JP3231102B2 - 有機流出物処理に使用された構成装置における金属表面の洗浄方法 - Google Patents
有機流出物処理に使用された構成装置における金属表面の洗浄方法Info
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- JP3231102B2 JP3231102B2 JP29053592A JP29053592A JP3231102B2 JP 3231102 B2 JP3231102 B2 JP 3231102B2 JP 29053592 A JP29053592 A JP 29053592A JP 29053592 A JP29053592 A JP 29053592A JP 3231102 B2 JP3231102 B2 JP 3231102B2
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- evaporator
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- soda solution
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- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21F—PROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
- G21F9/00—Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
- G21F9/001—Decontamination of contaminated objects, apparatus, clothes, food; Preventing contamination thereof
- G21F9/002—Decontamination of the surface of objects with chemical or electrochemical processes
- G21F9/004—Decontamination of the surface of objects with chemical or electrochemical processes of metallic surfaces
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- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、有機流出物処理、特に
有機流出物エバポレータ処理に使用された構成装置にお
ける金属表面の洗浄方法に関する。
有機流出物エバポレータ処理に使用された構成装置にお
ける金属表面の洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】有機
流出物の蒸発により、エバポレータなどの構成装置表面
において、有機溶媒が分解することに由来する、鉱物お
よび有機物質に基づいた付着物が形成され、エベポレー
タの十分な操作性を確保するために、これらの付着物は
しばしば除去されなければならない。これらの付着物
は、添付の表にあるような組成で、μｇ／ｇ（付着物）
の単位で存在し、これは、現在使用されている２つのエ
バポレータに関して示したものである。
流出物の蒸発により、エバポレータなどの構成装置表面
において、有機溶媒が分解することに由来する、鉱物お
よび有機物質に基づいた付着物が形成され、エベポレー
タの十分な操作性を確保するために、これらの付着物は
しばしば除去されなければならない。これらの付着物
は、添付の表にあるような組成で、μｇ／ｇ（付着物）
の単位で存在し、これは、現在使用されている２つのエ
バポレータに関して示したものである。
【０００３】これらの付着物を除去するために、これら
の付着物を攻撃し、溶解することの可能な溶液を用いる
汚染除去方法が使用可能である。例えば、文献（ＦＲー
Ａー２、６４１、４０４）は、蒸留装置などの構成装置
の汚染除去方法を開示しており、ジブチルホスフェート
イオンを含有する金属化合物の付着物を除去する際、ジ
アミド、酪酸等の有機希釈剤、および硝酸などの無機酸
を含有する溶液により、装置を洗浄し、有機希釈剤によ
り洗浄するものである。
の付着物を攻撃し、溶解することの可能な溶液を用いる
汚染除去方法が使用可能である。例えば、文献（ＦＲー
Ａー２、６４１、４０４）は、蒸留装置などの構成装置
の汚染除去方法を開示しており、ジブチルホスフェート
イオンを含有する金属化合物の付着物を除去する際、ジ
アミド、酪酸等の有機希釈剤、および硝酸などの無機酸
を含有する溶液により、装置を洗浄し、有機希釈剤によ
