JPH05320116A - ヒドラジン誘導体類及びその製造方法並びに農園芸用殺虫剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】式（Ｉ）のヒドラジン誘導体類及びその製造方
法並びに誘導体を有効成分とする農園芸用殺虫剤。 〔例えば式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）に示す化合物〕 （Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４はＨ、Ｒ^２はＯＨ、Ａｒ^１はＰ−ク
ロロフェニル、Ａｒ^２、Ａｒ^３は２−フラニル、ＷはＯ
を示す。） （Ｒ^１〜Ｒ^５はＨ、Ａｒ^１はｐ−ＣＦ_３Ｏ−フェニル、
Ａｒ^２は５−シアノ−フラン−２−イル、Ａｒ^３は３−
ＣＦ_３−フェニル、ＷはＯを示す。） （Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^６はＨ、Ａｒ^１は３−ピリジ
ル、Ａｒ^２はｐ−シアノフェニル、Ａｒ_３はフェニル、
ＷはＯを示す。） 【効果】これらの農園芸用殺虫剤は、水稲、野菜、果
樹、その他の作物及び花卉等を加害する各種農林、園
芸、貯穀害虫や衛生害虫或いは線虫等の害虫防除に適し
ている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は一般式（Ｉ）

【化２５】 〔式中、Ｒ¹ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ
² 及びＲ³ は同一又は異なっても良く、水素原子、水酸
基又は低級アルキル基を示し、Ａｒ¹ 及びＡｒ² は同一
又は異なっても良く、フェニル基、１〜３個の同一又は
異なっても良い酸素原子、窒素原子又は硫黄原子から選
択されるヘテロ原子を有する炭素原子数３〜６の複素環
基又は芳香族と縮合した複素環基を示し、該複素環基又
は芳香族と縮合した複素環上のヘテロ原子が窒素原子の
場合、該窒素原子は酸化されても良く、該フェニル基、
複素環基又は芳香族と縮合した複素環基はハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、低級ハロア
ルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルコキシ基、
低級アルコキシカルボニル基から選択される同一又は異
なっても良い１以上の置換基を有することもできる。Ａ
は

【化２６】 （式中、Ｒ⁴ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ
⁵ は水素原子、低級アルキルカルボニル基、低級ハロア
ルキルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基又は
低級アルコキシカルボニル基を示し、Ｒ⁶ は水素原子又
は低級アルキル基を示し、Ａｒ³ はフェニル基、１〜３
個の同一又は異なっても良い酸素原子、窒素原子又は硫
黄原子から選択されるヘテロ原子を有する炭素原子数３
〜６の複素環基又は芳香族と縮合した複素環基を示し、
該複素環基又は芳香族と縮合した複素環上のヘテロ原子
が窒素原子の場合、該窒素原子は酸化されても良く、該
フェニル基、複素環基又は芳香族と縮合した複素環基は
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、
低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアル
コキシ基、低級アルコキシカルボニル基から選択される
同一又は異なっても良い１以上の置換基を有することも
できる。）を示し、Ｗは酸素原子又は硫黄原子を示す。
但し、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 及びＡｒ³ は同時にフェニル基又
は置換基を有するフェニル基を示すことはない。〕で表
されるヒドラジン誘導体類及びその製造方法並びに農園
芸用殺虫剤に関するものである。

【０００２】本発明の一般式（Ｉ）で表されるヒドラジ
ン誘導体類は、一般式（Ｉ−１）及び（Ｉ−３）で表さ
れるヒドラジン誘導体類はＥ体及びＺ体の異性体を有
し、本発明はこれらのＥ体、Ｚ体又はＥ体とＺ体を任意
の割合で含む混合物をも包含するものであり、一般式
（Ｉ）で表されるヒドラジン誘導体類はＲ体及びＳ体又
はこれらの組み合わされた立体異性体（ジアステレオマ
−）を有する場合があり、Ｒ体、Ｓ体及びこれらの混合
物をも包含するものである。

【０００３】

【従来の技術】特開昭４８−９１２２３号公報にセミカ
ルバジド類が殺虫剤として、特開昭５４−１１９０２９
号公報にチオセミカルバゾン類が農園芸用病害防除剤と
して、特開昭６３−９３７６１号公報に置換ヒドラゾン
類が有害生物防除剤として開示されている。

【０００４】

【本発明が解決しようとする課題】本発明者等は新規な
殺虫剤を創出すべく鋭意研究を重ねた結果，一般式
（Ｉ）で表されるヒドラジン誘導体類は前記先行技術文
献等に記載も示唆もされておらず文献未記載の新規化合
物であり、且つ先行技術に比して低薬量で優れた殺虫効
果を有することを見出し、本発明を完成させたものであ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の一般式（Ｉ）で
表されるヒドラジン誘導体類の代表的な製造方法として
は、例えば下記に図示する製造方法により製造すること
ができる。製法Ａ.

【化２７】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 、Ａ
ｒ³ 及びＷは前記に同じ。〕一般式（ＸＩ）で表される
化合物と一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物を不活性
溶媒の存在下及び触媒の存在下又は不存在下に反応させ
ることにより、一般式（Ｉ−１）で表されるヒドラジン
カルボキサミド誘導体を製造することができる。

【０００６】本反応で使用できる不活性溶媒としては、
本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例
えばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−
ル等のアルコ−ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトニトリ
ル、ベンゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソル
ブ、ジエチルエ−テル、ジグライム、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等のエ−テル類、酢酸等のカルボン酸
類、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、水
等を例示することができ、これらの不活性溶媒は単独で
使用しても良く、混合して使用することもできる。

【０００７】本反応で使用する触媒としては、例えば塩
酸、硫酸等の無機酸又はパラトルエンスルホン酸等の有
機酸を使用することができる。触媒の使用量は一般式
（ＸＩ）で表される化合物に対して０．００１重量％乃
至１０重量％の量が反応系内に存在すれば良い。本反応
は等モル反応であるので各反応剤を等モル使用すれば良
いが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもでき
る。反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域の
範囲から適宜選択すれば良く、好ましくは室温乃至７０
℃の範囲で行うのが良い。反応時間は反応量、反応温度
等により一定しないが、数分乃至４８時間の範囲から選
択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応液から常
法、例えば溶媒留去、溶媒抽出等を行い、必要に応じて
再結晶法、カラムクロマトグラフィ−法等により精製す
ることにより目的物を製造することができる。

【０００８】本発明の一般式（Ｉ−１）又は（Ｉ−
２’）で表されるヒドラジン誘導体類を製造するための
原料化合物である一般式（ＸＩ）で表される化合物又は
一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物は、例えば下記に
図示する製法により製造することができる。

【化２８】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 、Ａ
ｒ³ 及びＷは前記に同じくし、Ｒ⁸ は低級アルキル基を
示し、Ｖはハロゲン原子又は低級アルコキシ基、イミダ
ゾ−ル基等の脱離基を示す。）

【０００９】即ち、一般式（ＸＩ）で表される化合物は
一般式（ＸＩＩＩ）で表される芳香族カルボン酸類と一
般式（ＸＩＩ）で表される化合物とを不活性溶媒及び塩
基の存在下に縮合反応させることにより製造することが
でき、一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物は一般式
（ＸＶ）又は一般式（ＸＩＶ）で表される化合物と一般
式（Ｘ）で表されるヒドラジン類とを反応させることに
より製造することができる。

【００１０】製法Ｂ（Ｒ¹ が水素原子の場合）。

【化２９】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 、Ａ
ｒ³ 及びＷは前記に同じ。但し、Ｒ¹ は低級アルキル基
を除く。〕一般式（ＸＩ）で表される化合物と一般式
（Ｘ）で表されるヒドラジン類とを不活性溶媒の存在下
及び触媒の存在下又は不存在下に反応させ、一般式（Ｉ
Ｘ）で表される化合物とし、該化合物（ＩＸ）を単離
し、若しくは単離せずして一般式（ＶＩＩ）で表される
化合物と不活性溶媒の存在下及び触媒の存在下又は不存
在下に反応させることにより一般式（Ｉ−１）で表され
るヒドラジン誘導体類を製造することができる。

【００１１】Ｂ−１． 一般式（ＸＩ）→ 一般式（Ｉ
Ｘ） 本反応で使用できる不活性溶媒としては、製法Ａに例示
の不活性溶媒を使用することができる。本反応で使用す
る触媒及びその使用量は製法Ａと同様にすれば良い。本
反応で使用する一般式（Ｘ）で表されるヒドラジン類は
各種塩の形で使用しても良く、適当な濃度の水溶液の形
で使用しても良い。一般式（Ｘ）で表されるヒドラジン
類の使用量は一般式（ＸＩ）で表される化合物に対して
等モル乃至過剰に使用することができ、好ましくは２〜
１０倍モルの範囲から適宜選択して使用するのが良い。
反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲
から適宜選択すれば良く、好ましくは７０℃乃至８０℃
の範囲で行うのが良い。反応時間は反応量、反応温度等
により一定しないが、数分乃至４８時間の範囲から選択
すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応液から常
法、例えば溶媒留去、溶媒抽出等を行い、必要に応じて
再結晶法、カラムクロマトグラフィ−法等により精製す
ることにより目的物を製造することができる。本反応で
得られる一般式（ＩＸ）で表される化合物は上記方法に
より単離、精製して次の反応に供しても良く、単離せず
に次の反応を行うこともできる。

【００１２】Ｂ−２． 一般式１（ＩＸ） → 一般式
（Ｉ−１） 本反応で使用できる不活性溶媒としては、例えば製法Ａ
で使用できる不活性溶媒のうち、アルコ−ル類、カルボ
ン酸類及び水を除いた不活性溶媒が使用できる他に、酢
酸エチル等のエステル類、ピリジン類を使用することも
できる。本反応で使用できる触媒としては、例えばトリ
エチルアミン等のアミン類を使用することができ、その
使用量は触媒量乃至一般式（ＩＸ）で表される化合物に
対して過剰モルの範囲から適宜選択して使用すれば良
い。本反応は等モル反応であるので、各反応剤を等モル
使用すれば良いが、いずれかの反応剤を過剰に使用して
も良い。反応温度は−２０℃乃至使用する不活性溶媒の
沸点域の範囲から適宜選択すれば良く、好ましくは−１
０℃乃至室温の範囲である。反応時間は反応規模、反応
温度等により一定しないが数分乃至４８時間の範囲から
選択すれば良い。反応終了後、Ｂ−１と同様に処理する
ことにより目的物を製造することができる。

【００１３】上記製法Ａ及びＢの製造方法により製造さ
れる本発明の一般式（Ｉ−１）で表されるヒドラジン誘
導体類の代表的な化合物を第１表に例示する。

【表１】

【００１４】

【表２】

【００１５】

【表３】

【００１６】

【表４】

【００１７】

【表５】

【００１８】

【表６】

【００１９】第１表中、物性がガラス状物、ペ−スト状
物の¹H−ＮＭＲデ−タを第２表に示す。

【表７】

【００２０】製法Ｃ．

【化３０】 〔式中，Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 、Ａ
ｒ及びＷは前記に同じ。〕一般式（Ｉ−１）で表される
ヒドラジン誘導体類を不活性溶媒の存在下又は不存在下
に還元剤又は接触還元により、一般式（Ｉ−２）で表さ
れるヒドラジン誘導体類を製造することができる。本還
元反応は適当な還元剤又は触媒の存在下に接触還元で行
うことができ、還元剤としては、例えばLiAlH₄、NaBH₃C
N 、LiBH₃CN 等の金属水素化物、NaHSO₃等の還元剤を使
用することができ、その使用量は一般式（Ｉ−１）で表
されるヒドラジン誘導体類に対して還元剤のハイドライ
ドのモル数に換算して等モル乃至過剰モルの範囲から選
択して使用すれば良い。本反応で使用できる不活性溶媒
としては、本反応の進行を著しく阻害しないものであれ
ば良く、例えばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−
ル、ブタノ−ル等のアルコ−ル類、ジエチルエ−テル、
ジグライム、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ−
テル類、メチルセロソルブ等のセロソルブ類、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、水等を例示することができる。こ
れらの不活性溶媒は単独で使用しても良く、混合して使
用することもできる。

【００２１】本反応は酸性乃至中性条件下で、ｐＨ１〜
７の範囲で行われ、好ましくはｐＨ４〜６の範囲であ
り、反応系に塩化水素，臭化水素等を添加することによ
り調整すれば良い。反応温度は−２０℃乃至使用する不
活性溶媒の沸点域の範囲から適宜選択すれば良い。反応
時間は反応規模、反応温度等により一定しないが、数分
乃至４８時間の範囲である。反応終了後、目的物を含む
反応液から常法、例えば溶媒留去、溶媒抽出等を行い、
必要に応じて再結晶法、カラムクロマトグラフィ−法等
により精製することにより目的物を製造することができ
る。次に還元反応として接触還元を行う場合、例えば
『新実験化学講座』（１５巻−II：丸善）等に記載の常
法に従って行えば良く、例えば使用できる不活性溶媒と
しては、例えばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−
ル、ブタノ−ル等のアルコ−ル類、メチルセロソルブ等
のセロソルブ類、ジエチルエ−テル、ジグライム、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン等のエ−テル類、ヘキサ
ン、シクロヘキサン等の炭化水素類、酢酸、酢酸エチル
等の脂肪酸又はそのエステル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のア
ミド類、ジメチルイミダゾリン、テトラメチルウレア等
のウレア類を例示することができ、これらの不活性溶媒
は単独で使用しても良く、混合して使用することもでき
る。本反応で使用する触媒としては、例えばパラジウム
カ−ボン、パラジウムブラック、二酸化白金、ラネ−ニ
ッケル等の代表的な接触還元触媒を使用することがで
き、その使用量は一般式(I) で表されるヒドラジンカル
ボキサミド類に対して０．０００１％重量〜２０％重量
の範囲から適宜選択すれば良い。本反応の水素圧は常圧
乃至３００気圧の範囲から選択でき、好ましくは常圧乃
至５０気圧の範囲である。反応終了後，目的物を含む反
応液から還元剤を使用した場合と同様に処理することに
より目的物を製造することができる．

【００２２】製法Ｄ．

【化３１】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ
² 、Ａｒ³ 及びＷは前記に同じくし、Ｚはハロゲン原子
又は−Ｎ＝Ｃ＝Ｏを示す。但し、Ｒ⁵ は水素原子を除
く。〕一般式（Ｉ−２’）で表されるヒドラジン誘導体
類を一般式（ＶＩ）で表される化合物と不活性溶媒及び
塩基の存在下に反応させることにより一般式（Ｉ−２）
で表されるヒドラジン誘導体類を製造することができ
る。

【００２３】本反応で使用できる不活性溶媒としては本
反応の進行を阻害しないものであれば良く、例えば塩化
メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリ
ル、ベンゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソル
ブ、ジエチルエ−テル、ジグライム、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等のエ−テル類、スルホラン、ジメチル
スルホキシド等を例示することができ、これらの不活性
溶媒は単独で使用しても良く、混合して使用しても良
い。本反応で使用できる塩基としては無機塩基又は有機
塩基を使用することができ、無機塩基としては、例えば
ナトリウム、カリウム、マグネシウム若しくはカルシウ
ム等のアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の水酸化
物、炭酸塩若しくはアルコラ−ト等を、有機塩基として
は、例えばトリエチルアミン、ピリジン等を例示するこ
とができる。本反応は等モル反応であるので、各反応剤
を等モル使用すれば良いが、何れかを過剰に使用するこ
ともできる。反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の
沸点域の範囲から選択して使用すれば良い。反応時間は
反応規模、反応温度等により一定しないが数分乃至４８
時間の範囲から選択すれば良い。反応終了後、目的物を
含む反応液から常法により単離し、必要に応じて再結晶
法、カラムクロマトグラフィ−法等により精製すること
により目的物を製造することができる。

【００２４】上記製法Ｃ及びＤの製造方法により製造さ
れる本発明の一般式（Ｉ−２）で表されるヒドラジン誘
導体類の代表的な化合物を第３表に例示する。

【表８】

【００２５】

【表９】

【００２６】第３表中、物性がガラス状物、ペ−スト状
物の¹H−ＮＭＲデ−タを第４表に示す。

【表１０】

【００２７】製法Ｅ．

【化３２】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ
² 、Ａｒ³ 及びＷは前に同じ。〕

【００２８】一般式（Ｖ）で表される化合物と一般式
（ＩＩＩ）で表されるアニリン類とを不活性溶媒の存在
下、塩基及び又は縮合剤の存在下又は不存在下に反応さ
せるか、又は一般式（ＩＶ）で表される化合物と一般式
（ＩＩ）で表されるハライド類とを不活性溶媒及び塩基
の存在下に反応させることにより一般式（Ｉ−３）で表
されるヒドラジン誘導体類を製造することができる。Ｅ−１ ．一般式（Ｖ） → 一般式（Ｉ−３） 本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行
を著しく阻害しないものであれば良く、例えばジクロロ
メタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル
類、メチルセロソルブ、ジエチルエ−テル等の鎖状エ−
テル類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状エ−
テル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、
酢酸エチル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、
ピリジン等を例示することができ、これらの不活性溶媒
は単独で使用しても良く、混合して使用することもでき
る。

【００２９】本反応で使用する塩基としては有機塩基又
は無機塩基を使用することができ、無機塩基としては、
例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシ
ウム、マグネシウム等アルカリ土類金属の水酸化物又は
炭酸塩等、水素化ナトリウム等のアルカリ金属の水素化
物、有機塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２，６−ジメチルピリジ
ン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等を使用する
ことができ，その使用量は触媒量乃至一般式（Ｖ）で表
される化合物に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選
択して使用することができる。縮合剤としては、例えば
カルボジイミダゾ−ル、ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、ヨウ化２−クロロ−１−メチルピリジニウム等を使
用することができ、その使用量は一般式（Ｖ）で表され
る化合物に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択し
て使用すれば良い。本反応は等モル反応であるので、各
反応剤を等モル使用すれば良いが、アニリン類を過剰に
使用することもできる。反応温度は室温乃至使用する不
活性溶媒の沸点域の範囲から適宜選択すれば良く、好ま
しくは加熱下に行うのが良い。反応時間は反応量、反応
温度等により一定しないが、数分乃至４８時間の範囲か
ら選択すれば良い。反応終了後、目的物を含む反応液か
ら常法、例えば溶媒留去、溶媒抽出等を行い、必要に応
じて再結晶法、カラムクロマトグラフィ−法等により精
製することにより目的物を製造することができる。

【００３０】Ｅ−２．一般式（ＩＶ） → 一般式（Ｉ
−３） 一般式（ＩＶ）で表される化合物と一般式（ＩＩ）で表
されるハライド類とを不活性溶媒及び塩基の存在下に反
応させることにより一般式（Ｉ−３）で表されるヒドラ
ゾン誘導体を製造することができる。本反応で使用でき
る不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しな
いものであれば良く、例えばメタノ−ル、エタノ−ル、
プロパノ−ル等のアルコ−ル類、ジクロロメタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセ
トニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、メチルセ
ロソルブ、ジエチルエ−テル等の鎖状エ−テル類、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン等の環状エ−テル類、アセ
トン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスル
ホキシド、水等を例示することができ、これらの不活性
溶媒は単独で使用しても良く、混合して使用することも
できる。本反応で使用する塩基としては有機塩基又は無
機塩基を使用することができ、無機塩基としては、例え
ばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウ
ム、マグネシウム等アルカリ土類金属の水酸化物又は炭
酸塩等、水素化ナトリウム等のアルカリ金属の水素化
物、有機塩基としてはナトリウムメトキサイド、カリウ
ムt-ブトキサイド等のアルカリ金属のアルコラ−ト類、
ナトリウムアミン等のアルカリ金属のアミノ化物、トリ
エチルアミン等の三級アルキルアミン類、ピリジン、４
−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等を使用することが
できる。塩基の使用量は一般式（ＩＶ）で表される化合
物に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使用
すれば良い。

【００３１】本反応は等モル反応であるので各反応剤を
等モル使用すれば良いが、一般式（ＩＩ）で表されるハ
ライド類を過剰に使用することもできる。反応温度は室
温乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲から適宜選択
すれば良い。反応時間は反応量、反応温度等により一定
しないが、数分乃至４８時間の範囲から選択すれば良
い。反応終了後、前記の反応と同様にすることにより目
的物を製造することができる。本発明の一般式（Ｉ−
３）で表されるヒドラゾン誘導体を製造する際の原料化
合物である一般式（Ｖ）で表される化合物は特開昭６２
−２２３１６９号、同６４−７０４６２号、Ｊ．Ｏｒ
ｇ．Ｃｈｅｍ．４１７（１９４１）、Ｂｅｒ．５６Ｂ，
１０６０−１０６５（１９２３）等に記載の方法により
製造することができる。又一般式（ＩＶ）で表される化
合物はＣｏｌｌｅｃｔｉｏｎ Ｃｚｅｃｈ．Ｃｈｅｍ．
Ｃｏｍｍｕｎｓ．，２５，２６５１−２６６７（１９６
０）等に記載の方法により製造することができる。

【００３２】以下に製法Ｅ−１及びＥ−２で製造される
一般式（Ｉ−３）で表されるヒドラジン誘導体の代表的
な化合物を第５表に例示する。

【表１１】

【００３３】製法Ｆ．

【化３３】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁶ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 、Ａ
ｒ³ 及びＷは前記に同じ。〕本反応は製法Ｃと同様にす
ることにより一般式（Ｉ−４’）で表されるヒドラジン
誘導体類を製造することができる。

【００３４】製法Ｇ．

【化３４】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ
² 、Ａｒ³ 及びＷは前記に同じくし、Ｚはハロゲン原子
又は−Ｎ＝Ｃ＝Ｏを示す。但し、Ｒ⁵ は水素原子を除
く。〕本反応は製法Ｄと同様にすることにより一般式
（Ｉ−４）で表されるヒドラジン誘導体類を製造するこ
とができる。以下にＦ及びＧの製造方法による代表的な
化合物を第６表に示す。

【００３５】

【表１２】

【００３６】以下に本発明の代表的な実施例を挙げる
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例１ Ｎ−（４−クロロフェニル）−２−〔１、
２−ジ（ピリジン−２−イル）−２−ヒドロキシエチリ
デン〕ヒドラジンカルボキサミドの製造（化合物No９）

【化３５】 ５．０ｇ（２３ミリモル）のピリドインを３０ｍｌのエ
タノ−ルに溶解し、１２ｇ（２４０ミリモル）の１００
％抱水ヒドラジンと２滴の濃硫酸を加え２時間加熱還流
した。反応終了後、減圧下に反応液を濃縮し、酢酸エチ
ルにより抽出濃縮してペ−スト状のピリドインヒドラゾ
ン３．０ｇを得た（収率５７％）。得られたピリドイン
ヒドラゾン１．３ｇ（５．７ミリモル）を４０ｍｌの乾
燥テトラヒドロフランに溶解し、０．８５ｇ（５．６ミ
リモル）のイソシアン酸４−クロロフェニルを加えて室
温下に２時間反応を行った。反応終了後、目的物を含む
反応液を放冷して減圧下に反応溶媒を留去し、析出した
結晶を濾集して少量のトルエンで洗浄することにより目
的物０．４０ｇを得た。 物性 m.p. １４５℃ 収率 １９％

【００３７】実施例２ ２−１． （４−シアノベンジル）（ピリジン−４−イ
ル）ケトンの製造

【化３６】 １３．８ｇ（３６０ミリモル）の６０％油性水素化ナト
リウムを１５０ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミドに懸濁
させ、室温下に攪拌しながら２１．１ｇ（１８０ミリモ
ル）の４−トルニトリル及び２５．０ｇ（１８０ミリモ
ル）のイソニコチン酸メチルの混合物を滴下し、４０℃
で５時間反応を行った。反応終了後、反応液を氷水中に
注ぎ、１５％塩酸で中和し析出する結晶を濾集して少量
のエタノ−ルで洗浄することにより目的物３０．４ｇを
得た。 物性 m.p. ６５℃ 収率７９％

【００３８】２−２． ２−〔２−（４−シアノベンジ
ル）−１−（ピリジン−４−イル）エチリデン〕−Ｎ−
〔４−（１、１、２、２−テトラフルオロエトキシ）フ
ェニル〕ヒドラジンカルボキサミドの製造（化合物No２
５）

【化３７】 ５．０ｇ（２２ミリモル）の（４−シアノベンジル）
（ピリジン４−イル）ケトンを３０ｍｌのエタノ−ルに
溶解し、５．５ｇ（１１０ミリモル）の１００％抱水ヒ
ドラジンと２滴の濃硫酸を加え４時間加熱還流した。反
応終了後、反応液を放冷し減圧下に反応液を留去し、析
出する結晶を濾集しエタノ−ルより再結晶することによ
り（４−シアノベンジル）（ピリジン４−イル）ケトン
ヒドラゾン４．４ｇを得た。 物性 m.p. １４５℃ 収率 ８５％ 得られた（４−シアノベンジル）（ピリジン４−イル）
ケトンヒドラゾン０．７８ｇ（３．３ミリモル）を１０
ｍｌのテトラヒドロフランに溶解し、５ｍｌのテトラヒ
ドロフランに溶解した０．７８ｇ（３．３ミリモル）の
イソシアン酸４−（１，１，２，２−テトラフルオロエ
トキシ）フェニルを滴下し、滴下後一夜放置した。反応
終了後、反応液を減圧下に留去して得られる油状物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィ−で精製することによ
り目的物０．８０ｇを得た。 物性 m.p. ２０１℃ 収率 ５１％

【００３９】実施例３ ３−１． フェニル（ピリジン４−イル）ケトンの製造

【化３８】 ８．５ｇ（２１０ミリモル）の６０％油性水素化ナトリ
ウムを５０ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミドに懸濁さ
せ、１０．０ｇ（１０８ミリモル）の４−ピコリン及び
１３．５ｇ（１０８ミリモル）の安息香酸メチルの混合
物を室温下に滴下し、滴下終了後５０℃で１６時間反応
を行った。反応終了後、反応液を氷水中に注ぎ濃塩酸で
ｐＨを約７に調整し、析出する結晶を濾集し少量のエ−
テルで洗浄することにより目的物１４．１ｇを得た。 収率 ７０％

【００４０】３−２． ２−〔１−フェニル−２−（ピ
リジン−４−イル）エチリデン〕−Ｎ−（４−トリフル
オロメトキシフェニル）ヒドラジンカルボキサミドの製
造（化合物No３９）

【化３９】 ０．５０ｇ（２．６ミリモル）のフェニル（ピリジン−
４−イルメチル）ケトンを３０ｍｌのエタノ−ルに溶解
し、３ｇ（６０ミリモル）の１００％抱水ヒドラジン及
び１滴の濃硫酸を加え２時間加熱還流した。反応終了
後、反応液を放冷し減圧下に濃縮した後、酢酸エチルで
抽出し濃縮することにより油状のフェニル（ピリジン−
４−イルメチル）ケトンヒドラゾン０．４５ｇを得た。 収率８４％ 得られたフェニル（ピリジン−４−イルメチル）ケトン
ヒドラゾン０．４５ｇ（２．２ミリモル）を２０ｍｌの
乾燥テトラヒドロフランに溶解し、２０ｍｌの乾燥ピリ
ジンを加えて室温下に０．４３ｇ（２．２ミリモル）の
イソシアン酸４−トリフルオロメトキシフェニルを滴下
し、滴下終了後一夜放置した。反応終了後、減圧下に反
応溶媒を留去して析出する結晶を濾集しエ−テルで洗浄
することにより目的物０．８２ｇを得た。 物性 m.p. １５１℃ 収率９２％

【００４１】実施例４ ２−〔１−フェニル−２−
（ピリジン−４−イル）エチル〕−Ｎ−（４−トリフル
オロメトキシフェニル）ヒドラジンカルボキサミドの製
造（化合物No６６）

【化４０】 ０．４４ｇ（１．１ミリモル）の２−〔１−フェニル−
２−（ピリジン−４−イル）エチリデン〕−Ｎ−（４−
トリフルオロメトキシフェニル）ヒドラジンカルボキサ
ミドを１０ｍｌのテトラヒドロフラン及び１０ｍｌのメ
タノ−ルの混合溶媒に溶解し、０．１３ｇ（２．１ミリ
モル）の水素化シアノホウ素ナトリウムを加え、室温下
に塩化水素飽和メタノ−ル溶液１ｍｌを滴下し、室温下
に１時間反応を行った。反応終了後、反応液を減圧下に
濃縮し、濃縮液に酢酸エチルを加え、重炭酸ナトリウム
水溶液で有機層を洗浄し、減圧下に留去することにより
ガラス状の目的物０．３５ｇを得た。 物性 ガラス状物 収率 ８０％ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ／ＴＭＳ、δ値、ｐｐｍ） ２．９７−３．１５（ｍ，２Ｈ）、４．０１−４．１１
（ｍ，２Ｈ）、５．８０（ｓ，１Ｈ）、７．０７−７．
４６（ｍ．１１Ｈ）、７．７６（ｓ，１Ｈ）、８．５２
−８．５６（ｍ，２Ｈ）。

【００４２】実施例５ ２−〔２−（１−オキソピリ
ジン−４−イル）−１−フェニルエチリデン〕−Ｎ−
（４−トリフルオロメトキシフェニル）ヒドラジンカル
ボキサミドの製造（化合物No４０）

【化４１】 ０．３８ｇの２−〔１−フェニル−２−（ピリジン−４
−イル）エチリデン〕−Ｎ−（４−トリフルオロメトキ
シフェニル）ヒドラジンカルボキサミドを４０ｍｌのク
ロロホルムに溶解し、０．１８ｇ（１．１ミリモル）の
３−クロロ過安息香酸を加えて室温下に３時間反応を行
った。反応終了後、反応液を重炭酸水素ナトリウム水溶
液及び水の順で洗浄し、乾燥後減圧下に溶媒を留去する
ことにより目的物０．２８ｇを得た。 物性 m.p. ２０８℃（分解） 収率 ７１％

【００４３】実施例６ ６−１． ２−〔２−（３−フルオロフェニル）−２−
ヒドロキシビニル〕ピリジン−５−カルボニトリルの製
造

【化４２】 １．４ｇ（３．４ミリモル）の６０％油性水素化ナトリ
ウムを５０ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミドに懸濁さ
せ、２．６ｇ（１．７ミリモル）の３−フルオロ安息香
酸メチルと２．０ｇ（１．７ミリモル）の５−シアノ−
２−メチルピリジンの混合物を室温下に滴下し、滴下終
了後室温下に２時間反応を行った。反応終了後、反応液
を氷水中に注ぎ濃塩酸でｐＨを約７に調整し、析出する
結晶を濾集しエ−テル−ｎ−ヘキサン（１：１）の混合
溶液で洗浄することにより目的物２．４ｇを得た。 収率 ５９％

【００４４】６−２． ２−〔２−（５−シアノピリジ
ン−２−イル）−１−（３−トリフルオロフェニル）エ
チリデン〕−Ｎ−（４−トリフルオロメトキシフェニ
ル）ヒドラジンカルボキサミドの製造（化合物No４４）

【化４３】 ２．０ｇ（８．８ミリモル）の２−〔２−（３−フルオ
ロフェニル）−２−ヒドロキシビニル〕ピリジン−５−
カルボニトリルを３０ｍｌのメタノ−ルに懸濁させ、
４．４ｇ（８８ミリモル）の抱水ヒドラジン及び１滴の
濃硫酸を加えて４時間還流下に反応を行った。反応終了
後、反応液を放冷して減圧下に濃縮して酢酸エチルを加
えて抽出し、抽出液を乾燥及び濃縮することによりペ−
スト状の（５−シアノピリジン−２−イルメチル）（３
−フルオロフェニル）ケトンヒドラゾン２．０ｇを得た
（収率８９％）。得られた（５−シアノピリジン−２−
イルメチル）（３−フルオロフェニル）ケトンヒドラゾ
ン１．６ｇ（６．３ミリモル）を３０ｍｌのテトラヒド
ロフランに溶解して１ｍｌのピリジンを加えた後、乾燥
テトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解した１．１５ｇ
（５．７ミリモル）のイソシアン酸 ４−トリフルオロ
メトキシフェニルを室温下に滴下し、滴下終了後室温下
で３時間反応を行った。反応終了後、反応液を減圧下に
濃縮し析出する結晶を濾集してエ−テル−ｎ−ヘキサン
（１：１）の混合溶液で洗浄することにより目的物２．
６５ｇを得た。 物性 m.p. １７６℃ 収率 ９５％

【００４５】実施例７ ２−〔２−（５−シアノピリ
ジン−２−イル）−１−（３−フルオロフェニル）エチ
ル〕−Ｎ−（４−トリフルオロメトキシフェニルヒドラ
ジンカルボキサミドの製造（化合物No６８）

【化４４】 １．２ｇ（２．７ミリモル）の２−〔２−（５−シアノ
ピリジン−２−イル）−１−（３−フルオロフェニル）
エチリデン〕−Ｎ−（４−トリフルオロメトキシフェニ
ル）ヒドラジンカルボキサミドを３０ｍｌのメタノ−ル
に懸濁させ１．７ｇ（２７ミリモル）の水素化ホウ素ナ
トリウムを加え、塩化水素飽和メタノ−ル溶液を徐々に
加えてｐＨを３〜４に調節しながら、室温下で７時間反
応を行った。反応終了後、反応液を減圧下に濃縮して酢
酸エチルを加えて有機層を重炭酸水素ナトリウムで洗浄
及び乾燥後、減圧下に溶媒を留去して得られる残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィ−（酢酸エチル：ｎ−
ヘキサン＝１：１）で精製することにより目的物０．１
０ｇを得た。 物性 m.p. １６０℃ 収率 ８％

【００４６】実施例８ ８−１． ２−〔２−ヒドロキシ−２−（３−トリフル
オロメチルフェニル）ビニル〕ピラジン−５−カルボニ
トリルの製造

【化４５】 １．０ｇ（２５ミリモル）の６０％油性水素化ナトリウ
ムを４０ｍｌの乾燥ジメチルホルムアミドに懸濁させ、
室温下に３．４ｇ（１７ミリモル）の３−トリフルオロ
メチル安息香酸メチル及び２．０ｇ（１７ミリモル）の
２−メチルピラジン−５−カルボニトリルの混合物を室
温下に滴下し、滴下終了後同温度で２時間反応を行っ
た。反応終了後、反応液を氷水中に注ぎ、塩酸でｐＨを
約７に調整して析出する結晶を濾集しエ−テル−ｎ−ヘ
キサン（１：１）の混合溶液を洗浄することにより目的
物３．４ｇを得た。 収率 ７０％

【００４７】８−２． ２−〔２−シアノピリジン−５
−イル）−１−（３−トリフルオロメチルフェニル）エ
チリデン〕−Ｎ−（４−トリフルオロメトキシフェニ
ル）ヒドラジンカルボキサミドの製造（化合物No５６）

【化４６】 ０．９ｇ（３．１ミリモル）の２−〔２−ヒドロキシ−
２−（３−トリフルオロメチルフェニル）ビニル〕ピラ
ジン−５−カルボニトリル及び０．７３ｇ（３．１ミリ
モル）のＮ−（４−トリフルオロメトキシフェニル）ヒ
ドラジンカルボキサミドを８０ｍｌのエタノ−ルに溶解
し、１０ｍｇの４−トルエンスルホン酸を加えて室温下
に４時間反応を行った。反応終了後、減圧下に反応溶液
を濃縮し、酢酸エチルを加えて目的物を抽出し、重炭酸
ナトリウム、水の順で洗浄して乾燥後に減圧下に溶媒を
留去し、得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィ−（酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：２）で精製す
ることにより目的物０．３０ｇを得た。 物性 m.p. １７５℃ 収率 ２０％

【００４８】実施例９ ２−〔１−（３−クロロフェ
ニル）−２−（４−シアノフェニル）エエチリデン〕−
Ｎ−（ピリジン−３−イル）ヒドラジンカルボチオアミ
ドの製造（化合物No５８）

【化４７】 １．０ｇ（３．７ミリモル）の（３−クロロフェニル）
（４−シアノベンジル）ケトンヒドラゾンを１０ｍｌの
乾燥テトラヒドロフランに溶解し、ピリジン１ｍｌ及び
０．５ｇ（３．７ミリモル）のイソチオシアン酸３−ピ
リジルを加えて１．０ｇ（３．７ミリモル）の（３−ク
ロロフェニル）（４−シアノベンジル）ケトンヒドラゾ
ンを１０ｍｌの乾燥テトラヒドロフランに溶解し、ピリ
ジン１ｍｌ及び０．５ｇ（３．７ミリモル）のイソチオ
シアン酸３−ピリジルを加えて１時間加熱還流して反応
を行った。反応終了後、反応溶媒を減圧下に留去し、析
出する結晶を濾集しトルエン−ｎ−ヘキサン（１：１）
の混合溶液で洗浄することにより目的物１．０ｇを得
た。 m.p. １７７℃ 収率 ６７％

【００４９】実施例１０ ２−〔Ｎ−（５−シアノ−
２−ピリジルメチル）−Ｎ−（３−クロロフェニル）〕
ヒドラゾノ−４−トリフルオロメトキシアセトアニリド
の製造（化合物No８０）

【化４８】 ３−クロロフェニルヒドラゾノ−４−トリフルオロメト
キシアセトアニリド０．８０ｇ（２．２ミリモル）を２
０ｍｌのジメチルホルムアミドに溶解し、氷冷下に６０
％水素化ナトリウム０．１０ｇ（２．５ミリモル）及び
２−ブロモメチル−５−シアノピリジン０．５０ｇ
（２．５ミリモル）を加えて室温下で５時間攪拌下に反
応を行った。反応終了後、反応液に氷水８０ｍｌを加え
て目的物を酢酸エチルで抽出し（１００ｍｌ×２）、有
機層を水洗、乾燥（無水硫酸ナトリウム）後、減圧下に
濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィ−（ｎ−ヘキサン−酢酸エチル）で精製することに
より目的物０．８２ｇを得た。 物性 m.p. １５４．５−１５６．２℃ 収率
７８．７％

【００５０】実施例１１ ２−〔Ｎ−（５−シアノ−
２−ピリジルメチル）−Ｎ−（３−クロロフェニル）〕
ヒドラゾノ−４−トリフルオロメトキシアセトアニリド
の製造（化合物No８３）

【化４９】 ２−〔Ｎ−（５−シアノ−２−ピリジルメチル）−Ｎ−
（３−クロロフェニル）〕ヒドラゾノ−４−トリフルオ
ロメトキシアセトアニリド０．５ｇ（１．１ミリモル）
を２ｍｌのテトラヒドロフラン及び５ｍｌのメタノ−ル
の混合溶媒に溶解し、シアノ水素化ホウ素ナトリウム
０．３０ｇ（４．４ミリモル）を加えて氷冷下に０．５
ｍｌの飽和塩化水素メタノ−ルを滴下し、滴下終了後１
時間室温下で反応を行った。反応終了後、溶媒を留去し
て酢酸エチルを加え、炭酸水素ナトリウム水溶液で中和
処理を行い分液して得られる有機層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィ−（ｎ−ヘキサン−酢酸エチ
ル）で精製することにより目的物０．０８ｇを得た。 物性 m.p. ６４−６７℃ 収率１５．３％

【００５１】本発明の一般式（Ｉ）で表されるヒドラジ
ン誘導体類を有効成分とする農園芸用殺虫剤は、水稲、
野菜、果樹、その他の作物及び花卉等を加害する各種農
林、園芸、貯穀害虫や衛生害虫或いは線虫等の害虫防除
に適しており、例えばリンゴコカクモンハマキ（adoxop
hyes orana fasciata ）、チャノコカクモンハマキ（Ad
oxophyes sp.）、リンゴコシンクイ（Grapholita inopi
nata）、ナシヒメシンクイガ（Grapholita mlesta ）、
マメシンクイガ（Leguminivora glycinivorel-la）、ク
ワハマキ（Olethreutes mori）、チャノホソガ（Calopt
ilia thevivor-a ）、リンゴホソガ（Caloptilia zachr
ysa ）、キンモンホソガ（Phyllonoryc-ter ringoniell
a ）、ナシホソガ（Spulerina astaurota ）、モンシロ
チョウ（Pieris rapae crucivora ）、オオタバコガ類
（Heliothis sp. ）、コドリンガ（Laspeyresia pomone
lla ）、コナガ（Plutella xylostella ）、リンゴヒメ
シンクイ（Argyresthia conjugella）、モモシンクイガ
（Carposina niponensis）、ニカメイガ（Chilo suppre
ssalis）、コブノメイガ（Cnaphalocrocis medina-lis
）、チャマダラメイガ（Ephestia elutella ）、クワ
ノメイガ（Glyphodespyloalis ）、サンカメイガ（Scir
pophaga incertulas）、イチモンジセセリ（Parnara gu
ttata ）、アワヨトウ（Pseudaletia separata）、イネ
ヨトウ（Ses-amia inferens ）、ハスモンヨトウ（Spod
optera litura ）、シロイチモンジヨトウ（Spodoptera
exigua ）等の鱗翅目害虫、フタテンヨコバイ（Macros
telesfascifrons ）、ツマグロヨコバイ（Nephotettix
cincticeps）、トビイロウンカ（Nilaparvata lugen
s）、セジロウンカ（Sogatella furcifera ）、ミカン
キジラミ（Diaphorina citri）、ブドウコナジラミ（Al
eurolobus taonabae）、タバココナジラミ（Bemisia ta
baci）、オンシツコナジラミ（Trialeurodes vapo-rari
orum）、ニセダイコンアブラムシ（Lipaphis erysim
i）、モモアカアブラムシ（Myzus persicae）、ツノロ
ウムシ（Ceroplastes ceriferus ）、ミカンワタカイガ
ラムシ（Pulvinaria aurantii ）、ミカンマルカイガラ
ムシ（Pseudaoni-dia duplex ）、ナシマルカイガラム
シ（Comstockaspis perniciosa）、ヤノネカイガラムシ
（Unaspis yanonensis ）等の半翅目害虫、ヒメコガネ
（Anomalarufocuprea ）、マメコガネ（Popillia japon
ica ）、タバコシバンムシ（Las-ioderma serricorn
e）、ヒラタキクイムシ（Lyctus brunneus ）、ニジュ
ウヤホシテントウ（Epilachna vigintioctopunctata
）、アズキゾウムシ（Callosobr-uchus chinensis
）、ヤサイゾウムシ（Listroderes costirostris）、
コクゾウ（Sitophilus zeamais）、ワタミゾウムシ（An
thonomus grandis grandis）、イネミズゾウムシ（Liss
orhoptrus oryzophilus ）、ウリハムシ（Aulacophora
f-emoralis）、イネドロオイムシ（Oulema oryzae ）、
キスジノミハムシ（Phyll-otreta striolata）、マツノ
キクイムシ（Tomicus piniperda）、コロラドポテトビ
−トル（Leptinotarsa decemlineata ）、メキシカンビ
−ンビ−トル（Epi-lachna varivestis ）、コ−ンル−
トワ−ム類（Diabrotica sp.）等の甲虫目害虫、 ウリ
ミバエ（Dacus(Zeugodacus) cucurbitae）、ミカンコミ
バエ（Dacus-(Bactrocera) dorsalis ）、イネハモグリ
バエ（Agromyza oryzae ）、タマネギバエ（Delia anti
qua ）、タネバエ（Delia platura ）、ダイズサヤタマ
バエ（Asphondylia sp. ）、イエバエ（Musca domestic
a ）、アカイエカ（Culex pip-iens pipiens ）等の双
翅目害虫、ネグサレセンチュウ（Pratylenchus sp.）、
ミナミネグサレセンチュウ（Pratylenchus coffeae）、
ジャガイモシストセンチュウ（Globodera rostochiensi
s ）、ネコブセンチュウ（Meloidogyne sp. ）、ミカン
ネセンチュウ（Tylenchulus semipenetrans ）、ニセネ
グサレセンチュウ（Aphelenchus avenae）、ハガレセン
チュウ（Aphelenchoides ritzemabosi）等のハリセンチ
ュウ目害虫等に対しても殺虫効果を有し、特に鱗翅目、
甲虫目等の害虫に対しては顕著な効果を有するものであ
る。尚、学名等は農林有害動物・昆虫名鑑1987年版（日
本応用動物昆虫学会編）による。

【００５２】本発明の農園芸用殺虫剤は水田、果樹、野
菜、その他の作物及び花卉等を加害する前記害虫あるい
は衛生害虫に対して顕著な殺虫効果を有するものである
ので、害虫類の発生が予測される時期に合わせて、害虫
類の発生前又は発生が確認された時点で水田、果樹、野
菜、その他の作物、花卉等の水田水、茎葉又は土壌等及
び衛生害虫にあっては人畜に加害する上記害虫の発生若
しくは発生が予測される家屋内、家屋周辺の溝等に処理
することにより本発明の殺虫剤の所期の効果が奏せられ
るものである。

【００５３】しかし、本発明はこれらの態様のみに限定
されるものではない。本発明の一般式（Ｉ）で表される
ヒドラジン誘導体類を農園芸用殺虫剤として使用する場
合、農薬製剤上の常法に従い、使用上都合の良い形状に
製剤して使用するのが一般的である。即ち、本発明の一
般式（Ｉ）で表されるヒドラジン誘導体類は、これらを
適当な不活性担体に、又は必要に応じて補助剤と一緒
に、適当な割合に配合して溶解、分離、懸濁、混合、含
浸、吸着若しくは付着させ、適宜の剤形、例えば懸濁
剤、乳剤、液剤、水和剤、粒剤、粉剤、錠剤等に製剤し
て使用すれば良い。本発明で使用できる不活性担体とし
ては固体又は液体の何れであっても良く、固体の担体に
なりうる材料としては、例えばダイズ粉、穀物粉、木
粉、樹皮粉、鋸粉、タバコ茎粉、クルミ殻粉、ふすま、
繊維素粉末、植物エキス抽出後の残渣、粉砕合成樹脂等
の合成重合体、粘土類（例えばカオリン、ベントナイ
ト、酸性白土等）、タルク類（例えばタルク、ピロフィ
ライド等）、シリカ類（例えば珪藻土、珪砂、雲母、ホ
ワイトカ−ボン〔含水微粉珪素、含水珪酸ともいわれる
合成高分散珪酸で、製品により珪酸カルシウムを主成分
として含むものもある。〕）、活性炭、イオウ粉末、軽
石、焼成珪藻土、レンガ粉砕物、フライアッシュ、砂、
炭酸カルシウム、燐酸カルシウム等の無機鉱物性粉末、
硫安、燐安、硝安、尿素、塩安等の化学肥料、堆肥等を
挙げることができ、これらは単独で若しくは二種以上の
混合物の形で使用される。

【００５４】液体の担体になりうる材料としては、それ
自体溶媒能を有するものの他、溶媒能を有さずとも補助
剤の助けにより有効成分化合物を分散させうることとな
るものから選択され、例えば代表例として次に挙げる担
体を例示できるが、これらは単独で若しくは２種以上の
混合物の形で使用され、例えば水、アルコ−ル類（例え
ばメタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ル、ブタノ
−ル、エチレングリコ−ル等）、ケトン類（例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エ−テル
類（例えばエチルエ−テル、ジオキサン、セロソルブ、
ジプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン等）、脂肪族
炭化水素類（例えばケロシン、鉱油等）、芳香族炭化水
素類（例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベン
トナフサ、アルキルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水
素類（例えばジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素、塩素化ベンゼン等）、エステル類（例えば酢酸エチ
ル、ジイソプピルフタレ−ト、ジブチルフタレ−ト、ジ
オクルフタレ−ト等）、アミド類（例えばジメチルホル
ムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド等）、ニトリル類（例えばアセトニトリル等）、ジメ
チルスルホキシド類等を挙げることができる。他の補助
剤としては次に例示する代表的な補助剤をあげることが
でき、これらの補助剤は目的に応じて使用され、単独
で、ある場合は二種以上の補助剤を併用し、又ある場合
には全く補助剤を使用しないことも可能である。

【００５５】有効成分化合物の乳化、分散、可溶化及び
／又は湿潤の目的のために界面活性剤が使用され、例え
ばポリオキシエチレンアルキルエ−テル、ポリオキシエ
チレンアルキルアリ−ルエ−テル、ポリオキシエチレン
高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステ
ル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレ−ト、ポ
リオキシエチレンソルビタンモノオレエ−ト、アルキル
アリ−ルスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸縮合物、
リグニンスルホン酸塩、高級アルコ−ル硫酸エステル等
の界面活性剤を例示することができる。又、有効成分化
合物の分散安定化、粘着及び／又は結合の目的のため
に、次に例示する補助剤を使用することもでき、例えば
カゼイン、ゼラチン、澱粉、メチルセルロ−ス、カルボ
キシメチルセルロ−ス、アラビアゴム、ポリビニルアル
コ−ル、松根油、糠油、ベントナイト、リグニンスルホ
ン酸塩等の補助剤を使用することもできる。固体製品の
流動性改良のために次に挙げる補助剤を使用することも
でき、例えばワックス、ステアリン酸塩、燐酸アルキル
エステル等の補助剤を使用できる。懸濁性製品の解こう
剤として、例えばナフタレンスルホン酸縮合物、縮合燐
酸塩等の補助剤を使用することもできる。消泡剤として
は、例えばシリコ−ン油等の補助剤を使用することもで
きる。

【００５６】有効成分化合物の配合割合は必要に応じて
加減することができ、例えば粉剤或いは粒剤とする場合
は０．０１〜５０重量％、又乳剤或いは水和剤とする場
合も同様０．０１〜５０重量％が適当である。本発明の
一般式（Ｉ）で表されるヒドラジン誘導体類を有効成分
とする農園芸用殺虫剤は、各種害虫を防除するために、
そのまま、又は水等で適宜希釈し、若しくは懸濁させた
形で害虫防除に有効な量を当該害虫に、又は当該害虫の
発生若しくは成育が好ましくない場所に適用して使用す
ればよい。本発明の一般式（Ｉ）で表されるヒドラジン
誘導体類を有効成分とする農園芸用殺虫剤の使用量は種
々の因子、例えば目的、対象害虫、作物の生育状況、害
虫の発生傾向、天候、環境条件、剤型、施用方法、施用
場所、施用時期等により変動するが、有効成分化合物と
して１０ア−ル当たり０．１ｇ〜５Kgの範囲から目的に
応じて適宜選択すれば良い。本発明の一般式（Ｉ）で表
されるヒドラジン誘導体類を有効成分とする農園用用殺
虫剤を更に防除対象害虫、防除適期の拡大のため、或い
は薬量の低減をはかる目的で他の殺虫剤又は殺菌剤と混
合して使用することも可能である。以下に本発明の代表
的な処方例及び試験例を示すが、本発明はこれらに限定
されるものではない。尚、処方例中、部とあるのは重量
部を示す。

【００５７】 処方例１ 本発明化合物 ５０部 キシレン ４０部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエ−テルと アルキルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物 １０部 以上を均一に混合溶解して乳剤とする。 処方例２ 本発明化合物 ３部 クレ−粉末 ８２部 珪藻土粉末 １５部 以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。 処方例３ 本発明化合物 ５部 ベントナイトとクレ−の混合粉末 ９０部 リグニンスルホン酸カルシウム ５部 以上を均一に混合し、適量の水を加えて混練し、造粒、
乾燥して粒剤とする。 処方例４ 本発明化合物 ２０部 カオリンと合成高分散珪酸 ７５部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエ−テルとアル キルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物 ５部 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。

【００５８】試験例１． ハスモンヨトウ（Spodoptera
litura) に対する殺虫試験 本発明化合物を有効成分とする薬剤を５００ppm に希釈
した薬液にキャベツ葉片（品種：四季穫）を約３０秒間
浸漬した。風乾後に直径９cmのプラスチックシャ−レに
入れ、ハスモンヨトウ２令幼虫を接種した後、蓋をして
２５℃恒温室に静置した。接種８日後に生死虫数を調査
し、下記の式により死虫率を算出し、下記の基準に従っ
て判定を行った。 判定基準． Ａ・・・死虫率１００％ Ｂ・・・死虫率９９％〜９０％ Ｃ・・・死虫率８９％〜８０％ Ｄ・・・死虫率７９％〜５０％ 結果を第７表に示す。

【００５９】

【表１３】

【００６０】

【表１４】

【００６１】試験例２． コクゾウ（Sitophilus zeam
ais)成虫に対する殺虫試験 本発明化合物を有効成分とする薬剤を２００ppm に希釈
した薬液に玄米を約３０秒間浸漬した。風乾後に直径４
cmのガラスシャ−レに入れ、コクゾウ成虫を接種した
後、蓋をして２５℃恒温室に静置した。接種８日後に生
死虫数を調査し、試験例１に従って死虫率を算出し、試
験例１の基準に従って判定を行った。１区１０頭３連
制。結果を第８表に示す。

【００６２】

【表１５】

【００６３】

【表１６】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 213/53 213/57 213/89 241/24 8615−4Ｃ (72)発明者 安藤 亘治 大阪府大阪市住之江区新北島７丁目２−２ −804 (72)発明者 濱口 洋 京都府京都市伏見区深草堀田町10−１、Ａ 804

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ¹ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ
   ² 及びＲ³ は同一又は異なっても良く、水素原子、水酸
   基又は低級アルキル基を示し、Ａｒ¹ 及びＡｒ² は同一
   又は異なっても良く、フェニル基、１〜３個の同一又は
   異なっても良い酸素原子、窒素原子又は硫黄原子から選
   択されるヘテロ原子を有する炭素原子数３〜６の複素環
   基又は芳香族と縮合した複素環基を示し、該複素環基又
   は芳香族と縮合した複素環上のヘテロ原子が窒素原子の
   場合、該窒素原子は酸化されても良く、該フェニル基、
   複素環基又は芳香族と縮合した複素環基はハロゲン原
   子、シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、低級ハロア
   ルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルコキシ基、
   低級アルコキシカルボニル基から選択される同一又は異
   なっても良い１以上の置換基を有することもできる。Ａ
   は 【化２】 （式中、Ｒ⁴ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ
   ⁵ は水素原子、低級アルキルカルボニル基、低級ハロア
   ルキルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基又は
   低級アルコキシカルボニル基を示し、Ｒ⁶ は水素原子又
   は低級アルキル基を示し、Ａｒ³ はフェニル基、１〜３
   個の同一又は異なっても良い酸素原子、窒素原子又は硫
   黄原子から選択されるヘテロ原子を有する炭素原子数３
   〜６の複素環基又は芳香族と縮合した複素環基を示し、
   該複素環基又は芳香族と縮合した複素環上のヘテロ原子
   が窒素原子の場合、該窒素原子は酸化されても良く、該
   フェニル基、複素環基又は芳香族と縮合した複素環基は
   ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、
   低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアル
   コキシ基、低級アルコキシカルボニル基から選択される
   同一又は異なっても良い１以上の置換基を有することも
   できる。）を示し、Ｗは酸素原子又は硫黄原子を示す。
   但し、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 及びＡｒ³ は同時にフェニル基又
   は置換基を有するフェニル基を示すことはない。〕で表
   されるヒドラジン誘導体類。
2. 【請求項２】 一般式（Ｉ−１） 【化３】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 、Ａ
   ｒ³ 及びＷは前記に同じ。但し、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 及びＡ
   ｒ³ は同時にフェニル基又は置換基を有するフェニル基
   を示すことはない。〕で表される請求項第１項記載のヒ
   ドラジン誘導体類。
3. 【請求項３】 一般式（Ｉ−２） 【化４】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ
   ² 、Ａｒ³ 及びＷは前記に同じ。但し、Ａｒ¹ 、Ａｒ²
   及びＡｒ³ は同時にフェニル基又は置換基を有するフェ
   ニル基を示すことはない。〕で表される請求項第１項記
   載のヒドラジン誘導体類。
4. 【請求項４】 一般式（Ｉ−３） 【化５】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁶ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 、Ａ
   ｒ³ 及びＷは前記に同じ。但し、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 及びＡ
   ｒ³ は同時にフェニル基又は置換基を有するフェニル基
   を示すことはない。〕で表される請求項第１項記載のヒ
   ドラジン誘導体類。
5. 【請求項５】 一般式（Ｉ−４） 【化６】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ
   ² 、Ａｒ³ 及びＷは前記に同じ。但し、Ａｒ¹ 、Ａｒ²
   及びＡｒ³ は同時にフェニル基又は置換基を有するフェ
   ニル基を示すことはない。〕で表される請求項第１項記
   載のヒドラジン誘導体類。
6. 【請求項６】 一般式（ＸＩ） 【化７】 〔式中、Ｒ² 及びＲ³ は同一又は異なっても良く、水素
   原子、水酸基又は低級アルキル基を示し、Ａｒ² 及びＡ
   ｒ³ は同一又は異なっても良く、フェニル基、１〜３個
   の同一又は異なっても良い酸素原子、窒素原子又は硫黄
   原子から選択されるヘテロ原子を有する炭素原子数３〜
   ６の複素環基又は芳香族と縮合した複素環基を示し、該
   複素環基又は芳香族と縮合した複素環上のヘテロ原子が
   窒素原子の場合、該窒素原子は酸化されても良く、該フ
   ェニル基、複素環基又は芳香族と縮合した複素環基はハ
   ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、低
   級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルコ
   キシ基、低級アルコキシカルボニル基から選択される同
   一又は異なっても良い１以上の置換基を有することもで
   きる。〕で表される化合物と一般式（ＶＩＩＩ） 【化８】 〔式中、Ｒ¹ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ
   ⁴ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ａｒ¹ はフェ
   ニル基、１〜３個の同一又は異なっても良い酸素原子、
   窒素原子又は硫黄原子から選択されるヘテロ原子を有す
   る炭素原子数３〜６の複素環基又は芳香族と縮合した複
   素環基を示し、該複素環基又は芳香族と縮合した複素環
   上のヘテロ原子が窒素原子の場合、該窒素原子は酸化さ
   れても良く、該フェニル基、複素環基又は芳香族と縮合
   した複素環基はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、低
   級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ
   基、低級ハロアルコキシ基、低級アルコキシカルボニル
   基から選択される同一又は異なっても良い１以上の置換
   基を有することもできる。Ｗは酸素原子又は硫黄原子を
   示す。〕で表される化合物と反応させることを特徴とす
   る一般式（Ｉ−１） 【化９】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 、Ａ
   ｒ³ 及びＷは前記に同じ。但し、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 及びＡ
   ｒ³ は同時にフェニル基又は置換基を有するフェニル基
   を示すことはない。〕で表されるヒドラジン誘導体類の
   製造方法。
7. 【請求項７】 一般式（ＸＩ） 【化１０】 〔式中、Ｒ² 及びＲ³ は同一又は異なっても良く、水素
   原子、水酸基又は低級アルキル基を示し、Ａｒ² 及びＡ
   ｒ³ は同一又は異なっても良く、フェニル基、１〜３個
   の同一又は異なっても良い酸素原子、窒素原子又は硫黄
   原子から選択されるヘテロ原子を有する炭素原子数３〜
   ６の複素環基又は芳香族と縮合した複素環基を示し、該
   複素環基又は芳香族と縮合した複素環上のヘテロ原子が
   窒素原子の場合、該窒素原子は酸化されても良く、該フ
   ェニル基、複素環基又は芳香族と縮合した複素環基はハ
   ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、低
   級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルコ
   キシ基、低級アルコキシカルボニル基から選択される同
   一又は異なっても良い１以上の置換基を有することもで
   きる。〕で表される化合物と一般式（Ｘ） R⁴-NHNH₂ （Ｘ） 〔式中、Ｒ⁴ はは水素原子又は低級アルキル基を示
   す。〕で表されるヒドラジン類と反応させ一般式（Ｉ
   Ｘ） 【化１１】 〔式中、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ａｒ² 及びＡｒ³ は前記に
   同じ。〕で表される化合物とし、該化合物（ＩＸ）を単
   離し、又は単離せずして一般式（ＶＩＩ） Ar¹-N=C=W （ＶＩＩ） 〔式中、Ｒ¹ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ａ
   ｒ¹ はフェニル基、１〜３個の同一又は異なっても良い
   酸素原子、窒素原子又は硫黄原子から選択されるヘテロ
   原子を有する炭素原子数３〜６の複素環基又は芳香族と
   縮合した複素環基を示し、該複素環基又は芳香族と縮合
   した複素環上のヘテロ原子が窒素原子の場合、該窒素原
   子は酸化されても良く、該フェニル基、複素環基又は芳
   香族と縮合した複素環基はハロゲン原子、シアノ基、ニ
   トロ基、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級ア
   ルコキシ基、低級ハロアルコキシ基、低級アルコキシカ
   ルボニル基から選択される同一又は異なっても良い１以
   上の置換基を有することもできる。Ｗは酸素原子又は硫
   黄原子を示す。〕で表される化合物と反応させることを
   特徴とする一般式（Ｉ−１） 【化１２】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 、Ａ
   ｒ³ 及びＷは前記に同じ。但し、Ｒ¹ は低級アルキル基
   を除き、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 及びＡｒ³ は同時にフェニル基
   又は置換基を有するフェニル基を示すことはない。〕で
   表されるヒドラジン誘導体類の製造方法。
8. 【請求項８】 一般式（Ｉ−１） 【化１３】 〔式中、Ｒ¹ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ
   ² 及びＲ³ は同一又は異なっても良く、水素原子、水酸
   基又は低級アルキル基を示し、Ｒ⁴ は水素原子又は低級
   アルキル基を示し、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 及びＡｒ³ は同一又
   は異なっても良く、フェニル基、１〜３個の同一又は異
   なっても良い酸素原子、窒素原子又は硫黄原子から選択
   されるヘテロ原子を有する炭素原子数３〜６の複素環基
   又は芳香族と縮合した複素環基を示し、該複素環基又は
   芳香族と縮合した複素環上のヘテロ原子が窒素原子の場
   合、該窒素原子は酸化されても良く、該フェニル基、複
   素環基又は芳香族と縮合した複素環基はハロゲン原子、
   シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、低級ハロアルキ
   ル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルコキシ基、低級
   アルコキシカルボニル基から選択される同一又は異なっ
   ても良い１以上の置換基を有することもできる。Ｗは酸
   素原子又は硫黄原子を示す。〕で表されるヒドラジン誘
   導体類を還元剤の存在下に還元反応することを特徴とす
   る一般式（Ｉ−２’） 【化１４】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 、Ａ
   ｒ³ 及びＷは前記に同じ。但し、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 及びＡ
   ｒ³ は同時にフェニル基又は置換基を有するフェニル基
   を示すことはない。〕で表されるヒドラジン誘導体類の
   製造方法。
9. 【請求項９】 一般式（Ｖ） 【化１５】 〔式中、Ｒ² 及びＲ³ は同一又は異なっても良く、水素
   原子、水酸基又は低級アルキル基を示し、Ｒ⁶ は水素原
   子又は低級アルキル基を示し、Ｒ⁷ はハロゲン原子又は
   水酸基を示し、Ａｒ² 及びＡｒ³ は同一又は異なっても
   良く、フェニル基、１〜３個の同一又は異なっても良い
   酸素原子、窒素原子又は硫黄原子から選択されるヘテロ
   原子を有する炭素原子数３〜６の複素環基又は芳香族と
   縮合した複素環基を示し、該複素環基又は芳香族と縮合
   した複素環上のヘテロ原子が窒素原子の場合、該窒素原
   子は酸化されても良く、該フェニル基、複素環基又は芳
   香族と縮合した複素環基はハロゲン原子、シアノ基、ニ
   トロ基、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級ア
   ルコキシ基、低級ハロアルコキシ基、低級アルコキシカ
   ルボニル基から選択される同一又は異なっても良い１以
   上の置換基を有することもできる。Ｗは酸素原子又は硫
   黄原子を示す。〕で表される化合物と一般式（ＩＩＩ） 【化１６】 〔式中、Ｒ¹ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ａ
   ｒ¹ はフェニル基、１〜３個の同一又は異なっても良い
   酸素原子、窒素原子又は硫黄原子から選択されるヘテロ
   原子を有する炭素原子数３〜６の複素環基又は芳香族と
   縮合した複素環基を示し、該複素環基又は芳香族と縮合
   した複素環上のヘテロ原子が窒素原子の場合、該窒素原
   子は酸化されても良く、該フェニル基、複素環基又は芳
   香族と縮合した複素環基はハロゲン原子、シアノ基、ニ
   トロ基、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級ア
   ルコキシ基、低級ハロアルコキシ基、低級アルコキシカ
   ルボニル基から選択される同一又は異なっても良い１以
   上の置換基を有することもできる。〕で表されるアミン
   類と反応させることを特徴とする一般式（Ｉ−３） 【化１７】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁶ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 、Ａ
   ｒ³ 及びＷは前記に同じ。但し、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 及びＡ
   ｒ³ は同時にフェニル基又は置換基を有するフェニル基
   を示すことはない。〕で表されるヒドラジン誘導体類の
   製造方法。
10. 【請求項１０】 一般式（ＩＶ） 【化１８】 〔式中、Ｒ¹ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ
    ⁶ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ａｒ¹ 及びＡ
    ｒ³ は同一又は異なっても良く、フェニル基、１〜３個
    の同一又は異なっても良い酸素原子、窒素原子又は硫黄
    原子から選択されるヘテロ原子を有する炭素原子数３〜
    ６の複素環基又は芳香族と縮合した複素環基を示し、該
    複素環基又は芳香族と縮合した複素環上のヘテロ原子が
    窒素原子の場合、該窒素原子は酸化されても良く、該フ
    ェニル基、複素環基又は芳香族と縮合した複素環基はハ
    ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、低
    級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルコ
    キシ基、低級アルコキシカルボニル基から選択される同
    一又は異なっても良い１以上の置換基を有することもで
    きる。Ｗは酸素原子又は硫黄原子を示す。〕で表される
    化合物と一般式（ＩＩ） 【化１９】 〔式中、Ｒ² 及びＲ³ は同一又は異なっても良く、水素
    原子、水酸基又は低級アルキル基を示し、Ａｒ² はフェ
    ニル基、１〜３個の同一又は異なっても良い酸素原子、
    窒素原子又は硫黄原子から選択されるヘテロ原子を有す
    る炭素原子数３〜６の複素環基又は芳香族と縮合した複
    素環基を示し、該複素環基又は芳香族と縮合した複素環
    上のヘテロ原子が窒素原子の場合、該窒素原子は酸化さ
    れても良く、該フェニル基、複素環基又は芳香族と縮合
    した複素環基はハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、低
    級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ
    基、低級ハロアルコキシ基、低級アルコキシカルボニル
    基から選択される同一又は異なっても良い１以上の置換
    基を有することもできる。〕で表されるハライド類と反
    応させることを特徴とする一般式（Ｉ−３） 【化２０】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁶ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 、Ａ
    ｒ³ 及びＷは前記に同じ。但し、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 及びＡ
    ｒ³ は同時にフェニル基又は置換基を有するフェニル基
    を示すことはない。〕で表されるヒドラジン誘導体類の
    製造方法。
11. 【請求項１１】 一般式（Ｉ−３） 【化２１】 〔式中、Ｒ¹ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ
    ² 及びＲ³ は同一又は異なっても良く、水素原子、水酸
    基又は低級アルキル基を示し、Ｒ⁶ は水素原子又は低級
    アルキル基を示し、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 及びＡｒ³ は同一又
    は異なっても良く、フェニル基、１〜３個の同一又は異
    なっても良い酸素原子、窒素原子又は硫黄原子から選択
    されるヘテロ原子を有する炭素原子数３〜６の複素環基
    又は芳香族と縮合した複素環基を示し、該複素環基又は
    芳香族と縮合した複素環上のヘテロ原子が窒素原子の場
    合、該窒素原子は酸化されても良く、該フェニル基、複
    素環基又は芳香族と縮合した複素環基はハロゲン原子、
    シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、低級ハロアルキ
    ル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルコキシ基、低級
    アルコキシカルボニル基から選択される同一又は異なっ
    ても良い１以上の置換基を有することもできる。Ｗは酸
    素原子又は硫黄原子を示す。〕で表されるヒドラジン誘
    導体類を還元剤の存在下に還元反応することを特徴とす
    る一般式（Ｉ−４） 【化２２】 〔式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁶ 、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 、Ａ
    ｒ³ 及びＷは前記に同じ。〕但し、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 及び
    Ａｒ³ は同時にフェニル基又は置換基を有するフェニル
    基を示すことはない。〕で表されるヒドラジン誘導体類
    の製造方法。
12. 【請求項１２】 一般式（Ｉ） 【化２３】 〔式中、Ｒ¹ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ
    ² 及びＲ³ は同一又は異なっても良く、水素原子、水酸
    基又は低級アルキル基を示し、Ａｒ¹ 及びＡｒ² は同一
    又は異なっても良く、フェニル基、１〜３個の同一又は
    異なっても良い酸素原子、窒素原子又は硫黄原子から選
    択されるヘテロ原子を有する炭素原子数３〜６の複素環
    基又は芳香族と縮合した複素環基を示し、該複素環基又
    は芳香族と縮合した複素環上のヘテロ原子が窒素原子の
    場合、該窒素原子は酸化されても良く、該フェニル基、
    複素環基又は芳香族と縮合した複素環基はハロゲン原
    子、シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、低級ハロア
    ルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアルコキシ基、
    低級アルコキシカルボニル基から選択される同一又は異
    なっても良い１以上の置換基を有することもできる。Ａ
    は 【化２４】 〔式中、Ｒ⁴ は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ
    ⁵ は水素原子、低級アルキルカルボニル基、低級ハロア
    ルキルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基又は
    低級アルコキシカルボニル基を示し、Ｒ⁶ は水素原子又
    は低級アルキル基を示し、Ａｒ³ はフェニル基、１〜３
    個の同一又は異なっても良い酸素原子、窒素原子又は硫
    黄原子から選択されるヘテロ原子を有する炭素原子数３
    〜６の複素環基又は芳香族と縮合した複素環基を示し、
    該複素環基又は芳香族と縮合した複素環上のヘテロ原子
    が窒素原子の場合、該窒素原子は酸化されても良く、該
    フェニル基、複素環基又は芳香族と縮合した複素環基は
    ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基、
    低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低級ハロアル
    コキシ基、低級アルコキシカルボニル基から選択される
    同一又は異なっても良い１以上の置換基を有することも
    できる。）を示し、Ｗは酸素原子又は硫黄原子を示す。
    但し、Ａｒ¹ 、Ａｒ² 及びＡｒ³ は同時にフェニル基又
    は置換基を有するフェニル基を示すことはない。〕で表
    されるヒドラジン誘導体を有効成分として含有すること
    を特徴とする農園芸用殺虫剤。