JPH05247044A - ピリダジノインドール化合物 - Google Patents

ピリダジノインドール化合物

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JPH05247044A
JPH05247044A JP3733892A JP3733892A JPH05247044A JP H05247044 A JPH05247044 A JP H05247044A JP 3733892 A JP3733892 A JP 3733892A JP 3733892 A JP3733892 A JP 3733892A JP H05247044 A JPH05247044 A JP H05247044A
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JP
Japan
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compound
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pyridazino
indole
methyl
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Application number
JP3733892A
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English (en)
Inventor
Kuniyuki Tomita
邦之 富田
Yasuo Shimoji
康雄 下地
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Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】一般式 【化8】 [R1は-CHO、-COOH 、-COOR3(R3は低級アルキル、低級
アルコキシアルキル、アラルキル、複素環アルキル)、
-CON(R4)R5 (R4及びR5は水素原子、低級アルキル、ア
ミノ)、-(CH2)n-OH(n は1又は2)、-CH=N-R6 (R6
は、OH又は低級ジアルキルアミノ)又は-CH=CHCOOR7
(R7は、低級アルキル)を示し、R2はH又は低級アルカ
ノイル、X1及びX2はH、低級アルキル、低級アルコキ
シ、アラルキルオキシ、ハロゲン、OH]を有するピリ
ダジノインド−ル化合物。 【効果】本発明の化合物は、優れたベンゾジアゼピンレ
セプター結合能を有し、向精神薬特に抗不安薬として有
用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、優れたベンゾジアゼピ
ンレセプタ−結合能を有する抗不安薬として有用な新規
ピリダジノインド−ル化合物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来抗不安薬としては、ベンゾジアゼピ
ン系薬剤が広く用いられている。しかし、睡眠導入、抗
痙攣、筋弛緩作用などの諸作用を併せ持っており、抗不
安薬としてはそれらの諸作用は副作用となり必ずしも満
足のいく薬剤とはいえない。
【0003】近年、ベンゾジアゼピンレセプタ−の存在
が明らかになって以来、分子レベルでの研究が急速に進
みつつあり、ベンゾジアゼピンレセプタ−にはサブタイ
プが存在し、それが別々の薬理作用発現に働いているこ
とが提唱されており、抗不安作用に関するベンゾジアゼ
ピンレセプタ−に特異的に結合する薬剤の開発が望まれ
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、長年に
亘り、新規な抗不安薬を開発すべく、一連のピリダジノ
インド−ル化合物を合成し、ベンゾジアゼピンレセプタ
−結合能を検討した結果、新規なピリダジノインド−ル
誘導体が優れたベンゾジアゼピンレセプタ−結合能をも
つことを見出し、本発明を完成するに至った。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式
【0006】
【化2】
【0007】を有するピリダジノインド−ル化合物に関
する。
【0008】上記式中、R1は-CHO、-COOH 、-COOR3(式
中、R3は低級アルキル基、低級アルコキシアルキル基、
アラルキル基又は複素環アルキル基を示す。)、 -CON
(R4)R5(式中、R4及びR5は同一または異なって水素原
子、低級アルキル基又はアミノ基を示す。)、-(CH2)n-
OH(式中、n は、1又は2の整数を示す。)、-CH=N-R6
(式中、R6は、水酸基又は低級ジアルキルアミノ基を示
す。)又は-CH=CHCOOR7(式中、R7は、低級アルキル基
を示す。)を示し、R2は水素原子又は低級アルカノイル
基を示し、X1及びX2は同一または異なって水素原子、低
級アルキル基、低級アルコキシ基、アラルキルオキシ
基、ハロゲン原子または水酸基を示す。
【0009】R2の低級アルカノイル基とは、炭素数1乃
至4個のアルカノイル基であり、例えばホルミル、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル基等をあげることがで
き、好適にはホルミル基、アセチル基である。R3の低級
アルキル基とは、例えば炭素数1乃至4個のアルキル基
であり、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル
基等をあげることができ、好適には、メチル、エチル、
n−プロピル、イソプロピル基である。R3の低級アルコ
キシアルキル基としては、例えばメトキシエチル、エト
キシエチル、メトキシメチル等をあげることができ、好
適には、メトキシメチル、メトキシエチル基である。R3
のアラルキル基としては、例えばベンジル、フェネチル
基等をあげることができ、好適には、ベンジル基であ
る。R3の複素環アルキル基としては、例えばピリジルメ
チル、ピリジルエチル、キノリルメチル基等をあげるこ
とができ、好適には、ピリジルメチル基である。
【0010】R4及びR5の低級アルキル基とは、炭素数1
乃至3個のアルキル基であり、例えば、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル基等をあげることがで
き、好適には、メチル、エチル基である。R6の低級ジア
ルキルアミノ基とは、炭素数2乃至6個のジアルキルア
ミノ基であり、例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、ジプロピルアミノ、ジイソプロピルアミノ基等をあ
げることができ、好適には、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノ基である。R7の低級アルキル基は、炭素数1乃至
