JPH05269365A - 無機酸化物コロイド粒子 - Google Patents
無機酸化物コロイド粒子Info
- Publication number
- JPH05269365A JPH05269365A JP10157892A JP10157892A JPH05269365A JP H05269365 A JPH05269365 A JP H05269365A JP 10157892 A JP10157892 A JP 10157892A JP 10157892 A JP10157892 A JP 10157892A JP H05269365 A JPH05269365 A JP H05269365A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coupling agent
- silane coupling
- inorganic oxide
- colloidal particles
- added
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Colloid Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
Abstract
で修飾された無機酸化物コロイド粒子。 〔式中、m、nは0〜2の整数であり、lは1〜3の整
数であって、l+m+n=3を満足する値。R1 、
R2 、R3 は水素または炭素数1〜4のアルキル基。X
は、数平均分子量が1,000〜200,000の鎖状
高分子化合物を主構成要素とする原子団。〕 【効果】 アルコールその他、殆どの有機溶媒に均質に
分散するので、各種樹脂の改質用フィラー、各種樹脂と
の反応剤等として使用することができる。
Description
プリング剤で修飾された無機酸化物コロイド粒子に関す
るものである。
機酸化物粒子は、磁気テープなどの合成樹脂フィルムの
表面滑性を向上させるためのフィラーとしての用途など
に需要が高く、種々の研究開発が行われている。例え
ば、特公平2−1090号公報には低分子量の鎖状化合
物あるいは芳香族化合物のシラン類などのシリル化剤で
処理された、有機溶剤に均質に分散可能な粉末状シリカ
が提案されており、また、特開平3−271114号公
報には多点結合型高分子シリル化剤で修飾された、有機
溶剤に均質に再分散可能なシリカ粒子が提案されてい
る。
あるいは低分子量の分子鎖が短いシリル化剤で処理され
たシリカ粒子は、合成樹脂フィルムのフィラーとして使
用する際に合成樹脂との密着性が悪く、シリカ粒子が脱
落しやすいという問題点を有している。さらに、分子鎖
の長い鎖状高分子シランカップリング剤で無機酸化物粒
子を修飾する試みも行われてはいるが、有機溶剤に単分
散可能な無機酸化物コロイド粒子についてはまだ知られ
ていない。
散可能で、安定性に優れた単点結合型の鎖状高分子シラ
ンカップリング剤で修飾された無機酸化物コロイド粒子
を提供することにある。
記一般式で表される単点結合型のシランカップリング剤
で修飾されている。
数であって、l+m+n=3を満足する値。R1 、
R2 、R3 は水素または炭素数1〜4のアルキル基。X
は、数平均分子量が1,000〜200,000の鎖状
高分子化合物を主構成要素とする原子団。〕
子を修飾する上記シランカップリング剤の一般式におい
て、原子団Xの主構成要素である鎖状高分子化合物の数
平均分子量は1,000〜200,000の範囲にあ
り、さらに、5,000〜150,000、特に10,
000〜100,000の範囲にあることが好ましい。
数平均分子量が1,000より小さい場合は、原子団X
の分子鎖が短いために、このようなシランカップリング
剤で修飾された無機化合物コロイド粒子をフィラーとし
て合成樹脂に添加して使用した際に合成樹脂との密着性
が悪く、所謂アンカー効果が得られない。また、数平均
分子量が200,000よりも大きい場合には、修飾さ
れた無機酸化物コロイド粒子は有機溶剤への単分散性が
悪くなり、凝集粒子が多くなるので好ましくない。
(OR)3基〔ここで、Rは水素またはアルキル基を示
す。〕を持たない。即ち、上記シランカップリング剤は
単点結合型となる。原子団Xの主構成要素である鎖状高
分子化合物には上記以外に格別の制限はなく、同一の単
量体の重合または異なる単量体の共重合によって得られ
る一般的な鎖状高分子化合物、例えば、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセター
ル、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸、ポリア
クリル酸メチル、ポリアクリロニトリル、ポリアクリル
アミド、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリ
フルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリブタジ
エン、ポリブテン、ポリイソプレン、ポリクロロプレ
ン、プロピレン・エチレンコポリマー、エチレン・酢酸
ビニルコポリマー、塩化ビニリデン・塩化ビニルコポリ