り洗浄するものである。
【０００４】この文献においては、また、ジブチルホス
フェートイオンを含有する金属化合物により汚染された
装置を、濃縮熱ソーダにより汚染除去可能であること
も、開示されている。
フェートイオンを含有する金属化合物により汚染された
装置を、濃縮熱ソーダにより汚染除去可能であること
も、開示されている。
【０００５】しかしながら、付着物が、添付の表のエバ
ポレータＩおよびＩＩなどの有機流出物エバポレータに
存在する場合、熱濃縮ソーダの使用では、十分に洗浄す
ることができない。というのは、付着物の７４重量％
が、２時間の９０℃における１０Ｎの水酸化ナトリウム
溶液で洗浄後も、残っているからである。
ポレータＩおよびＩＩなどの有機流出物エバポレータに
存在する場合、熱濃縮ソーダの使用では、十分に洗浄す
ることができない。というのは、付着物の７４重量％
が、２時間の９０℃における１０Ｎの水酸化ナトリウム
溶液で洗浄後も、残っているからである。
【０００６】さらに、有機流出物処理装置の表面を十分
に洗浄可能な、種々の有機または鉱物溶媒においておこ
なわれた研究の結果、ソーダを使用すると、洗浄工程は
改善され９０℃で、１０Ｎのソーダを使用するときと比
較して、付着物除去率を向上させることが可能である。
に洗浄可能な、種々の有機または鉱物溶媒においておこ
なわれた研究の結果、ソーダを使用すると、洗浄工程は
改善され９０℃で、１０Ｎのソーダを使用するときと比
較して、付着物除去率を向上させることが可能である。
【０００７】
【課題を解決するための手段および作用】本発明によれ
ば、有機流出物処理に使用された構成装置における金属
表面の洗浄方法は、 ａ）常温で、前記表面において、４から１１モル／リッ
トルの水酸化ナトリウムを含有するソーダ水溶液を循環
させ、 ｂ）処理された表面を水で洗浄することからなる。
ば、有機流出物処理に使用された構成装置における金属
表面の洗浄方法は、 ａ）常温で、前記表面において、４から１１モル／リッ
トルの水酸化ナトリウムを含有するソーダ水溶液を循環
させ、 ｂ）処理された表面を水で洗浄することからなる。
【０００８】この方法において、洗浄されるべき表面に
ソーダ水溶液を循環させる工程ａ）においては、ソーダ
を前記付着物に含浸させ、攻撃させることが可能であ
る。水洗浄工程ｂ）は、攻撃された付着物を溶解し、洗
浄水内に取り去る効果を有する。ここで、前記除去は、
前記溶液における付着物の溶解度が限定されるために、
ソーダ溶液を用いて行なうことは、不可能である。
ソーダ水溶液を循環させる工程ａ）においては、ソーダ
を前記付着物に含浸させ、攻撃させることが可能であ
る。水洗浄工程ｂ）は、攻撃された付着物を溶解し、洗
浄水内に取り去る効果を有する。ここで、前記除去は、
前記溶液における付着物の溶解度が限定されるために、
ソーダ溶液を用いて行なうことは、不可能である。
【０００９】好ましくは、本発明によれば、工程ａ）で
使用されたソーダ溶液はまた、少なくとも１つの湿潤剤
を含有する。これにより、構成装置の表面のすべての付
着物を含浸可能になり、このようにして、攻撃および除
去を容易とするものである。
使用されたソーダ溶液はまた、少なくとも１つの湿潤剤
を含有する。これにより、構成装置の表面のすべての付
着物を含浸可能になり、このようにして、攻撃および除
去を容易とするものである。
【００１０】本発明によれば、使用される湿潤剤は、特
に付着物の性質に依存し、すなわち装置で処理された有
機流出物の性質に依存する。
に付着物の性質に依存し、すなわち装置で処理された有
機流出物の性質に依存する。
【００１１】エバポレータなどのトリブチルホスフェー
トを含有する有機流出物用処理装置においては、特に、
湿潤剤として、ジブチルホスフェート（ＤＢＰ）、モノ
ブチルホスフェート（ＭＢＰ）、およびこれらの混合物
を使用可能である。好ましくは、ジブチルホスフェート
とモノブチルホスフェートの等モル混合物が使用され
る。
トを含有する有機流出物用処理装置においては、特に、
湿潤剤として、ジブチルホスフェート（ＤＢＰ）、モノ
ブチルホスフェート（ＭＢＰ）、およびこれらの混合物
を使用可能である。好ましくは、ジブチルホスフェート
とモノブチルホスフェートの等モル混合物が使用され
る。
【００１２】優位には、湿潤剤の量は、ソーダ溶液の
０．０１から１容量％である。
０．０１から１容量％である。
【００１３】本発明による方法を行なうには、ソーダ溶
液を循環させる工程ａ）が行なわれ、次いで、水洗浄工
程ｂ）の前に、一般的には少し間を置き、全付着物を攻
撃するための時間を持たせて、除去されるべき付着物に
ソーダ溶液を含浸可能にするものである。このようにし
て、水洗浄工程は、好ましくは、ソーダ溶液を循環させ
る工程ａ）が行なわれてから、少なくとも１５時間後に
行なわれる。
液を循環させる工程ａ）が行なわれ、次いで、水洗浄工
程ｂ）の前に、一般的には少し間を置き、全付着物を攻
撃するための時間を持たせて、除去されるべき付着物に
ソーダ溶液を含浸可能にするものである。このようにし
て、水洗浄工程は、好ましくは、ソーダ溶液を循環させ
る工程ａ）が行なわれてから、少なくとも１５時間後に
行なわれる。
【００１４】本発明の他の特徴および優位点は、垂直チ
ューブを有するエバポレータの洗浄装置を示す図面を参
照した以下の記載から明かとなるであろうが、これらに
限定されるわけではない。
ューブを有するエバポレータの洗浄装置を示す図面を参
照した以下の記載から明かとなるであろうが、これらに
限定されるわけではない。
【００１５】
【実施例】図面は、汚染除去されるべきエバポレータ１
を示し、これは、有機流出物の蒸発中に形成された付着
物を内部に有する垂直チューブ３からなる。これらのチ
ューブは、２つのチューブプレート間に配されており、
２つのチューブプレートはそれぞれ、流出物供給入り口
５および出口収集部７を定めるものである。
を示し、これは、有機流出物の蒸発中に形成された付着
物を内部に有する垂直チューブ３からなる。これらのチ
ューブは、２つのチューブプレート間に配されており、
２つのチューブプレートはそれぞれ、流出物供給入り口
５および出口収集部７を定めるものである。
【００１６】チューブ３の内部表面を洗浄するために、
エバポレータの入り口５内に、ソーダ溶液または洗浄水
が、補助パイプ９により導入される。エバポレータチュ
ーブにを通過後、収集部７へ通過した溶液または洗浄水
は、補助供給パイプ９へのポンプ１３が装備されたパイ
プ１１により、再循環可能である。または、バルブ１７
が装備されたパイプ１５により、排出可能である。
エバポレータの入り口５内に、ソーダ溶液または洗浄水
が、補助パイプ９により導入される。エバポレータチュ
ーブにを通過後、収集部７へ通過した溶液または洗浄水
は、補助供給パイプ９へのポンプ１３が装備されたパイ
プ１１により、再循環可能である。または、バルブ１７
が装備されたパイプ１５により、排出可能である。
【００１７】このようにして、工程ａ）において、循環
がソーダ溶液のチューブ３において行なわれ、溶液は、
チューブに形成された付着物にソーダ溶液を含浸させる
ために十分な時間置かれた後、エバポレータの入り口５
へ再循環される。
がソーダ溶液のチューブ３において行なわれ、溶液は、
チューブに形成された付着物にソーダ溶液を含浸させる
ために十分な時間置かれた後、エバポレータの入り口５
へ再循環される。
【００１８】付着物にソーダ溶液を含浸させ、付着物を
攻撃、変換して、水溶解性生成物にすることが可能とな
るように、少なくとも１５時間、例えば１８から３６時
間おいて、次いで、完全に付着物を除去するために、水
洗浄がチューブ３において水を循環させ、エバポレータ
入り口５に洗浄水が入らないように再循環させることに
より、行なわれる。約３０秒の洗浄時間で、一般的には
十分である。
攻撃、変換して、水溶解性生成物にすることが可能とな
るように、少なくとも１５時間、例えば１８から３６時
間おいて、次いで、完全に付着物を除去するために、水
洗浄がチューブ３において水を循環させ、エバポレータ
入り口５に洗浄水が入らないように再循環させることに
より、行なわれる。約３０秒の洗浄時間で、一般的には
十分である。
【００１９】なお、ソーダ溶液および洗浄水の流速は、
すべてのエバポレータチューブ内に均一な液体フィルム
の形成を確保するために、溶液の粘度およびエバポレー
タの特徴に応じて選択される。
すべてのエバポレータチューブ内に均一な液体フィルム
の形成を確保するために、溶液の粘度およびエバポレー
タの特徴に応じて選択される。
【００２０】たとえば、２．５から５．５ｍ３／ｈの流
速を用いることが可能であり、これは、実際のエバポレ
ータの場合、８９０から１９６０リットル／ｈｍの直線
投入に相当する。このように、２．５ｍ３／ｈより低い
流速は、均一の並の湿潤を確保するには、不十分であ
る。湿潤性は、２．５以上およびより好ましくは３ｍ３
／ｈ以上が適当である。
速を用いることが可能であり、これは、実際のエバポレ
ータの場合、８９０から１９６０リットル／ｈｍの直線
投入に相当する。このように、２．５ｍ３／ｈより低い
流速は、均一の並の湿潤を確保するには、不十分であ
る。湿潤性は、２．５以上およびより好ましくは３ｍ３
／ｈ以上が適当である。
【００２１】本発明の方法は、常温、すなわち１５から
４０℃においておこなわれる。圧力は、常圧である。以
下の実施例は、約２ｇ／ｍ2までの付着物が付着してお
り、３６．６から１１０ｍｍの直径で、２から５ｍの長
さのチューブを有するエバポレータを洗浄するものであ
り、本発明による方法により得られた結果を示す。
４０℃においておこなわれる。圧力は、常圧である。以
下の実施例は、約２ｇ／ｍ2までの付着物が付着してお
り、３６．６から１１０ｍｍの直径で、２から５ｍの長
さのチューブを有するエバポレータを洗浄するものであ
り、本発明による方法により得られた結果を示す。
【００２２】実施例１
【００２３】この実施例は、２０℃で行なわれ、工程
ａ）においては、１０モル／リットルのソーダ溶液が用
いられる。この溶液は、エバポレータチューブの内部表
面における１０００リットル／ｈｍの流速で、５分間、
循環される。２４時間放置後、１５秒間、１０００リッ
トル／ｈｍの流速で水洗浄される。
ａ）においては、１０モル／リットルのソーダ溶液が用
いられる。この溶液は、エバポレータチューブの内部表
面における１０００リットル／ｈｍの流速で、５分間、
循環される。２４時間放置後、１５秒間、１０００リッ
トル／ｈｍの流速で水洗浄される。
【００２４】この操作が行なわれると、エバポレータチ
ューブにおいて存在した付着物が、十分に除去される。
ューブにおいて存在した付着物が、十分に除去される。
【００２５】実施例２
【００２６】実施例１と同様の操作が行なわれるが、ソ
ーダ溶液に、０．０５容積％の、ジブチルホスフェート
（ＤＢＰ）およびモノブチルホスフェート（ＭＤＰ）の
等モル混合物が添加されている。これらの条件下、ソー
ダ溶液により付着物の湿潤が良くなったので、実施例１
よりも付着物除去は、向上する。
ーダ溶液に、０．０５容積％の、ジブチルホスフェート
（ＤＢＰ）およびモノブチルホスフェート（ＭＤＰ）の
等モル混合物が添加されている。これらの条件下、ソー
ダ溶液により付着物の湿潤が良くなったので、実施例１
よりも付着物除去は、向上する。
【００２７】実施例３
【００２８】この実施例は、２０℃で行なわれ、５モル
／リットルのソーダ溶液が用いられる。この溶液は、エ
バポレータチューブにおいて、３ｍ３／ｈ、すなわち１
０７０リットル／ｈｍの流速で、５分間、循環される。
２４時間放置後、３０秒間、３ｍ３／ｈの流速で水洗浄
される。この操作が行なわれると、エバポレータチュー
ブにおいて存在した付着物が、十分に除去される。
／リットルのソーダ溶液が用いられる。この溶液は、エ
バポレータチューブにおいて、３ｍ３／ｈ、すなわち１
０７０リットル／ｈｍの流速で、５分間、循環される。
２４時間放置後、３０秒間、３ｍ３／ｈの流速で水洗浄
される。この操作が行なわれると、エバポレータチュー
ブにおいて存在した付着物が、十分に除去される。
【００２９】実施例４
【００３０】実施例３と同様の操作が行なわれるが、ソ
ーダ溶液に、０．０５容積％の、ジブチルホスフェート
（ＤＢＰ）およびモノブチルホスフェート（ＭＤＰ）の
等モル混合物が添加され、２．５ｍ３／ｈ、すなわち８
９０リットル／ｈｍの溶液流速が用いられる。これらの
条件下、湿潤性が実施例３よりもが良くなったので、よ
り循環低い速度でも、良い結果が得られる。
ーダ溶液に、０．０５容積％の、ジブチルホスフェート
（ＤＢＰ）およびモノブチルホスフェート（ＭＤＰ）の
等モル混合物が添加され、２．５ｍ３／ｈ、すなわち８
９０リットル／ｈｍの溶液流速が用いられる。これらの
条件下、湿潤性が実施例３よりもが良くなったので、よ
り循環低い速度でも、良い結果が得られる。
【００３１】比較例１
【００３２】この比較例は、１０モル／リットルのソー
ダ溶液が用いられ、この溶液は、２０℃で、エバポレー
タチューブにおいて、１００リットル／ｈｍの流速で、
１５時間、循環される。
ダ溶液が用いられ、この溶液は、２０℃で、エバポレー
タチューブにおいて、１００リットル／ｈｍの流速で、
１５時間、循環される。
【００３３】前記１５時間後、最初くり色であった付着
物が、黒になった。この色の変化は、ソーダ溶液の付着
物への浸透のためであり、溶液における付着物の溶解度
が限定されているため、ソーダ溶液が、先の１５時間に
色変化を引きだしたものではない。
物が、黒になった。この色の変化は、ソーダ溶液の付着
物への浸透のためであり、溶液における付着物の溶解度
が限定されているため、ソーダ溶液が、先の１５時間に
色変化を引きだしたものではない。
【００３４】しかしながら、この後、水洗浄が行なわれ
ると、エベポレータの表面は完全に洗浄され、洗浄水
は、洗浄ソーダ溶液とは等しくなく、黒色である。この
ように、洗浄工程は、本発明による工程において、必須
である。
ると、エベポレータの表面は完全に洗浄され、洗浄水
は、洗浄ソーダ溶液とは等しくなく、黒色である。この
ように、洗浄工程は、本発明による工程において、必須
である。
【００３５】比較例２
【００３６】この比較例は、９０℃で、１０モル／リッ
トルのソーダ溶液が用いられ、この溶液は、エバポレー
タチューブにおいて、２時間、循環される。２時間の処
理の後、付着物の約７４重量％が、エバポレータに残っ
ている。このように、熱ソーダもまた、その効果に限界
があり、付着物を溶解することが不可能である。
トルのソーダ溶液が用いられ、この溶液は、エバポレー
タチューブにおいて、２時間、循環される。２時間の処
理の後、付着物の約７４重量％が、エバポレータに残っ
ている。このように、熱ソーダもまた、その効果に限界
があり、付着物を溶解することが不可能である。
【００３７】
【表１】
【図１】図１は、汚染除去されるべきエバポレータの洗
浄装置を示す概略図である。
浄装置を示す概略図である。
１ エバポレータ ９、１１、１３ 表面
フロントページの続き (72)発明者 リブロ・ジャン フランス・30200・バグノル・シュー ル・セズ・パーク・シャモン・35 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23G 1/14 B01D 1/00 B08B 3/08 C02F 1/04
Claims (9)
- 【請求項１】 有機廃液処理に使用されたエバポレータ
装置における金属表面の洗浄方法であり、 ａ）常温で、前記表面において、４から１１モル／リッ
トルの水酸化ナトリウムからなるソーダ水溶液を循環さ
せ、 ｂ）処理された表面を水で洗浄することからなることを
特徴とする、有機廃液処理に使用されたエバポレータ装
置における金属表面の洗浄方法。 - 【請求項２】 工程ａ）で使用された前記ソーダ溶液
が、少なくとも１つの湿潤剤を含有することを特徴とす
る、特許請求の範囲第１項に記載された洗浄方法。 - 【請求項３】 前記湿潤剤が、ジブチルホスフェート、
モノブチルホスフェートおよびこれらの混合物から選択
されることを特徴とする、特許請求の範囲第２項に記載
された洗浄方法。 - 【請求項４】 前記湿潤剤が、ジブチルホスフェートお
よびモノブチルホスフェートの等モル混合物からなるこ
とを特徴とする、特許請求の範囲第３項に記載された洗
浄方法。 - 【請求項５】 前記湿潤剤の量が、ソーダ溶液の０．０
１から１容積％であることを特徴とする、特許請求の範
囲第２ないし４項のいずれか一項に記載された洗浄方
法。 - 【請求項６】 前記ソーダ水溶液が、５モル／リットル
の水酸化ナトリウムおよび０．０５容積％のジブチルホ
スフェートおよびモノブチルホスフェートの等モル混合
物からなることを特徴とする、特許請求の範囲第２項に
記載された洗浄方法。 - 【請求項７】 前記水洗浄が、ソーダ水溶液循環工程
ａ）後、少なくとも約１５時間経過してから、行なわれ
ることを特徴とする、特許請求の範囲第１ないし６項の
いずれか一項に記載された洗浄方法。 - 【請求項８】 前記ソーダ水溶液循環が、約５分間行な
われ、次いで２４時間おいてから、水洗浄が約３０秒間
行なわれることを特徴とする、特許請求の範囲第７項に
記載された洗浄方法。 - 【請求項９】 前記エバポレータ装置が、有機廃液エバ
ポレータであることを特徴とする、特許請求の範囲第１
ないし８項のいずれか一項に記載された洗浄方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9113508A FR2683165A1 (fr) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | Procede de nettoyage des evaporateurs d'effluents organiques. |
| FR9113508 | 1991-10-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05263280A JPH05263280A (ja) | 1993-10-12 |
| JP3231102B2 true JP3231102B2 (ja) | 2001-11-19 |
Family
ID=9418540
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29053592A Expired - Lifetime JP3231102B2 (ja) | 1991-10-31 | 1992-10-28 | 有機流出物処理に使用された構成装置における金属表面の洗浄方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3231102B2 (ja) |
| FR (1) | FR2683165A1 (ja) |
| GB (1) | GB2260992B (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5491282A (en) * | 1994-08-22 | 1996-02-13 | Sony Corporation | Apparatus and method for neutralizing a contaminated heating element |
| WO2011162272A1 (ja) * | 2010-06-24 | 2011-12-29 | 三井化学株式会社 | 化学装置の洗浄方法 |
| CN117259318B (zh) * | 2023-11-17 | 2024-02-23 | 中国核电工程有限公司 | 污溶剂处理方法、清洗循环方法、处理装置及系统 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1119625B (de) * | 1956-08-25 | 1961-12-14 | Sony Kabushiki Kaisha | Verfahren zum AEtzen der Oberflaeche eines Halbleiterkoerpers |
| FR1304775A (fr) * | 1960-11-17 | 1962-09-28 | Metal & Thermit Corp | Procédé pour nettoyer les anodes de plomb et composition pour sa mise en oeuvre |
| AT264959B (de) * | 1966-04-28 | 1968-09-25 | Ruthner Industrieplannungs Ag | Vorrichtung zur Behandlung von Bändern, Tafeln, Profilen oder Drähten mit Flüssigkeiten |
| NL133239C (ja) * | 1966-09-30 | |||
| US3669758A (en) * | 1968-03-20 | 1972-06-13 | Gen Electric | Process for removing contaminants from zirconium surfaces |
| GB1475307A (en) * | 1973-07-12 | 1977-06-01 | Burke P | Method and apparatus for the treatment of articles with fluids |
| US4037774A (en) * | 1975-09-12 | 1977-07-26 | Intreprinderea De Radiatoare Si Cabluri | Process for the soldering of the cooler assembly to automobile radiators |
| JPS52148968A (en) * | 1976-06-04 | 1977-12-10 | Japan Atom Energy Res Inst | Method of washing metal sodium from contaminated devices |
| US4292090A (en) * | 1980-05-15 | 1981-09-29 | Textron Inc. | Removal of titanium dioxide from a filter element |
| GB2092362A (en) * | 1981-01-23 | 1982-08-11 | Atomic Energy Authority Uk | Decontamination techniques |
| US4368274A (en) * | 1981-11-20 | 1983-01-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for removing aluminum from polyethylene teraphthalate (PET) bottle scrap |
| US4439241A (en) * | 1982-03-01 | 1984-03-27 | United Technologies Corporation | Cleaning process for internal passages of superalloy airfoils |
| AU591231B2 (en) * | 1986-02-18 | 1989-11-30 | Parker Chemical Company | Aluminum cleaning process |
| DE3635357A1 (de) * | 1986-10-17 | 1988-04-21 | Veit Wellhoener | Verfahren zur reinigung und keimreduzierung in der getraenkeindustrie |
-
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