノ(C1〜C6)アルキル、C1
〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルコキシまたはトリフ
ルオロメタンスルホニルオキシである化合物が好まし
い。これらの好ましい化合物のうち、Aがハロ、ハロ
(C1〜C6)アルキル、トリフルオロメタンスルホニルオ
キシまたはC1〜C6アルキルである化合物が特に好まし
い。
本発明の製造法で処理できる化合物を提供するが、この
製造法のためある種の化合物が好ましい。たとえば化合
物[II]は、R1、R2およびW1が前記のような基; fが
1; R9およびR10が双方を合して形成される二重結合;
Zが−S−または−CH2−; およびAが水素、ハロ、
シアノ、ヒドロキシ、アジド、C1〜C6アルキル、ハロ
(C1〜C6)アルキル、シアノ(C1〜C6)アルキル、C1
〜C6アルキルチオ、C1〜C6アルコキシまたはトリフ
ルオロメタンスルホニルオキシである化合物が好まし
い。これらの好ましい化合物のうち、Aがハロ、ハロ
(C1〜C6)アルキル、トリフルオロメタンスルホニルオ
キシまたはC1〜C6アルキルである化合物が特に好まし
い。
【0045】加うるに化合物[II]は、R1、R2および
W1が前記のような基、fが0、Zが−S−、−S(O)−
または−SO2−、Aがメチル、R9がメチル、およびR
10が水素である化合物が好ましい。
W1が前記のような基、fが0、Zが−S−、−S(O)−
または−SO2−、Aがメチル、R9がメチル、およびR
10が水素である化合物が好ましい。
【0046】化合物[II]および[IV]はこの分野の
技術者によく知られた化学的合成法により製造すること
ができる。エステル開裂方法は、適当な置換基を有し、
4位にエステル基を有するセファロスポリンもしくは1
−カルバセファロスポリン化合物、3位にエステル基を
有するペニシリン化合物または1位にエステル基を有す
るアゼチジン−2−オンとヨウ化リチウムを、適当な溶
媒中で反応させる方法を包含する。
技術者によく知られた化学的合成法により製造すること
ができる。エステル開裂方法は、適当な置換基を有し、
4位にエステル基を有するセファロスポリンもしくは1
−カルバセファロスポリン化合物、3位にエステル基を
有するペニシリン化合物または1位にエステル基を有す
るアゼチジン−2−オンとヨウ化リチウムを、適当な溶
媒中で反応させる方法を包含する。
【0047】この反応は、適当に置換されたセファロス
ポリン、1−カルバセファロスポリン、ペニシリンまた
はアゼチジン−2−オンエステル化合物とヨウ化リチウ
ムを、誘電定数約0〜約15の非塩基溶媒中に単に混合
することにより行なわれる。ヨウ化リチウムは、一般に
当モル比ないし約6モル過剰量で使用する。ヨウ化リチ
ウムは、セファロスポリン、1−カルバセファロスポリ
ン、ペニシリンまたはアゼチジン−2−オン化合物に比
し、好ましくは少なくとも約2モル過剰量で使用する。
ポリン、1−カルバセファロスポリン、ペニシリンまた
はアゼチジン−2−オンエステル化合物とヨウ化リチウ
ムを、誘電定数約0〜約15の非塩基溶媒中に単に混合
することにより行なわれる。ヨウ化リチウムは、一般に
当モル比ないし約6モル過剰量で使用する。ヨウ化リチ
ウムは、セファロスポリン、1−カルバセファロスポリ
ン、ペニシリンまたはアゼチジン−2−オン化合物に比
し、好ましくは少なくとも約2モル過剰量で使用する。
【0048】この製造法のために適当な溶媒は、非塩基
すなわち遊離アミノ基を含むことなく、誘電定数約0〜
約15の勇気溶媒を包含する。この反応は好ましくは誘
電定数約0〜10の溶媒中で行なわれる。特に好ましい
溶媒は酢酸エチルおよびテトラヒドロフランを包含す
る。
すなわち遊離アミノ基を含むことなく、誘電定数約0〜
約15の勇気溶媒を包含する。この反応は好ましくは誘
電定数約0〜10の溶媒中で行なわれる。特に好ましい
溶媒は酢酸エチルおよびテトラヒドロフランを包含す
る。
【0049】この反応は、約20℃ないし反応混合物の
還流温度の温度範囲で進行させるとき、72時間以内で
完結する。この反応は好ましくは約55〜80℃、約1
〜16時間で行ない、かかる温和な条件がβ−ラクタム
類のために特に適当である。
還流温度の温度範囲で進行させるとき、72時間以内で
完結する。この反応は好ましくは約55〜80℃、約1
〜16時間で行ない、かかる温和な条件がβ−ラクタム
類のために特に適当である。
【0050】反応が完結したら、生成物が適当な溶媒に
溶解し、得られた溶液をpH約1.8〜約3.5に調節
することにより、リチウム塩として単離するか、または
カルボン酸型に変換することができる。この技術分野で
知られた操作により生成物をいずれかの型で単離するこ
とができる。たとえば沈澱した固体を濾集し、抽出、蒸
発または傾斜により反応溶媒を除くことができる。要す
れば更に結晶化またはシリカゲルもしくはアルミナのよ
うな個体支持体上クロマトグラフィーなどの通常の技術
により生成物を精製することができる。
溶解し、得られた溶液をpH約1.8〜約3.5に調節
することにより、リチウム塩として単離するか、または
カルボン酸型に変換することができる。この技術分野で
知られた操作により生成物をいずれかの型で単離するこ
とができる。たとえば沈澱した固体を濾集し、抽出、蒸
発または傾斜により反応溶媒を除くことができる。要す
れば更に結晶化またはシリカゲルもしくはアルミナのよ
うな個体支持体上クロマトグラフィーなどの通常の技術
により生成物を精製することができる。
【0051】次に実施例により更に本発明の特定の態様
を説明する。しかし実施例は本発明を単に説明すること
のみに目的があり、いずれの点においても本発明の範囲
を限定することを意図するものではなく、そのように解
釈されるべきものでないことは理解されるべきである。
を説明する。しかし実施例は本発明を単に説明すること
のみに目的があり、いずれの点においても本発明の範囲
を限定することを意図するものではなく、そのように解
釈されるべきものでないことは理解されるべきである。
【0052】実施例1 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメタンスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カル
ボン酸の製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメタンスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カル
ボン酸p−ニトロベンジル3.06g(5ミリモル)と酢酸
エチル30mlのスラリーに、ヨウ化リチウム2.0g(1
5ミリモル)を加える。この混合物を室温でほぼ3日間
反応させる。高速液体クロマトグラフィーに従って反応
の完結を確定したとき、水50mlを加えて7β−[(S)
−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン−3−イル]
−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフルオロメチルス
ルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸リチウ
ムを沈澱させる。得られた混合物を撹拌して塩を再溶解
し、生成した各層を分離し、水層を濃塩酸でpH1.8
9に調節して明黄色固体を形成させる。固体を濾集し、
水およびジエチルエーテルで順次洗い、所望の標記生成
物1.19gを得る。 元素分析、C18H15N2SO8F3として、 計算値: C,45.38; H,3.17; N,5.88, 実測値: C,45.65; H,3.31; N,6.05。 NMR(DMSO,d−6): δ1.95(m,1); 2.03
(m,1); 2.55(m,2);3.78(m,1); 4.03(dd,
1); 4.52(d,1); 4.70(t,1); 5.02(dd,1);
7.40(m,5)。
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメタンスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カル
