JPH05263280A - 有機流出物処理に使用された構成装置における金属表面の洗浄方法 - Google Patents

有機流出物処理に使用された構成装置における金属表面の洗浄方法

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JPH05263280A JP29053592A JP29053592A JPH05263280A JP H05263280 A JPH05263280 A JP H05263280A JP 29053592 A JP29053592 A JP 29053592A JP 29053592 A JP29053592 A JP 29053592A JP H05263280 A JPH05263280 A JP H05263280A
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    • G21F9/00Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 本発明は、有機流出物処理、特に有機流出物
エバポレータ処理に使用された構成装置における金属表
面の洗浄方法に関する。この方法によれば、循環は、構
成装置のチューブ(3)の内面(9、13、11)にお
いて、常温で、4から11モル/リットルの水酸化ナト
リウムを含有するソーダ水溶液を用いて行なわれ、次い
で、水洗浄が行なわれる。好ましくは、ソーダ溶液は、
湿潤剤、たとえば、ジブチルホスフェートおよびモノブ
チルホスフェートの等モル混合物が含有され、付着物が
水溶性に変化するための時間、除去されるべき付着物に
ソーダ溶液を含浸させるために、水洗浄の前に、少なく
とも15時間放置される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、有機流出物処理、特に
有機流出物エバポレータ処理に使用された構成装置にお
ける金属表面の洗浄方法に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】有機
流出物の蒸発により、エバポレータなどの構成装置表面
において、有機溶媒が分解することに由来する、鉱物お
よび有機物質に基づいた付着物が形成され、エベポレー
タの十分な操作性を確保するために、これらの付着物は
しばしば除去されなければならない。これらの付着物
は、添付の表にあるような組成で、μg/g(付着物)
の単位で存在し、これは、現在使用されている2つのエ
バポレータに関して示したものである。
【0003】これらの付着物を除去するために、これら
の付着物を攻撃し、溶解することの可能な溶液を用いる
汚染除去方法が使用可能である。例えば、文献(FRー
Aー2、641、404)は、蒸留装置などの構成装置
の汚染除去方法を開示しており、ジブチルホスフェート
イオンを含有する金属化合物の付着物を除去する際、ジ
アミド、酪酸等の有機希釈剤、および硝酸などの無機酸
を含有する溶液により、装置を洗浄し、有機希釈剤によ
り洗浄するものである。
【0004】この文献においては、また、ジブチルホス
フェートイオンを含有する金属化合物により汚染された
装置を、濃縮熱ソーダにより汚染除去可能であること
も、開示されている。
【0005】しかしながら、付着物が、添付の表のエバ
ポレータIおよびIIなどの有機流出物エバポレータに
存在する場合、熱濃縮ソーダの使用では、十分に洗浄す
ることができない。というのは、付着物の74重量%
が、2時間の90℃における10Nの水酸化ナトリウム
溶液で洗浄後も、残っているからである。
【0006】さらに、有機流出物処理装置の表面を十分
に洗浄可能な、種々の有機または鉱物溶媒においておこ
なわれた研究の結果、ソーダを使用すると、洗浄工程は
改善され90℃で、10Nのソーダを使用するときと比
較して、付着物除去率を向上させることが可能である。
【0007】
【課題を解決するための手段および作用】本発明によれ
ば、有機流出物処理に使用された構成装置における金属
表面の洗浄方法は、 a)常温で、前記表面において、4から11モル/リッ
トルの水酸化ナトリウムを含有するソーダ水溶液を循環
させ、 b)処理された表面を水で洗浄することからなる。
【0008】この方法において、洗浄されるべき表面に
ソーダ水溶液を循環させる工程a)においては、ソーダ
を前記付着物に含浸させ、攻撃させることが可能であ
る。水洗浄工程b)は、攻撃された付着物を溶解し、洗
浄水内に取り去る効果を有する。ここで、前記除去は、
前記溶液における付着物の溶解度が限定されるために、
ソーダ溶液を用いて行なうことは、不可能である。
【0009】好ましくは、本発明によれば、工程a)で
使用されたソーダ溶液はまた、少なくとも1つの湿潤剤
を含有する。これにより、構成装置の表面のすべての付
着物を含浸可能になり、このようにして、攻撃および除
去を容易とするものである。
