JPH05285355A - 水素分離膜 - Google Patents
水素分離膜Info
- Publication number
- JPH05285355A JPH05285355A JP8366992A JP8366992A JPH05285355A JP H05285355 A JPH05285355 A JP H05285355A JP 8366992 A JP8366992 A JP 8366992A JP 8366992 A JP8366992 A JP 8366992A JP H05285355 A JPH05285355 A JP H05285355A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrogen
- palladium
- vanadium
- gas
- separation membrane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B3/00—Hydrogen; Gaseous mixtures containing hydrogen; Separation of hydrogen from mixtures containing it; Purification of hydrogen
- C01B3/50—Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification
- C01B3/501—Separation of hydrogen or hydrogen containing gases from gaseous mixtures, e.g. purification by diffusion
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2203/00—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas
- C01B2203/04—Integrated processes for the production of hydrogen or synthesis gas containing a purification step for the hydrogen or the synthesis gas
- C01B2203/0405—Purification by membrane separation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 混合ガス中の水素を分離するための水素分離
膜に関する。 【構成】 ０．１〜２０μｍの細孔を有する金属多孔体
の少なくとも一方の表面に、膜厚が５０μｍ以下のバナ
ジウム及びパラジウムを含有する薄膜を形成させてなる
水素分離膜。
膜に関する。 【構成】 ０．１〜２０μｍの細孔を有する金属多孔体
の少なくとも一方の表面に、膜厚が５０μｍ以下のバナ
ジウム及びパラジウムを含有する薄膜を形成させてなる
水素分離膜。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は混合ガス中の水素を分離
するための水素分離膜に関する。
するための水素分離膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】省エネルギー型分離技術として、近年、
膜による気体の分離方法が注目を集めている。水素含有
気体から水素を分離し、９９．９９％以上の高純度の水
素を得る方法としてＰｄ（パラジウム）を主体とする膜
（Ｐｄ膜と呼ぶ）を使用する方法（Ｐｄ膜方法と呼ぶ）
が知られている｛石油学会誌Ｖｏｌ．１５、Ｎｏ．１
（１９７２年）ｐ．６４｝。従来Ｐｄ膜はＰｄまたはＰ
ｄを主体とする合金を伸延し薄膜とすることによって製
造され、この膜は支持枠で支持して使用されていた。伸
延方法によって得られる膜の厚みの下限には限度があ
り、また、この膜は支持枠で支持して使用されるため、
このような支持方法に耐えるだけの機械的強度を付与す
る必要があり、あまり薄い膜を使用すると使用中、膜が
破損しやすい。
膜による気体の分離方法が注目を集めている。水素含有
気体から水素を分離し、９９．９９％以上の高純度の水
素を得る方法としてＰｄ（パラジウム）を主体とする膜
（Ｐｄ膜と呼ぶ）を使用する方法（Ｐｄ膜方法と呼ぶ）
