JPH05239022A - 3,4−トランス−4−エチル−1,3−ジ置換(置換フェニル)ピロリジン−2−オン誘導体の製造方法 - Google Patents

3,4−トランス−4−エチル−1,3−ジ置換(置換フェニル)ピロリジン−2−オン誘導体の製造方法

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JPH05239022A
JPH05239022A JP4340140A JP34014092A JPH05239022A JP H05239022 A JPH05239022 A JP H05239022A JP 4340140 A JP4340140 A JP 4340140A JP 34014092 A JP34014092 A JP 34014092A JP H05239022 A JPH05239022 A JP H05239022A
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carbon atoms
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Kanji Tomitani
完治 冨谷
Koichi Moriyasu
宏一 森安
Harumichi Aoki
治道 青木
Kengo Oda
研悟 小田
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 除草剤として有用な3,4−トランス−4−
エチル−1,3−ジ置換(置換フェニル)ピロリジン−
2−オン誘導体を高収率で製造する方法を提供する。 【構成】 4−エチル−1,3−ジ置換(置換フェニ
ル)−3−ピロリン−2−オン誘導体を不活性溶媒中、
メタノール存在下、水素化ホウ素ナトリウムで還元する
ことを特徴とする、3,4−トランス−4−エチル−
1,3−ジ置換(置換フェニル)ピロリジン−2−オン
誘導体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般式(2)(化10)
【0002】
【化10】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、またはメチル
基を表わし、R2 は水素原子、炭素数1から3のアルキ
ル基、トリフルオロメチル基、炭素数1から3のハロア
ルコキシ基、炭素数1から4のアルコキシ基、ニトロ
基、シアノ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基またはハロ
ゲン原子を表わし、Xは水素原子、ハロゲン原子、トリ
フルオロメチル基、炭素数1から3のアルキル基シアノ
基またはニトロ基を表わし、nは1または2であってX
で表される置換基の数を表わし、n=2におけるXは同
一であっても異なっていてもよい。)で表わされる除草
活性を有する3,4−トランス−4−エチル−1,3−
ジ置換(置換フェニル)ピロリジン−2−オン誘導体の
製造方法に関するものである。
【0003】
【従来の技術】ある種のピロリジン−2−オン誘導体が
除草活性を有することは既に開示されている(USP
4,110,105、EP−A−134,564、US
P4,874,422、EP387,869)。これら
に記載されている代表化合物の3−クロロ−4−クロロ
メチル−1−(3−トリフルオロメチルフェニル) ピロ
リジン−2−オン(一般名、フルオロクロリドン;fluo
rochloridone)は市販されている。USP4,960,
457にもピロリジン−2−オン誘導体と除草剤が開示
されている。これらの化合物はいずれも水素化トリブチ
ルスズを用いたラジカル環化反応で製造されており、ピ
ロリジン−2−オン誘導体が3,4位がトランスのもの
のみが、除草活性を有していることが示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来技術の中で用いら
れているラジカル環化反応は、有機スズ化合物を使用す
るため、環境科学的に問題があった。また、ラジカル環
化反応ではピロリジン−2−オン誘導体が3,4位のト
ランス、シスの混合物で得られるという問題があった。
【0005】また、一般式(2)(化11)
【0006】
【化11】(式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、ま
たはメチル基を表わし、R2 は水素原子、炭素数1から
3のアルキル基、トリフルオロメチル基、炭素数1から
3のハロアルコキシ基、炭素数1から4のアルコキシ
基、ニトロ基、シアノ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基
またはハロゲン原子を表わし、Xは水素原子、ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数1から3のアルキ
ル基シアノ基またはニトロ基を表わし、nは1または2
であってXで表される置換基の数を表わし、n=2にお
けるXは同一であっても異なっていてもよい。)で表わ
される化合物は一般式(1)(化12)
【0007】
【化12】 (式中、R1 ,R2 ,X,nは前記の意味を表わす。)
で表わされる化合物をパラジウム、白金等を触媒として
用いる接触水素添加反応でも得ることができる。しか
し、この反応においてはベンゼン環上の置換基に塩素原
子、臭素原子があると、これらのハロゲン原子の脱離反
応が、ピロリン−2−オンの3,4位二重結合の還元と
共に起き、目的物との分離が非常に困難となる。
【0008】また、一般式(2)の化合物は、ピロリジ
ン−2−オンの3,4位の立体配置がトランスのものの
みが除草活性を有しているが、金属触媒を用いる接触水
素添加反応においてはシス体のみが得られる為、トラン
ス体を得るためにはさらに塩基を用いて、異性化する必