3個のアルキル基であり、メチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル基等をあげることができ、好適には、
メチル、エチル基である。X1及びX2の低級アルキル基と
は、炭素数1乃至3個のアルキル基であり、例えばメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル基等をあげる
ことができ、好適には、メチル、エチル基である。X1
びX2の低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エ
トキシ、プロポキシ基等をあげることができ、好適に
は、メトキシ、エトキシ基である。X1及びX2のアラルキ
ルオキシ基としては、例えばベンジルオキシ、フェネチ
ルオキシ基等をあげることができ、好適には、ベンジル
オキシ基である。X1及びX2のハロゲン原子としては、例
えば弗素、塩素、臭素、沃素等をあげることができ、好
適には、塩素、臭素原子である。
【0011】前記一般式(I)における具体的な化合物
を、以下に例示するものがあげられるが、本発明の化合
物はこれらに限定されるものではない。
【0012】
【化3】
【0013】
【表1】 ────────────────────────── 化合物 X1 X2 R1 R2 ────────────────────────── (1) H H COOH H (2) H H COOMe H (3) H H COOMe Ac (4) H H COOEt H (5) H H COO-n-Pr H (6) H H COO-i-Pr H (7) H H COO-n-Bu H (8) H H COOCH2CH2OMe H (9) H H COOBn H (10) H H COOCH2-2-Py H (11) H H CONH2 H (12) H H CONHMe H (13) H H CON(Me)2 H (14) H H CONHNH2 H (15) H H CHO H (16) H H CH=NOH H (17) H H CH=NN(Me)2 H (18) H H CH2OH H (19) H H CH=CHCOOMe (cis) H (20) H H CH=CHCOOMe (trans) H (21) Me H COOMe H (22) Me H COOEt H (23) Et H COOMe H (24) 6-Br H COOMe H (25) 6-Br H COOEt H (26) 5-OH H COOMe H (27) 6-OH H COOMe H (28) 5-OBn H COOMe H (29) 5-OBn H COOEt H (30) 6-MeO 7-MeO COOMe H (31) 6-MeO 7-MeO COOEt H (32) H H COOMe n-Pro (33) H H COOEt n-Buo ────────────────────────── 上記表においてAc:アセチル基、Me:メチル基、Et:エ
チル基、n-Pr:n −プロピル基、i-Pr:イソプロピル
基、n-Pro :n −プロピオニル基、n-Buo :ブチリル
基、n-Bu:n −ブチル基、Bn:ベンジル基、Py:ピリジ
ル基を表わす。上記表のうち、好適な化合物としては、
4、5、9、16、19、20、24、25があげられ
る。
【0014】本発明の式(I)で表わされる化合物のう
ち、R1がCOOR3 (R3は前述のものと同意義を示す。)で
ある化合物(Ia )は、下記の反応工程を経て容易に製
造することができる。
【0015】
【化4】
【0016】
【化5】
【0017】上記工程の式中、R2、R3、X1およびX2は前
述したものと同意義を示す。工程Aは、一般式(II)
を有する化合物とジベンジルアゾジカルボキシラ−ト
(III)とを不活性溶剤中、ディ−ルス・アルダ−反
応を行ない、続いて酸化反応により環化化合物(IV)
を製造する工程である。
【0018】ディ−ルス・アルダ−反応に用いられる溶
剤としては本反応に関与しなければ特に限定はないが、
ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水素類、エ
チルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエ−テル類、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2 −
ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類等をあげ
ることができる。反応温度は、使用される溶剤の種類に
より異なるが、通常室温乃至使用する溶剤の沸点付近に
加熱還流下行なわれ、反応時間は反応温度等により異な
るが、通常30分間乃至48時間である。酸化反応は上記デ
ィ−ルス・アルダ−反応中、空気酸化により行なわれる
こともあるが、必要に応じて反応混合物に、二酸化マン
ガンなどの酸化剤を加えることにより行なわれる。反応
温度は、使用される溶剤の種類により異なるが、通常室
温乃至使用する溶剤の沸点付近に加熱還流下行なわれ、
反応時間は反応温度により異なるが、通常30分間乃至4
時間である。
【0019】化合物(IV)は、反応終了後、不溶物を
瀘別、瀘液を減圧留去することにより得ることができ、
必要ならば常法、例えば再結晶、カラムクロマトグラフ
ィ−等でさらに精製できる。
【0020】工程Bは、化合物(IV)を、トリフルオ
ロ酢酸中、チオエ−テルの存在下、脱ベンジル、脱炭酸
を行ない目的化合物(Ia )を製造する工程である。本
工程は、トリフルオロ酢酸中、ジメチルスルフィド、チ
オアニソ−ルのようなチオエ−テル類の存在下、室温で
6 時間乃至24時間反応させることにより行なわれる。反
応生成物は、溶剤を留去することにより得ることができ
る。化合物(Ia )は、必要ならば再結晶、カラムクロ
マトグラフィ−等でさらに精製できる。
【0021】化合物(Ia )においてR2がアルカノイル
基の場合には化合物(Ia )をメタノ−ル、エタノ−
ル、プロパノ−ル等のようなアルコ−ル中、塩基の存在
下、室温で10分乃至2 時間反応させることにより加水分
解して、R2が水素原子である化合物(Ia )得ることが
できる。使用される塩基としては、水酸化リチウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属
水酸化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウムt−ブトキシドのようなアルカリ金属アル
コキシドをあげることができる。反応生成物は氷水中に
注加し、塩酸のような無機酸、しゅう酸、くえん酸、酒
石酸のような有機酸で酸性にした後、酢酸エチルのよう