マー、脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリカー
ボネート、ポリアクリレート、ポリエチレンテレフタレ
ート、芳香族ポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポ
リプロビレンオキシドなどを挙げることができる。
剤は、この鎖状高分子化合物に低分子量のシランカップ
リング剤を導入することにより調製される。導入は公知
の方法により行うことができ、例えば、カルボキシル基
などの官能基を有する化合物を鎖状高分子化合物の一方
の末端に導入し、ついで、アミノ基を有する低分子量の
シランカップリング剤と反応させて調製する。従って、
鎖状高分子化合物は上記官能基を有する低分子化合物を
介して、ケイ素原子に結合し、原子団Xは鎖状高分子化
合物とこの低分子化合物とから構成されている。上記一
般式において、R1 、R2 、R3 は、具体的には、水素
またはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を示
す。
ロイド粒子としては、通常知られている無機酸化物コロ
イド粒子を用いることができ、SiO2 、Al2 O3 、
TiO2 、ZrO2 、Fe2 O3 、などの酸化物コロイ
ド粒子の他、SiO2 ・Al2 O3 、SiO2 ・B2 O
3 、TiO2 ・CeO2 、SnO2 ・Sb2 O3 、Si
O2 ・Al2 O3 ・TiO2 、TiO2 ・CeO2 ・S
iO2 などの複合無機酸化物コロイド粒子が例示され
る。また、MgF2 、CaF2 などの無機コロイド粒子
を使用することも可能である。
は、1000nm以下、好ましくは、7〜800nmの
範囲にあることが望ましい。なお、本願の出願人が先に
出願した特願平3−83578号に記載した複合酸化物
ゾルを用いることも望ましい。
記鎖状高分子シランカップリング剤で修飾する方法につ
いて説明する。シランカップリング剤を適当な有機溶媒
に溶解して、1〜20重量%の分散溶液とし、次いで、
この溶液を通常の方法で調製された有機溶媒を分散媒と
する1〜40重量%の無機酸化物コロイド溶液に加え
る。同溶液には必要に応じて酸またはアルカリなどの触
媒を添加して、室温〜200℃に加熱し、0.5〜50
時間反応させる。
除去すれば、鎖状高分子シランカップリング剤で修飾さ
れた無機酸化物コロイド粒子の粉末とすることもできる
し、また、通常行われている方法で溶媒置換を行えば、
所望の有機溶媒を分散媒とする鎖状高分子シランカップ
リング剤で修飾された無機酸化物コロイド粒子を含むコ
ロイド溶液を調製することもできる。なお、本発明の修
飾された無機酸化物コロイド粒子は、鎖状高分子シラン
カップリング剤と共に低分子シランカップリング剤で修
飾されたコロイド粒子をも包含する。
ンカップリング剤を結合させる際には、無機酸化物コロ
イド溶液の分散媒である有機溶媒の溶解度パラメーター
(以下、SP値という。)δS と、当該シランカップリ
ング剤の原子団Xの主構成要素である鎖状高分子化合物
のSP値δP との間に、次の関係式を満足する有機溶媒
とシランカップリング剤の組合せとすることが好まし
い。ただし、各SP値の単位は、〔cal/cm3 〕
1/2 で表した値とする。 1≦│δS −δP │≦5
ンカップリング剤はコロイド溶液の分散媒に対して貧溶
媒となり、不安定となる。そこで、鎖状高分子シランカ
ップリング剤の加水分解を行えば、コロイド粒子に対す
るカップリング剤の量が少量であっても、コロイド粒子
の表面に析出するので、選択的に効率良く結合させるこ
とができる。また、コロイド粒子の安定性も損なわれな
いので好ましい。
該シランカップリング剤がコロイド溶液の分散媒に対し
て良溶媒となり、安定した状態で分散する。このとき、
鎖状高分子シランカップリング剤の加水分解を行って
も、分散媒中で加水分解してコロイド粒子の表面に析出
せず、コロイド粒子の表面と反応する割合が極めて少な
い。従って、シランカップリング剤をコロイド粒子の表
面に結合させるためには、コロイド粒子に対して多量の
シランカップリング剤を使用しなければならず、また、
シランカップリング剤が多量に存在する分散媒中では、
修飾したシランカップリング剤の割合が少ないとコロイ
ド粒子の安定性が損なわれる等の弊害が生じるため好ま
しくない。
は、シランカップリング剤がコロイド溶液中に溶解しな
いから、シランカップリング剤のミセルが生成して、コ
ロイド粒子の表面と反応させることが困難である。ま
た、修飾することができたとしても、コロイド粒子の分
散安定性が著しく損なわれるため好ましくない。有機溶
媒および鎖状高分子化合物のSP値は、H.Burrel著のPo
lymer Handbook( Wiley Interscience )に記載されてい
るので、これらの値を用いて所望の有機溶媒と鎖状高分
子シランカップリング剤の組合せとすることができる。
なお、所望の有機溶媒を分散媒とするコロイド溶液は、
限外濾過膜を使用して溶媒置換するなど公知の方法で調
製することができる。
を修飾するシランカップリング剤の量は、該コロイド粒
子100重量部に対して0.5〜30重量部の範囲にあ
ることが望ましい。カップリング剤の量が0.5重量部
