JPH05259415A - ゲートアレイ - Google Patents

ゲートアレイ

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Publication number
JPH05259415A
JPH05259415A JP9176392A JP9176392A JPH05259415A JP H05259415 A JPH05259415 A JP H05259415A JP 9176392 A JP9176392 A JP 9176392A JP 9176392 A JP9176392 A JP 9176392A JP H05259415 A JPH05259415 A JP H05259415A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
gate array
basic cell
basic
grids
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9176392A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasunori Sakamoto
安準 坂本
Kazuya Fujimoto
和也 藤本
Yuichi Sato
雄一 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP9176392A priority Critical patent/JPH05259415A/ja
Publication of JPH05259415A publication Critical patent/JPH05259415A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 新たに配線を追加する場合であっても、他の
配線が形成可能なグリッドを減少させることなく、かつ
マスクの増加等を招くことがない。 【構成】 予め複数のベーシックセル100 が形成された
ゲートアレイであって、ベーシックセル100 とベーシッ
クセル100 との間にゲート140 と同じ層を用いて配線20
0 を形成している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、予め複数のベーシック
セルが形成されたゲートアレイに関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、CMOSゲートアレイにおいて
は、図4に示すように、2つのPchMOSトランジス
タ410 と、2つのNchMOSトランジスタ420 との合
計4つのトランジスタから1つのベーシックセル400 が
構成されている。なお、430 は拡散層を示している。
【0003】論理回路の設計において重要なポイント
は、配線領域をより多く確保することにある。ここで、
ベーシックセル400 内のトランジスタのソース−ドレイ
ン間と同一方向をX方向、これに直交する方向をY方向
とし、第1配線 (図面では右下がりの斜線で示してい
る) はY方向、第2配線 (図面では網目模様で示してい
る) はX方向をそれぞれ優先方向とする。なお、以下の
説明では、第1及び第2配線を形成するグリッドは、X
方向にあっては大文字のアルファベットで、Y方向にあ
っては小文字のアルファベットで示すものとする。
【0004】第1配線は第1コンタクトホール (図面で
は白い四角『□』で示している) によって拡散層及びゲ
ートと接続され、第2配線は第2コンタクトホール (図
面では黒い四角『■』で示している) によって第1配線
と接続される。
【0005】図5に示すようなレイアウトにて構成され
た論理回路に、他の配線を追加する場合を考える。すで
に、第1配線は、グリッドA〜Jに形成されているか
ら、第1配線を新たに追加する場合にはグリッドKのみ
が使用可能である。一方、第2配線はグリッドc、lに
のみ形成されているから、新たな第2配線はグリッド
a、b、d〜k、m、nであれば形成することができ
る。すなわち、このレイアウトでは、第1配線を新たに
追加することが困難である。
【0006】図6に示すような論理回路を考える。この
論理回路は、ベーシックセル400 間を接続する配線を第
1配線ではなく、第2配線で形成した点を除いては図5
に示した論理回路とまったく同一である。かかるレイア
ウトの場合には、第1配線を新たに追加できるグリッド
は、グリッドD、H、Kである。すなわち、ベーシック
セル400 間を接続する配線を第2配線で形成したことに
より、第1配線を追加可能なグリッドが2本増加したこ
とになる。一方、第2配線を追加可能なグリッドはグリ
ッドa、b、d、f〜h、k、m、nとなる。すなわ
ち、図6に示すレイアウトでは、第2配線を追加可能な
グリッドが、13本から9本に減少したことになる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
のゲートアレイでは、一方の配線、例えば第1配線を新
たに追加しようとすると、第2配線を形成可能なグリッ
ドが減少するという弊害が生じる。また、このような弊
害を避けるために、第1、第2配線とは異なる新たな配
線を形成しようとすると、マスクの増加、製造工程の増
加、長期化が避けられず製造コストの上昇が生じる。
【0008】本発明は上記事情に鑑みて創案されたもの
で、新たに配線を追加する場合であっても、他の配線が
形成可能なグリッドを減少させることなく、かつマスク
の増加等を招くことがないゲートアレイを提供すること
を目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明に係るゲートアレ
イは、予め複数のベーシックセルが形成されたゲートア
レイにおいて、ベーシックセルの間にトランジスタのゲ
ート又は拡散層と同一の層を用いて配線を形成した。
【0010】
【実施例】図1は本発明の一実施例に係るゲートアレイ
に用いられるベーシックセルの模式図、図2はこのベー
シックセルを用いて形成された図5等と同様の論理回路
の一部を示す模式図、図3は本発明の他の実施例に係る
ゲートアレイに用いられるベーシックセルの模式図であ
る。
【0011】本実施例に係るゲートアレイは、予め複数
のベーシックセル100 が形成されたゲートアレイであっ
て、ベーシックセル100 とベーシックセル100 との間に
ゲート140 と同じ層を用いて配線200 を形成している。
【0012】このゲートアレイに用いられるベーシック
セル100 は、図1に示すように、拡散層130 の4隅部が
凹んでいる。その他の点、2つのPchMOSトランジ
スタ110 と2つのNchMOSトランジスタ120 との合
計4つのトランジスタから構成される点等は従来のベー
シックセルと同様である。
【0013】従って、このベーシックセル100 を並べる
と、拡散層130 の凹んだ4隅部は向かい合うことにな
る。そして、隣接するベーシックセル100 の拡散層130
の4隅の間には、ゲート140 と同じ層を用いて4つの配
線200a〜200dが形成されている。
【0014】このようなベーシックセル100 を用いたゲ
ートアレイによる論理回路の構成について図2を参照し
つつ説明する。3つのベーシックセル100a〜100cのう
ち、左端のベーシックセル100aと中央のベーシックセル
100bとの間にある4つの配線200a〜200dのうち、上から
2つ目と3つ目の配線200b、200cが使用されている。ま
た、中央のベーシックセル100bと右端のベーシックセル
100cとの間にある4つの配線200a〜200dのうち、上から
3つ目の配線200cが使用されている。他の部分は、図5
或いは図6に示されたものと同一になっている。
【0015】このようにして、配線200a〜200dを使用す
ると、X方向のグリッドでは、グリッドD、H、Kに新
たな第1配線を追加することが可能になる。また、Y方
向のグリッドでは、グリッドa、b、d〜k、m、nに
新たな第2配線を追加することが可能になる。
【0016】すなわち、図5に示したものと比較する
と、X方向のグリッドは使用可能な部分が2つ増する
が、Y方向のグリッドは変わらないのである。また、図
6に示したものと比較すると、X方向のグリッドは使用
可能な部分は変わらず、Y方向のグリッドは使用可能な
部分が3つ増加することになる。従って、一方のグリッ
ドの使用可能な部分を増加させると、他方のグリッドの
使用可能な部分が減少するというようなことはない。
【0017】また、図3に示すような3種類のベーシッ
クセル310 、320 、330 を用いても同様の効果を果たす
ことができる。同図(A)に示すベーシックセル310
は、上から2つ目の配線200bと3つ目の配線200cとを同
様の配線200eで接続したものである。また、同図 (B)
に示すベーシックセル320 は、2つのベーシックセル10
0 の間にベーシックセル100 に沿って配線200fを形成し
たものである。このような配線200fを有するベーシック
セル320 にあっては、拡散層130 の4隅を凹ませること
はない。
【0018】さらに、同図 (C) に示すベーシックセル
330 は、2つ目の配線200bと3つ目の配線200cとを配線
200eで接続したのみならず、1つ目の配線200aと、上方
にあるベーシックセル100 の4つ目の配線200dとを配線
200gで接続したものを示している。なお、3つのみに限
定されないことは勿論である。
【0019】なお、上述した実施例では、トランジスタ
のゲートと同一の層を用いて配線200a等を形成したが、
拡散層130 と同一の層を用いて形成することも可能であ
る。
【0020】
【発明の効果】本発明に係るゲートアレイは、予め複数
のベーシックセルが形成されたゲートアレイにおいて、
ベーシックセルの間にトランジスタのゲート又は拡散層
と同一の層を用いて配線を形成したので、配線領域をよ
り多く確保することができるとともに、一方の配線を増
加させても他方の配線が減少することがない。これによ
り、配線層を増加させることなく、ゲート使用効率を向
上させることができ、高集積化、チップサイズの縮小、
コストダウン等を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係るゲートアレイに用いら
れるベーシックセルの模式図である。
【図2】このベーシックセルを用いて形成された図5等
と同様の論理回路の一部を示す模式図である。
【図3】本発明の他の実施例に係るゲートアレイに用い
られるベーシックセルの模式図である。
【図4】従来のゲートアレイに用いられるベーシックセ
ルの模式図である。
【図5】このベーシックセルを用いて形成された論理回
路の一部を示す模式図である。
【図6】このベーシックセルを用いて形成された論理回
路の一部を示す模式図である。
【符号の説明】
100 ベーシックセル 200a〜200g 配線

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 予め複数のベーシックセルが形成された
    ゲートアレイにおいて、ベーシックセルの間にトランジ
    スタのゲート又は拡散層と同一の層を用いて配線を形成
    したことを特徴とするゲートアレイ。
JP9176392A 1992-03-16 1992-03-16 ゲートアレイ Pending JPH05259415A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9176392A JPH05259415A (ja) 1992-03-16 1992-03-16 ゲートアレイ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9176392A JPH05259415A (ja) 1992-03-16 1992-03-16 ゲートアレイ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05259415A true JPH05259415A (ja) 1993-10-08

Family

ID=14035598

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9176392A Pending JPH05259415A (ja) 1992-03-16 1992-03-16 ゲートアレイ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05259415A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5814844A (en) * 1995-09-28 1998-09-29 Nippondenso Co., Ltd. Gate array having highly flexible interconnection structure

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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