JPH0414645A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は、光情報記録媒体に係り、より詳細には、光情
報記録媒体に生ずる反りの問題を解決した光情報記録媒
体に関する。

〔従来の技術］ 従来、光情報記録媒体に生ずる反りの矯正を試みた技術
としては、特開平１−２７１９４４号公報に記載された
技術が知られている。この技術は、ポリカーボネート等
の透明基板の片面に、中間層−記録層−保護層の構成を
有する光情報記録層を形成した光磁気記録媒体において
、保護層の上に、体積収縮率が３〜１５％である光硬化
樹脂層を２μｍ厚で設け、次に、透明基板の裏面側にこ
れより小さな体積収縮率を有する光硬化樹脂層を２μｍ
厚で設けるものである。この技術は、透明基板の表面と
裏面とての体積縮率の差を利用して媒体の反りを矯正せ
んとするものである。

ところで、基板に透明樹脂（プラスティック）を用いた
単板の光情報記録媒体では、樹脂の本来持つ温度湿度に
よる形状の変化が問題とされている。すなわち、光情報
記録媒体の一方の面のみに、記録層ならびに保護層を設
けるような単板の光情報記録媒体においては、光情報記
録層側の面と光情報記録層と反対側の面とては異なる表
面状態となる。

まず、吸湿という面では、温度一定の状態で光情報記録
媒体を低湿の環境下から高温へと変化させると、基板の
吸湿性のため、面による偏りか生じ、光情報記録層側の
面か凹状の形状に変化する。次に温度変化という面では
、湿度一定の状態で光情報記録媒体の環境を低温から高
温へと変化させると、熱膨張率の差のため面による偏り
（いわゆるバイメタル効果）か生し、光情報記録層側の
面か凹状の形状状態に変化する。

さて、前記従来技術の内容では、これらの基本的事実に
は触れられていない。先行文献で考慮されているのは光
情報記録媒体の製造時に生じてしまった反りの初期値を
いかに矯正するかという事のみである。仮に前述した従
来技術によって初期値的に矯正されたとしても、吸湿と
いう面では数μｍの有機薄膜（光硬化樹脂層）があるだ
けでは透湿の速度が遅くなるたけて、有機薄膜を水分が
透過した際にはやはり吸湿性に起因する偏りが生し光情
報記録媒体は反ってしまう。温度という面では、熱膨張
率の差に起因する偏りの解消が必要であるが、従来技術
ではこの点については考慮されていない。

このように、透明樹脂基板の片面のみに記録層および保
護層などを形成してなる単板仕様の光情報記録媒体は、
環境の変化（湿度ないし温度の変化）に対する基板の伸
縮に関し表面と裏面とて差があるため変形が生じる。こ
の変形は、通常、光情報記録媒体の面反りとなる。この
ような問題やは、実使用に際し、光情報記録媒体の機械
的特性ひいては記録再生信号特性（例えは、トラッキン
グエラーの多発を招くので）に悪影響を与えるので、な
んらかの方法を請じてこれを防止する必要がある。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、単板で構成することにより生ずる反りの問題
を解決し、トラッキングエラーの少ない安定した特性を
有する単板構成の光情報記録媒体を提供することを目的
とする。

また、本発明は、透明樹脂基板を用いる単板仕様の光情
報記録媒体において実使用時における温度湿度などの環
境変化に対する機械的変化のきわめて小ざＣ）光情報記
録媒体を提供することを目的とする。

さらに、本発明は、実使用環境を考遺して、光が入射す
る面の最表面に導電性を付与することにより、実使用環
境下での合成樹脂のｆ電によるゴミの付着を極力低減し
、信号記録再生能力の低下を改善した光情報記録媒体を
提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 上記課題を解決するための光情報記録媒体は、合成樹脂
からなる光情報記録媒体用透明基板の一方の面上に、誘
電体層、記録層および保護層を少なくとも有する光情報
記録層が形成され、他面側の基板面上に、シリルパーオ
キサイド化合物のプラズマ重合膜からなる下地層を介し
て無機材料からなる透明薄膜層が形成されていることを
特徴と（透明基板） 透明基板の材料としては、例えば、ポリカーボネート、
アクリル、エポキシ等従来から使用されている光情報記
録媒体用の透明合成樹脂基板であればどれを用いてもよ
い。