未満では、修飾された無機酸化物コロイド粒子を合成樹
脂等にフィラーとして添加しても、所望のアンカー効果
が得られない。また、30重量部を越える場合は、コロ
イド粒子の表面に形成される鎖状高分子化合物の層が密
になるだけで、アンカー効果には変化がなく、経済的で
ない。
03 のポリオキシエチレンメチルエーテル(POE)2
0gと無水コハク酸8gとを加え、脱気して窒素雰囲気
とした後、溶媒として1,2−ジクロロエタン120g
と、触媒としてのピリジン1gを加えて80℃で72時
間撹拌した。撹拌後、吸引濾過を行い、濾液を採取し、
続いて濾液中のピリジンと1,2−ジクロロエタンをエ
バポレーターで蒸発して除去した。得られた白色粉末に
水40gを加えて溶解し、次いで、ジエチルエーテルを
加えて洗浄した。水相中の反応生成物をクロロホルムで
抽出し、水相から分離し、続いてクロロホルムを蒸発さ
せて除去した後ベンゼンを加えて溶解し、ジエチルエー
テルを加え氷冷することで精製された白色沈澱を得た。
この沈澱物を吸引濾過し減圧乾燥することによりカルボ
キシル基を有するポリオキシエチレンメチルスクシネー
トを得た。
スクシネート10gを、クロロホルム400gを溶媒と
して、ジシクロヘキシルカルボジイミド1.06g(触
媒)と共にナス型フラスコに加え、氷冷しながら2時間
撹拌した。撹拌後、アミノプロピルトリエトキシシラン
1.36gを加えて、5℃で24時間静置状態で反応さ
せた。次に、クロロホルムを蒸発させて除去した後、反
応生成物にベンゼンを加えて溶解し、さらに、ジエチル
エーテルを加えて氷冷することで精製された白色沈澱を
得た。この沈澱物を酢酸エチルにて溶解し、未溶解の沈
澱物を吸引濾過によって除去した後、濾液中の酢酸エチ
ルをエバポレーターで蒸発して除去し、減圧乾燥によっ
てPOEカップリング剤を得た。
素雰囲気とし、これに減圧蒸留したスチレン20g、3
−メルカプトプロピオン酸0.4gおよび2,2′−ア
ゾビスイソブチロニトリル0.82gと、常法により乾
燥したテトラヒドロフラン40gを溶媒として仕込み、
温度を70℃に保持しながら6時間撹拌を続けて反応し
た後、溶媒を蒸発させて除去し、白色粉末を得た。この
白色粉末にベンゼンを加えて溶解し、さらにメタノール
を加えて氷冷することで精製された白色沈澱を生ぜしめ
た。この沈澱物を吸引濾過、減圧乾燥して、端末にカル
ボキシル基を有するポリスチレン(PSt)16.3g
を得た。得られたPStをゲル浸透クロマトグラフィ
(GPC)により測定した結果、数平均分子量は1.2
×104 であった。
ロホルム100gを溶媒としてジシクロヘキシルカルボ
ジイミド0.1g(触媒)と共にナス型フラスコに加
え、氷冷しながら2時間撹拌を続けた。撹拌後、これに
アミノプロピルトリエトキシシラン0.13gを加えて
5℃で24時間静置状態で反応させた。次に、テトラヒ
ドロフランを蒸発させて除去した後、反応生成物にベン
ゼンを加えて溶解し、さらにメタノールを加えて氷冷す
ることで精製された白色沈澱を得た。この沈澱物を酢酸
エチルにて溶解し、未溶解の沈澱物を吸引濾過によって
除去した後、濾液中の酢酸エチルをエバポレーターで蒸
発して除去し、減圧乾燥によってPStカップリング剤
を得た。
素雰囲気とし、これに減圧蒸留したメチルメタクリレー
ト5g、3−メルカプトプロピオン酸0.14gおよび
2,2′−アゾビスイソブチロニトリル0.07gと、
常法により乾燥したテトラヒドロフラン10gを溶媒と
して仕込み、温度を60℃に保持しながら3時間撹拌を
続けて反応した後、溶媒を蒸発して除去し、白色粉末を
得た。この白色粉末にベンゼンを加えて溶解し、さらに
ヘキサンを加えて氷冷することで精製された白色沈澱を
生ぜしめた。この沈澱物を吸引濾過、減圧乾燥して、端
末にカルボキシル基を有するポリメチルメタクリレート
(PMMA)3.3gを得た。得られたPMMAをゲル
浸透クロマトグラフィ(GPC)により測定した結果、
数平均分子量は8.5×103 であった。
ルム100gを溶媒として、ジシクロヘキシルカルボジ
イミド0.049g(触媒)と共にナス型フラスコに加
え、氷冷しながら2時間撹拌を続けた。撹拌後、これに
アミノプロピルエトキシシラン0.13gを加え、5℃
で24時間静置状態で反応させた。次にクロロホルムを
蒸発させて除去した後、反応生成物にベンゼンを加えて
溶解し、さらにヘキサンを加えて氷冷することで精製さ
れた白色沈澱を得た。この沈澱物を酢酸エチルにて溶解
し、未溶解の沈澱物を吸引濾過によって除去した後、濾
液中の酢酸エチルをエバポレーターで蒸発して除去し、
減圧乾燥によってPMMAカップリング剤を得た。
素雰囲気とし、これに減圧蒸留した酢酸ビニル15gと
4,4′−アゾビス(4−シアノイソ吉草酸)0.15
gとを、メタノール5gを溶媒として仕込み、温度を6
0℃に保持しながら4時間撹拌を続けて反応した後、溶
媒を蒸発して除去し白色粉末を得た。この白色粉末にジ
オキサンを加えて溶解し、さらにジエチルエーテルを加
えて氷冷することで精製された白色沈澱を生ぜしめた。
この沈澱物を吸引濾過、減圧乾燥して、端末にカルボキ
シル基を有するポリ酢酸ビニル(PVAc)12.1g
を得た。得られたPVAcをゲル浸透クロマトグラフィ