ボン酸の製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメタンスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カル
ボン酸p−ニトロベンジル3.06g(5ミリモル)と酢酸
エチル30mlのスラリーに、ヨウ化リチウム2.0g(1
5ミリモル)を加える。この混合物を室温でほぼ3日間
反応させる。高速液体クロマトグラフィーに従って反応
の完結を確定したとき、水50mlを加えて7β−[(S)
−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン−3−イル]
−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフルオロメチルス
ルホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸リチウ
ムを沈澱させる。得られた混合物を撹拌して塩を再溶解
し、生成した各層を分離し、水層を濃塩酸でpH1.8
9に調節して明黄色固体を形成させる。固体を濾集し、
水およびジエチルエーテルで順次洗い、所望の標記生成
物1.19gを得る。 元素分析、C18H15N2SO8F3として、 計算値: C,45.38; H,3.17; N,5.88, 実測値: C,45.65; H,3.31; N,6.05。 NMR(DMSO,d−6): δ1.95(m,1); 2.03
(m,1); 2.55(m,2);3.78(m,1); 4.03(dd,
1); 4.52(d,1); 4.70(t,1); 5.02(dd,1);
7.40(m,5)。
【0053】実施例2 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメタンスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カル
ボン酸の製造 前記実施例1における混合物を65℃で約90分間反応
させること以外は実質的に実施例1の操作に従って処理
し、黄色固体1.73gとして標記化合物を得る。 NMR(DMSO,d−6): δ1.95(m,1); 2.08
(m,1); 2.58(m,2);3.80(m,1); 4.10(dd,
1); 4.55(d,1); 4.70(t,1); 5.03(dd,1);
7.30(m,5)。
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメタンスルホニルオキシ−3−セフェム−4−カル
ボン酸の製造 前記実施例1における混合物を65℃で約90分間反応
させること以外は実質的に実施例1の操作に従って処理
し、黄色固体1.73gとして標記化合物を得る。 NMR(DMSO,d−6): δ1.95(m,1); 2.08
(m,1); 2.58(m,2);3.80(m,1); 4.10(dd,
1); 4.55(d,1); 4.70(t,1); 5.03(dd,1);
7.30(m,5)。
【0054】実施例3 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸の製造 7β[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン−
3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−3
−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル0.9
96g(2ミリモル)とエチレングリコールジメチルエー
テル10mlのスラリーに、ヨウ化リチウム0.80g(6
ミリモル)を加える。この混合物を加熱還流して約3時
間反応させる。高速液体クロマトグラフィーにより反応
の完結が確定されたとき、溶液を室温に冷やし、水10
mlを加えて7β[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−
2−オン−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−
クロロ−3−セフェム−4−カルボン酸リチウムを沈澱
させる。これに塩化メチレン10mlを加えて沈澱を再溶
解する。生成した各層を分離し、水層を1N塩酸でpH
1.94に調節して明黄色固体を形成させる。固体を濾
集し、ジエチルエーテルで洗い、所望の標記生成物0.
41gを得る。 元素分析、C17H15N2O5Clとして、 計算値: C,56.29; H,4.17; N,7.72; Cl,
9.77, 実測値: C,56.23; H,4.30; N,7.60; Cl,
10.08。 NMR(DMSO,d−6): δ1.95(m,2); 2.55
(m,2); 3.72(m,1);4.08(dd,1); 4.42(d,
1); 4.70(t,1); 5.00(dd,1); 7.40(m,
5)。
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸の製造 7β[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン−
3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−3
−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル0.9
96g(2ミリモル)とエチレングリコールジメチルエー
テル10mlのスラリーに、ヨウ化リチウム0.80g(6
ミリモル)を加える。この混合物を加熱還流して約3時
間反応させる。高速液体クロマトグラフィーにより反応
の完結が確定されたとき、溶液を室温に冷やし、水10
mlを加えて7β[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−
2−オン−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−
クロロ−3−セフェム−4−カルボン酸リチウムを沈澱
させる。これに塩化メチレン10mlを加えて沈澱を再溶
解する。生成した各層を分離し、水層を1N塩酸でpH
1.94に調節して明黄色固体を形成させる。固体を濾
集し、ジエチルエーテルで洗い、所望の標記生成物0.
41gを得る。 元素分析、C17H15N2O5Clとして、 計算値: C,56.29; H,4.17; N,7.72; Cl,
9.77, 実測値: C,56.23; H,4.30; N,7.60; Cl,
10.08。 NMR(DMSO,d−6): δ1.95(m,2); 2.55
(m,2); 3.72(m,1);4.08(dd,1); 4.42(d,
1); 4.70(t,1); 5.00(dd,1); 7.40(m,
5)。
【0055】実施例4 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル6g
(12.1ミリモル)のテトラヒドロフラン73.5ml溶
液に、ヨウ化リチウム9.72g(72.6ミリモル)を
加える。この混合物を加熱還流して約4.5時間反応さ
せる。高速液体クロマトグラフィーにより反応の完結が
確定されたとき、この溶液を冷やして白色固体を形成さ
せる。固体を濾集し、冷テトラヒドロフラン、次いでジ
エチルエーテルで引き続いて洗い、所望の標記生成物
3.83gを得る。 NMR(DMSO,d−6/TFA): δ1.98(m,2);
2.52(m,2); 3.73(m,1); 4.08(dd,1); 4.
42(d,1); 4.70(t,1); 5.00(dd,1);7.38
(m,5)。
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル6g
(12.1ミリモル)のテトラヒドロフラン73.5ml溶
液に、ヨウ化リチウム9.72g(72.6ミリモル)を
加える。この混合物を加熱還流して約4.5時間反応さ
せる。高速液体クロマトグラフィーにより反応の完結が
確定されたとき、この溶液を冷やして白色固体を形成さ
せる。固体を濾集し、冷テトラヒドロフラン、次いでジ
エチルエーテルで引き続いて洗い、所望の標記生成物
3.83gを得る。 NMR(DMSO,d−6/TFA): δ1.98(m,2);
2.52(m,2); 3.73(m,1); 4.08(dd,1); 4.
