JPH05274716A - 光ディスクおよびその製造方法 - Google Patents
光ディスクおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPH05274716A JPH05274716A JP4071260A JP7126092A JPH05274716A JP H05274716 A JPH05274716 A JP H05274716A JP 4071260 A JP4071260 A JP 4071260A JP 7126092 A JP7126092 A JP 7126092A JP H05274716 A JPH05274716 A JP H05274716A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective layer
- substrate
- org
- optical disk
- tilt angle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 チルト角の値が小さく、かつ高温高湿での変
化も少なく、また膜の腐食に対しても効果を発揮する、
安定した読み取り性能を有する光ディスクを提供する。 【構成】 有機モノマーをプラズマ雰囲気中で重合する
とともに、この有機ポリマーを光ディスクの透明プラス
チック基板の鏡面側表面および反対面の表面に堆積す
る。
化も少なく、また膜の腐食に対しても効果を発揮する、
安定した読み取り性能を有する光ディスクを提供する。 【構成】 有機モノマーをプラズマ雰囲気中で重合する
とともに、この有機ポリマーを光ディスクの透明プラス
チック基板の鏡面側表面および反対面の表面に堆積す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学的に情報の記録、
再生あるいは消去を行うのに最適な、チルト角の小さな
光ディスクおよびその製造方法に関するものである。
再生あるいは消去を行うのに最適な、チルト角の小さな
光ディスクおよびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ディスク装置では、光ディスクの情報
記録層に入射された光の反射強度の変化を受光ヘッドを
介して情報として読み取っている。このために、光ディ
スクの歪みにより生じるディスク表面の傾斜角、すなわ
ち、チルト（TILT）角の値が大きくなると、読み取り時
にフォーカスエラーおよびトラッキングエラーを生じて
しまう。
記録層に入射された光の反射強度の変化を受光ヘッドを
介して情報として読み取っている。このために、光ディ
スクの歪みにより生じるディスク表面の傾斜角、すなわ
ち、チルト（TILT）角の値が大きくなると、読み取り時
にフォーカスエラーおよびトラッキングエラーを生じて
しまう。
【０００３】このようなチルト角を生じさせる光ディス
クの歪みは、ディスク基板が吸湿するためや、基板上に
スパッタリングにより情報記録層などを形成する時に行
われる加温等が原因である。
クの歪みは、ディスク基板が吸湿するためや、基板上に
スパッタリングにより情報記録層などを形成する時に行
われる加温等が原因である。
【０００４】このチルト角を小さくする方法としては、
例えば、基板を構成する材質の含水率を下げる、スパッ
タリングの温度条件をマイルドにする等が挙げられる。
さらに、アニーリングを行い、ディスク全体の歪みを緩
和する方法も検討されている。特に、基板の吸湿による
歪みの影響が高い。
例えば、基板を構成する材質の含水率を下げる、スパッ
タリングの温度条件をマイルドにする等が挙げられる。
さらに、アニーリングを行い、ディスク全体の歪みを緩
和する方法も検討されている。特に、基板の吸湿による
歪みの影響が高い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のチ
ルト角解消技術は、必ずしも満足の行くものではなく、
これら技術を組み合わせても、読み取り時にフォーカス
エラーおよびトラッキングエラーが発生してしまうこと
があった。また、長期保存性能を調べるために、高温高
湿下にて強制劣化を行うと、吸湿が生じ、さらに基板歪
み矯正力が緩和され、その結果、チルト角が大きくなっ
てしまう。
ルト角解消技術は、必ずしも満足の行くものではなく、
これら技術を組み合わせても、読み取り時にフォーカス
エラーおよびトラッキングエラーが発生してしまうこと
があった。また、長期保存性能を調べるために、高温高
湿下にて強制劣化を行うと、吸湿が生じ、さらに基板歪
み矯正力が緩和され、その結果、チルト角が大きくなっ
てしまう。
【０００６】本発明の目的は、光ディスクのチルト角の
値が小さく、かつ長期保存性能の優れた、安定した読み
取り性能を有する光ディスクを提供することにある。
値が小さく、かつ長期保存性能の優れた、安定した読み
取り性能を有する光ディスクを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係る光ディスク
は、基板の鏡面側の表面と溝面側の表面とに有機保護層
が形成されている光ディスクにおいて、前記有機保護層
が、プラズマ雰囲気中でモノマーから重合されつつ積層