(GPC)により測定した結果、数平均分子量は1.3
×105 であった。
ム100gと共にナス型フラスコに加え、氷冷しながら
2時間撹拌を続けた。撹拌後、これにアミノプロピルト
リエトキシシラン0.026gを加え、5℃で24時間
静置状態で反応させた。次にクロロホルムを蒸発させて
除去した後、反応生成物にジオキサンを加えて溶解し、
さらにジエチルエーテルを加えて氷冷することで精製さ
れた白色沈澱を得た。この沈澱物を酢酸エチルにて溶解
し、未溶解の沈澱物を吸引濾過によって除去した後、濾
液中の酢酸エチルをエバポレーターで蒸発して除去し、
減圧乾燥によってPVAcカップリング剤を得た。
プリング剤による修飾 〔実施例1〕エタノールを分散媒とする平均粒子径50
0nmのシリカ・アルミナ複合酸化物コロイド粒子を含
むコロイド溶液(酸化物濃度20重量%)200gを室
温で撹拌しながら、これに、合成例1で得たPOEシラ
ンカップリング剤4gをメタノール32gに溶解した溶
液を1時間かけて添加した。次いで、このコロイド溶液
を30℃に保持し、撹拌しながら28重量%アンモニア
水40gを30分かけて添加し、さらに1時間撹拌し
た。その後、このコロイド溶液を60℃に加温して1時
間熟成を行って、POEシランカップリング剤で修飾さ
れたシリカ・アルミナ複合酸化物コロイド粒子が単分散
したコロイド溶液を得た。
コール100gを添加し、ロータリーエバポレーターに
て80℃に加熱して溶媒を蒸発させて溶媒置換し、エチ
レングリコールを分散媒とする固形分濃度30重量%の
POEシランカップリング剤で修飾されたシリカ・アル
ミナ複合酸化物コロイド粒子を含有する安定なコロイド
溶液を得た。
て、次に示すような性状の測定と観察を行った。 (1)無機酸化物コロイド粒子の平均粒子径 超遠心自動粒度分布測定装置にて測定した。 (2)鎖状高分子シランカップリング剤の修飾量 コロイド溶液を小型遠心分離機にかけてコロイド粒子を
分離し、得られた粒子を150℃で20時間乾燥した。
次いで、この試料について熱重量分析装置により150
〜1000℃での減量を該シランカップリング剤の量と
して百分率で求めた。
元の溶媒に分散して濃度10重量%コロイド溶液を調製
し、安定性について同様に目視観察した。
(カプラー)等の調製条件を表1に示し、上記測定結果
および評価結果等のコロイド溶液の性状を表2に示す。
また、実施例1で得られた鎖状高分子シランカップリン
グ剤で修飾されたコロイド粒子の走査電子顕微鏡写真を
図1に示し、修飾される前のコロイド粒子の走査電子顕
微鏡写真を図2に示す。図1において、凝集しているよ
うに見える鎖状高分子シランカップリング剤で修飾され
たコロイド粒子は、溶媒中に再分散させると、コロイド
粒子が単分散した安定なコロイド溶液が得られた。
ドを分散媒とする、平均粒子径180nmのシリカコロ
イド粒子を含むコロイド溶液(酸化物濃度40重量%)
を使用した以外は、実施例1と同様にして、エチレング
リコールを分散媒とする酸化物濃度25重量%のPOE
シランカップリング剤で修飾されたシリカコロイド粒子
を含有するコロイド溶液を調製した。コロイド溶液の調
製条件と性状を、表1と表2に示す。
ドを分散媒とする平均粒子径90nmのチタニア・セリ
ア複合酸化物コロイド粒子を含むコロイド溶液(触媒化
成工業(株)製;オプトレイク、酸化物濃度10重量
%)100gを室温で撹拌しながら、これに、合成例2
で得たPStシランカップリング剤0.85gをキシレ
ン27.5gに溶解した溶液を30分間かけて添加し
た。このコロイド溶液を50℃に保持し、撹拌しながら
0.5重量%塩酸60gを1時間かけて添加し、さらに
2時間撹拌を行った後、室温まで冷却した。次に、該コ
ロイド溶液にスチレンを加えながら、限外濾過膜にて溶
媒置換を行い、スチレンを分散媒とするPStシランカ
ップリング剤で修飾されたチタニア・セリア複合酸化物
コロイド粒子を含有するコロイド溶液を調製した。コロ
イド溶液の調製条件と性状を、表1と表2に示す。
媒とする平均粒子径200nmのチタニアコロイド粒子
を含むコロイド溶液(触媒化成工業(株)製;Queen Ti
tanic 、酸化物濃度20重量%)と、合成例3で得たP
MMAシランカップリング剤0.4gを使用した以外
は、実施例3と同様の方法で処理した後、テロラヒドロ
フランで溶媒置換して、PMMAシランカップリング剤
で修飾されたチタニアコロイド粒子を含むコロイド溶液
を調製した。コロイド溶液の調製条件と性状を、表1と
表2に示す。
を分散媒とする平均粒子径300nmのシリカ・アルミ
ナ複合酸化物コロイド粒子を含むコロイド溶液(酸化物
濃度10重量%)100gを使用した以外は、実施例4
と同様にして処理した後、トルエンで溶媒置換して、P
MMAシランカップリング剤で修飾されたシリカ・アル
ミナ複合酸化物コロイド粒子を含むコロイド溶液を調製
した。コロイド溶液の調製条件と性状を、表1と表2に
示す。
する平均粒子径400nmのシリカコロイド粒子を含む
コロイド溶液(酸化物濃度10重量%)300gに1重
量%のアンモニア水30gを添加した。このコロイド溶
液を25℃に保持し撹拌しながら、これに、合成例4で
得たPVAcシランカップリング剤7.3gをアセトン