が知られている｛石油学会誌Ｖｏｌ．１５、Ｎｏ．１
（１９７２年）ｐ．６４｝。従来Ｐｄ膜はＰｄまたはＰ
ｄを主体とする合金を伸延し薄膜とすることによって製
造され、この膜は支持枠で支持して使用されていた。伸
延方法によって得られる膜の厚みの下限には限度があ
り、また、この膜は支持枠で支持して使用されるため、
このような支持方法に耐えるだけの機械的強度を付与す
る必要があり、あまり薄い膜を使用すると使用中、膜が
破損しやすい。
【０００３】混合ガスから特定ガスをガス拡散方法によ
って分離する一手段として、ガス分子の平均自由工程よ
り小さな孔径、例えば数１０Å〜数１００Åの細孔をも
つ多孔質のガス分離膜を使用するクヌーセン拡散による
分離方法が知られている。例えば、かかる分離方法は、
比較的分子量比の大きい水素（Ｈ2 ）、窒素（Ｎ2 ）、
一酸化炭素（ＣＯ）などの混合ガス中のＨ2 ガス分離に
有効であり、一般にはガス分離膜として有機高分子膜が
採用されている。しかしながら、かかる有機高分子膜は
耐熱性、耐薬品性など耐久性に劣るという欠点があるた
め、セラミック多孔体など無機質材料からなる多孔質の
ガス分離膜の使用が試みられており、また、特開昭５９
−５９２２３号公報には、かかる無機質材料からなる多
孔質のガス分離膜が提案され、かつ従来例として示され
る。
って分離する一手段として、ガス分子の平均自由工程よ
り小さな孔径、例えば数１０Å〜数１００Åの細孔をも
つ多孔質のガス分離膜を使用するクヌーセン拡散による
分離方法が知られている。例えば、かかる分離方法は、
比較的分子量比の大きい水素（Ｈ2 ）、窒素（Ｎ2 ）、
一酸化炭素（ＣＯ）などの混合ガス中のＨ2 ガス分離に
有効であり、一般にはガス分離膜として有機高分子膜が
採用されている。しかしながら、かかる有機高分子膜は
耐熱性、耐薬品性など耐久性に劣るという欠点があるた
め、セラミック多孔体など無機質材料からなる多孔質の
ガス分離膜の使用が試みられており、また、特開昭５９
−５９２２３号公報には、かかる無機質材料からなる多
孔質のガス分離膜が提案され、かつ従来例として示され
る。
【０００４】また、上記問題点を解決する方法として、
無機質材料からなる多孔質支持体にＰｄを含有する薄膜
を形成させた水素分離膜を使用する方法が特開昭６２−
１２１６１６号公報に示されている。
無機質材料からなる多孔質支持体にＰｄを含有する薄膜
を形成させた水素分離膜を使用する方法が特開昭６２−
１２１６１６号公報に示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来の方法に
ついては各々次のような問題点がある。 （１）クヌーセン拡散による分離方法における混合ガス
の透過係数の比は、理論的には各ガスにおける分子量の
逆数の平方根に等しいため、かなり小さく、高濃度の水
素ガスを得るのは困難である。 （２）Ｐｄ膜方法は６０〜１５０μｍ程度の比較的厚い
ものを使用せざるを得ず、高価なＰｄの使用量が増大
し、また水素の透過速度が小さい。 （３）特開昭６２−１２１６１６号公報に示されている
無機質材料からなる多孔質支持体にＰｄを含有する薄膜
を形成させた水素分離膜は強度が弱いため破損しやす
く、また分離膜と管板とのシールが難しい。
ついては各々次のような問題点がある。 （１）クヌーセン拡散による分離方法における混合ガス
の透過係数の比は、理論的には各ガスにおける分子量の
逆数の平方根に等しいため、かなり小さく、高濃度の水
素ガスを得るのは困難である。 （２）Ｐｄ膜方法は６０〜１５０μｍ程度の比較的厚い
ものを使用せざるを得ず、高価なＰｄの使用量が増大
し、また水素の透過速度が小さい。 （３）特開昭６２−１２１６１６号公報に示されている
無機質材料からなる多孔質支持体にＰｄを含有する薄膜
を形成させた水素分離膜は強度が弱いため破損しやす
く、また分離膜と管板とのシールが難しい。
【０００６】本発明は従来技術が有する上記の問題点を
解決することを目的としたものであり、バナジウム及び
パラジウムのＨ2 に対する吸収性及び透過性に着目し、
バナジウム及びパラジウムのこれらの特性を金属多孔体
に有効に利用することにより、水素を含有する混合ガス
から高濃度の水素を分離する膜を提供しようとするもの
である。
解決することを目的としたものであり、バナジウム及び
パラジウムのＨ2 に対する吸収性及び透過性に着目し、