された緻密な有機ポリマー層であることを特徴とするも
のである。
は、基板の鏡面側の表面と溝面側の表面とに有機保護層
が形成されている光ディスクにおいて、前記有機保護層
が、プラズマ雰囲気中でモノマーから重合されつつ積層
された緻密な有機ポリマー層であることを特徴とするも
のである。
【０００８】また、本発明に係る光ディスクの製造方法
は、基板の溝面側に情報記録層が形成されている光ディ
スクの製造方法でにおいて、有機モノマーをプラズマ雰
囲気中で重合して形成される有機ポリマーを、前記情報
記録層上および／または情報記録層が形成されている面
と対向する基板上に積層して有機保護層を形成すること
を特徴とするものである。
は、基板の溝面側に情報記録層が形成されている光ディ
スクの製造方法でにおいて、有機モノマーをプラズマ雰
囲気中で重合して形成される有機ポリマーを、前記情報
記録層上および／または情報記録層が形成されている面
と対向する基板上に積層して有機保護層を形成すること
を特徴とするものである。
【０００９】本発明で得られる有機保護層は、１×10-1
〜１×10-4Torrの真空チャンバー内において、Ar+ 、Xe
+ 、He+ 、Ne+ 等の不活性ガスのプラズマ下で、有機モ
ノマーから再重合され、透明基板の鏡面側表面もしくは
該基板の反対面に形成されている情報記録層等の表面上
に、形成される。
〜１×10-4Torrの真空チャンバー内において、Ar+ 、Xe
+ 、He+ 、Ne+ 等の不活性ガスのプラズマ下で、有機モ
ノマーから再重合され、透明基板の鏡面側表面もしくは
該基板の反対面に形成されている情報記録層等の表面上
に、形成される。
【００１０】前記有機モノマーを発生させる方法として
は、テフロン、アモルファスポリオレフィン、ポリカー
ボネート、アクリル、ポリイミド、ポリアミド、ポリエ
ーテル、エポキシ等の樹脂に、Ar+ 、Xe+ 、He+ 、Ne+
等の高速粒子を衝突させる方法、または、前記樹脂に熱
的振動エネルギーを与えて、プラズマ雰囲気中に導き入
れる方法がある。この時、プラズマ中に水素、酸素、窒
素、水、等の分子またはイオンを投入することもでき
る。
は、テフロン、アモルファスポリオレフィン、ポリカー
ボネート、アクリル、ポリイミド、ポリアミド、ポリエ
ーテル、エポキシ等の樹脂に、Ar+ 、Xe+ 、He+ 、Ne+
等の高速粒子を衝突させる方法、または、前記樹脂に熱
的振動エネルギーを与えて、プラズマ雰囲気中に導き入
れる方法がある。この時、プラズマ中に水素、酸素、窒
素、水、等の分子またはイオンを投入することもでき
る。
【００１１】本発明の光ディスクにおいては、透明プラ
スチック基板の鏡面側に、また、前記鏡面の反対面に形
成されている情報記録層側に、無機物の酸化物、窒化
物、酸窒化物、弗化物、硫化物、炭化物等の透明体が形
成されていてもかまわない。
スチック基板の鏡面側に、また、前記鏡面の反対面に形
成されている情報記録層側に、無機物の酸化物、窒化
物、酸窒化物、弗化物、硫化物、炭化物等の透明体が形
成されていてもかまわない。
【００１２】
【作用】前記構成によれば、光ディスクの表面に極めて
緻密で平坦な有機保護層を基板に歪み応力を与えること
なく形成することができるため、光ディスクの読み取り
時のフォーカスエラーおよびトラッキングエラーの原因
となるチルト角を大幅に小さくすることができ、高湿下
においても吸湿することが少なく、経時的にチルト角が
増大することもない。
緻密で平坦な有機保護層を基板に歪み応力を与えること
なく形成することができるため、光ディスクの読み取り
時のフォーカスエラーおよびトラッキングエラーの原因
となるチルト角を大幅に小さくすることができ、高湿下
においても吸湿することが少なく、経時的にチルト角が
増大することもない。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
は、この実施例に限定されるものではない。
は、この実施例に限定されるものではない。
【００１４】（実施例）真空チャンバー内でポリカーボ
ネートからなる透明基板の溝面側に情報記録層を含むSi
Nx-TbFeCo-SiNx-Al の４層膜をスパッタリングにより形
成し、その後、この真空チャンバー内を２×10-6Torrま
で排気し、Ar：100sccm を投入し、５×10-3Torrとし
た。
ネートからなる透明基板の溝面側に情報記録層を含むSi
Nx-TbFeCo-SiNx-Al の４層膜をスパッタリングにより形
成し、その後、この真空チャンバー内を２×10-6Torrま
で排気し、Ar：100sccm を投入し、５×10-3Torrとし
た。
【００１５】次に、RF電源を用いて、水冷銅バッキング
プレート上にテフロン樹脂を接着したターゲットからテ
フロンのモノマーをスパッタリングした。Arプラズマ中
に導かれたテフロンモノマーが、この中で再重合し、前
記透明基板の鏡面側にテフロン薄膜として、約100nm の
緻密で平坦な有機保護層が堆積した。次に、基板の溝面
側の前記４層膜上にも同様な方法により、テフロンを約
100nm 堆積した。
プレート上にテフロン樹脂を接着したターゲットからテ
フロンのモノマーをスパッタリングした。Arプラズマ中
に導かれたテフロンモノマーが、この中で再重合し、前