（誘電体層および保護層） 保護層は、主に記録層の酸化による特性劣化を防止する
目的で記録層の外側に形成される。また、誘電体層は光
の多重反射を利用したカー効果の増大による再生特性の
向上その他を目的として記録層の内側に形成される。誘
電体層は複層化されてもよい。

中間層および保護層の材料としては、例えは、ＳｉＯ２
、ＳｉＮ、、５ｉＡＪＺＯＮ、５ｉＡＩｌＮなどいずれ
も使用可能であり、その厚さは一般に２ｏＯ〜２０００
人である。

（記録層） 記録層は、光情報記録媒体の情報記録作用を有するもの
であれば特に限定されない。記録層の材料としては、例
えば、ＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣ。

ＧｄＦｅ、ＧｄＴｂＦｅ、ＴｂＣｏ、ＤＹＦｅＮｄＤｙ
ＦｅＣｏなとがいずれも使用可能である。

また、上記の光磁気記録膜に限らす相変化型や有機色素
系の記録層であっても使用可能である。

記録層の厚さは一般に２００〜１０００人てある。

本発明の光情報記録媒体は、上記透明基板の一方の面に
少なくとも開型体層、記録層及び保護層がこの順に積層
されているが、保護層の外表面に、一般に使用されてい
るアルミニウムよりなる反射層や紫外線硬化樹脂よりな
るオーバーコート層か積層されてもよい。

（下地層） 本発明では、光情報記録層が形成されている側と反対側
の基板面上に下地層を介して無機材料からなる透明薄膜
層を形成する。

本発明では、下地層としての材料としてシリルパーオキ
サイド化合物のプラズマ重合膜を用いる。シリルパーオ
キサイド化合物のプラズマ重合膜よりなる下地層は、カ
ップリング剤としての作用を有していると考えられ、基
板と無機材料からなる透明薄膜層との密着性を高め、光
情報記録媒体の反りを防止し、各種特性の向上に寄与す
る。

シリルパーオキサイド化合物は下記式により表されるも
のが好ましい。

Ｒ，ｏＳ　ｉ　　（○○Ｒ’　　）　　。

式中、Ｒは炭素数１から６の炭化水素基、ビニル基、メ
タクリロキシ基、ニボキシ基、アミノ基、メルカプト基
、弗素または塩素を有する有機基であり、Ｒｏはアルキ
ル基、アシル基、アリールアルキル基から選はれる１種
もしくは複数の結合基であり、ｎは１〜４の整数である
。

より具体的には、例えは、ビニルトリス（ｔ−ブチルパ
ーオキシ）シラン、ビニルトリス（キュメンバーオキシ
）シラン、ビニルトリス（アセチルパーオキシ）シラン
、ビニルトリス（ベンゾイルパーオキシ）シラン、ビニ
ルトリス（ラウロイルパーオキシ）シラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリス（ｔ−ブチルパーオキシ）シラン
、γ−グリシドキシプロピルトリス（キュメンバーオキ
シ）シラン、γ−グリシトキシプロビルトリス（アセチ
ルパーオキシ）シラン、γ−グリシドキシプロビルトリ
ス（ベンゾイルパーオキシ）シラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリス（ラウロイルパーオキシ）シラン、γ−
メタクリロキシプロピルトリス（１−ブチルパーオキシ
）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリス（キュメ
ンバーオキシ）シラン、γ−メタクソロキシブロビルト
リス（アセチルパーオキシ）シラン、γ−メタクリロキ
シプロピルトリス（ヘンシイルバーオキシ）シラン、γ
−メタクリロキシプロピルトリス（ラウロイルパーオキ
シ）シランなどを挙げることができる。