要があり、工程数が増えると共に、この異性化が平衡反
応であるため、シス体が一部残ってしまい、除草剤用化
合物の安価な製造法としては問題があった。
【0009】本発明は、一般式(2)の3,4−トラン
ス−4−エチル−1,3−ジ置換(置換フェニル)ピロ
リジン−2−オン誘導体を簡便且つ、安価に製造する方
法を提供することを課題とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決すべく鋭
意検討した結果、以下に示す製造方法を見いだし、本発
明を完成した。
【0011】すなわち本発明は、一般式(1)(化1
3)
【0012】
【化13】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、またはメチル
基を表わし、R2 は水素原子、炭素数1から3のアルキ
ル基、トリフルオロメチル基、炭素数1から3のハロア
ルコキシ基、炭素数1から4のアルコキシ基、ニトロ
基、シアノ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基またはハロ
ゲン原子を表わし、Xは水素原子、ハロゲン原子、トリ
フルオロメチル基、炭素数1から3のアルキル基シアノ
基またはニトロ基を表わし、nは1または2であってX
で表される置換基の数を表わし、n=2におけるXは同
一であっても異なっていてもよい。)で表わされる4−
エチル−1,3−ジ置換(置換フェニル)−3−ピロリ
ン−2−オン誘導体を不活性溶媒中、メタノール存在
下、水素化ホウ素ナトリウムで還元することを特徴とす
る、一般式(2)(化14)
【0013】
【化14】 (式中、R1 ,R2 ,X,nは前記の意味を表わす。)
で表わされる3,4−トランス−4−エチル−1,3−
ジ置換(置換フェニル)ピロリジン−2−オン誘導体の
製造方法である。
【0014】本反応は、不活性溶媒に溶解した一般式
(1)で表わされる4−エチル−1,3−ジ置換(置換
フェニル)−3−ピロリン−2−オン誘導体に水素化ホ
ウ素ナトリウムを加え、加熱下にメタノールを非常にゆ
っくり添加していくことにより、行なうことができる。
反応に用いる水素化ホウ素ナトリウムの量は、一般式
(1)の4−エチル−1,3−ジ置換(置換フェニル)
ピロリン−2−オン誘導体に対して0.5〜1.0倍モ
ル量であり、好ましくは0.6〜0.8倍モルである。
添加するメタノールの量は、水素化ホウ素ナトリウム1
mmolに対して0.2〜2.0ml、好ましくは、
0.5〜1.0mlである。
【0015】用いる溶媒としては、不活性溶媒、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等の
エーテル類、第3ブチルアルコール等を挙げることがで
き、特にテトラヒドロフラン、第3ブチルアルコールが
好ましい。反応温度は、室温から反応溶媒の還流温度で
実施でき、特に50〜70℃で行なうことが好ましい。
反応時間は反応温度とメタノールの添加速度に関連し、
1〜20時間の範囲にある。
【0016】本発明の製造法の原料である一般式(1)
で表わされる4−エチル−1,3−ジ置換(置換フェニ
ル)−3−ピロリン−2−オン誘導体は下記反応式A
(化15)により製造できる。
【0017】
【化15】 (式中、R1 ,R2 ,X,nは前記の意味を表わし、Y
はハロゲン原子を表わす。)すなわち、一般式(3)で
表わされる3,4−ジ置換アニリンと一般式(4)で表
わされるハロケトンとを反応させて一般式(5)で表わ
されるケトアニリン誘導体を得、ついでこれをXn置換
フェニル酢酸ハライド(X、nが前記の意味を表す。)
でアシル化して、一般式(6)で表わされるカルボニル
誘導体を得、ついでこれを塩基で処理して、分子内アル
ドール縮合を行って、一般式(1)の4−エチル−1,
3−ジ置換(置換フェニル)−3−ピロリン−2−オン
誘導体を得ることができる。
【0018】これらの反応についてさらに詳しく説明す
る。すなわち、一般式(3)の3,4−ジ置換アニリン
誘導体を塩基の存在下、一般式(4)のハロケトンと反
応させ、一般式(5)のケトアニリンを得る。塩基とし
てはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
ピリジン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等の無機塩基、tert−ブトキシカリウム、ナトリウ
ムメトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコラ
ート、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の金属水素
化物を用いることができる。
【0019】溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の炭
化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、
N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
等の非プロトン性極性溶媒を用いることができる。
【0020】反応温度は30〜120℃、特に40〜5
0℃で行なうことが好ましい。反応時間は反応温度に関
連し、2〜15時間の範囲にある。
【0021】かくして得られた一般式(5)のケトアニ
リン誘導体を塩基の存在下対応するXn置換フェニル酢
酸ハライドと反応させて、一般式(6)のカルボニル誘
導体を得る。塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、ピリジン等の有機塩基、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の無機塩基を用いることができ
る。