な有機溶媒で抽出し、水洗し、無水硫酸マグネシウム等
で乾燥後、溶媒を留去することにより得ることができ
る。また、ピリダジノインド−ル核の3 位のエステル残
基を種々のアルコ−ル溶媒中、塩基で処理することによ
り、他のエステル残基に導くこともできる。
【0022】化合物(Ia )は、必要ならば再結晶、カ
ラムクロマトグラフィ−等で精製できる。
【0023】本発明の式(I)で表わされる化合物のう
ちR3がエステル基以外の化合物は、エステル(Ia )を
原料にして、下式により製造することができる。
【0024】
【化6】
【0025】
【化7】
【0026】上記工程の式中、R4、R5、R6、R7、X1、お
よびX2は前述したものと同意義を示す。
【0027】工程Cは、化合物(Ia )とアミン(R4)R5
NH2 (R4及びR5は前述のものと同意義を示す。)(V)
を本反応を阻害しない溶剤中、あるいは無溶媒中、反応
させて、化合物(Ib )を製造する工程である。反応に
使用する溶剤としては、本反応に関与しなければ特に限
定はないが、好適には、メタノ−ル、エタノ−ル等のア
ルコ−ル類をあげることができる。反応温度は、使用さ
れる溶剤等により異なるが、通常溶剤を使用する場合
は、室温乃至使用される溶剤の沸点付近で行なわれ、無
溶剤では通常50℃乃至200 ℃で行なわれる。反応時間
は、反応温度により異なるが、通常室温で10分間乃至24
時間である。反応生成物は、氷水中に注加し、析出する
結晶を瀘取、水洗するか、あるいは酢酸エチルのような
有機溶媒で抽出し、水洗し、無水硫酸マグネシウム等で
乾燥後、溶媒を留去することにより得ることができる。
化合物(Ib )は、必要ならば再結晶、カラムクロマト
グラフィ−等で精製できる。
【0028】工程Dは、化合物(Ia )を本反応を阻害
しない溶媒中、塩基の存在化アルカリ加水分解させて、
化合物(Ic )を製造する工程である。反応に使用する
溶剤としては、本反応に関与しなければ特に限定はない
が、メタノ−ル、エタノ−ル等のアルコ−ル類などの有
機溶剤と水との混合溶剤が好適である。使用される塩基
としては水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムのようなアルカリ金属水酸化物があげられる。反
応温度は、使用される溶剤より異なるが、通常室温乃至
使用される溶剤の沸点付近に加熱して行なわれる。反応
時間は、反応温度により異なるが、通常室温で5 分間乃
至6 時間である。反応生成物は、溶媒を留去し、残留物
を水に溶かし、塩酸のような無機酸で中和した後、酢酸
エチルまたはジクロロメタンのような有機溶媒で抽出
し、水洗し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶媒を
留去することにより得ることができる。化合物(Ic )
は、必要ならば再結晶、カラムクロマトグラフィ−等で
精製できる。
【0029】工程Eは、化合物(Ia )を還元反応によ
り化合物(Id )を製造する工程である。本反応は、エ
−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ−テル
溶液中、水素化リチウムアルミニウム、ジボラン、水素
化ほう素リチウム等の還元剤を用いて行なわれる。反応
温度は、使用される溶剤より異なるが、通常0 ℃乃至使
用される溶剤の沸点付近に加熱して行なわれる。反応時
間は、反応温度により異なるが、通常室温で10分間乃至
24時間である。反応生成物は、水、塩酸または水酸化ナ
トリウム水溶液を加え過剰の還元剤を分解し不溶物を瀘
別した後、残留物を酢酸エチルまたはジクロロメタンの
ような有機溶媒に抽出し、水洗し、無水硫酸マグネシウ
ム等で乾燥後、溶媒を留去することにより得ることがで
きる。化合物(Id )は、必要ならば再結晶、カラムク
ロマトグラフィ−等で精製できる。
【0030】工程Fは、化合物(Id )を酸化反応によ
り化合物(Ie )を製造する工程である。本反応は、エ
−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ−テル
溶液中、二酸化マンガン等の酸化剤を用いて行なわれ
る。反応温度は、使用される溶剤により異なるが、通常
室温乃至使用される溶剤の沸点付近に加熱して行なわれ
る。反応時間は、反応温度により異なるが、通常室温で
1 時間乃至24時間である。反応生成物は、不溶物を瀘別
した後、溶媒を留去し得ることができる。化合物(Ie
)は、必要ならば再結晶、カラムクロマトグラフィ−
等で精製できる。
【0031】工程Gは、化合物(Ie )と化合物R6NH2
(R6は前述したものと同意義を示す。)(VI)とを、
塩基の存在下あるいは非存在下、本反応を阻害しない溶
媒中反応させて、化合物(If )を製造する工程であ
る。反応に使用する溶剤としては、本反応に関与しなけ
れば特に限定はないが、メタノ−ル、エタノ−ル等のア
ルコ−ル類、N,N −ジメチルアセタミド、N,N-ジメチル
ホルムアミド等のアミド類をあげることができる。使用
される塩基としては、酢酸ナトリウム、トリエチルアミ
ン等をあげることができる。反応温度は、使用される溶
剤により異なるが、通常50℃乃至使用される溶剤の沸点
付近で行なわれる。反応時間は、反応温度により異なる
が、30分間乃至8 時間である。反応生成物は、氷水中に
注加し、析出する結晶をろ取、水洗するか、あるいは酢
酸エチルのような有機溶媒で抽出し、水洗し、無水硫酸
マグネシウム等で乾燥後、溶媒を留去することにより得
ることができる。化合物(If )は、必要ならば再結
晶、カラムクロマトグラフィ−等で精製できる。
【0032】工程Hは、化合物(Ie )と化合物Ph3PCH
-CO2R7(R7は前述したものと同意義を示す。)(VI)
とを、本反応を阻害しない溶剤中反応させて、化合物
(Ig )を製造する工程である。反応に使用する溶剤と
しては、本反応に関与しなければ特に限定はないが、好
適には、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等
の炭化水素類をあげることができる。反応温度は、使用
される溶剤により異なるが、通常使用される溶剤の沸点
付近で行なわれる。反応時間は、反応温度により異なる
が、30分間乃至8 時間である。反応生成物は、不溶物を
瀘別し、溶媒を留去することにより得ることができる。
化合物(Ig )は、必要ならば再結晶、カラムクロマト
グラフィ−等で精製できる。
【0033】
【発明の効果】
【0034】
【試験例】ラット大脳皮質膜標品に実施例化合物及びト
リチウムラベルしたフルニトラゼパムを最終濃度1nM
になるように加え、30℃で60分間インキュベートし
た。反応停止後フィルターを通して、ろ紙上の膜標品に
結合したトリチウム量を液体シンチレーションカウンタ
ーでカウントした。
【0035】