プラズマ重合膜は基板との密着性に優れているが、基板
を加熱することにより基板との密着性がさらに向上する
。一般に有機硅素化合物のプラズマ重合膜を酸素ガスで
プラズマ処理することによフて表面が選択的にＳ　ｉ　
Ｏ，により近くなるので次に積層する透明薄膜との密着
性がさらに向上する。基板加熱は基板のＴｇより数十度
低い温度で行えば、基板の性能低下は起こらない。

（透明薄膜層） 透明薄膜層を形成する無機材料としては、任意の無機材
料が使用可能であるが、耐熱性及び耐湿性にすぐれたも
のが好ましく、例えば、酸化ジルコニウム、酸化カルシ
ウム、酸化タンタル、酸化インジウム、酸化タングステ
ン、酸化カドミウム、ａｌｔ化アンチモン、酸化ニオブ
、酸化セシウム、酸化イツトリウム、酸化アルミニウム
、酸化珪素などが挙げられる。このうち少なくとも一種
を用いるか又は、二種以上を併用しても良いし、保護層
を形成する無機材料と併用してもよい。

透明薄膜層は１層構造ではなく、２層以上の多層構造と
してもよい。

多層構造の場合、外層（特に最外層）は、導電性を有す
る材料から構成することか好ましい。かかる材料として
は、例えは、酸化インシラノ４、酸化すす、酸化カドミ
ウムなどが挙げられる。このうち少なくとも１種類を用
いるか、または、複数を用いてもよい。

透明薄膜層は、任意の厚さに形成することができる。し
かしながら、記録再生時の透過光量の低下を防ぎ、透明
樹脂基板に対する入射光の反射を防止するための位相条
件および振幅条件を満足するような厚さになされている
のが好ましい。

また、透明基板に対する入射光量の揖失を防止するため
、透明薄膜層と透明基板との界面での反射か最小になる
ように透明薄膜層の屈折率（ｎ）は１．３＜（ｎ）＜２
．２の範囲か好ましいが屈折率か小さくなると膜質か低
下して防湿性か低下する。

さらに、透明薄膜層の熱膨張率が光情報記録層のそれと
異なると記録媒体か熱により変形するので両層の熱膨張
率は同程度であるのが好ましい。

従って透明薄膜層の厚みは６ｏＯ〜３５００人が好まし
く、より好ましくは１０００〜３０００人である。

また、多層構造とし、導電性を有する層を形成する場合
この層の厚さは５０〜１０００人が好ましい。

（製造方法例） 本発明に係る光情報記録媒体は例えば次のようにして作
成すればよい。

■下地層の形成 用いるプラズマ重合装置は公知のものでよく、ペルジャ
ー型内部電極方式、ベルジャ−型外部電極方式、管型無
電極方式等の装置をいずれも用いることかできる。プラ
ズマ重合条件は、用いる装置の種類、犬ぎさ及び用いる
千ツマ−の種類、モノマーの流量、キャリアーガスの圧
力、放電電力などに依存する。キャリアーガスとしては
、酸素、アルゴン、窒素なとの通常のカスか使用でざる
。また、プラズマ発生源としては、高周波放電の他に、
マイクロ波放電、直流放電、交流放電などいずれも使用
できる。

放電電力は１０〜１００Ｗ、ガス圧力０５〜２．０ｔｏ
ｒｒ、シリルパーオキサイド化合物子ツマ−流量０　、
　１〜２０　ｃｃ／ｍｉｎまた、酸素、アルゴン、窒素
などのガスを使用する場合はガス圧力は０．１〜１．０
ｔｏｒｒが好ましい。重合時間は３０秒〜５分程度でよ
い。基板加熱は、使用する基板の７ｇ以下、例えばポリ
カーボネート基板では７０〜９０℃程度か好ましい。

