JPH05277362A - 一酸化炭素除去用吸着剤及び不活性ガス中の一酸化炭素の除去方法 - Google Patents
一酸化炭素除去用吸着剤及び不活性ガス中の一酸化炭素の除去方法Info
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- JPH05277362A JPH05277362A JP4077049A JP7704992A JPH05277362A JP H05277362 A JPH05277362 A JP H05277362A JP 4077049 A JP4077049 A JP 4077049A JP 7704992 A JP7704992 A JP 7704992A JP H05277362 A JPH05277362 A JP H05277362A
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- Y02C20/40—Capture or disposal of greenhouse gases of CO2
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- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な装置構成で不活性ガス中の一酸化炭素
を吸着除去することができる一酸化炭素除去用吸着剤及
びこれを用いた不活性ガス中の一酸化炭素の除去方法を
提供する。 【構成】 二酸化炭素吸着能力を有する吸着剤に、パラ
ジウム，プラチナの少なくともいずれか一方を、１〜２
０重量％の範囲で担持させた一酸化炭素除去用吸着剤を
用いる。この吸着剤は、あらかじめ該吸着剤に担持され
ているパラジウムやプラチナに酸素を吸着あるいは結合
させておくことにより、被処理ガスに含まれている一酸
化炭素を化学的に吸着し、あるい二酸化炭素に変換して
担体である吸着剤に吸着して除去する。
を吸着除去することができる一酸化炭素除去用吸着剤及
びこれを用いた不活性ガス中の一酸化炭素の除去方法を
提供する。 【構成】 二酸化炭素吸着能力を有する吸着剤に、パラ
ジウム，プラチナの少なくともいずれか一方を、１〜２
０重量％の範囲で担持させた一酸化炭素除去用吸着剤を
用いる。この吸着剤は、あらかじめ該吸着剤に担持され
ているパラジウムやプラチナに酸素を吸着あるいは結合
させておくことにより、被処理ガスに含まれている一酸
化炭素を化学的に吸着し、あるい二酸化炭素に変換して
担体である吸着剤に吸着して除去する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、一酸化炭素除去用吸着
剤及び不活性ガス中の一酸化炭素の除去方法に関し、詳
しくは、窒素ガス，ヘリウム，アルゴンその他の希ガス
等のような不活性ガス中に微量成分として存在する一酸
化炭素を除去することができる吸着剤及び該吸着剤を用
いて前記一酸化炭素を吸着除去し、高純度ガスを得る方
法に関する。
剤及び不活性ガス中の一酸化炭素の除去方法に関し、詳
しくは、窒素ガス，ヘリウム，アルゴンその他の希ガス
等のような不活性ガス中に微量成分として存在する一酸
化炭素を除去することができる吸着剤及び該吸着剤を用
いて前記一酸化炭素を吸着除去し、高純度ガスを得る方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】高純度ガス、例えば、半導体産業で用い
る超高純度窒素ガスを空気液化分離法により得る際に
は、窒素ガスを分離する際に、不純物が極微量になるま
で分離できるように、その工程や前処理を工夫してい
る。
る超高純度窒素ガスを空気液化分離法により得る際に
は、窒素ガスを分離する際に、不純物が極微量になるま
で分離できるように、その工程や前処理を工夫してい
る。
【０００３】しかしながら、大気中に微量に含まれてい