【表2】 ──────────────────────────────── 実施化合物番号 例示化合物番号 IC50(g/ml) ──────────────────────────────── 2 24 1 ×10-8 5 4 6 ×10-9 6 5 2 ×10-8 10 9 2 ×10-8 12 25 1 ×10-8 21 16 4.6 ×10-8 23 19 8 ×10-9 23 20 1.2 ×10-8 ──────────────────────────────── 本発明の前記一般式(I)を有する化合物は、優れたベ
ンゾジアゼピンレセプタ−結合能を有し、向精神薬特に
抗不安薬として有用である。
【0036】以下に実施例および参考例を示して本発明
をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲はこれに限定
されるものではない。
【0037】
【実施例】
(実施例1)メチル 9 −アセチル−9H−ピリダジノ
[3,4 −b ]インド−ル−3-カルボキシラ−ト(例示化
合物1) 1a)メチル 9 −アセチル−1,2 −ジベンジルオキシカ
ルボニル−1,2 ジヒドロ−9H−ピリダジノ[3,4 −b ]
インド−ル−3 −カルボキシラ−ト 3 −(1 −アセチル−1H−インド−ル−3 −イル)−2
−プロペノア−ト2.4g とジベンジル アゾジカルボキ
シラ−ト3.1 g をクロロホルム100 mlに溶かし3 時間撹
拌還流した。反応液に二酸化マンガン10 gを加え室温で
1 時間、還流下5 分間撹拌した。反応混合物を瀘過し、
瀘液を減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィ−(ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製
した後、ジクロロメタン−ヘキサン−エ−テルより再結
晶して、黄色粉末の目的化合物2.25 gを得た。
【0038】融点118 −120 ℃。
【0039】NMRスペクトル(CDCl3 )δppm : 2.58(3H,s), 3.74(3H,s), 5.02-5.48(4H,m), 7.20-7.68
(4H,m), 7.32(5H,s),7.37(5H,s), 8.30-8.50(1H,m). 1b)メチル 9 −アセチル−9H−ピリダジノ[3,4 −b
]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト 実施例1aで得られたメチル 9 −アセチル−1,2 −ジベ
ンジルオキシカルボニル−1,2 −ジヒドロ−9H−ピリダ
ジノ[3,4 −b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト13
gをトリフロロ酢酸50 ml に溶かしチオアニソ−ル25 m
l 加え24時間室温で撹拌した。反応混合物を減圧濃縮
し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(ヘ
キサンで洗浄、ジクロロメタンで溶出)で精製した後、
酢酸エチルより再結晶して、淡褐色針状結晶の目的化合
物1.26 gを得た。
【0040】融点218 −220 ℃(分解)。
【0041】NMRスペクトル(CDCl3 )δppm : 3.27(3H,s), 4.14(3H,s), 7.27-7.88(2H,m), 8.12(1H,
d,J=8 Hz), 8.72(1H,s), 8.77(1H,d,J=8 Hz). (実施例2)メチル 6 −ブロモ−9H−ピリダジノ[3,
4 −b ]インド−ル−3−カルボキシラ−ト(例示化合
物24) 2a)メチル 9 −アセチル−6 −ブロモ−1,2 −ジベン
ジルオキシカルボニル−1,2 −ジヒドロ−9H−ピリダジ
ノ[3,4 −b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト 実施例1aと同様の方法により3 −(1 −アセチル−5 −
ブロモ−1H−インド−ル−3 −イル)−2 −プロペノア
−ト2.5 g とジベンジル アゾジカルボキシラ−ト7.5
g をクロロホルム300 mlに溶かし処理した後、二酸化マ
ンガン25 gを加え処理した。反応混合物を瀘過し、瀘液
を減圧濃縮した。残留物をエ−テルで洗浄して、目的化
合物1.50 gを得た。
【0042】融点148 −150 ℃。
【0043】NMRスペクトル(CDCl3 )δppm : 2.58(3H,s), 3.73(3H,s), 5.00-5.55(4H,m), 7.15-7.80
(13H,m), 8.28(1H,d,J=9Hz). 2b) メチル 9 −アセチル−6 −ブロモ−9H−ピリダジ
ノ[3,4 −b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト 実施例1bと同様の方法により実施例2aで得られたメチル
9 −アセチル−6 −ブロモ−1,2 −ジベンジルオキシ
カルボニル−1,2 −ジヒドロ−9H−ピリダジノ[3,4 −
b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト1.5 g をトリフ
ロロ酢酸20 mlに溶かしチオアニソ−ル5 ml加え処理し
た。反応混合物を減圧濃縮し、水−アセトンで洗浄して
淡褐色結晶の目的化合物0.43 gを得た。
【0044】融点245 −247 ℃(分解)。
【0045】NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 3.18(3H,s), 4.05(3H,s), 7.98(1H,dd,J=9, 2Hz), 8.58
(1H,d,J=9 Hz), 8.90(1H,d,J=2 Hz), 9.20(1H,s). 2c)メチル 6 −ブロモ−9H−ピリダジノ[3,4 −b ]
インド−ル−3-カルボキシラ−ト 実施例2bで得られたメチル 9 −アセチル−6 −ブロモ
−9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル−3 −カルボ
キシラ−ト0.35 gをメタノ−ル50 ml に懸濁しナトリウ
ムメチラ−ト(28%メタノ−ル溶液)0.3 ml加え室温で
20分間撹拌した。反応混合物を氷水に加え、クエン酸で
酸性にした後、飽和炭酸水素ナトリウムで中和してから
酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗し、減圧濃縮して
から、残留物をメタノ−ルより再結晶して淡黄色針状結
晶の目的化合物0.27 gを得た。
【0046】融点287 −289 ℃(分解) NMRスペクトル(DMF-d7)δppm : 4.07(3H,s), 7.70-7.97(2H,m), 8.83(1H,d,J=2 Hz), 9.