プラズマ重合膜は酸素カスでプラズマ処理されると透明
薄膜層との密着性がさらに向上するが、このプラズマ処
理は、プラズマ重合装置にてモノマーカスを排気の後酸
素ガス雰囲気下で行うのか好ましい。処理条件は、用い
る装置の大きさ、種類、放電電力などに依存するか、通
常は放電電力１０〜１００Ｗ、カス圧力０．　５〜２．
　０ｔｏｒｒガス流量５０〜２００　ｃｃ／ｍｉｎか好
ましく、処理時間は３０秒から１分程度でよい。

■無機透明薄膜の形成 無機材料からなる透明薄膜層の形成は、例えば蒸着、イ
オンブレーティング、スパッタリング、プラズマ重合、
プラズマＣＶＤなと基板上に均一に成膜てきる製法てあ
れは何てもよい。

なお、光情報記録層と無機材料からなる透明薄膜層の成
膜順序はどちらか先でもかまわない。

［実施例］ 次に本発明の詳細な説明する。

（実施例１） 本発明に係わる光情報記録媒体の模式断面図の一例を第
１図（ａ）に示す。

第１図（ａ）において、１は透明樹脂基板であり、図で
は上面に案内清か作られている。２はシリルパーオキサ
イド化合物のプラズマ重合服による下地層、３は無機材
料からなる透明薄膜層であり、本例では一層構造である
。４および６はそれぞれ銹電体層および保護層、５は光
磁気記録層、７は反射層、８は紫外線硬化樹脂なとのオ
ーバーコート層である。

もちろんここでの４〜８は記録層および保護層という性
格の層であり、それぞれの記録方式に最適な構成をとる
ことかできる。従って、この４〜８の膜の構成および数
か変更されることは何ら差し支えない。

第１図（ａ）に示す構造の光情報記録媒体を以下の手順
により作成した。

■光情報記録層の形成 ポリカーボネート樹脂からなる光情報記録媒体用基板（
１３０φ、厚さ１．２ｍｍ）上に、アルゴン雰囲気下、
７．０ｘｌＯ−３ｔｏｒｒで真空蒸着し、Ｓ’ｉＡ、Ｑ
ＯＮ層（銹電体層４）を１０００人厚に５ＴｂＦｅＣｏ
層（記録層５）を３００人厚に、Ｓ　ｉ　ＡＡＯＮ層（
保護層６）を３００人厚５、Ａｆｌ膜（反射層７）を１
００ＯＡ厚に、順次成膜し、光情報記録層を形成した。

つきに、紫外線硬化樹脂（大日末インキ化学社製５Ｄ−
３０１）をスピンコード法（３００ｒｐｍＸ１２秒）に
より塗布した後、紫外線を５ジユール照射して硬化し、
光情報記録層の上に厚さ１２μｍのオーバーコート層を
形成した。

■下地層の形成 光情報記録層を形成した面の裏面側に、下記の条件でプ
ラズマ重合膜を形成した。

ビニルトリス（ｔ−ブチルパーオキシ）シラン　ガス流
量−１ｃｃ／ｍ１ｎＡｒガス流量−１００ｃｃ／ｎ＋ｉ
ｎ 放電周波数−１３，５６ＭＩ（ｚ ガス圧カー１．５ｔｏｒｒ 放電電力−１ｏＯＷ 放電時間−１，０ｍ１ｎ 基板温度−７０℃ 次に反応層中の千ツマーガスを完全に除去した後、−旦
１０−３ｔｏｒｒまて真空排気し、下記の条件てプラズ
マ処理を行なった。

酸素ガス流量−５０ｃｃ／ｍｉｎ 放電周波数−１３，５，６ＭＨｚ ガス圧カー１．５ｔｏｒｒ 放電電力−１００Ｗ 放電時間−０，７ｍ１ｎ 膜厚は１８０人であった。

■無ｍ透明ｉ膜の形成 下地層２を形成後、スバ・ンタ装置の真空槽に基板を導
入し、その後１ｘｔｏ−’ｔｏｒｒまて排気し、ついで
、ＡｒカスをｌＸｌ０−２ｔｏｒｒ導人し、プラズマス
パッタリングによりＳｉＯ２よりなる透明薄膜層３を成
膜した。