る一酸化炭素は、水や二酸化炭素を除去する通常の吸着
剤では吸着除去することができず、また、その沸点が窒
素に近いために、精留による分離も困難であった。
る一酸化炭素は、水や二酸化炭素を除去する通常の吸着
剤では吸着除去することができず、また、その沸点が窒
素に近いために、精留による分離も困難であった。
【０００４】同様に、他のガス中の微量の一酸化炭素
も、一般の吸着剤を用いた通常の条件では吸着除去する
ことが困難であった。
も、一般の吸着剤を用いた通常の条件では吸着除去する
ことが困難であった。
【０００５】このため、従来から、上記ガス中の一酸化
炭素を除去するために、様々な方法が行われているが、
従来の方法は、基本的には、一酸化炭素含有ガスを貴金
属触媒や金属酸化物により処理し、一酸化炭素を酸化し
て二酸化炭素に変換した後、生成した二酸化炭素を吸着
剤で吸着除去するものである。
炭素を除去するために、様々な方法が行われているが、
従来の方法は、基本的には、一酸化炭素含有ガスを貴金
属触媒や金属酸化物により処理し、一酸化炭素を酸化し
て二酸化炭素に変換した後、生成した二酸化炭素を吸着
剤で吸着除去するものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の一
酸化炭素除去方法において、まず、高純度窒素ガスを製
造する空気液化分離装置の場合は、生成した二酸化炭素
は、該装置に設けられている精製設備で除去することは
できるが、該装置に原料として導入される原料空気が大
量であることから、貴金属触媒を充填した槽が大型化
し、使用する触媒量も多く必要であることから、装置の
大型化、高価格化を招いてしまう。
酸化炭素除去方法において、まず、高純度窒素ガスを製
造する空気液化分離装置の場合は、生成した二酸化炭素
は、該装置に設けられている精製設備で除去することは
できるが、該装置に原料として導入される原料空気が大
量であることから、貴金属触媒を充填した槽が大型化
し、使用する触媒量も多く必要であることから、装置の
大型化、高価格化を招いてしまう。
【０００７】また、上記原料空気とは異なり、酸素をほ
とんど含まないガスを処理する場合は、金属酸化物を用
いるか、あるいは該ガスに酸素を添加して貴金属触媒を
用いるかのいずれかとなる。
とんど含まないガスを処理する場合は、金属酸化物を用
いるか、あるいは該ガスに酸素を添加して貴金属触媒を
用いるかのいずれかとなる。
【０００８】金属酸化物を用いる場合は、一酸化炭素を
酸化することにより還元された金属を、酸素を含むガス
により酸化して再使用する必要があり、生成した二酸化
炭素は、吸着剤を充填した吸着槽を別に設けて除去する
必要がある。したがって、被処理ガスを連続的に処理す
る場合には、金属酸化物を充填した反応槽及び吸着槽
を、それぞれ２基以上用意して交互に再生しながら使用
する必要がある。
酸化することにより還元された金属を、酸素を含むガス
により酸化して再使用する必要があり、生成した二酸化
炭素は、吸着剤を充填した吸着槽を別に設けて除去する
必要がある。したがって、被処理ガスを連続的に処理す
る場合には、金属酸化物を充填した反応槽及び吸着槽
を、それぞれ２基以上用意して交互に再生しながら使用
する必要がある。
【０００９】また、酸素ガスを添加して貴金属触媒で処
理する場合は、反応後に、過剰に添加した酸素を、銅等
の酸素吸収触媒を充填した反応槽で除去する必要がある
とともに、上記同様に、生成した二酸化炭素は、吸着剤
を充填した吸着槽で除去する必要があり、被処理ガスを
連続的に処理する場合には、酸素除去用反応槽及び吸着
槽を、それぞれ２基以上用意する必要がある。
理する場合は、反応後に、過剰に添加した酸素を、銅等
の酸素吸収触媒を充填した反応槽で除去する必要がある
とともに、上記同様に、生成した二酸化炭素は、吸着剤
を充填した吸着槽で除去する必要があり、被処理ガスを
連続的に処理する場合には、酸素除去用反応槽及び吸着