記透明基板の鏡面側にテフロン薄膜として、約100nm の
緻密で平坦な有機保護層が堆積した。次に、基板の溝面
側の前記４層膜上にも同様な方法により、テフロンを約
100nm 堆積した。
【００１６】（比較例）ポリカーボネート基板の溝面側
に前記実施例と同様に４層膜をスパッタリングにより形
成した後、紫外線硬化型樹脂XNR-5461（長瀬チバ株式会
社製）をスピンコートにより形成し、膜厚は18μm とし
た。
に前記実施例と同様に４層膜をスパッタリングにより形
成した後、紫外線硬化型樹脂XNR-5461（長瀬チバ株式会
社製）をスピンコートにより形成し、膜厚は18μm とし
た。
【００１７】前記実施例および比較例の試料のチルト角
を、試料作製直後と、および温度80℃で、相対湿度85％
RHの環境下に2000hr放置して強制劣化した後に、測定し
た。測定した各試料の各チルト角の値を下記の表１に示
す。
を、試料作製直後と、および温度80℃で、相対湿度85％
RHの環境下に2000hr放置して強制劣化した後に、測定し
た。測定した各試料の各チルト角の値を下記の表１に示
す。
【００１８】
【表１】 試料作製直後のチルト角 強制劣化後のチルト角 実施例 ２mrad. ２mrad. 比較例 ５mrad. ９mrad. また、強制劣化した後の各有機膜は、実施例では、ほと
んど腐食が見られないのに対して、比較例では、ピット
全面に亙って腐食が発生した。
んど腐食が見られないのに対して、比較例では、ピット
全面に亙って腐食が発生した。
【００１９】比較例と本発明による実施例との上記性能
差は、比較例では溶液塗布乾燥による膜形成であるた
め、できあがった膜の平坦性，緻密性が低く、一方、本
発明におけるプラズマ重合堆積による膜形成は平坦性，
緻密性が高いことが原因で生じるものと思われる。
差は、比較例では溶液塗布乾燥による膜形成であるた
め、できあがった膜の平坦性，緻密性が低く、一方、本
発明におけるプラズマ重合堆積による膜形成は平坦性，
緻密性が高いことが原因で生じるものと思われる。
【００２０】本実施例ではプラズマ重合を行う真空度
は、用いるモノマーの材質によって異なるが、１×10-1
〜１×10-4Torr範囲で行うと平坦性，緻密性の高い有機
保護膜を得ることができる。
は、用いるモノマーの材質によって異なるが、１×10-1
〜１×10-4Torr範囲で行うと平坦性，緻密性の高い有機
保護膜を得ることができる。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光ディスクの表面に緻密で平坦な有機保護層が形成され
るので、チルト角の値が小さく、かつ高温高湿での変化
も少なく、また膜の腐食に対しても効果を発揮する、安
定した読み取り性能を有する光ディスクを提供できる。
光ディスクの表面に緻密で平坦な有機保護層が形成され
るので、チルト角の値が小さく、かつ高温高湿での変化
も少なく、また膜の腐食に対しても効果を発揮する、安
定した読み取り性能を有する光ディスクを提供できる。
Claims (2)
- 【請求項１】 基板の鏡面側の表面と溝面側の表面とに
有機保護層が形成されている光ディスクにおいて、 前記有機保護層が、プラズマ雰囲気中でモノマーから重
合されつつ積層された緻密な有機ポリマー層であること
を特徴とする光ディスク。 - 【請求項２】 基板の溝面側に情報記録層が形成されて
いる光ディスクの製造方法において、 有機モノマーをプラズマ雰囲気中で重合して形成される
有機ポリマーを、前記情報記録層上および／または情報
記録層が形成されている面と対向する基板上に積層して
有機保護層を形成することを特徴とする光ディスクの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4071260A JPH05274716A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | 光ディスクおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4071260A JPH05274716A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | 光ディスクおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05274716A true JPH05274716A (ja) | 1993-10-22 |
Family
ID=13455578
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4071260A Pending JPH05274716A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | 光ディスクおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05274716A (ja) |
-
1992
- 1992-03-27 JP JP4071260A patent/JPH05274716A/ja active Pending
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