本例では透明薄膜層３の膜厚は３０００人とした。

（実施例２） 本例では、透明薄膜層３としてＡＪ２２０３を用いた、 それ以゛外は実施例１と同様にしてサンプルを作成した
。

透明薄膜層３の膜厚は３０００人であった。

（実施例３） 本例では、透明薄膜層３としてＺｒＯ，を用いた、 それ以外は実施例１と同様にしてサンプルを作成した。

透明薄膜層３の膜厚は３０００人てあフた。

（実施例４） 本例では、透明薄膜層３として、酸化チタンと酸化硅素
の混合物よりなる複合膜を用いたサンプルを作成した。

サンプルの作成はスパッタリング法により、酸化シリコ
ンターゲット上に酸化チタンチップを置ぎ、ＲＦスパッ
タにより作成した。

透明薄膜層３の膜厚は３０００人であった。

ガス圧などの条件は実施例１とおなしとした。

この透明薄膜層のＥＳＣＡ分析により、おおよそ透明薄
膜層の組成は、Ｓｉ　：Ｔｉ　：Ｏ＝２：１：６（原子
比）であることが判明した。

（実施例５） 本例では、下地層のプラズマ重合膜を酸素プラズマ処理
をしないで形成した。

この点以外は実施例１と同様にして単板使用の光情報記
録媒体を作成した。

（比較例１） 本例では、透明薄膜層も下地層も形成せす、単板仕様の
光情報記録媒体を実施例１て述へた■と同様にして作成
した。

（比較例２） 本例では、透明薄膜層を下地層を介在させずに形成した
。

この点以外は実施例１と同様にして単板仕様の光情報記
録媒体を作成した。

以上のようにして作成したサンプルのうち実施例５以外
を用いて、温湿度変化に対する試験を行った〇 ［湿度変化試験］ 試験は、はじめに、２５℃、４５％ＲＨの環境下にサン
プルを１００時間放置し、次に、３０分間以内の間に温
度はそのまま２５℃とし、湿度ｉｔ９０％ＲＨに昇湿し
、そのままの状態に２０時間放置し、次に、また元の２
５℃、４５％ＲＨに３０分間で５ｉ湿し、その後保持す
ることにより行った。

このときのサンプルの反り量の変化を第２図（ａ）に示
す。

［温度変化試験］ ２５℃、４５％ＲＨから３０分間の間に６５℃、４５％
Ｒｆ（に昇温し、そのまま２０時間保持し、その後３０
分間でまた元の２５℃、４５％ＲＨへ降温することを行
な）た。このときのサンプルの反り量の変化を第２図（
ｂ）に示す。

なお、反り量は、記録層が形成されている側の面が凸の
方向を（−）マイナスとし、凹の方向を（＋）プラスと
し、基板の中心から６０ｍｍにおける反り角を示した（
単位ｍｒａｄ）。

図からもわかるように、本例によるシリルパーオキサイ
ド化合物のプラズマ重合物を介して無機材料からなる透
明薄膜を設けたサンプルではいずれも環境変化に対する
反り角の変化が小さかフた。一方、これを設けていない
サンプルでは大きな変化を示してた。これらの事から、
本例のようにシリルパーオキサイド化合物のプラズマ重
合物を介して無機材料からなる透明薄膜を形成した場合
には、単板仕様の光情報記録媒体の、環境変化に起因す
る形状変化を大幅に抑制できることかわかった。

［信号特性コ 実施例１〜５及び比較例１・２の７つのサンプルについ
て、８０℃、９０％ＲＨに５００時間の環境加速試験を
行い、Ｃ／Ｎ、Ｂ、Ｅ、Ｒ（ピットエラーレイト）信号
特性の変化について調べた結果を表１に示す。

表１に示す結果から、無機材料からなる透明薄膜層を、
直接基板裏面に設けるだけ　（比較例２）よりも、下地
層を介して形成した方が明らかに良好な信号特性が得ら
れることがわかる。

表１ ＊Ｃ／Ｎは初期値をＯとした。

）ｋＢ、Ｅ、Ｒ，は初期の値を１とし、その何倍になっ
たかを示しである。

（実施例６） 本実施例に係わる光情報記録媒体の模式断面図の一例を
第１図（ｂ）に示す。

第１図（ａ）に示す構造と第１図（ｂ）に示す構造との
相違は、第１図（ｂ）に示す構造は透明薄膜層か、第１
層３と第２層９とからなっている点である。すなわち、
本例は、透明薄膜層か多層構造をしている場合を示す例
である。

第１図（ｂ）に示す構造の光情報記録媒体を以下の手順
で作成した。

■透明薄膜第１層の形成 実施例１で行ったと同様にして基板に光情報記録層及び
下地層２を形成後、スパッタ装置の真空槽に基板を導入
し、その後ｌＸｌ０−’ｔｏｒｒまで排気し、ついで、
Ａｒガスを１×１０ｔｏｒｒ導入し、５ｉ０２よりなる
透明薄膜第１層３を成膜した。透明薄膜第１層３は２５
００人てあった。

■透明薄膜第１層の形成 透明薄膜第１層３を形成後、すず−インジウム合金のタ
ーケラトを用いて、酸素＝囲気中での反応性ＤＣスパッ
タリング法を行った。形成された薄膜は、酸化すすと酸
化インジウムとの混合物からなっており、この層は、導
電性を有する透明薄膜であった。

この透明薄膜第２層９の厚さは、５００人であり、透明
薄膜第１層３と透明薄膜第２層９との膜厚の総和は３０
００人であった。

（実施例７） 透明薄膜第１層３としてＡＪ２２０３を用いた。

それ以外は実施例６と同様にしてサンプルを作成した。

透明薄膜第１層３と第２層９との膜厚の総和は３０００
人であった。

（実施例８） 透明薄膜第１層３としてＺ　ｒ　Ｏ２を用いた。

それ以外は実施例６と同様にしてサンプルを作成した。

第１層と第２層との膜厚の総和は３０００人であった。

（実施例９） 本例では、透明７ｉ！膜第１層３として、酸化チタンと
酸化硅素の複合膜を用いてサンプルを作成した。

製法はスパッタリング法により、酸化シリコンターケラ
ト上に酸化チタンチップを置き、ＲＦスパッタにより作
成した。

透明薄膜第１層と第２層との膜厚の総和は３０００人で
あった。

ガス圧などの条件は実施例６とおなしとした。

透明薄膜第１層３をＥＳＣＡ分析したところ、おおよソ
ソノ組成は、Ｓｉ　：Ｔｉ　：Ｏ＝２：　１　：６（原
子比）であった。

（実施例１０） 本例では、ブライマー層のプラズマ重合膜を酸素プラズ
マ処理をしないで形成した。

この点以外は実施例６と同様にして単板使用の光情報記
録媒体を作成した。

（比較例３） 本例では、透明薄膜第１層と第２層を形成したが、その
際下地層を介在させずに形成した。

その点以外は実施例６と同様にして単板仕様の光情報記
録媒体を作成した。

実施例６〜９及び比較例１・３のサンプルを用いて、実
施例１について行ったと同様の方法で温湿度変化に対す
る試験を行った。

湿度変化試験における基板の反り量の変化を第３図（ａ
）に示す。

温度変化試験における基板の反り量の変化を第３図（ｂ
）に示す。

尚、反り量の測定は実施例１の場合と同様とした。

第３図（ａ）および第３図（ｂ）からもわかるように、
本実施例のようにシリルパーオキサイド化合物のプラズ
マ重合膜を介して無機材料からなる透明薄膜を設けたサ
ンプルではいずれも環境変化に対する反り角の変化が小
さかった。一方、無機材料からなる透明薄膜を設けない
サンプルあるいは、シリルパーオキサイド化合物のプラ
ズマ重合膜を介さずに無機材料からなる透明薄膜を設け
たサンプルでは大きな変化を示している。これらの事か
ら、本実施例のようにシリルパーオキサイド化合物のプ
ラズマ重合膜を介して無機材料からなる透明薄膜を形成
した場合には、単板仕様の光情報記録媒体の、環境変化
に起因する形状変化を大幅に抑制できることがわかった
。