17(1H,s). (実施例3) メチル 6,7 −ジメトキシ−9H−ピリダ
ジノ[3,4 −b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト
(例示化合物30) 3a)メチル 9 −アセチル−1,2 −ジベンジルオキシカ
ルボニル−1,2 ジヒドロ−6,7 −ジメトキシ−9H−ピリ
ダジノ[3,4 −b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト 実施例1aと同様の方法により3 −(1 −アセチル−5,6
−ジメトキシ−1H−インド−ル−3 −イル)−2 −プロ
ペノア−ト1.90 gとジベンジル アゾジカルボキシラ−
ト4.00 gをジクロロメタン300 mlに溶かし処理した後、
二酸化マンガン20 gを加え処理した。反応混合物を瀘過
し瀘液を減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィ−(酢酸エチル:ヘキサン=2:1)で精
製して褐色油状物の目的化合物3.40 gを得た。
【0047】NMRスペクトル(CDCl3 )δppm : 2.55(3H,bs), 3.67(3H,s), 3.88(6H,s), 4.90-5.50(4H,
m), 6.95(1H,s), 7.23(5H,s), 7.28(5H,s), 7.49(1H,
s), 7.97(1H,s). 3b) メチル 9 −アセチル−6,7 −ジメトキシ−9H−
ピリダジノ[3,4 b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−
ト 実施例1bと同様の方法により実施例3aで得られたメチル
9 −アセチル−1,2−ジベンジルオキシカルボニル−
1,2 −ジヒドロ−6,7 −ジメトキシ−9H−ピリダジノ
[3,4 −b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト3.40 g
をトリフロロ酢酸20 ml に溶かしチオアニソ−ル5 ml加
え処理した。反応混合物を減圧濃縮し、残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ−(酢酸エチル:ヘキサン
=2:1)で精製して淡黄緑色の目的化合物0.80 gを得
た。
【0048】融点245 −248 ℃(分解)。
【0049】NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 2.88(3H,s), 3.65(3H,s), 3.69(3H,s), 3.86(3H,s), 7.
65(1H,s), 7.73(1H,s), 8.55(1H,s). 3c) メチル 6,7 −ジメトキシ−9H−ピリダジノ[3,
4 −b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト 実施例2cと同様の方法により実施例3bで得られたメチル
9 −アセチル−6,7−ジメトキシ−9H−ピリダジノ
[3,4 −b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト0.30 g
をメタノ−ル30 ml に懸濁しナトリウムメチラ−ト(28
%メタノ−ル溶液)0.3 ml加え処理した。反応混合物を
氷水に加え、クエン酸で酸性にした後、飽和炭酸水素ナ
トリウムで中和してから酢酸エチルで抽出した。抽出液
を水洗し、減圧濃縮してから、残留物をメタノ−ル−酢
酸エチルより再結晶して黄色結晶の目的化合物を0.25 g
得た。
【0050】融点242 −245 ℃(分解) NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 3.90(3H,s), 3.96(3H,s), 4.01(3H,s), 7.13(1H,s), 8.
04(1H,s), 8.90(1H,s). (実施例4) メチル 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]イ
ンド−ル−3 −カルボキシラ−ト(例示化合物2) 4a) メチル 1,2 −ジベンジルオキシカルボニル−1,
2 −ジヒドロ−9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル
−3 −カルボキシラ−ト メチル 3 −(1H−インド−ル−3 −イル)−2 −プロ
ペノア−ト10 gとジベンジル アゾジカルボキシラ−ト
25 gをジクロロメタン300 mlに溶かし室温で24時間撹拌
した。反応混合物を減圧濃縮した。残留物をエ−テルで
洗浄して、黄色粉末の目的化合物9.50 gを得た。
【0051】融点148 −150 ℃(分解)。
【0052】NMRスペクトル(CDCl3 )δppm : 3.76(3H,s), 5.00-5.47(4H,m), 7.06-7.70(14H,m), 7.8
5(1H,s), 10.00(1H,bs). 4b) メチル 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル
−3 −カルボキシラ−ト 実施例4aで得られたメチル 1,2 −ジベンジルオキシカ
ルボニル−1,2 ジヒドロ−9H−ピリダジノ[3,4 −b ]
インド−ル−3 −カルボキシラ−ト9.5 g をトリフロロ
酢酸50 ml に溶かしチオアニソ−ル20 ml 加え24時間室
温で撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し残留物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ−(ヘキサン:酢酸エチル
=1:1)で精製した後、酢酸エチル−メタ−ノ−ルよ
り再結晶して、淡褐色針状結晶の目的化合物1.90 gを得
た。
【0053】融点240 −241 ℃(分解)。
【0054】NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 4.07(3H,s), 7.30-7.90(3H,m), 8.53(1H,d,J=8 Hz), 9.