槽を、それぞれ２基以上用意する必要がある。
【００１０】即ち、いずれの場合も、図４に示すよう
に、最低４基の処理槽Ｐ，Ｑを必要とし、図に示す被処
理ガスの管路Ｒだけでなく、再生用の管路とともに、各
処理槽を処理工程と再生工程とに切換えるための多数の
弁を必要としていた。したがって、装置が大型化するだ
けでなく、構成も複雑なものとなっていた。
に、最低４基の処理槽Ｐ，Ｑを必要とし、図に示す被処
理ガスの管路Ｒだけでなく、再生用の管路とともに、各
処理槽を処理工程と再生工程とに切換えるための多数の
弁を必要としていた。したがって、装置が大型化するだ
けでなく、構成も複雑なものとなっていた。
【００１１】そこで本発明は、簡単な装置構成で不活性
ガス中の一酸化炭素を吸着除去することができる一酸化
炭素除去用吸着剤及びこれを用いた不活性ガス中の一酸
化炭素の除去方法を提供することを目的としている。
ガス中の一酸化炭素を吸着除去することができる一酸化
炭素除去用吸着剤及びこれを用いた不活性ガス中の一酸
化炭素の除去方法を提供することを目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ため、本発明の一酸化炭素除去用吸着剤は、二酸化炭素
吸着能力を有する吸着剤に、パラジウム，プラチナの少
なくともいずれか一方を、１〜２０重量％の範囲で担持
させたことを特徴としている。
ため、本発明の一酸化炭素除去用吸着剤は、二酸化炭素
吸着能力を有する吸着剤に、パラジウム，プラチナの少
なくともいずれか一方を、１〜２０重量％の範囲で担持
させたことを特徴としている。
【００１３】また、本発明の不活性ガス中の一酸化炭素
の除去方法は、上記一酸化炭素除去用吸着剤を用いて一
酸化炭素を除去するものであり、前記パラジウム及び／
又はプラチナに酸素を結合させた活性化状態にある前記
一酸化炭素除去用吸着剤を充填した槽内に、一酸化炭素
を含む被処理不活性ガスを導入して該ガス中の一酸化炭
素を吸着除去することを特徴としている。
の除去方法は、上記一酸化炭素除去用吸着剤を用いて一
酸化炭素を除去するものであり、前記パラジウム及び／
又はプラチナに酸素を結合させた活性化状態にある前記
一酸化炭素除去用吸着剤を充填した槽内に、一酸化炭素
を含む被処理不活性ガスを導入して該ガス中の一酸化炭
素を吸着除去することを特徴としている。
【００１４】さらに、具体的な手段として、前記パラジ
ウム及び／又はプラチナに酸素を結合させた活性化状態
にある前記一酸化炭素吸着用吸着剤を充填した槽内に、
一酸化炭素を含む被処理不活性ガスを導入して該ガス中
の一酸化炭素を吸着除去する吸着精製工程と、酸素を含
有する再生ガスを加熱導入して吸着剤を加熱再生活性化
する加熱再生工程と、前記再生ガス又は精製後のガスを
導入して前記吸着剤を冷却する冷却工程と、槽内に精製
後のガスを導入して槽内を冷却するとともに、槽内の前
記再生ガスをパージする冷却パージ工程とを順次繰り返
して行うことを特徴とするものである。
ウム及び／又はプラチナに酸素を結合させた活性化状態
にある前記一酸化炭素吸着用吸着剤を充填した槽内に、
一酸化炭素を含む被処理不活性ガスを導入して該ガス中
の一酸化炭素を吸着除去する吸着精製工程と、酸素を含
有する再生ガスを加熱導入して吸着剤を加熱再生活性化
する加熱再生工程と、前記再生ガス又は精製後のガスを
導入して前記吸着剤を冷却する冷却工程と、槽内に精製
後のガスを導入して槽内を冷却するとともに、槽内の前
記再生ガスをパージする冷却パージ工程とを順次繰り返
して行うことを特徴とするものである。
【００１５】前記一酸化炭素吸着用の吸着剤兼金属の担
体として用いられる吸着剤には、前述のように二酸化炭
素を吸着する能力を有するもの、例えば、各種ゼオライ
トを用いることができ、特に、二酸化炭素吸着能力が高
い１３Ｘ系ゼオライトを用いることが好ましい。
体として用いられる吸着剤には、前述のように二酸化炭