【0022】溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の炭
化水素類、メタノール、エタノール等のアルコール類、
N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
等の非プロトン性極性溶媒を用いることができる。
【0023】反応温度は30〜120℃、特に20〜4
0℃で行なうことが好ましい。反応時間は反応温度に関
連し、2〜5時間の範囲にある。
【0024】かくして得られた一般式(6)のカルボニ
ル誘導体をついで塩基で処理して分子内アルドール縮合
し、一般式(1)の4−エチル−1,3−ジ置換(置換
フェニル)−3−ピロリン−2−オン誘導体を得る。塩
基としては、tert−ブトキシカリウム、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド等の金属アルコラー
ト、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の金属水素化
物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基を
用いることができる。
【0025】溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の炭
化水素類、メタノール、エタンール等のアルコール類、
N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
等の非プロトン性極性溶媒、テトラヒドロフラン等のエ
ーテル類を用いることができる。
【0026】反応温度は10〜70℃、特に20〜40
℃で行なうことが好ましい。反応時間は反応温度に関連
し、0.5〜2時間の範囲にある。
【0027】この一連の反応の中で、一般式(3)の
3,4−ジ置換アニリンから一般式(6)のカルボニル
誘導体を得る2段階の反応は、中間体を単離することな
く、1つの反応容器の中で連続して行うことも可能であ
る。
【0028】一般式(6)のカルボニル誘導体は、下記
反応式B(化16)によっても製造できる。
【0029】
【化16】 すなわち、一般式(7)で表わされるヒドロキシアニリ
ン誘導体を選択的に窒素原子のみをXn置換フェニル酢
酸ハライドでアシル化し、一般式(8)で表わされるア
ミド誘導体とし、ついでこれを酸化して、一般式(9)
で表わされるカルボニル誘導体を得ることができる。
【0030】すなわち、一般式(7)のヒドロキシアニ
リン誘導体を塩基存在下、一般式(8)に対応する前記
酸ハライドと反応させ、一般式(8)のアミド誘導体を
得る。一般的な反応条件でも目的とするアミド誘導体を
得ることはできるが、水酸基上へのアシル化も副反応と
して起こり、収率の低下を招いてしまう。選択的にアミ
ノ基へのアシル化を行うためには、溶媒としはトルエ
ン、ベンゼン等の炭化水素が、塩基としてはピリジン、
トリエチルアミンがよく、反応温度は氷冷下から100
℃とすることが望ましく、更に望ましくは溶媒としては
トルエンを、塩基としてはピリジンを用い、反応温度は
50℃から70℃が望ましい。
【0031】かくして得られた一般式(4)のアミド誘
導体を酸化して一般式(9)のカルボニル体を得る。こ
の酸化反応は重クロム酸ピリジニウムやビリジニウムク
ロロクロメート等の重金属塩や、次亜塩素ナトリウム等
の慣用の酸化剤を用いて、行なうことができる。
【0032】また、一般式(7)のヒドロキシアニリン
誘導体は、下記反応式C(化17)に示すように対応す
るアニリンと1,2−ブチレンオキシドとの反応で得る
ことができる。
【0033】
【化17】
【0034】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明の製造法を具体
的に説明する。
【0035】実施例1 N−(3−イソプロピルフェニル)−N−(2−ヒドロ
キシブチル)−3−クロロフェニル酢酸アミドの合成 N−(2−ヒドロキシブチル)−m−イソプロピルアニ
リン8.9g(42.9mmol)をトルエン50ml
に溶解し、ピリジン5mlを加え、内温を50℃以下に
保ちながらm−クロロフェニル酢酸クロリド8.11g
(42.9mmol)を滴下していった。そのままの温
度で1時間攪拌した後、反応混合物を水に注ぎ込み、酢
酸エチルで抽出した。有機相を水、1N塩酸、水、飽和
重炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗い、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/酢
酸エチル=7/3)で精製し、目的物を油状物として1
2.8g得た。(収率83.2%) IRνcm-1:3424,1647 NMR(CDCl3)δppm :0.90(3H,t J=7.3Hz),1.23(6H,d J=
7.4Hz),1.44(2H,m),1.78(1H,bs),2.86(1H,m),3.37(2H,
m),3.43(2H,s),3.75(1H,m),4.11(2H,m),6.93-7.01(4H,
m),7.18(2H,m),7.25(1H,m),7.33(1H,m)
【0036】参考例1 N−(2−ヒドロキシブチル)−m−イソプロピルアニ
リンの合成 m−イソプロピルアニリン10g(74mmol)をメ
タノール100mlに溶解し、1,2−ブチレンオキシ
ド6.4g(88.8mmol)を加え、50℃に加熱
して、1時間攪拌した。溶媒を減圧下に留去し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:ヘキサン/
酢酸エチル=7/3(v/v) )を用いて精製し、目的物を
油状物として13.2g得た。(収率86.2%)
【0037】実施例2 N−(3−イソプロピルフェニル)−N−(2−オキソ
ブチル)−3−クロロフェニル酢酸アミドの合成 重クロム酸ピリジニウム15.7g(41.7mmo
l)を80mlの塩化メチレンに懸濁させ、トリフルオ
ロ酢酸1.4mlとピリジン0.9mlを加えた。還流
下撹拌下に、実施例1で得られたN−(3−イソプロピ
ルフェニル)−N−(2−ヒドロキシブチル)−3−ク
ロロフェニル酢酸アミド10.0g(mmol)の10
ml塩化メチレンに溶液を滴下していった。4時間同温
度で反応させた後、反応混合物をジエチルエーテル20
0mlに注ぎ込んだ。不溶物を濾去し、溶媒を減圧下に
留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶
媒:ヘキサン/酢酸エチル=7/3)で精製し、目的物
を油状物として7.61g得た。(収率76.2%) IRνcm-1:1732,1660 NMR(CDCl3)δppm :1.08(3H,t J=7.3Hz),1.25(6H,d J=
6.60Hz),2.45(2H,m),2.85(1H,m),3.50(2H,s),4.40(2H,
s),7.01(2H,m),7.09(2H,m),7.15(2H,m),7.31(1H,m),7.3
7(1H,m)
【0038】実施例3 N−(3−イソプロピルフェニル)−N−(2−オキソ
ブチル)−3−クロロフェニル酢酸アミドの合成 m−イソプロピルアニリン200g(1.48mol)
をトルエン600mlに溶解し、ジイソプロピルエチル
アミン284mlを加えた。窒素気流下45℃に加温
し、ブロモメチルエチルケトン245.8g(1.63
mol)を3時間かけて滴下した。室温に戻し、ピリジ
ン132mlを加え、m−クロロフェニル酢酸クロリド
308g(1.63mol)を滴下した。反応混合物を
水中に注ぎ込み、有機層を分液して、飽和重曹水、水で
順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
下に留去し、粗生物を油状物として492.8得た。
(収率93.0%) IRνcm-1:1732,1660 NMR(CDCl3)δppm :1.08(3H,t J=7.3Hz),1.25(6H,d J=
6.60Hz),2.45(2H,m),2.85(1H,m),3.50(2H,s),4.40(2H,
s),7.01(2H,m),7.09(2H,m),7.15(2H,m),7.31(1H,m),7.3
7(1H,m)
【0039】実施例4 4−エチル−3−(3−クロロフェニル)−1−(3−
イソプロピルフェニル)−3−ピロリン−2−オンの合
成 実施例2または3で合成したN−(3−イソプロピルフ
ェニル)−N−(2−オキソブチル)−3−クロロフェ
ニル酢酸アミド7.61g(21.3mmol)をエタ
ノール35mlに溶解し、室温撹拌下にナトリウムエト
キシドの30%エタノール溶液を0.1ml加えた。そ
のまま同温度で2時間撹拌した後、反応混合物を水中に
注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。溶媒を減圧下に留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出溶媒:
ヘキサン/酢酸エチル=4/1)で精製し、目的物を油
状物として5.9g得た。(収率77.5%) IRνcm-1:1691 NMR(CDCl3)δppm :1.25(3H,t J=7.3Hz),1.28(H,d J=7.
4Hz),2.64(2H,q J=7.3Hz)2.93(1H,m)4.42(2H,s),7.00(1
H,m),7.21-7.39(4H,m),7.55(2H,m),7.76(1H,m)
【0040】実施例5 1−(4−クロロ−3−トリフルオロメチルフェニル)
−4−エチル−3−(3−フルオロフェニル)−3−ピ
ロリン−2−オンの合成 実施例3と同じ方法で製造したN−(4−クロロ−3−
トリフルオロメチルフェニル)−N−(2−オキソブチ
ル)−3−フルオロフェニル酢酸アミド2.38g
(5.92mmol)をエタノール10mlに溶解し、
室温撹拌下に10%水酸化ナトリウ水溶液0.25ml
を加えた。そのまま同温度で1時間撹拌した後、反応混
合物を水中に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。有機層
を硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去
し、析出した結晶を濾取し、n−ヘキサンで洗い、目的
物を無色結晶として1.93g得た。(収率85.0
%) m.p. 125.8〜128.8℃ IRνcm-1:1687 NMR(CDCl3)δppm :1.27(3H,t J=7.3Hz),2.67(2H,q J=
7.3Hz),4.42(2H,s),7.08(1H,m),7.16-7.23(2H,m),7.41
(1H,m),7.50(1H,m),8.00(1H,m),8.00(1H,s)
【0041】実施例6 4−エチル−3−(3−フルオロフェニル)−1−(3
−トリフルオロメチルフェニル)−3−ピロリン−2−
オンの合成 実施例3と同じ方法で合成したN−(3−トリフルオロ
メチルフェニル)−N−(2−オキソブチル)−3−フ
ルオロフェニル酢酸アミド2.74g(7.47mmo
l)をエタノール30mlに溶解し、室温撹拌下にナト
リウムエトキシドの30%エタノール溶液を0.05m
l加えた。そのまま同温度で2時間撹拌した後、反応混
合物を水中に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。有機層
を硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去
し、析出した結晶を濾取し、ジエチルエーテルで洗い、
目的物を無色結晶として2.15g得た。(収率82.
4%) IRνcm-1:1690 NMR(CDCl3)δppm :1.25(3H,t J=7.3Hz),2.66(2H,q J=
7.3Hz),2.43(2H,s),6.92-7.10(3H,m),7.30-7.60(3H,m),
7.90-8.00(2H,m)
【0042】実施例4−6と同じ方法により次の化合物
を合成した。 3−(3−クロロフェニル)−4−エチル−1−(3−
トリフルメチルオロフェニル)−3−ピロリン−2−オ
ン IR ν cm-1: 1690 NMR(CDCl3) δ ppm: 1.29(3H,t,J=8.0Hz),2.68(2H,q,H=
8.0Hz),4.46(2H,s),7.31-7.53(6H,m),8.02.-8.07(2H,m) 4−エチル−1−(3−トリフルオロメチルフェニル)
−3−(3−メチルフェニル)−3−ピロリン−2−オ
ン IR ν cm-1: 1691 NMR(CDCl3) δ ppm: 1.23(3H,t,J=8.1Hz),2.40(3H,s),
2.67(2H,q,H=8.1Hz),4.42(2H,s),7.15-7.52(6H,m),8.03
-8.07(2H,m) 4−エチル−1−(3−トリフルオロメチルフェニル)
−3−(3−メトキシフェニル)−3−ピロリン−2−
オン IR ν cm-1: 1693 NMR(CDCl3) δ ppm: 1.24(3H,t,J=7.9Hz),2.68(2H,q,H=
7.9Hz),3.82(3H,s),4.43(2H,s),6.89-7.04(3H,m),7.34-
7.38(2H,m),7.50(1H,m),8.00-8.10(2H,m)
【0043】実施例7 4−エチル−3−(3−クロロ
フェニル)−1−(3−イソプロピルフェニル)ピロリ
ジン−2−オン(化合物番号41)の合成 実施例4で合成した4−エチル−3−(3−クロロフェ
ニル)−1−(3−イソプロピルフェニル)−3−ピロ
リン−2−オン5.0g(14.7mmol)と水素化
ホウ素ナトリウム0.56g(14.7mmol)をテ
トラヒドロフラン70mlに溶解し、還流下に加熱しな
がら、メタノール11mlを約1時間かけて、徐々に加
えていった。同温度で更に1時間反応を進行させた後、
反応混合物を1N塩酸中に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出
した。水、飽和重炭酸ナトリウム水溶液、水で有機相を
順次洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下
に留去し、残渣にn-ヘキサンを加えて結晶化させ、エー
テルー石油エーテルから再結晶して目的物を無色結晶と
して4.5g得た。(収率90%) m.p..88.5〜90.0℃
【0044】実施例8 1−(4−クロロ−3−トリフルオロメチルフェニル)
−4−エチル−3−(3−フルオロフェニル)ピロリジ
ン−2−オン(化合物番号17)の合成 実施例5で合成した1−(4−クロロ−3−トリフルオ
ロメチルフェニル)−4−エチル−3−(3−フルオロ
フェニル)−3−ピロリン−2−オン14.0g(3
6.4mmol)と水素化ホウ素ナトリウム1.10g
(29.1mmol)をテトラヒドロフラン120ml
に溶解し、還流下に加熱しながら、メタノール22ml
を約1.5時間かけて、徐々に加えていった。同温度で
更に1時間反応を進行させた後、反応混合物を1N塩酸
中に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。水、飽和重炭酸
ナトリウム水溶液、水で有機相を順次洗い、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣にn-ヘ
キサンを加えて結晶化させ、エーテルーn−ヘキサンか
ら再結晶して目的物を無色結晶として13.4g得た。
(収率95%) m.p..131.3〜133.2℃
【0045】実施例9 4−エチル−3−(3−フルオロフェニル)−1−(3
−トリフルオロメチルフェニル)ピロリジン−2−オン
(化合物番号3)の合成 実施例6で合成した4−エチル−3−(3−フルオロフ
ェニル)−1−(3−トリフルオロメチルフェニル)−
3−ピロリン−2−オン28.0g(79.9mmo
l)と水素化ホウ素ナトリウム2.56g(67.6m
mol)をテトラヒドロフラン200mlに溶解し、還
流下に加熱しながら、メタノール50mlを約2時間か
けて、徐々に加えていった。同温度で更に1時間反応を
進行させた後、反応混合物を1N塩酸中に注ぎ込み、酢
酸エチルで抽出した。水、飽和重炭酸ナトリウム水溶
液、水で有機相を順次洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧下に留去し、残渣にn-ヘキサンを加えて
結晶化させ、エーテルーn−ヘキサンから再結晶して目
的物を無色結晶として26.1g得た。(収率92.9
%) m.p.98.5〜100.0℃
【0046】本発明の製造法で製造できる一般式(2)
で表される化合物の例を第1表(表1〜16)に示す。
【0047】
【表1】
【0048】
【表2】
【0049】
【表3】
【0050】
【表4】
【0051】
【表5】
【0052】
【表6】
【0053】
【表7】
【0054】
【表8】
【0055】
【表9】
【0056】
【表10】
【0057】
【表11】
【0058】
【表12】
【0059】
【表13】
【0060】
【表14】
【0061】
【表15】
【0062】
【表16】
【0063】実施例7で行った反応に於て、本発明の水
素化ホウ素ナトリウムの活性化を行わずに通常の方法で
還元反応を行った場合、3,4−トランス−4−エチル
−1,3−ジ置換(置換フェニル)ピロリジン−2−オ
ン誘導体が好ましい収率で得られないことを示すため
に、比較例1を挙げて説明する。
【0064】比較例1 4−エチル−3−(3−クロロフェニル)−1−(3−
イソプロピルフェニル)ピロリジン−2−オン(化合物
番号41)の合成 実施例4で合成した4−エチル−3−(3−クロロフェ
ニル)−1−(3−イソプロピルフェニル)−3−ピロ
リン−2−オン5.0g(14.7mmol)をエタノ
ール50mlに溶解し、室温撹拌下に水素化ホウ素ナト
リウム0.56g(14.7mmol)を少しずつ加え
ていった。同温度で更に1時間反応を進行させた後、反
応混合物を1N塩酸中に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し
た。水、飽和重炭酸ナトリウム水溶液、水で有機相を順
次洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に
留去した。残渣を高速液体クロマトグラフィー(カラ
ム:YMC−A302(ODS),移動相:MeCN/
2 O=9/1(V/V),UV:254nm)で分析
したところ、原料/目的物=3/1の混合物であり、大
量の原料が残存していた。
【0065】次に本発明に係わる除草剤の製剤例及び除
草活性試験例を示す。
【0066】製剤例1 (水和剤) 本発明化合物(3):20重量部、ネオペレックス(商
品名、花王製;ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム):2重量部、ノイゲンEA80(商品名、三洋化成
製;ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル):1
重量部、ホワイトカーボン:5重量部および珪藻土72
重量部をよく粉砕混合して水和剤を得た。
【0067】製剤例2 (水和剤) 本発明化合物(17):20重量部、アルキルベンゼン
スルホン酸ナトリウム:2重量部、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル:1重量部及びジークライ
ト:77重量部をよく粉砕混合して水和剤を得た。
【0068】製剤例3 (水和剤) 本発明化合物(41):50重量部、ホワイトカーボ
ン:5重量部、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエ
ーテル硫酸アンモニウム塩:6重量部、リグニンスルホ
ン酸ナトリウム:2重量部及び珪藻土:37重量部をよ
くJet−0−マイザーを用いて粉砕混合して水和剤を
得た。
【0069】製剤例4 (フロアブル剤) 本発明化合物(17):5重量部、リグニンスルホン酸
ナトリウム:2重量部、キサンタンガム:0.3重量部
及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル:1
重量部に、水:91.7重量部を加えて混合後、サンド
グラインダーを用いて微粉砕してフロアブル剤を得た。
【0070】製剤例5 (フロアブル剤) 本発明化合物(41):30重量部と水50重量部に溶
解したサンエキスP252(商品名、前記と同様):1
0重量部を湿式粉砕混合し、その後水9.6重量部に溶
解したケルザンS(商品名、ケルコ製;キサンタンガ
ム):0.2重量部とデルトップ(商品名、武田薬品工
業製:有機ヨウ素系防黴剤):0.2重量部を加えて混
合し、フロアブル剤を得た。
【0071】製剤例6 (粉剤) 本発明化合物(17):1重量部、エマルゲン910
(商品名、花王製;ポリオキシエチレンノニルフェニル
エーテル):0.5重量部およびカオリンクレー:9
8.5重量部をよく粉砕混合して粉剤を得た。
【0072】製剤例7 (粉剤) 本発明化合物(41):3重量部、リグニンスルホン酸
ナトリウム:3重量部、ポリオキシエチレンアルキルア
リールエーテル:2重量部及びクレー:92重量部を混
合粉砕して粉剤を得た。
【0073】製剤例8 (ドライフロアブル剤) 微粉砕した本発明化合物(41):60重量部、アルキ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム:5重量部及びポリプ
ロピレングリコールポリエチレングリコールエーテル:
35重量部を混合し、ドライフロアブル剤を得た。
【0074】製剤例9 (粒剤) 本発明化合物(17):0.3重量部、ネオペレックス
(商品名、前記と同様):2重量部、サンエキスP25
2(商品名、山陽国策パルプ製;リグニンスルホン酸ナ
トリウム):2重量部、ベントナイト:72.7重量部
およびタルク:23重量部をよく混合した後、適当量の
水を加えて湿潤させ、次に小型射出成形機で押し出し造
粒した。これを30〜60℃で風乾し解砕した後、製粒
機で0.3〜2mmに製粒して粒剤を得た。
【0075】製剤例10 (粒剤) 本発明化合物(41)0.5重量部、ゴーセノール(G
osenol)GL−05s(日本合成化学製 PV
A):2重量部、サンエキスP252(山陽国策パルプ
製ベンゼンスルホン酸ソーダ):2重量部及びクレー:
95.5重量部を良く混合した後、適当量の水を加えて
湿潤させ、次に射出成形機で押し出し造粒した。これを
60〜90℃で風乾し解砕した後、整粒機で0.3〜1
mmに整粒して粒剤を得た。
【0076】製剤例11 (乳剤) 本発明化合物(3):10 重量部、ソルポール800
A(商品名、東邦化学製;非イオン性界面活性剤と陰イ
オン性界面活性剤の混合物):10重量部およびo−キ
シレン:80重量部を混合溶解して乳剤を得た。
【0077】試験例1 湛水土壌処理試験(発生前処
理) 1/5000アールワグネルポットに土壌を詰め、タイ
ヌビエ、ホタルイ、ウリカワ、コナギ、ミズガヤツリの
種子、または塊茎を播種して湛水状態とした。これに予
め育苗しておいた水稲苗(2〜3葉期)2本を1株と
し、その2株を移植して、温室内で生育させた。1日後
(雑草発生前に)、供試化合物の所定量を、前記製剤例
9に記載した方法で調製した粒剤を用いて処理し、30
日後に雑草の生育状況、及び水稲に対する薬害状況を観
察調査した。その結果を第2表(表17)に示した。
【0078】表中、被検植物の被害程度、及び水稲に対
する薬害程度は、植物の生育状態を無処理の場合と比較
し、以下の基準で表示した。 なお、比較化合物A,B,Cは下記の化合物を表わす。
【0079】A:1−(3−トリフルオロメチルフェニ
ル)−3−クロロ−4−クロロメチル−2−ピロリジノ
ン B:4−クロロメチル−3−(3−クロロフェニル)−
1−(3−トリフルオロメチルフェニル)−2−ピロリ
ジノン
【0080】
【第17表】
【0081】本試験において本発明に係わる除草剤は、
比較薬剤A、Bと比較して、低薬量処理においても、供
試した水田雑草に対して高い殺草効果を示し、かつ水稲
に対して優れた安全性を示した。
【0082】試験例2 湛水土壌処理(生育期処理) 1/5000アールワグネルポットに土壌を詰め、タイ
ヌビエ、ホタルイ、コナギ、アゼナの種子を播種して湛
水状態とした。これに予め育苗しておいた水稲苗(2〜
3葉期)2本を1株とし、その2株を移植して温室内で
生育させた。ヒエが2葉になった時に、供試組成物の所
定量を前記製剤例10に記載した方法に準じて調整した
粒剤を用いて処理し、30日後に、雑草の発生状況およ
び水稲に対する薬害状況を観察調査した。その結果を第
3表(表18)に示した。表中被検植物の被害程度およ
び水稲に対する薬害程度は、試験例1と同様に表示し
た。
【0083】
【第18表】
【0084】本試験において本発明に係わる除草剤は、
比較薬剤A、Bと比較して、低薬量処理においても、供
試した水田雑草に対して高い殺草効果を示し、かつ水稲
に対して優れた安全性を示した。
【0085】
【発明の効果】本発明の製造方法は、除草剤として有用
な3,4−トランス−4−エチル−1,3−ジ置換(置
換フェニル)ピロリジン−2−オン誘導体を高収率で製
造することができる。また、本発明の方法で製造できる
3,4−トランス−4−エチル−1,3−ジ置換(置換
フェニル)ピロリジン−2−オン誘導体を含有する除草
剤は、水田で問題となる種々の雑草に対して、発生前か
ら発生後の生育期まで、低薬量で、除草活性を示す。ま
た、イネに対して卓越した選択性を示すため、安全に使
用できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小田 研悟 東京都千代田区霞が関三丁目2番5号 三 井東圧化学株式会社内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(1)(化1) 【化1】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、またはメチル
    基を表わし、R2 は水素原子、炭素数1から3のアルキ
    ル基、トリフルオロメチル基、炭素数1から3のハロア
    ルコキシ基、炭素数1から4のアルコキシ基、ニトロ
    基、シアノ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基またはハロ
    ゲン原子を表わし、Xは水素原子、ハロゲン原子、トリ
    フルオロメチル基、炭素数1から3のアルキル基、シア
    ノ基またはニトロ基を表わし、nは1または2であって
    Xで表わされる置換基の数を表わし、n=2におけるX
    は同一であっても異なっていてもよい。)で表わされる
    4−エチル−1,3−ジ置換(置換フェニル)−3−ピ
    ロリン−2−オン誘導体を不活性溶媒中、メタノール存
    在下、水素化ホウ素ナトリウムで還元することを特徴と
    する、一般式(2)(化2) 【化2】 (式中、R1 、R2 、X、nは前記の意味を表わす。)
    で表わされる3,4−トランス−4−エチル−1,3−
    ジ置換(置換フェニル)ピロリジン−2−オン誘導体の
    製造方法。
  2. 【請求項2】 4−エチル−1,3−ジ置換(置換フェ
    ニル)−3−ピロリン−2−オン誘導体が、一般式
    (3)(化3) 【化3】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、またはメチル
    基を表わし、R2 は水素原子、炭素数1から3のアルキ
    ル基、トリフルオロメチル基、炭素数1から3のハロア
    ルコキシ基、炭素数1から4のアルコキシ基、ニトロ
    基、シアノ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基またはハロ
    ゲン原子を表わす。)で表わされる3,4−ジ置換アニ
    リンと、一般式(4)(化4) 【化4】 (式中、Yはハロゲン原子を表わす。)で表わされるハ
    ロケトンとを反応させて一般式(5)(化5) 【化5】 (式中、R1 、R2 、Yは前記の意味を表わす。)で表
    わされるケトアニリン誘導体とし、ついでこれをXn置
    換フェニル酢酸ハライドでアシル化して、一般式(6)
    (化6) 【化6】 (式中、R1 、R2 は前記の意味を表わし、Xは水素原
    子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭素数1か
    ら3のアルキル基、シアノ基またはニトロ基を表わし、
    nは1または2であってXで表される置換基の数を表わ
    し、n=2におけるXは同一であっても異なっていても
    よい。)で表わされるカルボニル誘導体を得、ついでこ
    れを塩基で処理して、分子内アルドール縮合を行って得
    られたものである、請求項1記載の3,4−トランス−
    4−エチル−1,3−ジ置換(置換フェニル)ピロリジ
    ン−2−オン誘導体の製造方法。
  3. 【請求項3】 4−エチル−1,3−ジ置換(置換フェ
    ニル)−3−ピロリン−2−オン誘導体が、一般式
    (7)(化7) 【化7】 (式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子、またはメチル
    基を表わし、R2 は水素原子、炭素数1から3のアルキ
    ル基、トリフルオロメチル基、炭素数1から3のハロア
    ルコキシ基、炭素数1から4のアルコキシ基、ニトロ
    基、シアノ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基またはハロ
    ゲン原子を表わす。)で表わされるヒドロキシアニリン
    誘導体をXn置換フェニル酢酸ハライドで選択的に窒素
    原子のみをアシル化し、一般式(8)(化8) 【化8】 (式中、R1 、R2 は前記の意味を表わし、Xは水素原
    子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭素数1か
    ら3のアルキル基、シアノ基またはニトロ基を表わし、
    nは1または2であってXで表される置換基の数を表わ
    し、n=2におけるXは同一であっても異なっていても
    よい。)で表わされるアミド誘導体とし、ついでこれを
    酸化して、一般式(6)(化9) 【化9】 (式中、R1 、R2 、X、nは前記の意味を表わす。)
    で表わされるカルボニル誘導体を得、ついでこれを塩基
    で処理して分子内アルドール縮合を行って得られたもの
    である、請求項1記載の3,4−トランス−4−エチル
    −1,3−ジ置換(置換フェニル)ピロリジン−2−オ
    ン誘導体の製造方法。
JP4340140A 1991-12-25 1992-12-21 3,4−トランス−4−エチル−1,3−ジ置換(置換フェニル)ピロリジン−2−オン誘導体の製造方法 Pending JPH05239022A (ja)

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