42(d,1); 4.70(t,1); 5.00(dd,1);7.38
(m,5)。
【0056】実施例5 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル0.
996g(2ミリモル)、塩化メチレン10mlおよびヨウ
化リチウム1.6g(12ミリモル)を用い、実質的に実
施例4記載の方法に従って標記化合物を製造する。混合
物を還流温度でほぼ5日間反応させ、黄色固体1.72
g(40%が所望の標記生成物であった)を得る。
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル0.
996g(2ミリモル)、塩化メチレン10mlおよびヨウ
化リチウム1.6g(12ミリモル)を用い、実質的に実
施例4記載の方法に従って標記化合物を製造する。混合
物を還流温度でほぼ5日間反応させ、黄色固体1.72
g(40%が所望の標記生成物であった)を得る。
【0057】実施例6 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−ブロモ−
3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−ブロモ−
3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル0.
542g(1ミリモル)、テトラヒドロフラン6.1mlお
よびヨウ化リチウム0.803g(6ミリモル)を用い、
実質的に実施例4記載の方法に従って標記化合物を製造
する。混合物を還流温度で約2.5時間反応させ、白色
固体0.29gを得る。 元素分析、C17H14N2O5Br-Li+として、 計算値: C,49.42; H,3.42; N,6.78; O,
19.36; Br,19.34, 実測値: C,49.39; H,3.41; N,6.53; O,
19.57; Br,19.37。 NMR(DMSO,d−6/TFA): δ1.95(m,2);
2.68(m,2); 3.75(m,1); 4.10(dd,1); 4.
45(d,1); 4.70(t,1); 4.98(dd,1);7.35
(m,5)。
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−ブロモ−
3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−ブロモ−
3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル0.
542g(1ミリモル)、テトラヒドロフラン6.1mlお
よびヨウ化リチウム0.803g(6ミリモル)を用い、
実質的に実施例4記載の方法に従って標記化合物を製造
する。混合物を還流温度で約2.5時間反応させ、白色
固体0.29gを得る。 元素分析、C17H14N2O5Br-Li+として、 計算値: C,49.42; H,3.42; N,6.78; O,
19.36; Br,19.34, 実測値: C,49.39; H,3.41; N,6.53; O,
19.57; Br,19.37。 NMR(DMSO,d−6/TFA): δ1.95(m,2);
2.68(m,2); 3.75(m,1); 4.10(dd,1); 4.
45(d,1); 4.70(t,1); 4.98(dd,1);7.35
(m,5)。
【0058】実施例7 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸の製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸メチル1.50g(4ミリ
モル)、酢酸エチル16mlおよびヨウ化リチウム1.6
1g(12ミリモル)を用い、実質的に実施例1記載の方
法に従って標記化合物を製造する。混合物を還流温度で
約4.5時間反応させ、黄色固体0.65gを得る。 元素分析、C17H15N2O5Clとして、 計算値: C,56.29; H,4.17; N,7.72, 実測値: C,56.32; H,4.46; N,7.58。 NMR(DMSO,d−6): δ1.95(m,2); 2.58
(m,2); 3.78(m,1);4.10(dd,1); 4.45(d,
1); 4.76(t,1); 5.00(dd,1); 7.40(m,
5)。
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸の製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸メチル1.50g(4ミリ
モル)、酢酸エチル16mlおよびヨウ化リチウム1.6
1g(12ミリモル)を用い、実質的に実施例1記載の方
法に従って標記化合物を製造する。混合物を還流温度で
約4.5時間反応させ、黄色固体0.65gを得る。 元素分析、C17H15N2O5Clとして、 計算値: C,56.29; H,4.17; N,7.72, 実測値: C,56.32; H,4.46; N,7.58。 NMR(DMSO,d−6): δ1.95(m,2); 2.58
(m,2); 3.78(m,1);4.10(dd,1); 4.45(d,
1); 4.76(t,1); 5.00(dd,1); 7.40(m,
5)。
【0059】実施例8 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸メチル0.377g(1ミ
リモル)、テトラヒドロフラン6.1mlおよびヨウ化リ
チウム0.803g(6ミリモル)を用い、実質的に実施
例4記載の方法に従って標記生成物を製造する。混合物
を還流温度で約8時間反応させ、白色固体0.20gを
得る。 NMR(DMSO,d−6/D2O): δ1.91(m,2);
2.32(m,2); 3.52(m,1); 4.06(dd,1); 4.
22(d,1); 4.68(t,1); 4.95(dd,1); 7.38
(m,5)。
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸メチル0.377g(1ミ
リモル)、テトラヒドロフラン6.1mlおよびヨウ化リ
チウム0.803g(6ミリモル)を用い、実質的に実施
例4記載の方法に従って標記生成物を製造する。混合物
を還流温度で約8時間反応させ、白色固体0.20gを
得る。 NMR(DMSO,d−6/D2O): δ1.91(m,2);
2.32(m,2); 3.52(m,1); 4.06(dd,1); 4.
