JPH0528681Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0528681Y2 JPH0528681Y2 JP1986133389U JP13338986U JPH0528681Y2 JP H0528681 Y2 JPH0528681 Y2 JP H0528681Y2 JP 1986133389 U JP1986133389 U JP 1986133389U JP 13338986 U JP13338986 U JP 13338986U JP H0528681 Y2 JPH0528681 Y2 JP H0528681Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- irradiation window
- foil
- electrode
- wall surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 19
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 10
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この考案は電子線照射装置に関するものであ
る。
る。
（従来の技術）
電子線照射装置において、真空容器の内部に負
の高電圧に維持される電極を配置し、その内部に
電子線を照射するフイラメントを配置するととも
に、前記電極と向い合う真空容器の壁面に照射窓
を配置し、この照射窓を通して電子線を照射する
ようにしたものは既によく知られている。
の高電圧に維持される電極を配置し、その内部に
電子線を照射するフイラメントを配置するととも
に、前記電極と向い合う真空容器の壁面に照射窓
を配置し、この照射窓を通して電子線を照射する
ようにしたものは既によく知られている。
第３図は従来のこの種装置を示し、１は真空容
器、２は電極、３はその内部に配置されてあるフ
イラメント、４は真空容器１の、電極２と向い合
う壁面５に設けられた照射窓である。照射窓４は
一般に壁面５の一部を開口して形成した開口部分
６に設置される。そして照射窓４には真空を維持
するとともに、電子線の透過を許容する金属製の
箔７を備えている。
器、２は電極、３はその内部に配置されてあるフ
イラメント、４は真空容器１の、電極２と向い合
う壁面５に設けられた照射窓である。照射窓４は
一般に壁面５の一部を開口して形成した開口部分
６に設置される。そして照射窓４には真空を維持
するとともに、電子線の透過を許容する金属製の
箔７を備えている。
ところで従来のこの種装置においては、照射窓
４を開口部分６の下面に設置するようにしている
ので、壁面５の内面にはくぼみ（落ち込み深さは
約30〜40mm）が形成されるようになる。そのため
電極２を真空容器１と同軸またはその軸と平行に
設置しても、電極２と照射窓４との間に形成され
る電場の等電位面は、図中点線で示すように照射
窓４に向かつて凸となる。
４を開口部分６の下面に設置するようにしている
ので、壁面５の内面にはくぼみ（落ち込み深さは
約30〜40mm）が形成されるようになる。そのため
電極２を真空容器１と同軸またはその軸と平行に
設置しても、電極２と照射窓４との間に形成され
る電場の等電位面は、図中点線で示すように照射
窓４に向かつて凸となる。
そのためフイラメント３から放射される電子線
は、照射窓４に対して外側に広がるような軌道を
画くようになる。したがつて照射窓４の端部付近
では、電子線密度が低下する。すなわちこのよう
な構成では電子線の分布は均一になり得ない。
は、照射窓４に対して外側に広がるような軌道を
画くようになる。したがつて照射窓４の端部付近
では、電子線密度が低下する。すなわちこのよう
な構成では電子線の分布は均一になり得ない。
（考案が解決しようとする問題点）
この考案は電子線照射に際し、照射窓における
電子線分布の均一化を図ることを目的とする。
電子線分布の均一化を図ることを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
この考案は電子線を照射する電極と向い合つて
真空容器の壁面に設置される照射窓を、壁面の開
口部分の内部に設置し、これによりこの照射窓を
壁面の内面とほぼ同一の平面に位置するようにし
たことを特徴とする。
真空容器の壁面に設置される照射窓を、壁面の開
口部分の内部に設置し、これによりこの照射窓を
壁面の内面とほぼ同一の平面に位置するようにし
たことを特徴とする。
（実施例）
この考案を第１図、第２図によつて説明する。
なお第３図と同じ符号を付した部分は、同一また
は対応する部分を示す。この考案に従い照射窓４
を、壁面５の開口部分６の内部に設置する。具体
的にはその詳細の一部を第２図に示すように、照
射窓４は箔７と、これを支持する複数の並設され
た支持板８と、この支持板８を取り付ける枠９と
によつて構成されている。この枠９および各支持
板８の上端が壁面５の内面とほぼ同一の平面に位
置するように、照射窓４を開口部分６の内側に設
置する。
なお第３図と同じ符号を付した部分は、同一また
は対応する部分を示す。この考案に従い照射窓４
を、壁面５の開口部分６の内部に設置する。具体
的にはその詳細の一部を第２図に示すように、照
射窓４は箔７と、これを支持する複数の並設され
た支持板８と、この支持板８を取り付ける枠９と
によつて構成されている。この枠９および各支持
板８の上端が壁面５の内面とほぼ同一の平面に位
置するように、照射窓４を開口部分６の内側に設
置する。
なお支持板８の下部にはパイプ１０が固定され
てあり、このパイプ１０に接するように箔７が取
り付けられてある。そしてこのパイプ１０の内部
に冷却媒体が流通しており、これによつて箔７が
冷却されるようになつている。１１は箔７の端部
を押える押え部材である。
てあり、このパイプ１０に接するように箔７が取
り付けられてある。そしてこのパイプ１０の内部
に冷却媒体が流通しており、これによつて箔７が
冷却されるようになつている。１１は箔７の端部
を押える押え部材である。
以上の構成によれば、照射窓４は開口部分６の
内部に位置され、これによつて従来構成よりも照
射窓４は真空容器１の内部に入り込み、したがつ
てその上部は、壁面５の内面とほぼ同一の平面と
なる。そのため電極２と照射窓４との間に形成さ
れる電場の等電位面は、図中点線で示すように平
行となる。
内部に位置され、これによつて従来構成よりも照
射窓４は真空容器１の内部に入り込み、したがつ
てその上部は、壁面５の内面とほぼ同一の平面と
なる。そのため電極２と照射窓４との間に形成さ
れる電場の等電位面は、図中点線で示すように平
行となる。
そのためフイラメント３から放射される電子線
は、照射窓４に対してほぼ直交するような軌道を
画くようになる。したがつて照射窓４の端部付近
でも、電子線密度が従来のように低下することは
ない。すなわちこのような構成により電子線の分
布は均一となるのである。
は、照射窓４に対してほぼ直交するような軌道を
画くようになる。したがつて照射窓４の端部付近
でも、電子線密度が従来のように低下することは
ない。すなわちこのような構成により電子線の分
布は均一となるのである。
（考案の効果）
以上詳述したようにこの考案によれば、真空容
器の開口部分に設置する照射窓を、その開口部分
の内部に設置するだけの簡単な構成によつて、照
射窓から照射される電子線の分布を、簡単に均一
とすることができるといつた効果を奏する。
器の開口部分に設置する照射窓を、その開口部分
の内部に設置するだけの簡単な構成によつて、照
射窓から照射される電子線の分布を、簡単に均一
とすることができるといつた効果を奏する。
第１図はこの考案の一実施例を示す断面図、第
２図は一部の拡大断面図、第３図は従来例を示す
断面図である。 １……真空容器、２……電極、３……フイラメ
ント、４……照射窓、５……壁面、６……開口部
分、７……箔。
２図は一部の拡大断面図、第３図は従来例を示す
断面図である。 １……真空容器、２……電極、３……フイラメ
ント、４……照射窓、５……壁面、６……開口部
分、７……箔。
Claims (1)
- 電子線を放射するフイラメントを備えた電極を
真空容器の内部に設置するとともに、前記電極と
向い合う前記真空容器の壁面の一部に形成した開
口部分に、照射窓を設置してなる電子線照射装置
において、前記照射窓を、前記真空容器の内部を
真空に維持し、電子線の透過を許容する箔と、前
記箔を下端で支持する複数の並設された支持板
と、前記支持板を取り付ける枠とによつて構成
し、前記支持板および枠の上端が、前記壁面の内
面とほぼ同一の平面に位置するように、前記照射
窓を前記開口部分の内部に設置し、前記箔の端部
を押え部材により前記壁面に押えてなる電子線照
射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986133389U JPH0528681Y2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986133389U JPH0528681Y2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6339852U JPS6339852U (ja) | 1988-03-15 |
| JPH0528681Y2 true JPH0528681Y2 (ja) | 1993-07-23 |
Family
ID=31033661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986133389U Expired - Lifetime JPH0528681Y2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0528681Y2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6086745A (ja) * | 1983-10-18 | 1985-05-16 | Nisshin Haiboruteeji Kk | 電子銃 |
-
1986
- 1986-08-29 JP JP1986133389U patent/JPH0528681Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6086745A (ja) * | 1983-10-18 | 1985-05-16 | Nisshin Haiboruteeji Kk | 電子銃 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6339852U (ja) | 1988-03-15 |
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