50gに溶解した溶液と、5重量%のアンモニア水40
gとテトラエトキシシラン(多摩化学製;SiO2 濃度
28重量%)2.2gとを同時に30分間かけて添加し
た。
熟成した後、室温まで冷却した。続いて、このコロイド
溶液にエチレングリコール128gを添加し、ロータリ
ーエバポレーターにて100℃に加温して溶媒置換し、
エチレングリコールを分散媒とするPVAcシランカッ
プリング剤で修飾されたシリカコロイド粒子を含有する
コロイド溶液を調製した。コロイド溶液の調製条件と性
状を、表1と表2に示す。
Me:メタノール、Et:エタノール、DMF :N,N−ジメ
チルホルムアミド、NMP :N−メチルピロリドン、Pr:
プロパノールを示す。「カプラー」の欄において、
Mn :鎖状高分子化合物の数平均分子量、割合:コロイ
ド粒子に対するシランカップリング剤の重量比を示す。
SP値の単位は、〔cal/cm3 〕1/2 で表した値で
ある。
Eg:エチレングリコール、St:スチレン、THF :テトラ
ヒドロフラン、Tol :トルエンを示す。
飾された無機酸化物コロイド粒子は、アルコール、ケト
ン、エーテル、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素など、
殆どの有機溶媒に均質に分散するので、各種樹脂の改質
用フィラー、各種樹脂との反応剤等として使用すること
ができる。
分子鎖を有しているから、合成樹脂への添加剤(フィラ
ー)として使用した場合、合成樹脂中で優れたアンカー
効果を発揮し、合成樹脂の機能性を最大限に向上させる
ことができる。その他、帯電防止、ブロッキング防止、
有機物、色素または金属等の担持用フィラー、化粧品、
トナー、繊維の風合、防水性または、対摩擦性等の改良
用添加剤、潤滑剤、平滑剤、消泡剤等の助剤、塗料用フ
ィラー、樹脂のハードコート剤、鋼板の滑り性付与剤、
等の用途に使用しても好適である。
リング剤で修飾されたコロイド粒子の走査電子顕微鏡写
真である。
写真である。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式で表されるシランカップリン
グ剤で修飾された無機酸化物コロイド粒子。 【化1】 〔式中、 m、nは0〜2の整数であり、lは1〜3の整数であっ
て、 l+m+n=3を満足する値。R1 、R2 、R3 は水素
または炭素数1〜4のアルキル基。Xは、数平均分子量
が1,000〜200,000の鎖状高分子化合物を主
構成要素とする原子団。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10157892A JP3235864B2 (ja) | 1992-03-28 | 1992-03-28 | 無機酸化物コロイド粒子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10157892A JP3235864B2 (ja) | 1992-03-28 | 1992-03-28 | 無機酸化物コロイド粒子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05269365A true JPH05269365A (ja) | 1993-10-19 |
JP3235864B2 JP3235864B2 (ja) | 2001-12-04 |
Family
ID=14304280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10157892A Expired - Fee Related JP3235864B2 (ja) | 1992-03-28 | 1992-03-28 | 無機酸化物コロイド粒子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3235864B2 (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996034063A1 (fr) * | 1995-04-28 | 1996-10-31 | Nof Corporation | Composition de revetement, procede d'elaboration de cette composition et procede d'elaboration d'une dispersion de sol d'oxyde inorganique |
JP2001213617A (ja) * | 2000-01-28 | 2001-08-07 | Jsr Corp | 疎水化コロイダルシリカの製造方法 |
JP2003231827A (ja) * | 2002-02-12 | 2003-08-19 | Canon Inc | 防曇性コーティング材料、防曇性コーティング膜および防曇性光学部材 |
WO2006121172A1 (ja) * | 2005-05-12 | 2006-11-16 | Eastman Kodak Company | 変性シリカ粒子並びにそれを含む感光性組成物及び感光性平版印刷版 |
CN1299985C (zh) * | 2005-01-20 | 2007-02-14 | 辽宁大学 | 纳米SiO2表面改性方法 |
JP2007045639A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-22 | Bando Chem Ind Ltd | 無機微粒子およびその製造方法 |
JP2008100894A (ja) * | 2006-10-23 | 2008-05-01 | Kyushu Institute Of Technology | ポリマーグラフトコロイダルシリカ、ポリマーグラフトコロイダルシリカ分散体およびその製造方法 |
WO2009119178A1 (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-01 | 株式会社Adeka | 表面改質コロイダルシリカおよびこれを含有するcmp用研磨組成物 |
JP2010077438A (ja) * | 2001-10-09 | 2010-04-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | 活性エネルギー線硬化性の帯電防止コーティング剤組成物 |
WO2013031799A1 (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-07 | 住友大阪セメント株式会社 | 無機酸化物透明分散液と透明複合体形成用樹脂組成物及び透明複合体並びに光学部材 |
JP2013527871A (ja) * | 2010-04-20 | 2013-07-04 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ポリマー表面修飾ナノ粒子を含有する感圧接着剤 |
JP2020117707A (ja) * | 2019-01-24 | 2020-08-06 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッド | 誘電体基板を研磨するための安定化された砥粒粒子を有する化学機械研磨組成物 |
WO2021199870A1 (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-07 | 日産化学株式会社 | 表面修飾シリカ粒子の有機溶媒分散ゾルの製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3411759C1 (de) | 1984-03-30 | 1985-04-25 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen | An ihrer Oberflaeche durch hydrophile und hydrophobe Gruppen modifizierte Teilchen |
-
1992
- 1992-03-28 JP JP10157892A patent/JP3235864B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6022919A (en) * | 1995-04-28 | 2000-02-08 | Nof Corporation | Coating composition, process for preparing coating composition and process for preparing dispersing component of inorganic oxide sol |
CN1071366C (zh) * | 1995-04-28 | 2001-09-19 | 日本油脂Basf涂料株式会社 | 涂料组合物及制法和无机氧化物溶胶分散组分的制法 |
US6376559B1 (en) | 1995-04-28 | 2002-04-23 | Basf Nof Coatings Co., Ltd. | Process for preparing a dispersing component comprising an inorganic oxide sol |
WO1996034063A1 (fr) * | 1995-04-28 | 1996-10-31 | Nof Corporation | Composition de revetement, procede d'elaboration de cette composition et procede d'elaboration d'une dispersion de sol d'oxyde inorganique |
JP2001213617A (ja) * | 2000-01-28 | 2001-08-07 | Jsr Corp | 疎水化コロイダルシリカの製造方法 |
JP4631119B2 (ja) * | 2000-01-28 | 2011-02-16 | Jsr株式会社 | 疎水化コロイダルシリカの製造方法 |
JP2010077438A (ja) * | 2001-10-09 | 2010-04-08 | Mitsubishi Chemicals Corp | 活性エネルギー線硬化性の帯電防止コーティング剤組成物 |