実施例６〜１０及び比較例３の６つのサンプルについて
、８０℃、９０％ＲＨｘ５００Ｈｒの環境加速試験を行
い、信号特性の変化について調へた結果を表２に示す。

表２に示す結果から、単に無機化合物薄膜層を設けるだ
けよりも、ブライマー層を設けたほうかより結果が高い
ことがわかる。

実施例１及び６〜９と比較例１の６つのサンプルについ
て、実使用環境において３力月間使用し、その間１０日
毎にカートリッジより取り出し、表面付着物を光情報記
録媒体用傷検査器（Ｒ５−３２００：日立電子エンジニ
アリング■製）によって測定した。

その結果を第４図に示す。但し、観測するのは１０μｍ
以上の付着異物とし、測定結果は初期値の何倍になった
かを示している。

この結果から、表面に導電性を有する透明薄膜第２層を
付与することの優位性かうかかえる。

（以下余白） 表２ ＊Ｂ、Ｅ、Ｒ，は初期の値を１とし、その何倍になった
かを示しである。

［発明の効果コ 本発明の光情報記録媒体は、透明薄膜か下地層を介して
非常に密着性よく形成されているため、先に述べた樹脂
基板の表裏による吸湿の差および熱膨張率の差を抑制す
ることができる。それゆえこれらによる機械的変形を著
しく抑制することが出来るようになった。

また、透明薄膜層は無機材料により構成されているため
表面の硬度が高く、耐擦傷性が向上していることも効果
の１つに挙げられる。

また、環境変化に対する機械的変形が抑制されることに
より、透明樹脂基板と誘電体膜との界面にかかるストレ
スが軽減された効果により環境試験などによる信号記録
再生特性の劣化が著しく改善される。

なお、樹脂製の基板を用いた光情報記録媒体においては
、実使用時におけるケースとの接触、湿度の影響、スピ
ンドルとハブとの接触、など様々な要因により、光情報
記録媒体内に静電気を貯めてしまう傾向にあり、このた
めゴミやほこりが付着し、Ｂ、Ｅ、Ｒ，か日々変化した
り、場合によっては光学ヘッドが光情報記録媒体と接触
してしまう危険性もある。これに対し、透明薄膜層を多
層とし、最表面に導電性を付与した場合における本発明
の光情報記録媒体は、光情報記録媒体内に貯った静電気
を大気中へと放出できるので、光情報記録媒体の使用環
境や、媒体表面のクリーニングなどに、煩わされる事な
く、安定した性能を維持して使用することかてきる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、実施例に係る光情報記録媒体の構造を示す概
念図である。 第２図は、実施例１〜４および比較例１・２における温
湿度変化試験の結果を示すグラフである。 第３図は、実施例６〜９および比較例１・３における温
湿度変化試験の結果を示すグラフである。 第４図は、透明薄膜層を多層とした場合の効果を示すた
めのグラフである。 （符号の説明） １・・・透明樹脂基板、 ２・・・下地層、３゜ ９・・・透明 薄膜層、 ４・・・話電体層、 ５・・・光磁気記録層、 ６　・・・ 保護層、 ７・・・反射層、 ８・・・オーバーコート層。 特許比願人 積水化学工業株式会社 代表者 ６次５ （′Ｓｌ〒 図（ａ） 図（ｂ） ＼９ （−５ン片 ｄン〒

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）合成樹脂からなる光情報記録媒体用透明基板の一
   方の面上に、誘電体層、記録層及び保護層を少なくとも
   有する光情報記録層が形成され、他面上に、シリルパー
   オキサイド化合物のプラズマ重合膜からなる下地層を介
   して無機材料からなる透明薄膜層が形成されていること
   を特徴とする光情報記録媒体。