素を吸着する能力を有するもの、例えば、各種ゼオライ
トを用いることができ、特に、二酸化炭素吸着能力が高
い１３Ｘ系ゼオライトを用いることが好ましい。
【００１６】また、上記吸着剤に担持されるパラジウム
及びプラチナの吸着剤中の含有量は、上記の通り、１〜
２０重量％、好ましくは２〜１０重量％であり、少ない
と十分に一酸化炭素を除去することができなくなり、多
すぎても除去効率を向上させることはできない。
及びプラチナの吸着剤中の含有量は、上記の通り、１〜
２０重量％、好ましくは２〜１０重量％であり、少ない
と十分に一酸化炭素を除去することができなくなり、多
すぎても除去効率を向上させることはできない。
【００１７】なお、パラジウム及びプラチナは、いずれ
か一方を用いてもよく、両者を適当に混合して用いても
よい。また、パラジウム及びプラチナを吸着剤に担持さ
せる手段は、従来からこの種のものを各種担体に担持さ
せる手段を用いることができる。
か一方を用いてもよく、両者を適当に混合して用いても
よい。また、パラジウム及びプラチナを吸着剤に担持さ
せる手段は、従来からこの種のものを各種担体に担持さ
せる手段を用いることができる。
【００１８】上記一酸化炭素吸着用吸着剤は、あらかじ
め該吸着剤に担持されているパラジウムやプラチナに酸
素を吸着あるいは結合させて活性化させることにより、
被処理ガスに含まれている一酸化炭素を、化学的に吸着
あるいは酸素と反応させて二酸化炭素に変換させること
ができ、生成した二酸化炭素を、担体である二酸化炭素
吸着能力を有する吸着剤に吸着させることができる。こ
れにより、被処理ガス中から一酸化炭素が除去される。
め該吸着剤に担持されているパラジウムやプラチナに酸
素を吸着あるいは結合させて活性化させることにより、
被処理ガスに含まれている一酸化炭素を、化学的に吸着
あるいは酸素と反応させて二酸化炭素に変換させること
ができ、生成した二酸化炭素を、担体である二酸化炭素
吸着能力を有する吸着剤に吸着させることができる。こ
れにより、被処理ガス中から一酸化炭素が除去される。
【００１９】図１は、本発明方法を実施するための装置
構成の一例を示すものである。
構成の一例を示すものである。
【００２０】この装置には、一対の吸着槽Ａ，Ｂと、被
処理ガス導入側の元弁１及び調節弁２と、精製ガス導出
側の精製ガス貯留槽３と、吸着槽再生時に用いられる排
気管４と、パージ工程時に精製ガスの一部を供給するた
めのパージ弁５，調節弁６及び流量計７を有するパージ
ガス導入管８とが設けられるとともに、それぞれの吸着
槽Ａ，Ｂに附随する入口弁９ａ，９ｂ、出口弁１０ａ，
１０ｂ、再生出口弁１１ａ，１１ｂ、パージガス導入弁
１２ａ，１２ｂが設けられている。
処理ガス導入側の元弁１及び調節弁２と、精製ガス導出
側の精製ガス貯留槽３と、吸着槽再生時に用いられる排
気管４と、パージ工程時に精製ガスの一部を供給するた
めのパージ弁５，調節弁６及び流量計７を有するパージ
ガス導入管８とが設けられるとともに、それぞれの吸着
槽Ａ，Ｂに附随する入口弁９ａ，９ｂ、出口弁１０ａ，
１０ｂ、再生出口弁１１ａ，１１ｂ、パージガス導入弁
１２ａ，１２ｂが設けられている。
【００２１】さらに、両吸着槽Ａ，Ｂの出口部には、吸
着剤を加熱再生するための再生ガスを供給するための再
生ガス供給管１３と、該再生ガスを両吸着槽Ａ，Ｂの出
口部から導入するための再生ガス導入管１４とが設けら
れるとともに、再生ガス供給管１３には、再生ガスを再
生温度に加熱するための加熱器１５が設けられ、再生ガ
ス導入管１４には吸着槽Ａ，Ｂに対応する再生ガス導入
弁１４ａ，１４ｂが設けられている。
着剤を加熱再生するための再生ガスを供給するための再
生ガス供給管１３と、該再生ガスを両吸着槽Ａ，Ｂの出
口部から導入するための再生ガス導入管１４とが設けら
れるとともに、再生ガス供給管１３には、再生ガスを再
生温度に加熱するための加熱器１５が設けられ、再生ガ