【0010】本発明によれば、使用される湿潤剤は、特
に付着物の性質に依存し、すなわち装置で処理された有
機流出物の性質に依存する。
【0011】エバポレータなどのトリブチルホスフェー
トを含有する有機流出物用処理装置においては、特に、
湿潤剤として、ジブチルホスフェート(DBP)、モノ
ブチルホスフェート(MBP)、およびこれらの混合物
を使用可能である。好ましくは、ジブチルホスフェート
とモノブチルホスフェートの等モル混合物が使用され
る。
【0012】優位には、湿潤剤の量は、ソーダ溶液の
0.01から1容量%である。
【0013】本発明による方法を行なうには、ソーダ溶
液を循環させる工程a)が行なわれ、次いで、水洗浄工
程b)の前に、一般的には少し間を置き、全付着物を攻
撃するための時間を持たせて、除去されるべき付着物に
ソーダ溶液を含浸可能にするものである。このようにし
て、水洗浄工程は、好ましくは、ソーダ溶液を循環させ
る工程a)が行なわれてから、少なくとも15時間後に
行なわれる。
【0014】本発明の他の特徴および優位点は、垂直チ
ューブを有するエバポレータの洗浄装置を示す図面を参
照した以下の記載から明かとなるであろうが、これらに
限定されるわけではない。
【0015】
【実施例】図面は、汚染除去されるべきエバポレータ1
を示し、これは、有機流出物の蒸発中に形成された付着
物を内部に有する垂直チューブ3からなる。これらのチ
ューブは、2つのチューブプレート間に配されており、
2つのチューブプレートはそれぞれ、流出物供給入り口
5および出口収集部7を定めるものである。
【0016】チューブ3の内部表面を洗浄するために、
エバポレータの入り口5内に、ソーダ溶液または洗浄水
が、補助パイプ9により導入される。エバポレータチュ
ーブにを通過後、収集部7へ通過した溶液または洗浄水
は、補助供給パイプ9へのポンプ13が装備されたパイ
プ11により、再循環可能である。または、バルブ17
が装備されたパイプ15により、排出可能である。
【0017】このようにして、工程a)において、循環
がソーダ溶液のチューブ3において行なわれ、溶液は、
チューブに形成された付着物にソーダ溶液を含浸させる
ために十分な時間置かれた後、エバポレータの入り口5
へ再循環される。
【0018】付着物にソーダ溶液を含浸させ、付着物を
攻撃、変換して、水溶解性生成物にすることが可能とな
るように、少なくとも15時間、例えば18から36時
間おいて、次いで、完全に付着物を除去するために、水
洗浄がチューブ3において水を循環させ、エバポレータ
入り口5に洗浄水が入らないように再循環させることに
より、行なわれる。約30秒の洗浄時間で、一般的には
十分である。
【0019】なお、ソーダ溶液および洗浄水の流速は、
すべてのエバポレータチューブ内に均一な液体フィルム
の形成を確保するために、溶液の粘度およびエバポレー
タの特徴に応じて選択される。
【0020】たとえば、2.5から5.5m3/hの流
速を用いることが可能であり、これは、実際のエバポレ
ータの場合、890から1960リットル/hmの直線
投入に相当する。このように、2.5m3/hより低い
流速は、均一の並の湿潤を確保するには、不十分であ
る。湿潤性は、2.5以上およびより好ましくは3m3
/h以上が適当である。
【0021】本発明の方法は、常温、すなわち15から
40℃においておこなわれる。圧力は、常圧である。以
下の実施例は、約2g/m2までの付着物が付着してお
り、36.6から110mmの直径で、2から5mの長
さのチューブを有するエバポレータを洗浄するものであ
り、本発明による方法により得られた結果を示す。
【0022】実施例1
【0023】この実施例は、20℃で行なわれ、工程
a)においては、10モル/リットルのソーダ溶液が用
いられる。この溶液は、エバポレータチューブの内部表
面における1000リットル/hmの流速で、5分間、
循環される。24時間放置後、15秒間、1000リッ
トル/hmの流速で水洗浄される。
【0024】この操作が行なわれると、エバポレータチ
ューブにおいて存在した付着物が、十分に除去される。
【0025】実施例2
【0026】実施例1と同様の操作が行なわれるが、ソ
ーダ溶液に、0.05容積%の、ジブチルホスフェート
(DBP)およびモノブチルホスフェート(MDP)の
等モル混合物が添加されている。これらの条件下、ソー
ダ溶液により付着物の湿潤が良くなったので、実施例1
よりも付着物除去は、向上する。
【0027】実施例3
【0028】この実施例は、20℃で行なわれ、5モル
/リットルのソーダ溶液が用いられる。この溶液は、エ
バポレータチューブにおいて、3m3/h、すなわち1
070リットル/hmの流速で、5分間、循環される。
24時間放置後、30秒間、3m3/hの流速で水洗浄
される。この操作が行なわれると、エバポレータチュー
ブにおいて存在した付着物が、十分に除去される。
【0029】実施例4
【0030】実施例3と同様の操作が行なわれるが、ソ
ーダ溶液に、0.05容積%の、ジブチルホスフェート
(DBP)およびモノブチルホスフェート(MDP)の
等モル混合物が添加され、2.5m3/h、すなわち8
90リットル/hmの溶液流速が用いられる。これらの
条件下、湿潤性が実施例3よりもが良くなったので、よ
り循環低い速度でも、良い結果が得られる。
【0031】比較例1
【0032】この比較例は、10モル/リットルのソー
ダ溶液が用いられ、この溶液は、20℃で、エバポレー
タチューブにおいて、100リットル/hmの流速で、
15時間、循環される。
【0033】前記15時間後、最初くり色であった付着
物が、黒になった。この色の変化は、ソーダ溶液の付着
物への浸透のためであり、溶液における付着物の溶解度
が限定されているため、ソーダ溶液が、先の15時間に
色変化を引きだしたものではない。
【0034】しかしながら、この後、水洗浄が行なわれ
ると、エベポレータの表面は完全に洗浄され、洗浄水
は、洗浄ソーダ溶液とは等しくなく、黒色である。この
ように、洗浄工程は、本発明による工程において、必須
である。
【0035】比較例2
【0036】この比較例は、90℃で、10モル/リッ
トルのソーダ溶液が用いられ、この溶液は、エバポレー
タチューブにおいて、2時間、循環される。2時間の処
理の後、付着物の約74重量%が、エバポレータに残っ
ている。このように、熱ソーダもまた、その効果に限界
があり、付着物を溶解することが不可能である。
【0037】
【表1】
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、汚染除去されるべきエバポレータの洗
浄装置を示す概略図である。
【符号の説明】
1 エバポレータ 9、11、13 表面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リブロ・ジャン フランス・30200・バグノル・シュール・ セズ・パーク・シャモン・35

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 有機流出物処理に使用された構成装置に
    おける金属表面の洗浄方法であり、 a)常温で、前記表面において、4から11モル/リッ
    トルの水酸化ナトリウムからなるソーダ水溶液を循環さ
    せ、 b)処理された表面を水で洗浄することからなることを
    特徴とする、有機流出物処理に使用された構成装置にお
    ける金属表面の洗浄方法。
  2. 【請求項2】 工程a)で使用された前記ソーダ溶液
    が、少なくとも1つの湿潤剤を含有することを特徴とす
    る、特許請求の範囲第1項に記載された洗浄方法。
  3. 【請求項3】 前記湿潤剤が、ジブチルホスフェート、
    モノブチルホスフェートおよびこれらの混合物から選択
    されることを特徴とする、特許請求の範囲第2項に記載
    された洗浄方法。
  4. 【請求項4】 前記湿潤剤が、ジブチルホスフェートお
    よびモノブチルホスフェートの等モル混合物からなるこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲第3項に記載された洗
    浄方法。
  5. 【請求項5】 前記湿潤剤の量が、ソーダ溶液の0.0
    1から1容積%であることを特徴とする、特許請求の範
    囲第2ないし4項のいずれか一項に記載された洗浄方
    法。
  6. 【請求項6】 前記ソーダ水溶液が、5モル/リットル
    の水酸化ナトリウムおよび0.05容積%のジブチルホ
    スフェートおよびモノブチルホスフェートの等モル混合
    物からなることを特徴とする、特許請求の範囲第2項に
    記載された洗浄方法。
  7. 【請求項7】 前記水洗浄が、ソーダ水溶液循環工程
    a)後、少なくとも約15時間経過してから、行なわれ
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第1ないし6項の
    いずれか一項に記載された洗浄方法。
  8. 【請求項8】 前記ソーダ水溶液循環が、約5分間行な
    われ、次いで24時間おいてから、水洗浄が約30秒間
    行なわれることを特徴とする、特許請求の範囲第7項に
    記載された洗浄方法。
  9. 【請求項9】 前記構成装置が、有機流出物エバポレー
    タであることを特徴とする、特許請求の範囲第1ないし
    8項のいずれか一項に記載された洗浄方法。
JP29053592A 1991-10-31 1992-10-28 有機流出物処理に使用された構成装置における金属表面の洗浄方法 Expired - Lifetime JP3231102B2 (ja)

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