22(d,1); 4.68(t,1); 4.95(dd,1); 7.38
(m,5)。
【0060】実施例9 7β−N−ベンジルオキシカルボニル−1−カルバ(1
−デチア)−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン
酸リチウムの製造 7β−N−ベンジルオキシカルボニル−1−カルバ(1
−デチア)−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン
酸p−ニトロベンジル0.24g(0.5ミリモル)、酢酸
エチル5mlおよびヨウ化リチウム0.2g(1.5ミリモ
ル)を用い、実質的に実施例4記載の方法に従って標記
生成物を製造する。混合物を還流温度で約3時間反応さ
せ、明黄色固体0.16g(85%は所望の標記化合物で
あった)を得る。 NMR(DMSO,d−6/TFA): δ1.80(m,2);
2.52(m,2); 3.82(m,1); 5.02(q,2); 5.1
8(m,1); 7.30(m,5); 8.12(d,1)。
−デチア)−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン
酸リチウムの製造 7β−N−ベンジルオキシカルボニル−1−カルバ(1
−デチア)−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン
酸p−ニトロベンジル0.24g(0.5ミリモル)、酢酸
エチル5mlおよびヨウ化リチウム0.2g(1.5ミリモ
ル)を用い、実質的に実施例4記載の方法に従って標記
生成物を製造する。混合物を還流温度で約3時間反応さ
せ、明黄色固体0.16g(85%は所望の標記化合物で
あった)を得る。 NMR(DMSO,d−6/TFA): δ1.80(m,2);
2.52(m,2); 3.82(m,1); 5.02(q,2); 5.1
8(m,1); 7.30(m,5); 8.12(d,1)。
【0061】実施例10 7β−N−ベンジルオキシカルボニル−1−カルバ(1
−デチア)−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン
酸リチウムの製造 7β−N−ベンジルオキシカルボニル−1−カルバ(1
−デチア)−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン
酸p−メトキシベンジル0.24g(0.5ミリモル)、酢
酸エチル5mlおよびヨウ化リチウム0.2g(1.5ミリ
モル)を用い、実質的に実施例4記載の方法に従って標
記生成物を製造する。混合物を還流温度で約4時間反応
させ、白色固体0.10gを得る。 元素分析、C16H14N2O5Cl-Li+として、 計算値: C,53.88; H,3.96; N,7.85; O,
22.43; Cl,9.94, 実測値: C,53.88; H,4.15; N,7.60; O,
22.63; Cl,9.68。 NMR(DMSO,d−6/TFA): δ1.78(m,2);
2.57(m,2); 3.82(m,1); 5.02(q,2); 5.1
8(m,1); 7.30(m,5); 8.12(d,1)。
−デチア)−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン
酸リチウムの製造 7β−N−ベンジルオキシカルボニル−1−カルバ(1
−デチア)−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン
酸p−メトキシベンジル0.24g(0.5ミリモル)、酢
酸エチル5mlおよびヨウ化リチウム0.2g(1.5ミリ
モル)を用い、実質的に実施例4記載の方法に従って標
記生成物を製造する。混合物を還流温度で約4時間反応
させ、白色固体0.10gを得る。 元素分析、C16H14N2O5Cl-Li+として、 計算値: C,53.88; H,3.96; N,7.85; O,
22.43; Cl,9.94, 実測値: C,53.88; H,4.15; N,7.60; O,
22.63; Cl,9.68。 NMR(DMSO,d−6/TFA): δ1.78(m,2);
2.57(m,2); 3.82(m,1); 5.02(q,2); 5.1
8(m,1); 7.30(m,5); 8.12(d,1)。
【0062】実施例11 3−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン−
3−イル]−4−[2−フリルエチル]アゼチジン−2−
オン−1−エタン酸の製造 3−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン−
3−イル]−4−[2−フリルエチル]アゼチジン−2−
オン−1−エタン酸p−ニトロベンジル2.60g(5ミ
リモル)、酢酸エチル20mlおよびヨウ化リチウム2.
0g(15ミリモル)を用い、実質的に実施例1記載の方
法に従って標記化合物を製造する。混合物を還流温度で
ほぼ7.5時間反応させ、明黄色固体1.54gを得
る。 元素分析、C20H20N2O6として、 計算値: C,62.49; H,5.24; N,7.29, 実測値: C,62.46; H,5.27; N,7.22。 NMR(CDCl3): δ1.58(m,1); 1.68(m,1);
2.56(t,2); 3.34(d,1); 3.85(q,1); 4.2
0(d,1); 4.22(t,1); 4.55(d,1); 4.65(t,
1); 4.88(m,1); 7.32(m,5)。
3−イル]−4−[2−フリルエチル]アゼチジン−2−
オン−1−エタン酸の製造 3−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン−
3−イル]−4−[2−フリルエチル]アゼチジン−2−
オン−1−エタン酸p−ニトロベンジル2.60g(5ミ
リモル)、酢酸エチル20mlおよびヨウ化リチウム2.
0g(15ミリモル)を用い、実質的に実施例1記載の方
法に従って標記化合物を製造する。混合物を還流温度で
ほぼ7.5時間反応させ、明黄色固体1.54gを得
る。 元素分析、C20H20N2O6として、 計算値: C,62.49; H,5.24; N,7.29, 実測値: C,62.46; H,5.27; N,7.22。 NMR(CDCl3): δ1.58(m,1); 1.68(m,1);
2.56(t,2); 3.34(d,1); 3.85(q,1); 4.2
0(d,1); 4.22(t,1); 4.55(d,1); 4.65(t,
1); 4.88(m,1); 7.32(m,5)。
【0063】実施例12 7β−アミノ−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸の製造 7β−アミノ−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸p−ニトロベンジル3.7g(10ミリモル)とテトラ
ヒドロフラン61mlのスラリーに、ヨウ化リチウム8.
03g(60ミリモル)を加える。この混合物を加熱還流
して約2.5時間反応させる。溶液を冷やして7β−ア
ミノ−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン酸リチ
ウムを完全に沈澱させる。この沈澱を濾集し、テトラヒ
ドロフラン25ml中に懸濁し、1N塩酸でpH3.7に
調節すると明るい固体が生成する。固体を濾集し、テト
ラヒドロフラン/水(25:3)溶液で洗い、所望の標記
生成物0.59gを得る。 NMR(DMSO,d−6/TFA): δ3.72(d,1);
4.00(d,1); 5.18(d,1); 5.28(d,1)。
ン酸の製造 7β−アミノ−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸p−ニトロベンジル3.7g(10ミリモル)とテトラ
ヒドロフラン61mlのスラリーに、ヨウ化リチウム8.
03g(60ミリモル)を加える。この混合物を加熱還流
して約2.5時間反応させる。溶液を冷やして7β−ア
ミノ−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボン酸リチ
ウムを完全に沈澱させる。この沈澱を濾集し、テトラヒ
ドロフラン25ml中に懸濁し、1N塩酸でpH3.7に
調節すると明るい固体が生成する。固体を濾集し、テト
ラヒドロフラン/水(25:3)溶液で洗い、所望の標記
生成物0.59gを得る。 NMR(DMSO,d−6/TFA): δ3.72(d,1);
4.00(d,1); 5.18(d,1); 5.28(d,1)。
【0064】実施例13 3β−アミノ−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−アミノ−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル・一
塩酸塩1.94g(5ミリモル)、酢酸エチル19mlおよ
びヨウ化リチウム1.34g(10ミリモル)を用い、実
質的に実施例4記載の方法に従って標記化合物を製造す
る。混合物を還流温度でほぼ24時間反応させ、明緑色
固体1.57g(この35%は所望の標記生成物であっ
た)を得る。
3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−アミノ−1−カルバ(1−デチア)−3−クロロ−
3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル・一
塩酸塩1.94g(5ミリモル)、酢酸エチル19mlおよ
びヨウ化リチウム1.34g(10ミリモル)を用い、実
質的に実施例4記載の方法に従って標記化合物を製造す
る。混合物を還流温度でほぼ24時間反応させ、明緑色
固体1.57g(この35%は所望の標記生成物であっ
た)を得る。
【0065】実施例14 7β−アミノ−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸の製造 7β−アミノ−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸p−ニトロベンジル・一塩酸塩4.06g(10ミリ
モル)と酢酸エチル40mlのスラリーに、ヨウ化リチウ
ム4.01g(30ミリモル)を加える。この混合物を加
熱還流して約3時間反応させる。高速液体クロマトグラ
フィーで反応完結を確定したとき、混合物を室温に冷や
し、水40mlを加え、この溶液を5%炭酸水素ナトリウ
ム溶液でpH7.3に調節する。生成した各層を分離
し、水層に塩化メチレン10mlを加え、生成した混濁液
はゆっくり分離する。この水層を単離し、濃塩酸でゆっ
くりpH3.2に調節し、明黄褐色固体を得る。固体を
濾集し、アセトンおよびジエチルエーテルで順次洗い、
固体1.2g(この73%は所望の標記生成物であった)
を得る。
ン酸の製造 7β−アミノ−3−クロロ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸p−ニトロベンジル・一塩酸塩4.06g(10ミリ
モル)と酢酸エチル40mlのスラリーに、ヨウ化リチウ
ム4.01g(30ミリモル)を加える。この混合物を加
熱還流して約3時間反応させる。高速液体クロマトグラ
フィーで反応完結を確定したとき、混合物を室温に冷や
し、水40mlを加え、この溶液を5%炭酸水素ナトリウ
ム溶液でpH7.3に調節する。生成した各層を分離
し、水層に塩化メチレン10mlを加え、生成した混濁液
はゆっくり分離する。この水層を単離し、濃塩酸でゆっ
くりpH3.2に調節し、明黄褐色固体を得る。固体を
濾集し、アセトンおよびジエチルエーテルで順次洗い、
固体1.2g(この73%は所望の標記生成物であった)
を得る。
【0066】実施例15 7β−N−[3−フェニル−1−メチルプロペン−3−
オン−1−イル]−3−クロロ−3−セフェム−4−カ
ルボン酸リチウムの製造 7β−N−[3−フェニル−1−メチル−プロペン−3
−オン−1−イル]−3−クロロ−3−セフェム−4−
カルボン酸p−ニトロベンジル1.03g(2ミリモル)、
テトラヒドロフラン12mlおよびヨウ化リチウム0.8
1g(6ミリモル)を用い、実質的に実施例4記載の方法
に従って標記生成物を製造する。混合物を還流温度で約
12時間反応させて明黄褐色固体0.54gを得る。 NMR(DMSO,d−6): δ2.10(s,3); 3.40
(d,1); 3.80(d,1);5.12(d,1); 5.63(m,
1); 5.95(s,1); 7.43(m,2); 7.85(d,2);
11.40(d,1)。
オン−1−イル]−3−クロロ−3−セフェム−4−カ
ルボン酸リチウムの製造 7β−N−[3−フェニル−1−メチル−プロペン−3
−オン−1−イル]−3−クロロ−3−セフェム−4−
カルボン酸p−ニトロベンジル1.03g(2ミリモル)、
テトラヒドロフラン12mlおよびヨウ化リチウム0.8
1g(6ミリモル)を用い、実質的に実施例4記載の方法
に従って標記生成物を製造する。混合物を還流温度で約
12時間反応させて明黄褐色固体0.54gを得る。 NMR(DMSO,d−6): δ2.10(s,3); 3.40
(d,1); 3.80(d,1);5.12(d,1); 5.63(m,
1); 5.95(s,1); 7.43(m,2); 7.85(d,2);
11.40(d,1)。
【0067】実施例16 7β−N−メトキシカルボニル−3−クロロ−3−セフ
ェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−N−メトキシカルボニル−3−クロロ−3−セフ
ェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル2.14g(5
ミリモル)、酢酸エチル20mlおよびヨウ化リチウム
2.0g(15ミリモル)を用い、実質的に実施例4記載
の方法に従って標記生成物を製造する。混合物を還流温
度で約90分間反応させ、暗褐色固体1.39g(この9
4%は所望の標記生成物であった)を得る。 NMR(DMSO,d−6): δ3.30(d,1); 3.52
(s,3); 3.72(d,1);4.95(d,1); 5.28(m,
1); 8.28(d,1)。
ェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−N−メトキシカルボニル−3−クロロ−3−セフ
ェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル2.14g(5
ミリモル)、酢酸エチル20mlおよびヨウ化リチウム
2.0g(15ミリモル)を用い、実質的に実施例4記載
の方法に従って標記生成物を製造する。混合物を還流温
度で約90分間反応させ、暗褐色固体1.39g(この9
4%は所望の標記生成物であった)を得る。 NMR(DMSO,d−6): δ3.30(d,1); 3.52
(s,3); 3.72(d,1);4.95(d,1); 5.28(m,
1); 8.28(d,1)。
【0068】実施例17 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−ヨード−
3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−ヨード−
3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル2.
95g(5ミリモル)とテトラヒドロフラン30.5mlの
スラリーに、ヨウ化リチウム4.0g(30ミリモル)を
加える。この混合物を加熱還流して約7.5時間反応さ
せる。高速液体クロマトグラフィーで反応完結を確定し
たとき、この反応混合物に酢酸エチル30mlをゆっくり
加える。混合物を室温に冷やして白色固体を生成させ
る。固体を濾集し、順次、テトラヒドロフラン/酢酸エ
チル(1:1)溶液、酢酸エチルおよびジエチルエーテル
で洗い、所望の標記生成物1.49gを得る。 元素分析、C17H14N2O5I-Li+として、 計算値: C,44.37; H,3.07; N,6.09; I,
27.58, 実測値: C,44.10; H,3.04; N,5.80; I,
27.38。 NMR(DMSO,d−6/TFA): δ1.88(m,2);
2.68(m,2); 3.75(m,1); 4.08(q,1); 4.4
3(d,1); 4.68(t,1); 4.98(q,1); 7.35(m,
5)。
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−ヨード−
3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−ヨード−
3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロベンジル2.
95g(5ミリモル)とテトラヒドロフラン30.5mlの
スラリーに、ヨウ化リチウム4.0g(30ミリモル)を
加える。この混合物を加熱還流して約7.5時間反応さ
せる。高速液体クロマトグラフィーで反応完結を確定し
たとき、この反応混合物に酢酸エチル30mlをゆっくり
加える。混合物を室温に冷やして白色固体を生成させ
る。固体を濾集し、順次、テトラヒドロフラン/酢酸エ
チル(1:1)溶液、酢酸エチルおよびジエチルエーテル
で洗い、所望の標記生成物1.49gを得る。 元素分析、C17H14N2O5I-Li+として、 計算値: C,44.37; H,3.07; N,6.09; I,
27.58, 実測値: C,44.10; H,3.04; N,5.80; I,
27.38。 NMR(DMSO,d−6/TFA): δ1.88(m,2);
2.68(m,2); 3.75(m,1); 4.08(q,1); 4.4
3(d,1); 4.68(t,1); 4.98(q,1); 7.35(m,
5)。
【0069】実施例18 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸の製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロ
ベンジル5.31g(10ミリモル)と酢酸エチル106m
lのスラリーに、ヨウ化リチウム2.00g(15ミリモ
ル)を加える。この混合物を加熱還流して約7時間反応
させ、7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2
−オン−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−ト
リフルオロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸リチ
ウムを沈澱させる。反応混合物を室温に冷やし、更に1
2時間反応させる。高速液体クロマトグラフィーにより
反応の完結が確定されたとき、水100mlを加えてリチ
ウム塩を溶解する。生成した各層を分離し、水層を濃塩
酸でpH1.87に調節して明黄色固体を形成させる。
固体を濾集し、水洗して所望の標記生成物3.38gを
得る。 元素分析、C18H15N2O5F3として、 計算値: C,54.55; H,3.82; N,7.07; F,
14.38, 実測値: C,54.78; H,3.97; N,6.87; F,
14.45。 NMR(DMSO,d−6): δ1.67(m,2); 2.07
(m,1); 2.28(m,1);3.78(m,1); 4.14(dd,
1); 4.57(d,1); 4.73(t,1); 5.03(dd,1);
7.38(m,5); 14.03(s,1)。
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸の製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロ
ベンジル5.31g(10ミリモル)と酢酸エチル106m
lのスラリーに、ヨウ化リチウム2.00g(15ミリモ
ル)を加える。この混合物を加熱還流して約7時間反応
させ、7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2
−オン−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−ト
リフルオロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸リチ
ウムを沈澱させる。反応混合物を室温に冷やし、更に1
2時間反応させる。高速液体クロマトグラフィーにより
反応の完結が確定されたとき、水100mlを加えてリチ
ウム塩を溶解する。生成した各層を分離し、水層を濃塩
酸でpH1.87に調節して明黄色固体を形成させる。
固体を濾集し、水洗して所望の標記生成物3.38gを
得る。 元素分析、C18H15N2O5F3として、 計算値: C,54.55; H,3.82; N,7.07; F,
14.38, 実測値: C,54.78; H,3.97; N,6.87; F,
14.45。 NMR(DMSO,d−6): δ1.67(m,2); 2.07
(m,1); 2.28(m,1);3.78(m,1); 4.14(dd,
1); 4.57(d,1); 4.73(t,1); 5.03(dd,1);
7.38(m,5); 14.03(s,1)。
【0070】実施例19 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの
製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロ
ベンジル1.06g(2ミリモル)、ジオキサン12.2m
lおよびヨウ化リチウム1.61(12ミリモル)を用
い、実質的に実施例4記載の方法に従って標記生成物を
製造する。混合物を65℃で一夜反応させ、得られた暗
黄色固体1.24gは所望の標記生成物とヨウ化リチウ
ムの混合物であった。
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸リチウムの
製造 7β−[(S)−4−フェニルオキサゾリジン−2−オン
−3−イル]−1−カルバ(1−デチア)−3−トリフル
オロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸p−ニトロ
ベンジル1.06g(2ミリモル)、ジオキサン12.2m
lおよびヨウ化リチウム1.61(12ミリモル)を用
い、実質的に実施例4記載の方法に従って標記生成物を
製造する。混合物を65℃で一夜反応させ、得られた暗
黄色固体1.24gは所望の標記生成物とヨウ化リチウ
ムの混合物であった。
【0071】実施例20 6−フタルイミドペニシリン酸−1β−オキシドの製造 6−フタルイミドペニシリン酸p−ニトロベンジルエス
テル−1β−オキシド1.25g(2.5ミリモル)、酢
酸エチル20mlおよびヨウ化リチウム1.0g(7.5ミ
リモル)を用い、実質的に実施例1記載の方法に従って
標記化合物を製造する。混合物を還流温度でほぼ2時間
反応させ白色固体0.54gを得る。 NMR(DMSO,d6): δ1.20(s,3); 1.60(s,
3); 4.35(s,1);4.80(d,1); 6.00(d,1);
7.85(m,4); 13.70(bs,1)。
テル−1β−オキシド1.25g(2.5ミリモル)、酢
酸エチル20mlおよびヨウ化リチウム1.0g(7.5ミ
リモル)を用い、実質的に実施例1記載の方法に従って
標記化合物を製造する。混合物を還流温度でほぼ2時間
反応させ白色固体0.54gを得る。 NMR(DMSO,d6): δ1.20(s,3); 1.60(s,
3); 4.35(s,1);4.80(d,1); 6.00(d,1);
7.85(m,4); 13.70(bs,1)。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 499/42 499/44 499/86 501/04 9284−4C 501/16 9284−4C 501/22 9284−4C 501/24 9284−4C 501/59 9284−4C // A61K 31/43 7252−4C 31/435 7252−4C 31/545 ADZ 7252−4C (72)発明者 クリスティナ・リン・トーマス アメリカ合衆国46227インディアナ州イン ディアナポリス、リズモア・イースト・ド ライブ1055番
Claims (7)
- 【請求項1】 式: 【化1】 で示される化合物[1]またはその薬学的に許容される塩
を製造するに当り、誘電定数約0〜約15を有する非塩
基溶媒中、ヨウ化リチウムと、式: 【化2】 で示される化合物[II]または塩を形成することができ
る化合物[II]の塩を反応させることを特徴とする前記
化合物[1]またはその薬学的に許容される塩類の製造
法。[式中、Wはリチウムイオン;W1はカルボキシ保護
基;Zは−S−、−S(O)−、−SO2−または−CH2
−;R9は水素、C1〜C6アルキル、またはR10と合して
形成される二重結合;R10は水素、またはR9と合して形
成される二重結合;fは0または1(ただしfが1であると
き、R9およびR10はこの双方が結合して二重結合を形
成し、fが0であるとき、AはC1〜C6アルキル);R1お
よびR2は個別に水素、C1〜C6アルキル、アミノ保護
基または−C(O)−R(Rはカルボン酸残基)(ただしR1
またはR2の一方が−C(O)−Rであるとき、他方は水
素であることができない);Aは水素、またはセファロス
ポリン、1−カルバセファロスポリンもしくはペニシリ
ン技術において見いだされる置換基から選ばれる置換基
を表わす]。 - 【請求項2】 fが1、Aが水素、ハロ、シアノ、ヒド
ロキシ、アジド、C1〜C6のアルキル、ハロ(C1〜C6)
アルキル、シアノ(C1〜C6)アルキル、C1〜C6アルキ
ルチオ、C1〜C6アルコキシ、トリフルオロメタンスル
ホニルオキシまたは−C(O)−R3で示される基 [基中、R3はヒドロキシ、ハロ、アジド、C1〜C6アル
コキシ、2−[トリ(C1〜C4)アルキルシリル]エトキ
シ、C2〜C6アルケニルオキシ、C2〜C6アルキニルオ
キシ、C1〜C4アルコキシカルボニルオキシ、フェノキ
シまたは置換フェノキシ;またはR3は同一もしくは異な
る置換基1ないし2個で置換されたC1〜C6アルコキシ
(置換基はヒドロキシ、アミノ、C1〜C4アルキルアミ
ノ、ジ(C1〜C4)アルキルアミノ、C1〜C4アルカノイ
ルアミノ、ハロ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキ
ルチオ、シアノ、カルボキシ、C1〜C4アルコキシカル
ボニル、カルバモイル、カルバモイルオキシ、N−(C1
〜C4)アルキルカルバモイルオキシ、N,N−ジ(C1〜
C4)アルキルカルバモイルオキシ、C1〜C4アルコキシ
カルボニルオキシ、フェノキシカルボニルオキシ、C1
〜C4アルコキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボ
ニルアミノ、N−(C1〜C4)アルキルカルバモイルアミ
ノ、N,N−ジ(C1〜C4)アルキルカルバモイルアミ
ノ、N−フェニルカルバモイルアミノ、アニリノ、置換
アニリノ、フェニル、置換フェニルまたは式:−NHR4
で示される異項環アミノ基(基中、R4はチエニル、フリ
ルまたは式: 【化3】 で示される窒素含有5員異項環基(R4aは水素、C1〜
C4アルキルまたは置換C1〜C4アルキル(置換基はカル
ボキシ、スルホまたはジ(C1〜C4)アルキルアミノ))、
またはR4は式: 【化4】 で示される窒素含有6員環基(R4bは水素またはC1〜C
4アルキル))、または式;−SR5で示される異項環チオ
基(R5はフェニル、置換フェニルまたは前記のようなR
4基);または式: 【化5】 で示される第四級異項環基( 【化6】 )は式: 【化7】 で示される窒素含有異項環基(R6aはC1〜C4アルキ
ル、ベンジルまたは−CH2COCH3)、Xはハライ
ド、硫酸または硝酸アニオン));または式: 【化8】 で示される異項環基( 【化9】 およびXは前記と同意義);または前記のような異項環基
R4;またはR3は式:−NR3aR3bで示されるアミノ基
(R3aおよびR3bは個別に水素、フェニル、置換フェニ
ル、C1〜C4アルキルまたは同一もしくは異なる置換基
1ないし2個で置換されたC1〜C4アルキル(置換基は
ハロ、ヒドロキシ、C1〜C4アルカノイルオキシ、C1
〜C4アルキルスルホニルオキシ、フェニル、置換フェ
ニル、アミノまたはC1〜C4アルカノイルアミノから選
ばれる基)、またはR3aおよびR3bはこれらが結合する
窒素原子と合して形成されることができる式: 【化10】 で示される5〜7員環基(Yは(−CH2−)pまたは−C
H2−Y1−CH2−(pは2、3または4、Y1は−O−、
−S−または−N(R3c)−(R3cは水素またはC1〜C4
アルキル))、またはR3aは水素、およびR3bは置換C1
〜C4アルキル(置換基は異項環基R4、異項環アミノ基
−NHR4、異項環チオ基−SR4または第四級異項環基 【化11】 (R4、 【化12】 およびXは前記と同意義)));またはR3はフェニル、置
換フェニルまたは異項環アミノ基−NHR4(R4は前記
と同意義);またはR3はC1〜C4アルキルまたは置換C1
〜C4アルキル(置換基はヒドロキシ、C1〜C4アルカノ
イルオキシ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチ
オ、ハロ、カルボキシ、シアノ、アミノ、C1〜C4アル
キルアミノ、ジ(C1〜C4)アルキルアミノ、C1〜C4ア
ルカノイルアミノ、C1〜C4アルキルスルホニルアミ
ノ、C1〜C4アルキルスルホニルオキシ、フェニル、置
換フェニル、フェニルチオ、置換フェニルチオ、フェノ
キシ、置換フェノキシ、アニリノ、置換アニリノ、異項
環基R4、異項環アミノ基−NHR4、異項環チオ基−S
R4または第四級異項環基 【化13】 もしくは 【化14】 (R4、 【化15】 およびXは前記と同意義));またはR3はフェニル、チエ
ニル、フリル、ピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、
ピラゾリル、テトラゾリル、オキサゾリル、チアゾリ
ル、チアジアゾリルまたはオキサジアゾリルまたは同一
もしくは異なる置換基1ないし2個で置換された上記フ
ェニルまたは異項環基(置換基はC1〜C4アルキル、C1
〜C4アルコキシ、ハロ、アミノもしくはヒドロキシか
ら選ばれる基);またはR3はカルボキシ基またはこれか
ら誘導される式:−C(O)R7で示される基(R7は水素、
ヒドロキシ、C1〜C4アルコキシ、フェノキシ、置換フ
ェノキシ、トリ(C1〜C4)アルキルシリルオキシ、アミ
ノ、C1〜C4アルキルアミノ、ジ(C1〜C4)アルキルア
ミノ、フェニル、置換フェニルまたはC1〜C4アルキ
ル);またはR3は式: 【化16】 で示される基(Xは前記と同意義、 【化17】 はピリジニウムまたは同一もしくは異なる置換基1ない
し2個で置換されたピリジニウム(置換基はC1〜C4ア
ルキル、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4アルキルチオ、
ヒドロキシ、ハロ、トリフルオロメチル、シアノ、カル
ボキシ、カルバモイル、アミノまたはC1〜C4アルコキ
シカルボニル)、または 【化18】 は、隣接する炭素原子上に、式:(−CH2−)q(qは3、
4ないし5)で示される二価のアルキレン基、またはか
かる二価のアルキレン基の中に酸素、硫黄もしくは1な
いし2個の窒素原子が介在する基を有し、加うるにこの
二価のアルキレン基が1ないし2個の二重結合を含有す
ることができる二価のアルキレン基を有するピリジニウ
ム、および 【化19】 が置換ピリジニウムであるとき、いずれかの環上、前記
のような置換基から選ばれる同一もしくは異なる置換基
1ないし2個を有することができる上記のようなピリジ
ニウム;または 【化20】 はチアゾリウムまたは同一もしくは異なる置換基1ない
し2個で置換されたチアゾリウム(置換基はアミノ、C
1〜C4アルキル、C1〜C4アルキルチオ、C1〜C4アル
コキシまたは置換C1〜C4アルキル(置換基はヒドロキ
シ、C1〜C4アルカノイルオキシ、C1〜C4アルキルス
ルホニルオキシ、ハロ、C1〜C4アルコキシ、C1〜C4
アルキルチオまたはアミノから選ばれる基));または 【化21】 は、隣接する炭素原子上に式:(−CH2−)q(qは3、4
ないし5)で示される二価のアルキレン基を有するチア
ゾリウム)を表わす]である請求項1記載の化合物[I]の
製造法。 - 【請求項3】 反応試剤を酢酸エチルまたはテトラヒド
ロフラン中で接触させる請求項1記載の化合物[I]の製
造法。 - 【請求項4】 Aが水素、ハロ、シアノ、ヒドロキシ、
アジド、C1〜C6アルキル、ハロ(C1〜C6)アルキル、
シアノ(C1〜C6)アルキル、C1〜C6アルキルチオ、C
1〜C6アルコキシまたはトリフルオロメタンスルホニル
オキシである請求項2記載の化合物[I]の製造法。 - 【請求項5】 式: 【化22】 で式される化合物[III]またはその薬学的に許容され
る塩を製造するに当り、誘電定数約0〜約15を有する
非塩基溶媒中、ヨウ化リチウムと、式: 【化23】 で示される化合物[IV]または塩を形成することができ
る化合物[IV]の塩を反応させることを特徴とする前記
化合物[III]またはその薬学的に許容される塩類の製
造法。[式中、W2はリチウムイオン;W3はカルボキシ保
護基;R21およびR22は個別に水素、C1〜C6アルキ
ル、アミノ保護基または−C(O)−R(Rはカルボン酸
残基)(ただしR21およびR22の一方が−C(O)−Rであ
るとき、他方は水素であることができない);Lは−CH
2−CH2−または−CH=CH−;およびR23はフェ
ニル、フェニル(C1〜C6)アルキル、フェニル(C1〜C
6)アルコキシ、ハロフェニル、フリルまたはナフチルを
表わす]。 - 【請求項6】 誘電定数約0〜約10を有する非塩基溶
媒中、反応試剤を接触させる請求項5記載の化合物[I
II]の製造法。 - 【請求項7】 酢酸エチルまたはテトラヒドロフラン
中、反応試剤を接触させる請求項6記載の化合物[II
I]の製造法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/836,640 US5302711A (en) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | Ester cleavage process for use with β-lactams |
US836640 | 2001-04-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05286971A true JPH05286971A (ja) | 1993-11-02 |
Family
ID=25272395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5024157A Withdrawn JPH05286971A (ja) | 1992-02-18 | 1993-02-12 | β−ラクタムのエステル開裂方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5302711A (ja) |
EP (1) | EP0557035A3 (ja) |
JP (1) | JPH05286971A (ja) |
KR (1) | KR930017907A (ja) |
BR (1) | BR9300542A (ja) |
CA (1) | CA2089540A1 (ja) |
HU (1) | HUT64351A (ja) |
IL (1) | IL104699A0 (ja) |
MX (1) | MX9300761A (ja) |
TW (1) | TW232694B (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4100908B2 (ja) | 1999-07-30 | 2008-06-11 | エーザイ・アール・アンド・ディー・マネジメント株式会社 | 塩基性抗生物質・無機酸塩の製造法およびシュウ酸塩中間体 |
CN103588790A (zh) * | 2013-11-29 | 2014-02-19 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 7-氨基-3-氯-3-头孢-4-羧酸-对硝基苄基酯的制备方法 |
CN106866704B (zh) * | 2017-02-08 | 2019-06-14 | 河北科技大学 | 催化氢化脱除对硝基苄酯以制备7-acca的方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1546757A (en) * | 1975-04-10 | 1979-05-31 | Lilly Industries Ltd | Crystalline cephalosporin salts |
JPS52106891A (en) * | 1976-03-03 | 1977-09-07 | Shionogi & Co Ltd | Removal of carboxyl protecting group |
DE2725519A1 (de) * | 1977-06-06 | 1978-12-21 | Shionogi & Co | Verfahren zur herstellung freier carbonsaeuren durch esterspaltung |
IL72412A (en) * | 1983-07-22 | 1988-05-31 | Lilly Co Eli | Deesterification of beta-lactam antibiotic esters |
EP0233255B1 (en) * | 1985-08-12 | 1996-05-29 | The Upjohn Company | Conversion of cephalosporin hydrohalide salt to alkali metal salt |
EP0263901A1 (en) * | 1986-10-08 | 1988-04-20 | The Upjohn Company | Conversion of cephalosporin hydrohalide salt to alkali metal salt |
ES2121745T3 (es) * | 1989-03-30 | 1998-12-16 | Pfizer | Cefalosporinas y sus homologos, procedimiento para su preparacion y composiciones farmaceuticas. |
US5043439A (en) * | 1990-03-08 | 1991-08-27 | Bristol-Myers Squibb Company | Process for production of cephalosporins |
US5095107A (en) * | 1990-11-05 | 1992-03-10 | Eli Lilly And Company | Process for cleavage of esters during the production of cephalosporins |
-
1992
- 1992-02-18 US US07/836,640 patent/US5302711A/en not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-02-11 BR BR9300542A patent/BR9300542A/pt not_active Application Discontinuation
- 1993-02-11 IL IL104699A patent/IL104699A0/xx unknown
- 1993-02-12 JP JP5024157A patent/JPH05286971A/ja not_active Withdrawn
- 1993-02-12 TW TW082100977A patent/TW232694B/zh active
- 1993-02-12 HU HU9300384A patent/HUT64351A/hu unknown
- 1993-02-12 MX MX9300761A patent/MX9300761A/es not_active IP Right Cessation
- 1993-02-12 KR KR1019930002043A patent/KR930017907A/ko not_active Application Discontinuation
- 1993-02-15 EP EP19930301069 patent/EP0557035A3/en not_active Withdrawn
- 1993-02-15 CA CA002089540A patent/CA2089540A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW232694B (ja) | 1994-10-21 |
KR930017907A (ko) | 1993-09-20 |
HU9300384D0 (en) | 1993-04-28 |
BR9300542A (pt) | 1993-08-24 |
CA2089540A1 (en) | 1993-08-19 |
US5302711A (en) | 1994-04-12 |
EP0557035A2 (en) | 1993-08-25 |
EP0557035A3 (en) | 1993-12-01 |
IL104699A0 (en) | 1993-06-10 |
HUT64351A (en) | 1993-12-28 |
MX9300761A (es) | 1993-09-01 |
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Legal Events
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