10(1H,s), 12.98(1H,s). (実施例5) エチル 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]イ
ンド−ル−3 −カルボキシラ−ト(例示化合物4) 5a) エチル 1,2 −ジベンジルオキシカルボニル−1,
2 −ジヒドロ−9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル
−3 −カルボキシラ−ト エチル 3 −(1H−インド−ル−3 −イル)−2 −プロ
ペノア−ト2.15 gとジベンジル アゾジカルボキシラ−
ト5.00 gをジクロロメタン50 ml に溶かし室温で24時間
撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残留物をエ−テル
で洗浄して、黄色粉末の目的化合物2.40 gを得た。
【0055】5b) エチル 9H−ピリダジノ[3,4 −b
]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト 実施例5aで得られたエチル 1,2 −ジベンジルオキシカ
ルボニル−1,2 ジヒドロ−9H−ピリダジノ[3,4 −b ]
インド−ル−3 −カルボキシラ−ト2.00 gトリフロロ酢
酸20 ml に溶かしチオアニソ−ル10 ml 加え24時間室温
で撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、酢酸エチル−エ
タノ−ルより再結晶して、淡黄針状結晶の目的化合物0.
30g を得た。
【0056】融点228 −230 ℃(分解)。
【0057】NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 1.45(3H,t,J=7 Hz), 4.50(2H,q,J=7 Hz), 7.30-7.80(3
H,m), 8.50(1H,d,J=8 Hz), 9.07(1H,s), 12.96(1H,bs) (実施例6) n−プロピル 9H−ピリダジノ[3,4 −
b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト(例示化合物
5) n−プロパノ−ル20 ml に水素化ナトリウム(55% 鉱油
懸濁)0.10 gを溶かし、メチル 9H−ピリダジノ[3,4
−b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト0.30gを加え
室温で30分間撹拌した。反応混合物を氷水に加え析出し
た結晶を瀘取、水洗して目的化合物0.30 gを得た。
【0058】融点210 −212 ℃ NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 1.05(3H,t,J=7 Hz), 1.63-2.10(2H,m), 4.40(2H,t,J=7
Hz), 7.30-7.90(3H,m), 8.53(1H,d,J=8 Hz), 9.07(1H,
s). (実施例7)iso−プロピル 9H−ピリダジノ[3,4
−b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト(例示化合物
6) 実施例6 と同様の方法により、iso−プロパノ−ル50
ml に水素化ナトリウム(55% 鉱油懸濁)0.10 gを溶か
し、メチル 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル−
3 −カルボキシラ−ト0.30 gを加え処理した。反応混合
物を氷水に加え析出した結晶を瀘取、水洗、アセトン−
酢酸エチルより再結晶して淡黄色葉状結晶の目的化合物
0.26 gを得た。
【0059】融点214 −216 ℃ NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 1.44(6H,d,J=7 Hz), 5.05-5.60(1H,m), 7.30-7.90(3H,
m), 8.50(1H,d,J=8 Hz), 9.05(1H,s), 12.95(1H,bs). (実施例8)n−ブチル 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]
インド−ル−3 −カルボキシラ−ト(例示化合物7) 実施例6 と同様の方法により、n−ブタノ−ル50 ml に
水素化ナトリウム(55% 鉱油懸濁)0.10 gを溶かし、メ
チル 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル−3 −カ
ルボキシラ−ト0.30 gを加え処理して、淡黄色葉状結晶
の目的化合物0.31 gを得た。
【0060】融点178 −180 ℃ NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 0.98(3H,t,J=7 Hz), 1.30-2.00(4H,m), 4.45(2H,t,J=7
Hz), 7.30-7.90(3H,m), 8.52(1H,d,J=8 Hz), 9.07(1H,
s), 12.95(1H,bs). (実施例9)2 −メトキシエチル 9H−ピリダジノ[3,
4 −b ]インド−ル−3−カルボキシラ−ト(例示化合
物8) 実施例6 と同様の方法により、2 −メトキシエタノ−ル
3 mlに水素化ナトリウム(55% 鉱油懸濁)0.10 gを溶か
し、メチル 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル−
3 −カルボキシラ−ト0.30 gを加え処理して、無色針状
結晶の目的化合物0.15 gを得た。
【0061】融点189 −191 ℃ NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 3.39(3H,s), 3.77 (2H,t,J=4 Hz), 4.60(2H,t,J=4 Hz),
7.30-7.90(3H,m), 8.53(1H,d,J=8 Hz), 9.08(1H,s), 1
2.90(1H,bs). (実施例10)ベンジル 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]
インド−ル−3 −カルボキシラ−ト(例示化合物9) 実施例6 と同様の方法により、ベンジルアルコ−ル3 ml
に水素化ナトリウム(55% 鉱油懸濁)0.10 gを溶かし、
メチル 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル−3 −
カルボキシラ−ト0.30 gを加え処理して、無色葉状結晶
の目的化合物0.17 gを得た。
【0062】融点235-357 ℃ NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 5.58(2H,s), 7.30-7.90(9H,m), 8.53(1H,d,J=8 Hz), 9.
10(1H,s), 12.98(1H,bs). (実施例11)3 −ピリジルメチル 9H−ピリダジノ[3,
4 −b ]インド−ル−3−カルボキシラ−ト(例示化合
物10) 実施例6 と同様の方法により、3 −ピリジンメタノ−ル
3 mlに水素化ナトリウム(55% 鉱油懸濁)0.10 gを溶か
し、メチル 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル−
3 −カルボキシラ−ト0.30 gを加え処理して、無色針状
結晶の目的化合物0.12 gを得た。
【0063】融点225 −227 ℃ NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 5.58(2H,s), 7.30-8.20(5H,m), 8.45-9.00(3H,m), 9.13
(1H,m), 12.97(1H,bs). (実施例12)エチル 6 −ブロモ−9H−ピリダジノ[3,
4 −b ]インド−ル−3−カルボキシラ−ト(例示化合
物25) 実施例6 と同様の方法により、エタノ−ル30 ml に水素
化ナトリウム(55% 鉱油懸濁)0.20 gを溶かし、メチル
6 −ブロモ−9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル
−3 −カルボキシラ−ト0.30 gを加え処理して、淡黄色
針状結晶の目的化合物0.24g を得た。
【0064】融点274 ℃(分解) NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 1.40(3H,t,J=7 Hz), 4.48(2H,q,J=7 Hz), 7.62(1H,d,J=
8 Hz), 7.83(1H,dd,J=1.8Hz), 8.80(1H,d,J=1 Hz), 9.1
2(1H,s), 13.00(1H,bs). (実施例13)エチル 6,7 −ジメトキシ−9H−ピリダジ
ノ[3,4 −b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト(例
示化合物31) 実施例6 と同様の方法により、エタノ−ル30 ml に水素
化ナトリウム(55% 鉱油懸濁)0.20 gを溶かし、メチル
6,7 −ジメトキシ−9H−ピリダジノ[3,4 −b ]イン
ド−ル−3 −カルボキシラ−ト0.30 gを加え処理して、
淡黄色針状結晶の目的化合物0.217 g を得た。
【0065】融点263 ℃(分解) NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 1.43(3H,t,J=7 Hz), 3.90(3H,s), 3.96(3H,s), 4.48(2
H,q,J=7 Hz), 7.16(1H,s), 8.07(1H,s), 8.90(1H,s), 1
2.60(1H,bs). (実施例14)9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル−
3 −カルボキサミド(例示化合物11) メチル 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル−3 −
カルボキシラ−ト0.20gを20% アンモニアメタノ−ル溶
液30 ml に溶解し48時間反応した。反応混合物を減圧濃
縮し、残留物をメタノ−ル−酢酸エチルより再結晶し
て、無色針状結晶の目的化合物を得た。
【0066】融点280 ℃以上 NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 7.25-7.90(5H,m), 8.47(1H,s), 8.52(1H,d,J=8 Hz), 9.
06(1H,s). (実施例15) N −メチル−9H−ピリダジノ[3,4 −b
]インド−ル−3 −カルボキサミド(例示化合物1
2) 実施例14と同様の方法により、メチル 9H−ピリダジノ
[3,4 −b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト0.20 g
を30% メチルアミンメタノ−ル溶液20 ml に溶解し処理
した。反応混合物を減圧濃縮して、残留物をメタノ−ル
−酢酸エチルより再結晶して、無色葉状結晶の目的化合
物0.15 g を得た。
【0067】融点190 −192 ℃ NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 2.95(3H,d,J=4 Hz), 7.25-7.85(3H,m), 8.53(1H,d,J=8
Hz), 9.02(1H,m), 9.12(1H,m), 12.85(1H,bs). (実施例16)N 、N −ジメチル−9H−ピリダジノ[3,4
−b ]インド−ル−3 −カルボキサミド(例示化合物1
3) 実施例14と同様の方法により、メチル 9H−ピリダジノ
[3,4 −b ]インド−ル−3 −カルボキシラ−ト0.30 g
を3%ジメチルアミンメタノ−ル溶液100 mlに溶解し処理
して、淡黄色針状結晶の目的化合物0.24 gを得た。
【0068】融点273 −275 ℃ NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 3.13(3H,s), 3.17(3H,s), 7.27-7.90(3H,m), 8.43(1H,
d,J=8 Hz), 8.67(1H,s),12.80(1H,bs). (実施例17)9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル−
3 −カルボヒドラジド(例示化合物14) メチル 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル−3 −
カルボキシラ−ト0.20gをヒドラジン一水和物3 ml中、8
0℃で1 時間撹拌した。反応混合物を氷水に加え析出し
た結晶を瀘取、水洗し、メタノ−ル−酢酸エチルより再
結晶して無色粉末結晶の目的化合物0.17 gを得た。
【0069】融点280 ℃以上 NMRスペクトル(DMSO-d6 )δppm : 4.67(2H,bs), 7.25-7.85(3H,m), 8.52(1H,d,J=8 Hz),
9.00(1H,s), 10.20(1H,bs), 12.80(1H,bs). (実施例18)9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル−
3 −カルボン酸(化合物1) エタノ−ル7 mlと水3 mlの混合物に水酸化カリウム0.3
g を溶解し、メチル9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド
−ル−3 −カルボキシラ−ト0.30 gを加え70℃で1 時間
撹拌した。反応混合物を氷水に加え、塩酸で中和し、析
出した結晶を瀘取、水洗して黄色粉末結晶の目的化合物
0.166 g を得た。
【0070】融点300 ℃以上 NMRスペクトル(D2O+NaOD)δppm : 7.65-7.90(1H,m), 8.07-8.55(2H,m), 8.78(1H,d,J=8 H
z), 9.29(1H,s). (実施例19)9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル−
3 −メタノ−ル(例示化合物18) エタノ−ル60 ml とテロラヒドロフラン40 ml の混合液
にメチル 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル−3
−カルボキシラ−ト0.80 gを加え溶解し、水素化ほう素
ナトリウム0.25 gと塩化リチウム0.30 gを加え室温で4
時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残留物に氷水
を加え塩酸で酸性にし、炭酸水素ナトリウムで中和し、
析出した結晶を瀘取、水洗してた。得られた結晶をメタ
ノ−ル−酢酸エチルで再結晶して淡黄色粉末結晶の目的
化合物0.50 gを得た。
【0071】融点230 −232 ℃(分解) NMRスペクトル(DMSO-d6)δppm : 5.03(2H,s), 5.65(1H,bs), 7.23-7.48(1H,m), 7.58-7.8
2(2H,m), 8.39(1H,d,J=8 Hz), 8.47(1H,s), 12.32(1H,b
s). (実施例20) 9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル
−3 −カルバアデヒド(例示化合物15) ジオキサン200 mlに9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド
−ル−3 −メタノ−ル1.10 gを加え溶解し、二酸化マン
ガン4.00 gを加え6 時間撹拌還流した。反応混合物を瀘
過し、瀘液を減圧濃縮し、残留物をエ−テル−ジクロロ
メタンで洗浄して淡褐色針状結晶の目的化合物0.80 gを
得た。
【0072】融点285 −288 ℃(分解) NMRスペクトル(DMSO-d6)δppm : 7.32-7.53(1H,m), 7.60-7.95(2H,m), 8.53(1H,d,J=8 H
z), 8.98(1H,s), 10.48(1H,s), 13.04(1H,bs). (実施例21) 9H −ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル
−3 −カルバアルデヒド−オキシム(例示化合物16) エタノ−ル50 ml に9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド
−ル−3 −カルバアデヒド0.20 g、ヒドロキシアミン塩
酸塩0.15 gと酢酸ナトリウム0.20 gをを加え2間撹拌還
流した。反応混合物を氷水に加え、析出した結晶を瀘
取、水洗しメタノ−ル−酢酸エチルより再結晶して淡褐
色粉末結晶の目的化合物0.164 g を得た。融点250 ℃
(分解) NMRスペクトル(DMSO-d6)δppm : 7.28-7.50(1H,m), 7.53-7.84(2H,m), 8.48(1H,d,J=8 H
z), 8.58(1H,s), 8.80(1H,s), 11.76(1H,s), 12.57(1H,
s). (実施例22) 9H −ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル
−3 −カルバアルデヒド−ジメチルヒドラゾン(例示化
合物17) N,N −ジメチルホルムアミド10 ml に9H−ピリダジノ
[3,4 −b ]インド−ル−3 −カルバアデヒド0.10 g、
N,N −ジメチルヒドラジン1 mlを加え100 ℃で2時間撹
拌した。反応混合物を氷水に加え、析出した結晶を瀘
取、水洗しメタノ−ル−酢酸エチルより再結晶して淡褐
色粉末結晶の目的化合物66 mg を得た。
【0073】融点245 ℃(分解) NMRスペクトル(DMSO-d6)δppm : 3.08(6H,s), 7.18-7.40(1H,m), 7.50-7.80(3H,m), 8.40
(1H,d,J=8 Hz), 8.64(1H,s), 12.30(1H,bs). (実施例23) メチル 3 −(9H−ピリダジノ[3,4 −
b ]インド−ル−3 −イル)−2 −プロペノア−ト(例
示化合物19、20) メシチレン10 ml に9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド
−ル−3 −カルボアデヒド0.20 gと(トリフェニルホス
ホルアニリデン)酢酸メチル0.40 gを加え2 時間撹拌還
流した。反応混合物を冷却し析出した結晶を瀘取、メタ
ノ−ル−酢酸エチルより再結晶して褐色プリズム結晶の
(E)−メチル3 −(9H−ピリダジノ[3,4 −b ]イン
ド−ル−3 −イル)−2 −プロペノア−ト113 mgを得
た。
【0074】融点247 ℃(分解) NMRスペクトル(DMSO-d6)δppm : 3.83(3H,s), 7.06(1H,d,J=16 Hz), 7.28-7.52(1H,m),
7.60-7.87(2H,m), 8.05(1H,d,J=16 Hz), 7.35(1H,d,J=8
Hz), 8.92(1H,s), 12.72(1H,bs). 虜液を減圧濃縮してジクロロメタンで洗浄して(Z)−
メチル 3 −(9H−ピリダジノ[3,4 −b ]インド−ル
−3 −イル)−2 −プロペノア−トを33mg得た。
【0075】融点207 ℃(分解) NMRスペクトル(DMSO-d6)δppm : 3.73(3H,s), 6.32(1H,d,J=1
2 Hz), 7.44(1H,d,J=12 H
z), 7.25−7.87(4H,m), 8.33
(1H,d,J=8 Hz), 8.80(1H,
s), 12.60(1H,bs).

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 【化1】 [式中、R1は-CHO、-COOH 、-COOR3(式中、R3は低級ア
    ルキル基、低級アルコキシアルキル基、アラルキル基又
    は複素環アルキル基を示す。)、 -CON(R4)R5(式中、R
    4及びR5は同一または異なって水素原子、低級アルキル
    基又はアミノ基を示す。)、-(CH2)n-OH(式中、n は、
    1又は2の整数を示す。)、-CH=N-R6(式中、R6は、水
    酸基又は低級ジアルキルアミノ基を示す。)又は-CH=CH
    COOR7(式中、R7は、低級アルキル基を示す。)を示
    し、R2は水素原子又は低級アルカノイル基を示し、X1
    びX2は同一または異なって水素原子、低級アルキル基、
    低級アルコキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子
    または水酸基を示す。]を有するピリダジノインド−ル
    化合物。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008536901A (ja) * 2005-04-20 2008-09-11 サノフイ−アベンテイス 1H−ピリミド[4,5−b]インドール誘導体、これらの調製及び治療的使用

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