バナジウム及びパラジウムのこれらの特性を金属多孔体
に有効に利用することにより、水素を含有する混合ガス
から高濃度の水素を分離する膜を提供しようとするもの
である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は０．１〜２０μ
ｍの細孔を有する金属多孔体の少なくとも一方の表面
に、膜厚が５０μｍ以下のバナジウム及びパラジウムを
含有する薄膜を形成させてなる水素分離膜である。
ｍの細孔を有する金属多孔体の少なくとも一方の表面
に、膜厚が５０μｍ以下のバナジウム及びパラジウムを
含有する薄膜を形成させてなる水素分離膜である。
【０００８】本発明において、細孔を有する金属多孔体
としては３００℃以上の温度に耐える耐熱性を有し、処
理すべき気体と反応性を有せず、かつ０．１〜２０μｍ
の範囲の中で、できるだけ均一な細孔を有する金属多孔
体を使用するのが適している。細孔径を０．１μｍ以上
としたのは、ガス拡散の妨害にならないようにするため
であり、２０μｍ以下としたのはバナジウム及びパラジ
ウムを含有する薄膜を膜厚５０μｍ以下にコーティング
した場合、ピンホールが生じやすくなるからである。な
お、金属多孔体としては、円筒状または板状のものを使
用するのが適当であり、支持体としての強度及び加工性
などから、０．１〜２ｍｍの厚みものが好ましい。
としては３００℃以上の温度に耐える耐熱性を有し、処
理すべき気体と反応性を有せず、かつ０．１〜２０μｍ
の範囲の中で、できるだけ均一な細孔を有する金属多孔
体を使用するのが適している。細孔径を０．１μｍ以上
としたのは、ガス拡散の妨害にならないようにするため
であり、２０μｍ以下としたのはバナジウム及びパラジ
ウムを含有する薄膜を膜厚５０μｍ以下にコーティング
した場合、ピンホールが生じやすくなるからである。な
お、金属多孔体としては、円筒状または板状のものを使
用するのが適当であり、支持体としての強度及び加工性
などから、０．１〜２ｍｍの厚みものが好ましい。
【０００９】本発明において金属多孔体の一例としては
以下のものがあげられる。 （１）発泡（多孔質）金属をプレス成型し細孔径を制御
したもの、さらにこれに溶射またはめっきなどにより細
孔を小さくしたもの。 （２）粒径の小さい金属微粒粉末（５０μｍ以下）を成
型したもの。 （３）化学反応により除去可能な粉末（例えば、燃焼除
去が可能なグラファイト）を金属粉末に混合または溶融
した金属に添加した後、粉末を化学反応により除去し細
孔を生成させたもの。 （４）繊維径１〜２０μｍの金属繊維の不織布を圧延・
焼結させたもの。
以下のものがあげられる。 （１）発泡（多孔質）金属をプレス成型し細孔径を制御
したもの、さらにこれに溶射またはめっきなどにより細
孔を小さくしたもの。 （２）粒径の小さい金属微粒粉末（５０μｍ以下）を成
型したもの。 （３）化学反応により除去可能な粉末（例えば、燃焼除
去が可能なグラファイト）を金属粉末に混合または溶融
した金属に添加した後、粉末を化学反応により除去し細
孔を生成させたもの。 （４）繊維径１〜２０μｍの金属繊維の不織布を圧延・
焼結させたもの。
【００１０】本発明において、バナジウム及びパラジウ
ムを含有する薄膜とはバナジウム及びパラジウムをそれ
ぞれ１重量％以上含有し、かつバナジウムとパラジウム
の合計が５０重量％以上含有するものをさす。薄膜の厚
さは、５０μｍ以下、特に２〜２０μｍのものが適当で
ある。バナジウム及びパラジウムを含有する薄膜とはバ
ナジウム、パラジウム以外にもＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉ
ｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、ＣｏなどのVIII族元素、Ｃｕ、Ａｇ、
ＡｕなどのＩｂ族元素、ＭｏなどのVIａ族元素を含有す
るものを指し、これらの合金または合金と合金、単一金
属との組み合わせのものがある。
ムを含有する薄膜とはバナジウム及びパラジウムをそれ
ぞれ１重量％以上含有し、かつバナジウムとパラジウム
の合計が５０重量％以上含有するものをさす。薄膜の厚
さは、５０μｍ以下、特に２〜２０μｍのものが適当で
ある。バナジウム及びパラジウムを含有する薄膜とはバ
ナジウム、パラジウム以外にもＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉ
ｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、ＣｏなどのVIII族元素、Ｃｕ、Ａｇ、
ＡｕなどのＩｂ族元素、ＭｏなどのVIａ族元素を含有す
るものを指し、これらの合金または合金と合金、単一金
属との組み合わせのものがある。
【００１１】例としては、バナジウムとパラジウムの合
金、バナジウムとパラジウムにその他の金属を含有する
合金、あるいはバナジウムの合金にパラジウムまたはパ
ラジウムの合金を複合させたものがある。
金、バナジウムとパラジウムにその他の金属を含有する
合金、あるいはバナジウムの合金にパラジウムまたはパ
ラジウムの合金を複合させたものがある。
【００１２】金属多孔体の少なくとも一方の表面に膜厚
が５０μｍ以下のバナジウム及びパラジウムを含有する
薄膜を形成させる方法の一例としては下記の方法が用い
られる。 （１）めっきなどの液相方法 表面活性化処理（塩化錫の水溶液と塩化パラジウムの各
液に交互に浸漬）後、無電解めっき（パラジウムの化合
物と還元剤及びバナジウム粉末を含有する液に浸漬）さ
らには、無電解めっき後に電気めっきしたもの、あるい
は電気めっき後に無電解めっきしたもの。 （２）真空蒸着方法、イオンプレーティング、気相化学
反応方法（ＣＶＤ）などの気相方法
が５０μｍ以下のバナジウム及びパラジウムを含有する
薄膜を形成させる方法の一例としては下記の方法が用い
られる。 （１）めっきなどの液相方法 表面活性化処理（塩化錫の水溶液と塩化パラジウムの各
液に交互に浸漬）後、無電解めっき（パラジウムの化合
物と還元剤及びバナジウム粉末を含有する液に浸漬）さ
らには、無電解めっき後に電気めっきしたもの、あるい
は電気めっき後に無電解めっきしたもの。 （２）真空蒸着方法、イオンプレーティング、気相化学
反応方法（ＣＶＤ）などの気相方法
【００１３】以上のようにしてバナジウム及びパラジウ
ムを含有する薄膜を形成させた金属多孔体は、水素のみ
を選択的に透過する水素分離膜として使用できる。
ムを含有する薄膜を形成させた金属多孔体は、水素のみ
を選択的に透過する水素分離膜として使用できる。
【００１４】上記水素分離膜の一方の側に水素を含有す
る混合ガスを供給すると、水素分離膜は水素のみを選択
的に透過させ、水素分離膜の他方の側から純粋な水素が
流出する。水素の透過速度は温度が高いほど大きく、ま
た水素分離膜の両側の水素の圧力差が大きいほど大きく
なる。本発明の水素分離膜の好ましい使用温度範囲は８
００℃以下であり、水素分離膜の両側の水素圧力差の好
ましい範囲は０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ2 である。
る混合ガスを供給すると、水素分離膜は水素のみを選択
的に透過させ、水素分離膜の他方の側から純粋な水素が
流出する。水素の透過速度は温度が高いほど大きく、ま
た水素分離膜の両側の水素の圧力差が大きいほど大きく
なる。本発明の水素分離膜の好ましい使用温度範囲は８
００℃以下であり、水素分離膜の両側の水素圧力差の好
ましい範囲は０．５〜１０ｋｇ／ｃｍ2 である。
【００１５】水素の透過速度は極めて大きく、４００
℃、圧力差２ｋｇ／ｃｍ2 の場合１５〜６０ｃｍ3 ／ｃ
ｍ2 ・ｍｉｎ程度であり、この値は従来のＰｄ膜方法の
３〜１５倍に達する。
℃、圧力差２ｋｇ／ｃｍ2 の場合１５〜６０ｃｍ3 ／ｃ
ｍ2 ・ｍｉｎ程度であり、この値は従来のＰｄ膜方法の
３〜１５倍に達する。
【００１６】ブリードガスは水素分圧が内側の水素の圧
力と等しい状態で取出される。従って取り出すべき、内
側の水素圧力を制御することによりブリードガスの組
成、水素の分取率を制御することが可能となる。
力と等しい状態で取出される。従って取り出すべき、内
側の水素圧力を制御することによりブリードガスの組
成、水素の分取率を制御することが可能となる。
【００１７】
【作用】本発明の水素分離膜においては、バナジウム及
びパラジウムを含有する薄膜を金属多孔体で支持してい
るため、高い強度を有するとともに加工性に富み、モジ
ュール化が容易で、かつ高価なパラジウムの使用量が少
なくて済むという利点がある。
びパラジウムを含有する薄膜を金属多孔体で支持してい
るため、高い強度を有するとともに加工性に富み、モジ
ュール化が容易で、かつ高価なパラジウムの使用量が少
なくて済むという利点がある。
【００１８】
（実施例１）平均粒子径５μｍのＳＵＳ３１６Ｌの金属
微粉末を用い、平均細孔径が２μｍの金属多孔体パイプ
（外径１０ｍｍ、内径８ｍｍ、長さ２５０ｍｍ）を成型
した。このパイプの外側の面にバナジウム及びパラジウ
ムを比率を変えて蒸着したサンプル１〜サンプル３を調
製した。また、バナジウム、パラジウム以外にニッケ
ル、コバルトまたはモリブデンを同時に蒸着したサンプ
ル４〜６を調製した。
微粉末を用い、平均細孔径が２μｍの金属多孔体パイプ
（外径１０ｍｍ、内径８ｍｍ、長さ２５０ｍｍ）を成型
した。このパイプの外側の面にバナジウム及びパラジウ
ムを比率を変えて蒸着したサンプル１〜サンプル３を調
製した。また、バナジウム、パラジウム以外にニッケ
ル、コバルトまたはモリブデンを同時に蒸着したサンプ
ル４〜６を調製した。
【００１９】バナジウム及びパラジウムをコーティング
した金属多孔体パイプ（サンプル１〜６）を水素分離膜
として使用し、図１に示す試験装置で水素透過試験を行
った。水素分離膜１をＯリング２でステンレス鋼製外管
３に固定し、その外側を電気炉（図示省略）で加熱す
る。温度はサーモカップル８を使用し、内管の中心部で
測定した。
した金属多孔体パイプ（サンプル１〜６）を水素分離膜
として使用し、図１に示す試験装置で水素透過試験を行
った。水素分離膜１をＯリング２でステンレス鋼製外管
３に固定し、その外側を電気炉（図示省略）で加熱す
る。温度はサーモカップル８を使用し、内管の中心部で
測定した。
【００２０】供給孔４からＨ2 ／Ｎ2 ＝１（モル）の混
合ガスを連続的に供給し、排出孔５からブリードガスを
排出し、下部の取出孔６から９９．９９％以上の純粋な
水素（圧力：１ｋｇ／ｃｍ2 ａｂｓ．）を得ることがで
きた。なお、図１中、７はスィープガス供給口で、こゝ
からスィープガス（Ｎ2 、スチームのような不活性ガ
ス）を供給した。
合ガスを連続的に供給し、排出孔５からブリードガスを
排出し、下部の取出孔６から９９．９９％以上の純粋な
水素（圧力：１ｋｇ／ｃｍ2 ａｂｓ．）を得ることがで
きた。なお、図１中、７はスィープガス供給口で、こゝ
からスィープガス（Ｎ2 、スチームのような不活性ガ
ス）を供給した。
【００２１】混合ガスの圧力を３ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ、流量
を２０Ｎｌ／ｍｉｎで、４００℃で試験した結果を表１
に示す。
を２０Ｎｌ／ｍｉｎで、４００℃で試験した結果を表１
に示す。
【００２２】
【表１】
【００２３】サンプル４について、混合ガスの圧力及び
温度を変えて試験した結果を表２に示す。
温度を変えて試験した結果を表２に示す。
【００２４】
【表２】
【００２５】（実施例２）繊維径２μｍのＳＵＳ３１６
製金属繊維不織布と２００メッシュ、１００メッシュ及
び４０メッシュの金網（ＳＵＳ３１６）を重ねたものを
１２００℃で３時間加熱し、積層焼結した金属多孔体を
巻き加工し、溶接して径２０ｍｍ×長さ３００ｍｍの金
属多孔体を製作した。このパイプの全厚みは約０．６ｍ
ｍであり、焼結後の前記金属繊維不織布の細孔径は５〜
７μｍ、厚みは０．０５ｍｍとなった。１０μｍ以下の
Ｖ−Ｎｉ合金（８５：１５重量％）粉末を懸濁させた無
電解パラジウム用液（Ｐｄ化合物及びヒドラジン、アン
モニア水を含有）に上記金属多孔体パイプを浸漬し、
Ｖ：Ｐｄ：Ｎｉ＝６０：３４：６（重量％）の組成を有
する薄膜２０μｍを金属多孔体にコーティングした。実
施例１と同様の試験（混合ガス圧力３ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ、
流量を２０Ｎｌ／ｍｉｎ、４００℃）を行った結果、９
９．９９％以上の水素が９．６Ｎｌ／ｍｉｎ得られた。
製金属繊維不織布と２００メッシュ、１００メッシュ及
び４０メッシュの金網（ＳＵＳ３１６）を重ねたものを
１２００℃で３時間加熱し、積層焼結した金属多孔体を
巻き加工し、溶接して径２０ｍｍ×長さ３００ｍｍの金
属多孔体を製作した。このパイプの全厚みは約０．６ｍ
ｍであり、焼結後の前記金属繊維不織布の細孔径は５〜
７μｍ、厚みは０．０５ｍｍとなった。１０μｍ以下の
Ｖ−Ｎｉ合金（８５：１５重量％）粉末を懸濁させた無
電解パラジウム用液（Ｐｄ化合物及びヒドラジン、アン
モニア水を含有）に上記金属多孔体パイプを浸漬し、
Ｖ：Ｐｄ：Ｎｉ＝６０：３４：６（重量％）の組成を有
する薄膜２０μｍを金属多孔体にコーティングした。実
施例１と同様の試験（混合ガス圧力３ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ、
流量を２０Ｎｌ／ｍｉｎ、４００℃）を行った結果、９
９．９９％以上の水素が９．６Ｎｌ／ｍｉｎ得られた。
【００２６】（実施例３）実施例２と同じ金属多孔体パ
イプを用い、このパイプの外側に蒸着法により、まず、
バナジウムとニッケルを９０：１０（重量％）の組成で
膜厚１５μｍになるように蒸着し、さらにパラジウムを
３μｍ蒸着したサンプル８と、まず、バナジウムとニッ
ケルを９０：１０（重量％）の組成で膜厚１５μｍにな
るように蒸着し、さらにパラジウムと銀を７７：２３
（重量％）の組成で５μｍ蒸着したサンプル９を調製し
た。
イプを用い、このパイプの外側に蒸着法により、まず、
バナジウムとニッケルを９０：１０（重量％）の組成で
膜厚１５μｍになるように蒸着し、さらにパラジウムを
３μｍ蒸着したサンプル８と、まず、バナジウムとニッ
ケルを９０：１０（重量％）の組成で膜厚１５μｍにな
るように蒸着し、さらにパラジウムと銀を７７：２３
（重量％）の組成で５μｍ蒸着したサンプル９を調製し
た。
【００２７】実施例１と同様の試験（混合ガス圧力：３
ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ、流量２０Ｎｌ／ｍｉｎ、４００℃）を
行った結果、９９．９９％以上の水素が、サンプル８で
は、１０．８Ｎｌ／ｍｉｎ、またサンプル９では１０．
５Ｎｌ／ｍｉｎ．得られた。
ｋｇ／ｃｍ2 Ｇ、流量２０Ｎｌ／ｍｉｎ、４００℃）を
行った結果、９９．９９％以上の水素が、サンプル８で
は、１０．８Ｎｌ／ｍｉｎ、またサンプル９では１０．
５Ｎｌ／ｍｉｎ．得られた。
【００２８】
【発明の効果】以上、実施例から明らかなように、本発
明の水素分離膜は高温下で水素のみを選択的に透過する
水素分離膜として使用できる。
明の水素分離膜は高温下で水素のみを選択的に透過する
水素分離膜として使用できる。
【図１】本発明水素分離膜の水素分離効果を実証するた
めに使用した試験装置の概略図。
めに使用した試験装置の概略図。
Claims (1)
- 【請求項１】 ０．１〜２０μｍの細孔を有する金属多
孔体の少なくとも一方の表面に、膜厚が５０μｍ以下の
バナジウム及びパラジウムを含有する薄膜を形成させて
なることを特徴とする水素分離膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8366992A JPH05285355A (ja) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | 水素分離膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8366992A JPH05285355A (ja) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | 水素分離膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05285355A true JPH05285355A (ja) | 1993-11-02 |
Family
ID=13808884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8366992A Withdrawn JPH05285355A (ja) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | 水素分離膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05285355A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008200558A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 化学気相析出法を用いた水素透過膜製造装置 |
| WO2012121275A1 (ja) * | 2011-03-07 | 2012-09-13 | 東京瓦斯株式会社 | 水素分離膜及び水素分離装置 |
-
1992
- 1992-04-06 JP JP8366992A patent/JPH05285355A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008200558A (ja) * | 2007-02-16 | 2008-09-04 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 化学気相析出法を用いた水素透過膜製造装置 |
| WO2012121275A1 (ja) * | 2011-03-07 | 2012-09-13 | 東京瓦斯株式会社 | 水素分離膜及び水素分離装置 |
| JP5867502B2 (ja) * | 2011-03-07 | 2016-02-24 | 東京瓦斯株式会社 | 水素分離膜及び水素分離装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100247557B1 (ko) | 수소기체 분리용 복합막의 제조방법 | |
| Nam et al. | Hydrogen separation by Pd alloy composite membranes: introduction of diffusion barrier | |
| US6152987A (en) | Hydrogen gas-extraction module and method of fabrication | |
| Nam et al. | Preparation of a palladium alloy composite membrane supported in a porous stainless steel by vacuum electrodeposition | |
| US8119205B2 (en) | Process for preparing palladium alloy composite membranes for use in hydrogen separation, palladium alloy composite membranes and products incorporating or made from the membranes | |
| JP4729755B2 (ja) | 複合膜、その製造方法及び水素分離膜 | |
| JP2004000970A (ja) | 複合メンブランおよびその製造法 | |
| JP3217447B2 (ja) | 脱水素反応用メンブレンリアクタ | |
| JP3117276B2 (ja) | 水素分離膜 | |
| JP2002355537A (ja) | 水素透過膜及びその製造方法 | |
| JP4759664B2 (ja) | 水素分離膜及び水素分離方法 | |
| JPH04346824A (ja) | 水素分離膜 | |
| JPH05285355A (ja) | 水素分離膜 | |
| JP4112856B2 (ja) | ガス分離体の製造方法 | |
| JPH0444604B2 (ja) | ||
| JP3755056B2 (ja) | 水素分離膜、その製造方法及び水素の分離方法 | |
| JP2012152701A (ja) | 水素分離膜、その製造方法及び水素分離方法 | |
| JP3045329B2 (ja) | 水素分離膜の製造方法 | |
| JPH03217227A (ja) | 脱水素反応用メンブレンリアクタ | |
| JP6561334B2 (ja) | 水素分離膜の製造方法 | |
| JPH06304457A (ja) | 水素分離膜 | |
| JPH0352630A (ja) | 水素分離膜 | |
| JPH02271901A (ja) | 水素分離媒体の製造方法 | |
| Akis | Preparation of Pd-Ag/PSS Composite Membranes for Hydrogen Separation | |
| Holdsworth | Manufacture, Applications, and Opportunities of Thin Film Palladium-Silver (PdAg) Alloys: A Review |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990608 |