ス導入管１４には吸着槽Ａ，Ｂに対応する再生ガス導入
弁１４ａ，１４ｂが設けられている。
【００２２】まず、一方の吸着槽Ａが吸着精製工程，他
方の吸着槽Ｂが再生工程（加熱再生，冷却，パージ）の
場合、所定圧力に昇圧された被処理ガスは、元弁１及び
調節弁２を介して吸着槽Ａに附随する入口弁９ａから吸
着槽Ａに導入され、槽内の前記吸着剤により処理されて
一酸化炭素が除去され、精製されたガスが、出口弁１０
ａを経て精製ガス貯留槽３に貯留され、所定量が精製ガ
ス供給弁３ａから導出される。
方の吸着槽Ｂが再生工程（加熱再生，冷却，パージ）の
場合、所定圧力に昇圧された被処理ガスは、元弁１及び
調節弁２を介して吸着槽Ａに附随する入口弁９ａから吸
着槽Ａに導入され、槽内の前記吸着剤により処理されて
一酸化炭素が除去され、精製されたガスが、出口弁１０
ａを経て精製ガス貯留槽３に貯留され、所定量が精製ガ
ス供給弁３ａから導出される。
【００２３】この間に、他方の吸着槽Ｂでは再生工程が
行われる。この再生工程は、まず、入口弁９ｂ及び出口
弁１０ｂを閉じた後、再生ガス導入弁１４ｂを開き、再
生ガス供給管１３から供給され、加熱器１５で所定温度
に加熱された酸素含有再生ガスを吸着槽Ｂの出口側から
導入する。
行われる。この再生工程は、まず、入口弁９ｂ及び出口
弁１０ｂを閉じた後、再生ガス導入弁１４ｂを開き、再
生ガス供給管１３から供給され、加熱器１５で所定温度
に加熱された酸素含有再生ガスを吸着槽Ｂの出口側から
導入する。
【００２４】なお、上記加熱再生ガス中の酸素量は、再
生ガス量に対して１体積％以下、好ましくは、０．１〜
０．５体積％が適当であり、少なすぎると十分な再生を
行うことができないが、多すぎても十分な効果は得られ
ない。
生ガス量に対して１体積％以下、好ましくは、０．１〜
０．５体積％が適当であり、少なすぎると十分な再生を
行うことができないが、多すぎても十分な効果は得られ
ない。
【００２５】また、再生ガスの加熱温度は、１００〜３
００℃が適当であり、温度が低いと十分な再生が行え
ず、温度を高くすると、加熱エネルギーを大量に必要と
するだけでなく、機器の耐熱性にも問題が生じる。
００℃が適当であり、温度が低いと十分な再生が行え
ず、温度を高くすると、加熱エネルギーを大量に必要と
するだけでなく、機器の耐熱性にも問題が生じる。
【００２６】さらに、再生ガスの主成分としては、被処
理不活性ガスと同種のガスを用いることが好ましく、こ
れにより吸着剤の劣化を抑制することができる。
理不活性ガスと同種のガスを用いることが好ましく、こ
れにより吸着剤の劣化を抑制することができる。
【００２７】前記酸素を含む加熱再生ガスは、再生ガス
導入弁１４ｂを経て吸着槽Ｂの出口側から槽内に導入さ
れ、吸着剤を再生して再生出口弁１１ｂを通り、排気管
４から導出される。
導入弁１４ｂを経て吸着槽Ｂの出口側から槽内に導入さ
れ、吸着剤を再生して再生出口弁１１ｂを通り、排気管
４から導出される。
【００２８】これにより、吸着剤に吸着している二酸化
炭素が脱着して排出されるとともに、パラジウムやプラ
チナに酸素が吸着あるいは結合して再生及び活性化が行
われる。
炭素が脱着して排出されるとともに、パラジウムやプラ
チナに酸素が吸着あるいは結合して再生及び活性化が行
われる。
【００２９】上記加熱再生工程を所定時間行った後、加
熱器１５による加熱を止め、上記再生ガスにより吸着剤
を冷却する。なお、この冷却過程は、下記の精製ガスを
用いて行ってもよいが、加熱再生に使用した再生ガスを
用いることが望ましい。
熱器１５による加熱を止め、上記再生ガスにより吸着剤
を冷却する。なお、この冷却過程は、下記の精製ガスを
用いて行ってもよいが、加熱再生に使用した再生ガスを
用いることが望ましい。
【００３０】次に、吸着槽Ａが吸着工程のまま、精製ガ
スの一部をパージ弁５，調節弁６及び流量計７を介して
パージガス導入管８からパージガス導入弁１２ｂを通し
て吸着槽Ｂに逆流させ、槽内を吸着温度、通常は常温ま
で冷却するとともに、上記酸素含有再生ガスを再生出口
弁１１ｂから排出する冷却パージ工程を行う。
スの一部をパージ弁５，調節弁６及び流量計７を介して
パージガス導入管８からパージガス導入弁１２ｂを通し
て吸着槽Ｂに逆流させ、槽内を吸着温度、通常は常温ま
で冷却するとともに、上記酸素含有再生ガスを再生出口
弁１１ｂから排出する冷却パージ工程を行う。
【００３１】それぞれの吸着工程，加熱再生工程，冷却
パージ工程を所定時間行い、一方の吸着槽Ａの吸着が進
行し、他方の吸着槽Ｂの再生工程が終了すると、各弁が
設定された順序で開閉して吸着槽Ｂが吸着工程に入り、
吸着槽Ａが加熱再生工程に入る。
パージ工程を所定時間行い、一方の吸着槽Ａの吸着が進
行し、他方の吸着槽Ｂの再生工程が終了すると、各弁が
設定された順序で開閉して吸着槽Ｂが吸着工程に入り、
吸着槽Ａが加熱再生工程に入る。
【００３２】以下、例えば窒素ガスを精製する場合に
は、図２に示すようにして吸着槽Ａ，Ｂを順次切換えな
がら連続的に被処理ガス中の一酸化炭素を除去してい
く。
は、図２に示すようにして吸着槽Ａ，Ｂを順次切換えな
がら連続的に被処理ガス中の一酸化炭素を除去してい
く。
【００３３】上記のように、本発明の一酸化炭素吸着用
吸着剤を用いた本発明方法によれば、通常用いられる温
度変動吸着分離装置と略同じ装置構成、略同じ操作手順
により、被処理ガス中の一酸化炭素を連続的に除去して
高純度ガスを得ることができる。
吸着剤を用いた本発明方法によれば、通常用いられる温
度変動吸着分離装置と略同じ装置構成、略同じ操作手順
により、被処理ガス中の一酸化炭素を連続的に除去して
高純度ガスを得ることができる。
【００３４】なお、再生ガスは、被処理ガスに酸素を添
加したガスを用いてもよく、また、空気液化分離装置か
ら排出される排窒素ガス（酸素含有量０．１〜１．０
％）を利用することも可能であり、本発明を超高純度窒
素ガスを製造する空気液化分離装置の窒素精製設備に適
用することにより、超高純度窒素ガスの製造コストを低
減することができる。
加したガスを用いてもよく、また、空気液化分離装置か
ら排出される排窒素ガス（酸素含有量０．１〜１．０
％）を利用することも可能であり、本発明を超高純度窒
素ガスを製造する空気液化分離装置の窒素精製設備に適
用することにより、超高純度窒素ガスの製造コストを低
減することができる。
【００３５】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。 実施例１ 合成ゼオライトにパラジウムを１０重量％担持させた吸
着剤１００ｇを、内径３０ｍｍ×長さ２５０ｍｍのカラ
ムに充填した。前処理として、０．１体積％の酸素を含
有する窒素を、毎分５リットルで流しながら、８時間、
２００℃に加熱した。その後、温度を２００℃に保った
まま、毎分５リットルの窒素ガスで４時間パージした
後、窒素ガスを流しながら２５℃まで冷却した。
着剤１００ｇを、内径３０ｍｍ×長さ２５０ｍｍのカラ
ムに充填した。前処理として、０．１体積％の酸素を含
有する窒素を、毎分５リットルで流しながら、８時間、
２００℃に加熱した。その後、温度を２００℃に保った
まま、毎分５リットルの窒素ガスで４時間パージした
後、窒素ガスを流しながら２５℃まで冷却した。
【００３６】このカラムに、１０ｐｐｍの一酸化炭素を
含む窒素ガスを、大気圧下で毎分１０リットルの割合で
連続的に流したところ、図３に示すように、２８時間後
にカラム出口から二酸化炭素を、５０時間後に一酸化炭
素を検出した。
含む窒素ガスを、大気圧下で毎分１０リットルの割合で
連続的に流したところ、図３に示すように、２８時間後
にカラム出口から二酸化炭素を、５０時間後に一酸化炭
素を検出した。
【００３７】このことから、単位吸着剤あたりの処理能
力は、二酸化炭素が検出されるまでの一酸化炭素処理能
力として、約１．５ｃｃ／ｇであった。この値は、本実
施例のような低濃度（低分圧）における一酸化炭素の吸
着容量として、極めて大きな値である。
力は、二酸化炭素が検出されるまでの一酸化炭素処理能
力として、約１．５ｃｃ／ｇであった。この値は、本実
施例のような低濃度（低分圧）における一酸化炭素の吸
着容量として、極めて大きな値である。
【００３８】実施例２ 実施例１と同じ吸着剤を充填したカラムを２本用意し、
２４時間切換えで交互に吸着工程と再生工程とを繰り返
した。
２４時間切換えで交互に吸着工程と再生工程とを繰り返
した。
【００３９】吸着工程では、１０ｐｐｍの一酸化炭素を
含む窒素ガスを、毎分１０リットル処理し、再生工程で
は、０．１体積％の酸素を含有する窒素を、毎分５リッ
トルで流しながら、８時間、２００℃に加熱し、さらに
温度を２００℃に保ったまま、毎分５リットルの窒素ガ
スで４時間パージした後、窒素ガスを流しながら２５℃
まで冷却した。
含む窒素ガスを、毎分１０リットル処理し、再生工程で
は、０．１体積％の酸素を含有する窒素を、毎分５リッ
トルで流しながら、８時間、２００℃に加熱し、さらに
温度を２００℃に保ったまま、毎分５リットルの窒素ガ
スで４時間パージした後、窒素ガスを流しながら２５℃
まで冷却した。
【００４０】その結果、上記吸着及び再生の両工程を繰
り返しても、窒素ガス中の一酸化炭素は完全に吸着除去
され、カラム出口からは、一酸化炭素，二酸化炭素共検
出されなかった。
り返しても、窒素ガス中の一酸化炭素は完全に吸着除去
され、カラム出口からは、一酸化炭素，二酸化炭素共検
出されなかった。
【００４１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
不活性ガス中の一酸化炭素を吸着工程のみで除去するこ
とができ、操作性，装置規模，装置価格について、大幅
な改善を図ることができる。
不活性ガス中の一酸化炭素を吸着工程のみで除去するこ
とができ、操作性，装置規模，装置価格について、大幅
な改善を図ることができる。
【００４２】特に、一酸化炭素含有量の少ないガスの精
製に好適であり、例えば、半導体産業に用いられる超高
純度ガスを製造する空気液化分離装置から得られるガス
中の一酸化炭素を低コストで除去することができ、超高
純度ガスの製造コストを低減することが可能になる。
製に好適であり、例えば、半導体産業に用いられる超高
純度ガスを製造する空気液化分離装置から得られるガス
中の一酸化炭素を低コストで除去することができ、超高
純度ガスの製造コストを低減することが可能になる。
【図１】 本発明方法を実施するための装置の一例を示
す系統図である。
す系統図である。
【図２】 一対の吸着槽を切換え使用する場合の工程図
である。
である。
【図３】 実施例１の実験結果を示す図である。
【図４】 従来の一酸化炭素除去装置の説明図である。
Ａ，Ｂ…吸着槽 ３…精製ガス貯留槽 ４…排気管
８…パージガス導入管 ９ａ，９ｂ…入口弁
１０ａ，１０ｂ…出口弁 １１ａ，１１ｂ…再生出口
弁 １２ａ，１２ｂ…パージガス導入弁 １３…再
生ガス供給管 １４…再生ガス導入管 １４ａ，１４ｂ…再生ガス導
入弁 １５…加熱器
８…パージガス導入管 ９ａ，９ｂ…入口弁
１０ａ，１０ｂ…出口弁 １１ａ，１１ｂ…再生出口
弁 １２ａ，１２ｂ…パージガス導入弁 １３…再
生ガス供給管 １４…再生ガス導入管 １４ａ，１４ｂ…再生ガス導
入弁 １５…加熱器
Claims (3)
- 【請求項１】 二酸化炭素吸着能力を有する吸着剤に、
パラジウム，プラチナの少なくともいずれか一方を、１
〜２０重量％の範囲で担持させたことを特徴とする一酸
化炭素除去用吸着剤。 - 【請求項２】 前記パラジウム及び／又はプラチナに酸
素を結合させた活性化状態にある請求項１記載の一酸化
炭素除去用吸着剤を充填した槽内に、一酸化炭素を含む
被処理不活性ガスを導入して該ガス中の一酸化炭素を吸
着除去することを特徴とする不活性ガス中の一酸化炭素
の除去方法。 - 【請求項３】 前記パラジウム及び／又はプラチナに酸
素を結合させた活性化状態にある請求項１記載の一酸化
炭素吸着用吸着剤を充填した槽内に、一酸化炭素を含む
被処理不活性ガスを導入して該ガス中の一酸化炭素を吸
着除去する吸着精製工程と、酸素を含有する再生ガスを
加熱導入して吸着剤を加熱再生活性化する加熱再生工程
と、前記再生ガス又は精製後のガスを導入して前記吸着
剤を冷却する冷却工程と、槽内に精製後のガスを導入し
て槽内を冷却するとともに、槽内の前記再生ガスをパー
ジする冷却パージ工程とを順次繰り返して行うことを特
徴とする不活性ガス中の一酸化炭素の除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07704992A JP3213851B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 不活性ガス中の一酸化炭素の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07704992A JP3213851B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 不活性ガス中の一酸化炭素の除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05277362A true JPH05277362A (ja) | 1993-10-26 |
| JP3213851B2 JP3213851B2 (ja) | 2001-10-02 |
Family
ID=13622930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07704992A Expired - Fee Related JP3213851B2 (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | 不活性ガス中の一酸化炭素の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3213851B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6531105B1 (en) * | 1996-02-29 | 2003-03-11 | L'air Liquide-Societe Anonyme A'directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Process and apparatus for removing carbon monoxide from a gas stream |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP07704992A patent/JP3213851B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6531105B1 (en) * | 1996-02-29 | 2003-03-11 | L'air Liquide-Societe Anonyme A'directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Process and apparatus for removing carbon monoxide from a gas stream |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3213851B2 (ja) | 2001-10-02 |
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