JP2013144812A (ja) * | 2001-10-09 | 2013-07-25 | Mitsubishi Chemicals Corp | 活性エネルギー線硬化性の帯電防止コーティング剤組成物 |
JP2003231827A (ja) * | 2002-02-12 | 2003-08-19 | Canon Inc | 防曇性コーティング材料、防曇性コーティング膜および防曇性光学部材 |
CN1299985C (zh) * | 2005-01-20 | 2007-02-14 | 辽宁大学 | 纳米SiO2表面改性方法 |
WO2006121172A1 (ja) * | 2005-05-12 | 2006-11-16 | Eastman Kodak Company | 変性シリカ粒子並びにそれを含む感光性組成物及び感光性平版印刷版 |
JP2006317716A (ja) * | 2005-05-12 | 2006-11-24 | Eastman Kodak Co | 変性シリカ粒子並びにそれを含む感光性組成物及び感光性平版印刷版 |
JP2007045639A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-22 | Bando Chem Ind Ltd | 無機微粒子およびその製造方法 |
JP2008100894A (ja) * | 2006-10-23 | 2008-05-01 | Kyushu Institute Of Technology | ポリマーグラフトコロイダルシリカ、ポリマーグラフトコロイダルシリカ分散体およびその製造方法 |
WO2009119178A1 (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-01 | 株式会社Adeka | 表面改質コロイダルシリカおよびこれを含有するcmp用研磨組成物 |
JP2009256184A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-11-05 | Adeka Corp | 表面改質コロイダルシリカおよびこれを含有するcmp用研磨組成物 |
JP4521058B2 (ja) * | 2008-03-24 | 2010-08-11 | 株式会社Adeka | 表面改質コロイダルシリカおよびこれを含有するcmp用研磨組成物 |
JP2013527871A (ja) * | 2010-04-20 | 2013-07-04 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ポリマー表面修飾ナノ粒子を含有する感圧接着剤 |
US9469793B2 (en) | 2010-04-20 | 2016-10-18 | 3M Innovative Properties Company | Pressure sensitive adhesives containing polymeric surface-modified nanoparticles |
WO2013031799A1 (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-07 | 住友大阪セメント株式会社 | 無機酸化物透明分散液と透明複合体形成用樹脂組成物及び透明複合体並びに光学部材 |
JPWO2013031799A1 (ja) * | 2011-08-31 | 2015-03-23 | 住友大阪セメント株式会社 | 無機酸化物透明分散液と透明複合体形成用樹脂組成物及び透明複合体並びに光学部材 |
JP2020117707A (ja) * | 2019-01-24 | 2020-08-06 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッド | 誘電体基板を研磨するための安定化された砥粒粒子を有する化学機械研磨組成物 |
WO2021199870A1 (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-07 | 日産化学株式会社 | 表面修飾シリカ粒子の有機溶媒分散ゾルの製造方法 |
JPWO2021199870A1 (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-07 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3235864B2 (ja) | 2001-12-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3235864B2 (ja) | 無機酸化物コロイド粒子 | |
Nandi et al. | Molecular level ceramic/polymer composites. 2. Synthesis of polymer-trapped silica and titania nanoclusters | |
Maeda et al. | Synthesis and characterization of carboxylic acid-functionalized polypyrrole-silica microparticles | |
US20100160491A1 (en) | Composite particles and methods for their preparation | |
Liu et al. | Preparation and characterization of copolymerized aminopropyl/phenylsilsesquioxane microparticles | |
JPH06509131A (ja) | 有機−無機重合体複合体 | |
JP2002504952A (ja) | ナノスケール金属酸化物粒子の重合触媒としての使用 | |
WO2019221200A1 (ja) | 気体分離膜の製造方法 | |
JPH03258866A (ja) | ポリジメチルシロキサン被覆微粒子 | |
JP3122688B2 (ja) | 無機酸化物コロイド粒子 | |
Wåhlander et al. | Hydrophobic matrix-free graphene-oxide composites with isotropic and nematic states | |
Kim et al. | Synthesis of magnetic nanocomposite based on amphiphilic polyurethane network films | |
JPH10237348A (ja) | 複合シリカ微粒子の製造方法 | |
Yoshinaga et al. | Poly (styrene) coating of monodispersed colloidal metal oxides by grafting to hydrophilic macromer adsorbed on the surface | |
Kumari et al. | Synthesis and characterization of alkali modified styrene-maleic anhydride copolymer (SMA) for dispersion of carbon black | |
Klimova et al. | An investigation of the morphology of Langmuir films based on molecular polyimide brushes containing magnetite nanoparticles | |
JP5109298B2 (ja) | 磁性重合体粒子及びその製造方法、水分散体 | |
JP3111492B2 (ja) | ポリエステルフィルム | |
Zhang et al. | Fabrication of ceramic oxide-coated SWNT composites by sol–gel process with a polymer glue | |
JP2012144621A (ja) | オリゴマー、無機質粒子、及び無機質粒子の製造方法 | |
JP3040805B2 (ja) | 滑性及びアンチブロッキング性の改善された熱可塑性樹脂フィルム | |
JP5375617B2 (ja) | 有機無機複合材料の製造方法 | |
Sugiyama et al. | Preparation and characterization of photoresponsive poly (methyl methacrylate) microspheres bearing phosphorylcholine‐analogous and spirooxazine moieties | |
WO2024171746A1 (ja) | 気体分離膜 | |
Kaluzynski et al. | Poly (ethylene glycol)‐b‐phosphorylated polyglycidols as CaCO3 crystal growth modifiers. II. Macromolecular architecture versus the crystal size and shape and crystallization inhibition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080928 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080928 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090928 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090928 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100928 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100928 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110928 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |