JPH05239015A - 新規な含硫黄化合物及びその製造方法 - Google Patents
新規な含硫黄化合物及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH05239015A JPH05239015A JP7915892A JP7915892A JPH05239015A JP H05239015 A JPH05239015 A JP H05239015A JP 7915892 A JP7915892 A JP 7915892A JP 7915892 A JP7915892 A JP 7915892A JP H05239015 A JPH05239015 A JP H05239015A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phenylthio
- formula
- acetic acid
- phenylsulfonyl
- sulfone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】本発明は、新規な含硫黄化合物である４−（フ
ェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スル
ホン、該化合物を合成するのに有用な中間体である［４
−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸またはその塩、
［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸のエステ
ル、並びにこれらの中間体を用いた４−（フェニルスル
ホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホンの製造
方法に関する。 【効果】本発明の４−（フェニルスルホニル）フェニル
（トリブロモメチル）スルホンは、紫外部極大吸収を２
４９ｎｍに有するため、紫外線の有効波長２５４ｎｍを
増感剤を用いなくても光ラジカル開始剤として直接利用
できる可能性がある。
ェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スル
ホン、該化合物を合成するのに有用な中間体である［４
−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸またはその塩、
［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸のエステ
ル、並びにこれらの中間体を用いた４−（フェニルスル
ホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホンの製造
方法に関する。 【効果】本発明の４−（フェニルスルホニル）フェニル
（トリブロモメチル）スルホンは、紫外部極大吸収を２
４９ｎｍに有するため、紫外線の有効波長２５４ｎｍを
増感剤を用いなくても光ラジカル開始剤として直接利用
できる可能性がある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な含硫黄化合物及
びその製造方法に関する。更に詳しくは光照射によりラ
ジカルを発生する能力を有する含硫黄光ラジカル開始剤
及びその製造方法に関する。（トリハロゲノメチル）フ
ェニルスルホン類は、光照射によりラジカルを生じるた
めに重合反応の開始剤として有用であり、さらに微生物
等に対する抗菌剤としても重要な化合物である。本発明
により製造される新規な４−（フェニルスルホニル）フ
ェニル（トリブロモメチル）スルホン（式（１）で表さ
れる化合物）は、光ラジカル開始剤としての用途が期待
される。
びその製造方法に関する。更に詳しくは光照射によりラ
ジカルを発生する能力を有する含硫黄光ラジカル開始剤
及びその製造方法に関する。（トリハロゲノメチル）フ
ェニルスルホン類は、光照射によりラジカルを生じるた
めに重合反応の開始剤として有用であり、さらに微生物
等に対する抗菌剤としても重要な化合物である。本発明
により製造される新規な４−（フェニルスルホニル）フ
ェニル（トリブロモメチル）スルホン（式（１）で表さ
れる化合物）は、光ラジカル開始剤としての用途が期待
される。
【０００２】
【従来の技術・発明が解決しようとする課題】光重合開
始剤としては、分子内にハロゲンを有する化合物、たと
えば四塩化炭素、四臭化炭素、ヘキサクロロエタン、
α、α、α−トリクロロトルエン、ｏ−ニトロ−α、
α、α−トリブロモアセトフェノン、ｏ−ニトロベンゼ
ンスルフェニルクロライド、ヘキサブロモジメチルスル
ホキシド、トリクロロメチルフェニルスルホン、トリブ
ロモメチルフェニルスルホン、トリブロモメチル−ｐ−
ニトロフェニルスルホン、テトラブロモジメチルスルホ
ンなどが用いられてきた。しかしながら、これらの化合
物においては水銀灯のスペクトル範囲に有効吸収が無い
ため光重合開始剤として用いる場合、増感剤とあわせて
用いる必要があったり、また光は吸収するがラジカルの
発生効率が悪かったりする等の問題点を有している。
始剤としては、分子内にハロゲンを有する化合物、たと
えば四塩化炭素、四臭化炭素、ヘキサクロロエタン、
α、α、α−トリクロロトルエン、ｏ−ニトロ−α、
α、α−トリブロモアセトフェノン、ｏ−ニトロベンゼ
ンスルフェニルクロライド、ヘキサブロモジメチルスル
ホキシド、トリクロロメチルフェニルスルホン、トリブ
ロモメチルフェニルスルホン、トリブロモメチル−ｐ−
ニトロフェニルスルホン、テトラブロモジメチルスルホ
ンなどが用いられてきた。しかしながら、これらの化合
物においては水銀灯のスペクトル範囲に有効吸収が無い
ため光重合開始剤として用いる場合、増感剤とあわせて
用いる必要があったり、また光は吸収するがラジカルの
発生効率が悪かったりする等の問題点を有している。
【０００３】従って、本発明の目的は、水銀灯のスペク
トルを有効に利用しラジカル発生効率のよい光重合開始
剤として有用な新規な含硫黄化合物及びその製造方法を
提供することにある。
トルを有効に利用しラジカル発生効率のよい光重合開始
剤として有用な新規な含硫黄化合物及びその製造方法を
提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは水銀灯のス
ペクトルを有効に利用できる化合物を開発すべくトリハ
ロゲノ基を有する光ラジカル開始剤に注目し、ベンゼン
環、ナフタレン環やビナフチルのように複数の環より構
成された芳香環、ピリジンやチオフェンのような複素環
化合物等を基本骨格とする種々のトリハロゲノ化合物を
合成した。そして得られた化合物の紫外線吸収を調べた
結果、４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロ
モメチル）スルホンが上記の目的に合った優れた化合物
であること、すなわち、４−（フェニルスルホニル）フ
ェニル（トリブロモメチル）スルホンの紫外部吸収極大
は２４８ｎｍにあり、水銀灯の２５４ｎｍの光を有効に
利用することができることを見い出し、本発明を完成す
るに到った。
ペクトルを有効に利用できる化合物を開発すべくトリハ
ロゲノ基を有する光ラジカル開始剤に注目し、ベンゼン
環、ナフタレン環やビナフチルのように複数の環より構
成された芳香環、ピリジンやチオフェンのような複素環
化合物等を基本骨格とする種々のトリハロゲノ化合物を
合成した。そして得られた化合物の紫外線吸収を調べた
結果、４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロ
モメチル）スルホンが上記の目的に合った優れた化合物
であること、すなわち、４−（フェニルスルホニル）フ
ェニル（トリブロモメチル）スルホンの紫外部吸収極大
は２４８ｎｍにあり、水銀灯の２５４ｎｍの光を有効に
利用することができることを見い出し、本発明を完成す
るに到った。
【０００５】本発明は上記した知見をもとになされたも
のであり、その要旨は（１）式（１）で表される４−
（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）
スルホン、
のであり、その要旨は（１）式（１）で表される４−
（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）
スルホン、
【化１２】
【０００６】（２）式（２）で表される［４−（フェニ
ルチオ）フェニルチオ］酢酸またはその塩、
ルチオ）フェニルチオ］酢酸またはその塩、
【化１３】
【０００７】（３）式（３）で表される［４−（フェニ
ルチオ）フェニルチオ］酢酸のエステル、
ルチオ）フェニルチオ］酢酸のエステル、
【化１４】
【０００８】（４）式（４）で表される［４−（フェニ
ルチオ）フェニルチオ］酢酸メチル、
ルチオ）フェニルチオ］酢酸メチル、
【化１５】
【０００９】（５）式（５）で表される［４−（フェニ
ルチオ）フェニルチオ］酢酸エチル、
ルチオ）フェニルチオ］酢酸エチル、
【化１６】
【００１０】（６）式（２）で表される［４−（フェニ
ルチオ）フェニルチオ］酢酸またはその塩を酸化および
臭素化することを特徴とする式（１）で表される４−
（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）
スルホンの製造方法、
ルチオ）フェニルチオ］酢酸またはその塩を酸化および
臭素化することを特徴とする式（１）で表される４−
（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）
スルホンの製造方法、
【００１１】（７）式（３）で表される［４−（フェニ
ルチオ）フェニルチオ］酢酸のエステルを加水分解し、
次いで酸化および臭素化することを特徴とする式（１）
で表される４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリ
ブロモメチル）スルホンの製造方法、並びに
ルチオ）フェニルチオ］酢酸のエステルを加水分解し、
次いで酸化および臭素化することを特徴とする式（１）
で表される４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリ
ブロモメチル）スルホンの製造方法、並びに
【００１２】（８）式（２）で表される［４−（フェニ
ルチオ）フェニルチオ］酢酸またはその塩を過酸化水素
で酸化することを特徴とする式（６）で表される［４−
（フェニルスルホニル）フェニルスルホニル］酢酸の製
造方法に関する。
ルチオ）フェニルチオ］酢酸またはその塩を過酸化水素
で酸化することを特徴とする式（６）で表される［４−
（フェニルスルホニル）フェニルスルホニル］酢酸の製
造方法に関する。
【化１７】
【００１３】本発明の新規な含硫黄化合物は、光重合開
始剤として有用な式（１）で表される４−（フェニルス
ルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホン、お
よび該目的化合物を合成するための種々の新規な中間体
に関するものである。これらの中間体としては、［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸またはその塩、そ
のエステル、あるいは［４−（フェニルスルホニル）フ
ェニルスルホニル］酢酸が使用される。
始剤として有用な式（１）で表される４−（フェニルス
ルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホン、お
よび該目的化合物を合成するための種々の新規な中間体
に関するものである。これらの中間体としては、［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸またはその塩、そ
のエステル、あるいは［４−（フェニルスルホニル）フ
ェニルスルホニル］酢酸が使用される。
【００１４】ここで塩としては、アルカリ金属塩が挙げ
られ、例えばナトリウム塩やカリウム塩が用いられる。
またエステル種としては特に限定されないが、炭素数１
〜６の脂肪族基が好ましく用いられる。具体的にはメチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ
−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、種々のペンチル基、種々のヘキシル基及びシクロヘ
キシル基等であり、例えば［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸のメチルエステル、エチルエステル等が
好適な例として挙げられる。
られ、例えばナトリウム塩やカリウム塩が用いられる。
またエステル種としては特に限定されないが、炭素数１
〜６の脂肪族基が好ましく用いられる。具体的にはメチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ
−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、種々のペンチル基、種々のヘキシル基及びシクロヘ
キシル基等であり、例えば［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸のメチルエステル、エチルエステル等が
好適な例として挙げられる。
【００１５】本発明の目的化合物である４−（フェニル
スルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホン
（式（１）で表される化合物）の製造方法には種々の方
法が考えられるが、その一つとして本発明者らは前記の
ような新規な中間体である［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸、その塩またはそのエステルを原料とす
る方法について検討を加えた。これらの原料は４−フェ
ニルチオベンゼンチオールとクロロ酢酸、ブロモ酢酸あ
るいはそれらのエステルとの反応により容易に合成する
ことができる。４−フェニルチオベンゼンチオールは特
願平３−８７６１６４で示したごとく、ジフェニルスル
フィドと一塩化硫黄を反応後還元処理すると容易に得ら
れる。
スルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホン
（式（１）で表される化合物）の製造方法には種々の方
法が考えられるが、その一つとして本発明者らは前記の
ような新規な中間体である［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸、その塩またはそのエステルを原料とす
る方法について検討を加えた。これらの原料は４−フェ
ニルチオベンゼンチオールとクロロ酢酸、ブロモ酢酸あ
るいはそれらのエステルとの反応により容易に合成する
ことができる。４−フェニルチオベンゼンチオールは特
願平３−８７６１６４で示したごとく、ジフェニルスル
フィドと一塩化硫黄を反応後還元処理すると容易に得ら
れる。
【００１６】４−フェニルチオベンゼンチオールとクロ
ロ酢酸、ブロモ酢酸あるいはそれらのエステルを反応さ
せて、本発明の中間体である［４−（フェニルチオ）フ
ェニルチオ］酢酸あるいはそれらのエステルを得る反応
は、水あるいは水−有機溶媒系中で４−フェニルチオベ
ンゼンチオールをアルカリ塩となし、そこにクロロ酢
酸、ブロモ酢酸あるいはそれらのエステルを加えて反応
を行うことにより得ることができる。
ロ酢酸、ブロモ酢酸あるいはそれらのエステルを反応さ
せて、本発明の中間体である［４−（フェニルチオ）フ
ェニルチオ］酢酸あるいはそれらのエステルを得る反応
は、水あるいは水−有機溶媒系中で４−フェニルチオベ
ンゼンチオールをアルカリ塩となし、そこにクロロ酢
酸、ブロモ酢酸あるいはそれらのエステルを加えて反応
を行うことにより得ることができる。
【００１７】その際に用いる有機溶媒としては、４−フ
ェニルチオベンゼンチオールの溶解能を有する化合物が
好ましく、その一例としてアルコール類、エーテル類等
を挙げることができる。前記クロロ酢酸またはブロモ酢
酸のエステルにおけるエステル種は、特に限定されない
が、炭素数１〜６の脂肪族基が好ましく用いられる。具
体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、種々のペンチル基、種々のヘキシル
基及びシクロヘキシル基等である。また加えるアルカリ
種については４−フェニルチオベンゼンチオールのチオ
ール基をアニオンとなし、求核性を強めさえすれば如何
なるアルカリ種でも用いることができるが、一般に水酸
化ナトリウム又は水酸化カリウムが好適に用いられる。
反応温度は特に制限はないが、クロロ酢酸あるいはその
エステルでは一般的に５０℃〜還流温度、ブロモ酢酸あ
るいはそのエステルでは３０℃〜還流温度が推奨され
る。
ェニルチオベンゼンチオールの溶解能を有する化合物が
好ましく、その一例としてアルコール類、エーテル類等
を挙げることができる。前記クロロ酢酸またはブロモ酢
酸のエステルにおけるエステル種は、特に限定されない
が、炭素数１〜６の脂肪族基が好ましく用いられる。具
体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、種々のペンチル基、種々のヘキシル
基及びシクロヘキシル基等である。また加えるアルカリ
種については４−フェニルチオベンゼンチオールのチオ
ール基をアニオンとなし、求核性を強めさえすれば如何
なるアルカリ種でも用いることができるが、一般に水酸
化ナトリウム又は水酸化カリウムが好適に用いられる。
反応温度は特に制限はないが、クロロ酢酸あるいはその
エステルでは一般的に５０℃〜還流温度、ブロモ酢酸あ
るいはそのエステルでは３０℃〜還流温度が推奨され
る。
【００１８】この反応は容易に進む反応であり、副反応
を伴わないので高収率で生成物を得ることができる。反
応終了後、本発明の中間体の反応液からの単離は有機溶
媒を用いる抽出等により容易に行うことができる。ま
た、［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸の塩
は、４−フェニルチオベンゼンチオールのアルカリ塩と
クロロ酢酸又はブロモ酢酸との反応生成物である［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸をアルカリで中和
するか、４−フェニルチオベンゼンチオールのアルカリ
塩とクロロ酢酸エステル又はブロモ酢酸エステルとの反
応生成物である［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］
酢酸エステルをアルカリ性下で加水分解することにより
得られる。
を伴わないので高収率で生成物を得ることができる。反
応終了後、本発明の中間体の反応液からの単離は有機溶
媒を用いる抽出等により容易に行うことができる。ま
た、［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸の塩
は、４−フェニルチオベンゼンチオールのアルカリ塩と
クロロ酢酸又はブロモ酢酸との反応生成物である［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸をアルカリで中和
するか、４−フェニルチオベンゼンチオールのアルカリ
塩とクロロ酢酸エステル又はブロモ酢酸エステルとの反
応生成物である［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］
酢酸エステルをアルカリ性下で加水分解することにより
得られる。
【００１９】このようにして得られる本発明の中間体で
ある、［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸、そ
の塩またはそのエステルを原料とし、目的化合物である
式（１）で表される４−（フェニルスルホニル）フェニ
ル（トリブロモメチル）スルホンを製造する方法とし
て、次の（イ）〜（ハ）の方法が挙げられる。
ある、［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸、そ
の塩またはそのエステルを原料とし、目的化合物である
式（１）で表される４−（フェニルスルホニル）フェニ
ル（トリブロモメチル）スルホンを製造する方法とし
て、次の（イ）〜（ハ）の方法が挙げられる。
【００２０】（イ）［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸またはその塩を酸化し、次いで臭素化すること
による方法、例えば［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸を過酸化水素により酸化し、［４−（フェニル
スルホニル）フェニルスルホニル］酢酸となし、次いで
次亜臭素酸塩で処理して４−（フェニルスルホニル）フ
ェニル（トリブロモメチル）スルホンを得ることができ
る。
オ］酢酸またはその塩を酸化し、次いで臭素化すること
による方法、例えば［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸を過酸化水素により酸化し、［４−（フェニル
スルホニル）フェニルスルホニル］酢酸となし、次いで
次亜臭素酸塩で処理して４−（フェニルスルホニル）フ
ェニル（トリブロモメチル）スルホンを得ることができ
る。
【００２１】（ロ）［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸のエステルを加水分解し、次いで酸化および臭
素化することによる方法、例えば［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルを加水分解後、得ら
れた［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を前記
（イ）と同様にして過酸化水素により酸化し、次いで次
亜臭素酸塩で処理するか、あるいは後記（ハ）と同様に
得られた［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を
次亜臭素酸塩を用いて酸化および臭素化を同時に行う方
法が挙げられる。
オ］酢酸のエステルを加水分解し、次いで酸化および臭
素化することによる方法、例えば［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルを加水分解後、得ら
れた［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を前記
（イ）と同様にして過酸化水素により酸化し、次いで次
亜臭素酸塩で処理するか、あるいは後記（ハ）と同様に
得られた［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を
次亜臭素酸塩を用いて酸化および臭素化を同時に行う方
法が挙げられる。
【００２２】（ハ）［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸またはその塩を、次亜臭素酸塩を用いて酸化お
よび臭素化を同時に行うことによる方法、例えば［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を次亜臭素酸塩で
処理する方法が挙げられる。
オ］酢酸またはその塩を、次亜臭素酸塩を用いて酸化お
よび臭素化を同時に行うことによる方法、例えば［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を次亜臭素酸塩で
処理する方法が挙げられる。
【００２３】前記（イ）において、［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸を過酸化水素で酸化するには、
［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸と水あるい
は水−有機溶媒混合溶媒よりなる混合物をほぼ理論量の
過酸化水素で処理すると［４−（フェニルスルホニル）
フェニルスルホニル］酢酸となる。過酸化水素の使用量
は［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸に対して
通常４．０〜４．４倍モルが好ましい。このときタング
ステン酸ナトリウム等を触媒として用いると反応が円滑
に進行する。タングステン酸ナトリウムを触媒とすると
きのｐＨは約１〜５が好ましい。反応温度は約４０℃〜
還流温度であればよく、反応時間は約１０分〜３時間で
ある。
オ）フェニルチオ］酢酸を過酸化水素で酸化するには、
［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸と水あるい
は水−有機溶媒混合溶媒よりなる混合物をほぼ理論量の
過酸化水素で処理すると［４−（フェニルスルホニル）
フェニルスルホニル］酢酸となる。過酸化水素の使用量
は［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸に対して
通常４．０〜４．４倍モルが好ましい。このときタング
ステン酸ナトリウム等を触媒として用いると反応が円滑
に進行する。タングステン酸ナトリウムを触媒とすると
きのｐＨは約１〜５が好ましい。反応温度は約４０℃〜
還流温度であればよく、反応時間は約１０分〜３時間で
ある。
【００２４】次いで反応系にアルカリを加えて塩基性と
なし、次亜臭素酸塩を添加し、反応を行うことにより４
−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホンを得ることができる。本発明で用いる次亜
臭素酸塩としては、次亜臭素酸ナトリウム、次亜臭素酸
カリウム等が挙げられるが、なかでも次亜臭素酸ナトリ
ウムが好適に用いられる。その濃度は任意の濃度のもの
が使用可能であり、実用的な見地からは１０〜３０％が
好適に用いられる。反応に用いる次亜臭素酸塩の使用量
は、最初に用いた［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸に対して通常３〜８倍モル量、好ましくは３．
１〜４．０倍モル量程度が好ましい。３倍モル量より少
ないと反応が完結せず、８倍モル量より多くを用いても
それに見合う効果がなく、経済的に不利である。反応が
進むと本発明の目的化合物である４−（フェニルスルホ
ニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホンが反応液
から固体で析出してくる。
なし、次亜臭素酸塩を添加し、反応を行うことにより４
−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホンを得ることができる。本発明で用いる次亜
臭素酸塩としては、次亜臭素酸ナトリウム、次亜臭素酸
カリウム等が挙げられるが、なかでも次亜臭素酸ナトリ
ウムが好適に用いられる。その濃度は任意の濃度のもの
が使用可能であり、実用的な見地からは１０〜３０％が
好適に用いられる。反応に用いる次亜臭素酸塩の使用量
は、最初に用いた［４−（フェニルチオ）フェニルチ
オ］酢酸に対して通常３〜８倍モル量、好ましくは３．
１〜４．０倍モル量程度が好ましい。３倍モル量より少
ないと反応が完結せず、８倍モル量より多くを用いても
それに見合う効果がなく、経済的に不利である。反応が
進むと本発明の目的化合物である４−（フェニルスルホ
ニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホンが反応液
から固体で析出してくる。
【００２５】前記（ロ）において、［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルは、簡単に加水分解
することができる。加水分解は酸性条件、塩基性条件の
いずれでも起こるが、塩基性条件下に行うのが一般的で
ある。アルカリ種は特に限定されないが、水酸化ナトリ
ウム又は水酸化カリウムにより反応液をアルカリ性にす
れば加水分解が進む。アルカリ量は基質である［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸のエステルの当量
以上であれば問題はない。例えば、［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルを含有する反応液に
水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを加える方法も有
効である。この加水分解は室温付近でも進むが、反応速
度を速める目的で加熱するのも有効である。加水分解後
又は加水分解を行いながらエステルの加水分解により生
じたアルコールを反応系外に追い出すと平衡がずれて加
水分解が進むので、酸性条件下でのエステルの加水分解
も可能である。酸性化には塩酸や硫酸が好適に用いられ
る。
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルは、簡単に加水分解
することができる。加水分解は酸性条件、塩基性条件の
いずれでも起こるが、塩基性条件下に行うのが一般的で
ある。アルカリ種は特に限定されないが、水酸化ナトリ
ウム又は水酸化カリウムにより反応液をアルカリ性にす
れば加水分解が進む。アルカリ量は基質である［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸のエステルの当量
以上であれば問題はない。例えば、［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルを含有する反応液に
水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを加える方法も有
効である。この加水分解は室温付近でも進むが、反応速
度を速める目的で加熱するのも有効である。加水分解後
又は加水分解を行いながらエステルの加水分解により生
じたアルコールを反応系外に追い出すと平衡がずれて加
水分解が進むので、酸性条件下でのエステルの加水分解
も可能である。酸性化には塩酸や硫酸が好適に用いられ
る。
【００２６】前記（ロ）において加水分解後は、得られ
た［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を前記
（イ）と同様にして過酸化水素により酸化し、次いで次
亜臭素酸塩で処理してもよく、あるいは（ハ）と同様に
次亜臭素酸塩を用いて酸化および臭素化を同時に行う方
法でもよい。前記（ロ）あるいは前記（ハ）おいて、
［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を次亜臭素
酸塩で処理することにより、酸化および臭素化を同時に
行い、４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロ
モメチル）スルホンとすることができる。反応は水中、
又は水−有機溶媒混合溶液中等で行うことができる。有
機溶媒としては水と混和し得る溶媒であれば問題はな
く、ジオキサン等のエーテル系溶媒が好適である。例え
ば［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸と水又は
水−有機溶媒混合溶媒の混合物にアルカリを加え、つい
で次亜臭素酸塩を加えて反応を行う。反応に用いるアル
カリ種としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ金属の水酸化物が挙げられ、その量は［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸に対して０．１〜
５倍モルで十分である。
た［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を前記
（イ）と同様にして過酸化水素により酸化し、次いで次
亜臭素酸塩で処理してもよく、あるいは（ハ）と同様に
次亜臭素酸塩を用いて酸化および臭素化を同時に行う方
法でもよい。前記（ロ）あるいは前記（ハ）おいて、
［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸を次亜臭素
酸塩で処理することにより、酸化および臭素化を同時に
行い、４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロ
モメチル）スルホンとすることができる。反応は水中、
又は水−有機溶媒混合溶液中等で行うことができる。有
機溶媒としては水と混和し得る溶媒であれば問題はな
く、ジオキサン等のエーテル系溶媒が好適である。例え
ば［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸と水又は
水−有機溶媒混合溶媒の混合物にアルカリを加え、つい
で次亜臭素酸塩を加えて反応を行う。反応に用いるアル
カリ種としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ金属の水酸化物が挙げられ、その量は［４−
（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸に対して０．１〜
５倍モルで十分である。
【００２７】ここで用いられる次亜臭素酸塩としても、
前記（イ）の場合と同様に次亜臭素酸ナトリウム、次亜
臭素酸カリウム等が挙げられるが、なかでも次亜臭素酸
ナトリウムが好適に用いられる。その濃度は任意の濃度
のものが使用可能であり、実用的な見地からは１０〜３
０％が好適に用いられる。用いる量は［４−（フェニル
チオ）フェニルチオ］酢酸に対して通常７〜１２倍モル
量、好ましくは７．１〜１０倍モル量程度である。７倍
モル量より少ないと反応が完結せず、１２倍モル量より
多くを用いてもそれに見合う効果がなく、経済的に不利
である。また、反応温度は３０〜１００℃が好ましく、
反応時間は通常１〜３時間である。
前記（イ）の場合と同様に次亜臭素酸ナトリウム、次亜
臭素酸カリウム等が挙げられるが、なかでも次亜臭素酸
ナトリウムが好適に用いられる。その濃度は任意の濃度
のものが使用可能であり、実用的な見地からは１０〜３
０％が好適に用いられる。用いる量は［４−（フェニル
チオ）フェニルチオ］酢酸に対して通常７〜１２倍モル
量、好ましくは７．１〜１０倍モル量程度である。７倍
モル量より少ないと反応が完結せず、１２倍モル量より
多くを用いてもそれに見合う効果がなく、経済的に不利
である。また、反応温度は３０〜１００℃が好ましく、
反応時間は通常１〜３時間である。
【００２８】本発明の目的化合物である４−（フェニル
スルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホン
は、前記（イ）〜（ハ）のいずれの場合においても有機
溶媒で抽出するか、析出する結晶を濾過することにより
反応液から容易に取得することができる。
スルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホン
は、前記（イ）〜（ハ）のいずれの場合においても有機
溶媒で抽出するか、析出する結晶を濾過することにより
反応液から容易に取得することができる。
【００２９】
【実施例】以下に実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は本実施例により何等限定されるものでは
ない。 実施例１ ［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸の合成 ４−（フェニルチオ）ベンゼンチオール２．１９グラム
（０．０１０モル）、水酸化ナトリウム０．５２グラム
（０．０１３モル）、水４グラムよりなる混合物を８０
℃で３０分間加熱した。続いて、その反応液に同温度で
モノクロロ酢酸ナトリウム１．１２グラム（０．０１２
モル）及び水酸化ナトリウム０．５グラム（０．０１２
モル）を水４ｍｌに溶解させた液を滴下した。反応液を
１００℃に昇温し、同温度で３０分間加熱した。この反
応液を液体クロマトグラフィーで分析したところ、原料
の４−（フェニルチオ）ベンゼンチオールは消失してい
た。反応液を冷却、酸性化した後にイソプロパノール−
水より再結晶することにより白色結晶の［４−（フェニ
ルチオ）フェニルチオ］酢酸２．１グラム（０．００８
モル）を取得した。収率７６％、融点９６．０〜９７．
５℃、 1Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ3 ）７．２５〜７．３
５（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、３．６４（ｓ，２Ｈ，ＣＨ
2 ）、ＩＲ ｃｍ-1（ＫＢｒ）３０８０−３０００、１
７１０、１５９０、１４９０、１４４０、１４００、９
３０、ＭＳ ｍ／ｅ ２７６（Ｍ+）、２３１、２１
７、１８５、１０９、７７
るが、本発明は本実施例により何等限定されるものでは
ない。 実施例１ ［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸の合成 ４−（フェニルチオ）ベンゼンチオール２．１９グラム
（０．０１０モル）、水酸化ナトリウム０．５２グラム
（０．０１３モル）、水４グラムよりなる混合物を８０
℃で３０分間加熱した。続いて、その反応液に同温度で
モノクロロ酢酸ナトリウム１．１２グラム（０．０１２
モル）及び水酸化ナトリウム０．５グラム（０．０１２
モル）を水４ｍｌに溶解させた液を滴下した。反応液を
１００℃に昇温し、同温度で３０分間加熱した。この反
応液を液体クロマトグラフィーで分析したところ、原料
の４−（フェニルチオ）ベンゼンチオールは消失してい
た。反応液を冷却、酸性化した後にイソプロパノール−
水より再結晶することにより白色結晶の［４−（フェニ
ルチオ）フェニルチオ］酢酸２．１グラム（０．００８
モル）を取得した。収率７６％、融点９６．０〜９７．
５℃、 1Ｈ−ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ3 ）７．２５〜７．３
５（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、３．６４（ｓ，２Ｈ，ＣＨ
2 ）、ＩＲ ｃｍ-1（ＫＢｒ）３０８０−３０００、１
７１０、１５９０、１４９０、１４４０、１４００、９
３０、ＭＳ ｍ／ｅ ２７６（Ｍ+）、２３１、２１
７、１８５、１０９、７７
【００３０】実施例２ ［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸メチルの合
成 ４−（フェニルチオ）ベンゼンチオール１０．９グラム
（０．０５０モル）、水酸化ナトリウム２．０グラム
（０．０５モル）、水５０グラム及びメタノール３０グ
ラムよりなる混合物にブロモ酢酸メチル７．７グラム
（０．０５０モル）を滴下し、その反応液を還流下に３
０分間加熱した。この反応液よりメタノールを留去後、
残留水層を塩化メチレン５０グラムで抽出した。この抽
出液を水５０グラムで洗浄後、塩化メチレンを留去し、
さらに減圧蒸留して液状の［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸メチル１２．３グラム（０．０４２モ
ル）を取得した。収率８４％、沸点２５０℃／５Ｔｏｒ
ｒ、 1Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ3 ）７．２〜７．４
（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、３．７１（ｓ，３Ｈ，Ｃ
Ｈ3 ）、、３．６２（ｓ，２Ｈ）、ＩＲ ｃｍ-1（ＫＢ
ｒ）３０７０、１７４５、１５９２、１４８８、１４５
０、１４００、１２９５、１１６０、１０２０、８２
０、７４５、７００、ＭＳ ｍ／ｅ ２９０（Ｍ+ ）、
２３０、２１７、１８４、１５３、１０９、５９
成 ４−（フェニルチオ）ベンゼンチオール１０．９グラム
（０．０５０モル）、水酸化ナトリウム２．０グラム
（０．０５モル）、水５０グラム及びメタノール３０グ
ラムよりなる混合物にブロモ酢酸メチル７．７グラム
（０．０５０モル）を滴下し、その反応液を還流下に３
０分間加熱した。この反応液よりメタノールを留去後、
残留水層を塩化メチレン５０グラムで抽出した。この抽
出液を水５０グラムで洗浄後、塩化メチレンを留去し、
さらに減圧蒸留して液状の［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸メチル１２．３グラム（０．０４２モ
ル）を取得した。収率８４％、沸点２５０℃／５Ｔｏｒ
ｒ、 1Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ3 ）７．２〜７．４
（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、３．７１（ｓ，３Ｈ，Ｃ
Ｈ3 ）、、３．６２（ｓ，２Ｈ）、ＩＲ ｃｍ-1（ＫＢ
ｒ）３０７０、１７４５、１５９２、１４８８、１４５
０、１４００、１２９５、１１６０、１０２０、８２
０、７４５、７００、ＭＳ ｍ／ｅ ２９０（Ｍ+ ）、
２３０、２１７、１８４、１５３、１０９、５９
【００３１】実施例３ ［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］酢酸エチルの合
成 ４−（フェニルチオ）ベンゼンチオール１０．９グラム
（０．０５０モル）、水酸化ナトリウム２．０グラム
（０．０５モル）、水４０グラム及びメタノール３０グ
ラムよりなる混合物にブロモ酢酸エチル８．４グラム
（０．０５０モル）を滴下し、その反応液を還流下に３
０分間加熱した。この反応液よりメタノールを留去後、
残留水層を塩化メチレン５０グラムで抽出した。この抽
出液を水５０グラムで洗浄後、塩化メチレンを留去し、
さらに減圧蒸留して液状の［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸エチル１２．９グラム（０．０４２モ
ル）を取得した。収率８４％、沸点２５０℃／２Ｔｏｒ
ｒ、 1Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ3 ）７．１〜７．４
（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、４．１６（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝
７．２Ｈｚ）、３．６０（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2 ）、１．２
２（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、ＩＲ ｃｍ-1（ＫＢ
ｒ）３０６４、２９８８、１７３８、１５８２、１４８
０、１４４４、１４１２、１３９２、１３６８、１２７
２、１１３２、１１０４、１０２４、８１２、７３８、
６９０、ＭＳ ｍ／ｅ ３０４（Ｍ+ ）、２３０、２１
７、１８４、１５３、１０９、７７、２９
成 ４−（フェニルチオ）ベンゼンチオール１０．９グラム
（０．０５０モル）、水酸化ナトリウム２．０グラム
（０．０５モル）、水４０グラム及びメタノール３０グ
ラムよりなる混合物にブロモ酢酸エチル８．４グラム
（０．０５０モル）を滴下し、その反応液を還流下に３
０分間加熱した。この反応液よりメタノールを留去後、
残留水層を塩化メチレン５０グラムで抽出した。この抽
出液を水５０グラムで洗浄後、塩化メチレンを留去し、
さらに減圧蒸留して液状の［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸エチル１２．９グラム（０．０４２モ
ル）を取得した。収率８４％、沸点２５０℃／２Ｔｏｒ
ｒ、 1Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ3 ）７．１〜７．４
（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、４．１６（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝
７．２Ｈｚ）、３．６０（ｓ，２Ｈ，ＣＨ2 ）、１．２
２（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、ＩＲ ｃｍ-1（ＫＢ
ｒ）３０６４、２９８８、１７３８、１５８２、１４８
０、１４４４、１４１２、１３９２、１３６８、１２７
２、１１３２、１１０４、１０２４、８１２、７３８、
６９０、ＭＳ ｍ／ｅ ３０４（Ｍ+ ）、２３０、２１
７、１８４、１５３、１０９、７７、２９
【００３２】実施例４ ４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホンの合成 実施例１と同様にして得た［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸２．７６グラム（０．０１０モル）に１
５％水酸化ナトリウム４．０グラム（０．０１５モ
ル）、水２０グラムを添加した。氷冷下、１５％水酸化
ナトリウム６６．７グラム（０．２５モル）と臭素１
６．０グラム（０．１０モル）とにより調合した次亜臭
素酸ナトリウム溶液を１０分間で滴下し、反応液を６０
℃に昇温し、同温度で２時間加熱した。４−（フェニル
スルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホンの
収量は４．９７ｇ（０．００９３モル）であった。収率
９３％、融点２１７〜２１８℃、 1Ｈ−ＮＭＲ δ（Ｃ
ＤＣｌ3 ）８．５〜７．６（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、Ｉ
Ｒ ｃｍ-1（ＫＢｒ）１３４５、１１６０、７３０、６
７５、６２０、ＭＳ ｍ／ｅ ５３６、５３４、５３
２、５２０、４５５、４５３、４５１、２８１、２５
５、２５３、２５１、２４９、２１７、１４１、７７、
紫外部吸収極大２４９ｎｍ
ル）スルホンの合成 実施例１と同様にして得た［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸２．７６グラム（０．０１０モル）に１
５％水酸化ナトリウム４．０グラム（０．０１５モ
ル）、水２０グラムを添加した。氷冷下、１５％水酸化
ナトリウム６６．７グラム（０．２５モル）と臭素１
６．０グラム（０．１０モル）とにより調合した次亜臭
素酸ナトリウム溶液を１０分間で滴下し、反応液を６０
℃に昇温し、同温度で２時間加熱した。４−（フェニル
スルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホンの
収量は４．９７ｇ（０．００９３モル）であった。収率
９３％、融点２１７〜２１８℃、 1Ｈ−ＮＭＲ δ（Ｃ
ＤＣｌ3 ）８．５〜７．６（ｍ，９Ｈ，ａｒｏｍ）、Ｉ
Ｒ ｃｍ-1（ＫＢｒ）１３４５、１１６０、７３０、６
７５、６２０、ＭＳ ｍ／ｅ ５３６、５３４、５３
２、５２０、４５５、４５３、４５１、２８１、２５
５、２５３、２５１、２４９、２１７、１４１、７７、
紫外部吸収極大２４９ｎｍ
【００３３】実施例５ ４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホンの合成 実施例２で得た［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］
酢酸メチル２．９０グラム（０．０１０モル）に１５％
水酸化ナトリウム４．０グラム（０．０１５モル）、水
２０グラムを添加し、８０℃で１時間加熱した。つい
で、この液を氷冷下、１５％水酸化ナトリウム６６．７
グラム（０．２５モル）と臭素１６．０グラム（０．１
０モル）とにより調合した次亜臭素酸ナトリウム溶液を
１０分間で滴下した。反応液を６０℃に昇温し、同温度
で２時間加熱した。反応液を冷却した後析出した結晶を
濾過することにより、４−（フェニルスルホニル）フェ
ニル（トリブロモメチル）スルホンを４．５５ｇ（０．
００８５モル）取得した。収率８５％、融点２１７〜２
１８℃
ル）スルホンの合成 実施例２で得た［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］
酢酸メチル２．９０グラム（０．０１０モル）に１５％
水酸化ナトリウム４．０グラム（０．０１５モル）、水
２０グラムを添加し、８０℃で１時間加熱した。つい
で、この液を氷冷下、１５％水酸化ナトリウム６６．７
グラム（０．２５モル）と臭素１６．０グラム（０．１
０モル）とにより調合した次亜臭素酸ナトリウム溶液を
１０分間で滴下した。反応液を６０℃に昇温し、同温度
で２時間加熱した。反応液を冷却した後析出した結晶を
濾過することにより、４−（フェニルスルホニル）フェ
ニル（トリブロモメチル）スルホンを４．５５ｇ（０．
００８５モル）取得した。収率８５％、融点２１７〜２
１８℃
【００３４】実施例６ ［４−（フェニルスルホニル）フェニルスルホニル］酢
酸の合成 実施例１と同様にして得た［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸２．７６グラム（０．０１０モル）を水
３０グラム及びジオキサン２０グラムよりなる混合溶媒
に溶解し、硫酸でｐＨ２とした。ここにタングステン酸
ナトリウム０．０１グラムを加え、液温を１００℃に昇
温した後に３５％過酸化水素４．０グラム（０．０４１
モル）を滴下した。反応液よりジオキサンを留去し、残
った水層をトルエンで抽出した。抽出トルエンは無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、濃縮乾固すると［４−（フェニ
ルスルホニル）フェニルスルホニル］酢酸が３．３グラ
ム（０．００９７モル）得られた。収率９７％、融点１
８９〜１９０℃
酸の合成 実施例１と同様にして得た［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸２．７６グラム（０．０１０モル）を水
３０グラム及びジオキサン２０グラムよりなる混合溶媒
に溶解し、硫酸でｐＨ２とした。ここにタングステン酸
ナトリウム０．０１グラムを加え、液温を１００℃に昇
温した後に３５％過酸化水素４．０グラム（０．０４１
モル）を滴下した。反応液よりジオキサンを留去し、残
った水層をトルエンで抽出した。抽出トルエンは無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、濃縮乾固すると［４−（フェニ
ルスルホニル）フェニルスルホニル］酢酸が３．３グラ
ム（０．００９７モル）得られた。収率９７％、融点１
８９〜１９０℃
【００３５】実施例７ ４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホンの合成 実施例１と同様にして得た［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸２．７６グラム（０．０１０モル）を水
３０グラム及びジオキサン２０グラムよりなる混合溶媒
に溶解し、硫酸でｐＨ２とした。ここにタングステン酸
ナトリウム０．０１グラムを加え、液温を１００℃に昇
温した後に３５％過酸化水素４．０グラム（０．０４１
モル）を滴下した。この反応液に１５％水酸化ナトリウ
ム４．０グラム（０．０１５モル）、水２０グラムを添
加し、氷冷下、１５％水酸化ナトリウム２２．０グラム
（０．０８３モル）と臭素５．３グラム（０．０３３モ
ル）とにより調合した次亜臭素酸ナトリウム溶液を１０
分間で滴下し、反応液を６０℃に昇温し、同温度で２時
間加熱した。反応液を冷却した後析出した結晶を濾過
し、４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモ
メチル）スルホン４．７０グラム（０．００８８モル）
を取得した。収率８８％、融点２１７〜２１８℃
ル）スルホンの合成 実施例１と同様にして得た［４−（フェニルチオ）フェ
ニルチオ］酢酸２．７６グラム（０．０１０モル）を水
３０グラム及びジオキサン２０グラムよりなる混合溶媒
に溶解し、硫酸でｐＨ２とした。ここにタングステン酸
ナトリウム０．０１グラムを加え、液温を１００℃に昇
温した後に３５％過酸化水素４．０グラム（０．０４１
モル）を滴下した。この反応液に１５％水酸化ナトリウ
ム４．０グラム（０．０１５モル）、水２０グラムを添
加し、氷冷下、１５％水酸化ナトリウム２２．０グラム
（０．０８３モル）と臭素５．３グラム（０．０３３モ
ル）とにより調合した次亜臭素酸ナトリウム溶液を１０
分間で滴下し、反応液を６０℃に昇温し、同温度で２時
間加熱した。反応液を冷却した後析出した結晶を濾過
し、４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモ
メチル）スルホン４．７０グラム（０．００８８モル）
を取得した。収率８８％、融点２１７〜２１８℃
【００３６】実施例８ ４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチ
ル）スルホンの合成 実施例３で得た［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］
酢酸エチル３．０４グラム（０．０１０モル）に水２０
グラムを添加し、硫酸でｐＨを１とした。１００℃で加
熱し、途中生じたエタノールは留去した。ついで、この
液に水１０ｍｌおよびジオキサン３０ｍｌを加え、水酸
化ナトリウムで反応液のｐＨを２とした。ここにタング
ステン酸ナトリウム０．０１グラムを加え、液温を１０
０℃に昇温した後に３５％過酸化水素４．０グラム
（０．０４１モル）を滴下した。この反応液に１５％水
酸化ナトリウム４．０グラム（０．０１５モル）、水２
０グラムを添加し、氷冷下、１５％水酸化ナトリウム２
２．０グラム（０．０８３モル）と臭素５．３グラム
（０．０３３モル）とにより調合した次亜臭素酸ナトリ
ウム溶液を１０分間で滴下し、反応液を６０℃に昇温
し、同温度で２時間加熱した。反応液を冷却した後析出
した結晶を濾過し、４−（フェニルスルホニル）フェニ
ル（トリブロモメチル）スルホン４．７７グラム（０．
００８９モル）を取得した。収率８９％、融点２１７〜
２１９℃
ル）スルホンの合成 実施例３で得た［４−（フェニルチオ）フェニルチオ］
酢酸エチル３．０４グラム（０．０１０モル）に水２０
グラムを添加し、硫酸でｐＨを１とした。１００℃で加
熱し、途中生じたエタノールは留去した。ついで、この
液に水１０ｍｌおよびジオキサン３０ｍｌを加え、水酸
化ナトリウムで反応液のｐＨを２とした。ここにタング
ステン酸ナトリウム０．０１グラムを加え、液温を１０
０℃に昇温した後に３５％過酸化水素４．０グラム
（０．０４１モル）を滴下した。この反応液に１５％水
酸化ナトリウム４．０グラム（０．０１５モル）、水２
０グラムを添加し、氷冷下、１５％水酸化ナトリウム２
２．０グラム（０．０８３モル）と臭素５．３グラム
（０．０３３モル）とにより調合した次亜臭素酸ナトリ
ウム溶液を１０分間で滴下し、反応液を６０℃に昇温
し、同温度で２時間加熱した。反応液を冷却した後析出
した結晶を濾過し、４−（フェニルスルホニル）フェニ
ル（トリブロモメチル）スルホン４．７７グラム（０．
００８９モル）を取得した。収率８９％、融点２１７〜
２１９℃
【００３７】
【発明の効果】従来、光照射によりラジカルを生じる化
合物は一般に紫外部吸収極大が２３０ｎｍよりも小さい
ために水銀灯の光を利用するために増感剤と一緒に用い
る必要があった。しかし、本発明の化合物、４−（フェ
ニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホ
ンは、紫外部極大吸収を２４９ｎｍに有するため、紫外
線の有効波長２５４ｎｍを増感剤を用いなくても直接利
用できる可能性があり、その意義は大きい。
合物は一般に紫外部吸収極大が２３０ｎｍよりも小さい
ために水銀灯の光を利用するために増感剤と一緒に用い
る必要があった。しかし、本発明の化合物、４−（フェ
ニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホ
ンは、紫外部極大吸収を２４９ｎｍに有するため、紫外
線の有効波長２５４ｎｍを増感剤を用いなくても直接利
用できる可能性があり、その意義は大きい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 林坂 徳之 兵庫県加古郡播磨町宮西346番地の１ 住 友精化株式会社第１研究所内
Claims (11)
- 【請求項１】 式（１）で表される４−（フェニルスル
ホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホン。 【化１】 - 【請求項２】 式（２）で表される［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸またはその塩。 【化２】 - 【請求項３】 式（３）で表される［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸のエステル。 【化３】 - 【請求項４】 式（４）で表される［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸メチル。 【化４】 - 【請求項５】 式（５）で表される［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸エチル。 【化５】 - 【請求項６】 式（２）で表される［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸またはその塩を酸化および臭素
化することを特徴とする式（１）で表される４−（フェ
ニルスルホニル）フェニル（トリブロモメチル）スルホ
ンの製造方法。 【化６】 【化７】 - 【請求項７】 式（３）で表される［４−（フェニルチ
オ）フェニルチオ］酢酸のエステルを加水分解し、次い
で酸化および臭素化することを特徴とする式（１）で表
される４−（フェニルスルホニル）フェニル（トリブロ
モメチル）スルホンの製造方法。 【化８】 【化９】 - 【請求項８】 酸化剤が過酸化水素である請求項６また
は７記載の製造方法。 - 【請求項９】 臭素化剤が次亜臭素酸塩である請求項６
または７記載の製造方法。 - 【請求項１０】 酸化および臭素化を次亜臭素酸塩を用
いて同時に行うことを特徴とする請求項６または７記載
の製造方法。 - 【請求項１１】 式（２）で表される［４−（フェニル
チオ）フェニルチオ］酢酸またはその塩を過酸化水素で
酸化することを特徴とする式（６）で表される［４−
（フェニルスルホニル）フェニルスルホニル］酢酸の製
造方法。 【化１０】 【化１１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07915892A JP3159767B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 新規な含硫黄化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07915892A JP3159767B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 新規な含硫黄化合物及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05239015A true JPH05239015A (ja) | 1993-09-17 |
| JP3159767B2 JP3159767B2 (ja) | 2001-04-23 |
Family
ID=13682154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07915892A Expired - Fee Related JP3159767B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 新規な含硫黄化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3159767B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013080798A1 (ja) | 2011-11-30 | 2013-06-06 | 富士フイルム株式会社 | 光拡散性転写材料、光拡散層の形成方法、有機電界発光装置、及び有機電界発光装置の製造方法 |
-
1992
- 1992-02-28 JP JP07915892A patent/JP3159767B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013080798A1 (ja) | 2011-11-30 | 2013-06-06 | 富士フイルム株式会社 | 光拡散性転写材料、光拡散層の形成方法、有機電界発光装置、及び有機電界発光装置の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3159767B2 (ja) | 2001-04-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU2004255905B2 (en) | Preparation of 1,3-diphenylprop-2-en-1-one derivatives | |
| JPH0748342A (ja) | ３つの置換基を有する安息香酸中間体 | |
| JP2005536559A (ja) | カルボン酸のニトロオキシアルキル置換エステルの製造法、その方法において有用な中間体およびその製造法 | |
| JPH05239015A (ja) | 新規な含硫黄化合物及びその製造方法 | |
| JP2955283B2 (ja) | トリ置換安息香酸中間体 | |
| JP2003335735A (ja) | パーフルオロイソプロピルアニリン類の製造方法 | |
| KR100187314B1 (ko) | 4-메틸술포닐벤조산 유도체의 제조방법 및 그 중간체 화합물 | |
| JP2002255954A (ja) | ２−ｎ−ブチル−５−ニトロベンゾフランの製造方法 | |
| EP2789603B1 (en) | Method for producing pentafluorosulfanyl benzoic acid | |
| JPS5821626B2 (ja) | チカンサクサンユウドウタイ ノ セイゾウホウ | |
| JPH08505151A (ja) | スルホンの製造方法 | |
| JP2706554B2 (ja) | ４―トリフルオロメチルアニリン誘導体及びその製造法 | |
| KR100278967B1 (ko) | 오르쏘-디플루오로벤조산 유도체의 제조방법 | |
| JPH0586042A (ja) | ２−メルカプト−フエノチアジンの製造方法 | |
| JPH0124782B2 (ja) | ||
| RU2109738C1 (ru) | Способ получения 3-алкоксикарбонил-4-гидрокси-2-метил-2н-1,2-бензотиазин-1,1-диоксидов | |
| JPS6254303B2 (ja) | ||
| JPH07247267A (ja) | フェニルエーテル類の製造方法 | |
| JP2003277331A (ja) | ４，６−ジニトロレゾルシンの製造方法及び新規なジヒドロキシ安息香酸類のスルホン化物及びその塩 | |
| JPH0539259A (ja) | 置換安息香酸の製造法 | |
| JPH06135937A (ja) | ５，５−二置換ヒダントインの製造法 | |
| JPS63264440A (ja) | ２，４，５−トリフルオロ−３−ヒドロキシ安息香酸及びその製造法 | |
| JPH0761972A (ja) | メルカプトピラゾール類の製造方法 | |
| JPH1112203A (ja) | ９，９，１０，１０−テトラクロロ−９，１０−ジヒドロアントラセン類とその製造方法 | |
| JPS5951939B2 (ja) | イソインドリノン誘導体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |