JPH05232032A - 外観検査用投光装置 - Google Patents
外観検査用投光装置Info
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- JPH05232032A JPH05232032A JP3192392A JP3192392A JPH05232032A JP H05232032 A JPH05232032 A JP H05232032A JP 3192392 A JP3192392 A JP 3192392A JP 3192392 A JP3192392 A JP 3192392A JP H05232032 A JPH05232032 A JP H05232032A
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
全体を斑なく照明できると共に、基板上の異物検出能力
に富み、且つ、基板の外観検査を効率よく行なえる外観
検査用投光装置を提供する。 【構成】本発明の投光装置は、光源28から発光された
照明光を平行光束に規制する集光用フレネルレンズ18
と、この集光用フレネルレンズ18を介して導光される
平行光束に対して挿脱可能に構成され、導光された平行
光束を収束光束に規制する投光用フレネルレンズ20
と、この投光用フレネルレンズ20を介して導光された
収束光束に対して挿脱可能に構成され、導光された収束
光束に光学的特性を与えて大型基板22上を照明する散
乱板24と、を備えている。
Description
晶ガラス基板等の基板上の外観を検査するための投光装
置に関する。
例えば、図4ないし図8に示すような投光装置が用いら
れている。
光された拡散光を基板、例えばウェハ4上に照明し、ウ
ェハ4表面上のごみや傷等の異物6からの散乱光とウェ
ハ4の表面からの直接反射光との強度差によって、ウェ
ハ4の表面の外観検査が行われている。
の目8に散乱光と直接反射光とが同時に入射してまぶし
いために、ウェハ表面上のごみや傷等の異物6の判断が
困難になるという問題がある。そこで、図5に示す装置
では、反射光が直接観察者の目8に入射しないように、
遮光板10が配置されている。
12を介して収束光束をウェハ4の表面に照明して外観
検査を行うように構成されている。また、図7に示され
た投光装置は、レンズ14を介して平行光束をウェハ4
の表面に照明して外観検査を行うように構成されてい
る。
面に照明される光束の照射範囲は、比較的狭いものの、
強い光で照射でき且つ観察者の目8も観察光軸に接近さ
せることができるため、ごみや傷等の異物6からの散乱
光の観察が容易となる。また、図8に示すように、複数
のオプチカルファイバ16を用いてウェハ表面全体を照
明する方法も知られている。
示す装置では、遮光板10によって、観察視野も遮られ
てしまい、ウェハ4の全体を観察するためには、遮光板
10を移動させたりウェハ4と光源2との成す角を変え
たりしなければならず、繁雑な作業が必要となるという
問題がある。
ハ全体を斑なく照明することができないため、大型のウ
ェハの外観を検査する場合には、この種の装置を複数個
必要となり、コスト的にも不利になるという問題があ
る。また、図8に示す装置では、散乱光の集合となるた
め、ウェハ表面上のごみや傷等の異物6の判断が困難に
なるという問題がある。
めになされ、その目的は、簡単且つ低価格な構成で、大
型基板全体を斑なく照明できると共に、基板上の異物検
出能力に富み、且つ、基板の外観検査を効率よく行なえ
る外観検査用投光装置を提供することにある。
るために、本発明は、基板表面を照明して、前記基板の
外観検査を行う投光装置であって、照明光路中を導光さ
れた光を平行光束に規制する第1の光学手段と、
記平行光束に対して挿脱可能に構成され、前記平行光束
に所定の光学的特性を与えて前記基板表面全体を照明可
能に構成された第2の光学手段と、を備えている。
照明光路中から脱出させ、第1の光学手段のみを照明光
路中に配置させることによって、平行光束が基板表面全
体に照明されて外観検査が行われる。また、第1及び第
2の光学手段を照明光路に挿入させることによって、所
定の光学的特性を有した照明光が基板表面全体に照明さ
れて所定の外観検査が行われる。
光装置について、図1ないし図3を参照して説明する。
投光装置は、照明光路中に配され、入射光を平行光束に
規制する集光用フレネルレンズ18(厚さ5mm)と、
この集光用フレネルレンズ18を介して導光された平行
光束に対して挿脱可能に構成され、導光された平行光束
を収束光束に規制する投光用フレネルレンズ20(厚さ
5mm)と、この投光用フレネルレンズ20を介して導
光された収束光束に対して挿脱可能に構成され、導光さ
れた収束光束に光学的特性を与えて観察試料、例えば、
対角500mm以上の大型基板22上を照明する散乱板
24と、を備えている。
ルレンズ20及び散乱板24は、供に、大型基板22よ
りも大きな径(500〜600mm程度)を有してい
る。このため、大型基板22は、その全体亘って斑なく
照明される。
施例の投光装置に用いられた光源28には、例えば、メ
タルハライドランプ(150〜250W)が適用されて
いる。このような光源28は、その発光点が楕円回転面
ミラー30の第1焦点に位置付けられ、且つ、楕円回転
ミラー30の第2焦点が、散乱板が設けられたゲート3
2となるように構成されている。また、ゲート32と集
光用フレネルレンズ18との間の距離は、この集光用フ
レネルレンズ18の焦点距離(f)と一致している。
熱線吸収フィルタ34が設けられている。また、ゲート
32に配される散乱板は、20〜30mmの大きさを有
しており、ゲート32から均一照明光を出射させる機能
を有する。以下、このような構成を有する本実施例の外
観検査用投光装置の動作について図1ないし図3を参照
して説明する。
について、図1を参照しつて説明する。この場合、照明
光路中には、投光用フレネルレンズ20及び散乱板24
が挿入されている。
た照明光は、楕円回転ミラー30、熱線吸収フィルタ3
4及びゲート32を介してフィルタ(グリーン、イエロ
ー、偏光板等)36を透過し、集光用フレネルレンズ1
8に照射される。集光用フレネルレンズ18に照射され
た照明光は、平行光束に規制され、投光用フレネルレン
ズ20を介して散乱板24に照射される。この散乱板2
4を透過した照明光は、シャーカステン照明光となり、
均一な面光源となって大型基板22の全面に斑なく照明
される。
スト等の膜厚の斑あるいは透明導電膜(ITO)上のピ
ンホールや膜下のごみ等の検査に適しており、その大型
基板22の全面に亘って均一な照度となると共に、基板
表面に存在する異物42によって形成される干渉パター
ンを観察者の目40を介して高精度に観察することがで
きる。
合、図2に示すように、散乱板24を照明光路外に回避
させることによって、集光用フレネルレンズ18を介し
て投光用フレネルレンズ20に照射された照明光は、収
束光束となり、大型基板22の全面に斑なく照明され
る。
観察者の目40の近傍位置Sに結像される。このとき、
大型基板22の表面にごみや傷等の異物42が存在して
いる場合、この異物42から散乱光が発生して、近傍位
置Sでは結像しなくなる。この結果、観察者は、光軸外
から微小散乱光を目視観察することで、大型基板22の
表面の異物42の存在を確認できる。なお、近傍位置S
に、例えば遮光板(図示しない)を配置させて、基板表
面から直接反射した反射光が目40に入射しないように
構成することも好ましい。
されたパターンの乱れや斑あるいは基板表面のごみや傷
等の検査に適しており、その大型基板22の面上での照
度が極めて明るいため、異物42の確認が容易となるば
かりでなく、光源像が目40に入射されないため、まぶ
しくならず、観察に支障を来すこともない。
合、図3に示すように、投光用フレネルレンズ20及び
透過型液晶板24を照明光路外に回避させることによっ
て、集光用フレネルレンズ18を透過して形成された平
行光束は、大型基板22の全面に斑なく照明される。
一括検査や基板表面のごみや傷の検査に適しており、そ
の大型基板22の全面に亘って一括照明することができ
るため、基板外観検査効率を向上させることができる。
集光用フレネルレンズによって規定された照明光路に対
して挿脱可能な投光用フレネルレンズ及び散乱板を、適
宜、選択的に挿入/脱出させるだけで、所定の光学的特
性を有した照明光を大型基板の全面を斑なく照明させる
ことができため、異物検出能力が向上すると共に基板の
外観検査を効率よく行なうことができる。
定されることはない。例えば、偏光板が挿入されたフィ
ルタ36から導光された照明光を受光可能な位置に、ア
ナライザとしてフィルム状偏光膜が形成されたガラス板
を配置させて、大型基板22の偏光観察を行うように構
成してもよい。なお、係る偏光観察は、観察者が偏光板
が設けられた眼鏡等を掛けて、光源像位置に目40を置
くことによっても行うことができる。また、上述した実
施例では、観察者による目視検査について説明したが、
画像処理装置を介して基板外観検査を行うように構成し
てもよい。
フレネルレンズによって規定された照明光路に対して挿
脱可能な投光用フレネルレンズ及び散乱板を、適宜、選
択的に挿入/脱出させるだけで、所定の光学的特性を有
した照明光を大型基板の全面を斑なく照明させることが
できため、基板外観検査の作業効率を向上させることが
できると共に、基板表面全体に亘る異物検出能力に優
れ、且つ、基板外観の検査効率を向上させることができ
る。
構成を概略的に示す図であって、面光源を用いて基板表
面全体の観察を行っている状態を示す図。
板表面全体の観察が行われている状態を示す図。
板表面全体の観察が行われている状態を示す図。
って基板表面の観察が行われている状態を示す図。
観察が行われている状態を示す図。
よって基板表面の観察が行われている状態を示す図。
よって基板表面の観察が行われている状態を示す図。
チカルファイバを用いて基板表面の観察が行われている
状態を示す図。
ンズ、22…大型基板、24…散乱板、28…光源。
Claims (3)
- 【請求項1】 基板表面を照明して、前記基板の外観検
査を行う投光装置であって、 照明光路中を導光された光を平行光束に規制する第1の
光学手段と、 この第1の光学手段を介して導光される前記平行光束に
対して挿脱可能に構成され、前記平行光束に所定の光学
的特性を与えて前記基板表面全体を照明可能に構成され
た第2の光学手段と、を備えていることを特徴とする外
観検査用投光装置。 - 【請求項2】 前記第1の光学手段は、第1のフレネル
レンズであることを特徴とする請求項1に記載の外観検
査用投光装置。 - 【請求項3】 前記第2の光学手段は、前記第1の光学
手段を介して導光された前記平行光束に対して挿脱可能
に構成され、前記平行光束を収束光束に規制する第2の
フレネルレンズと、前記第2のフレネルレンズを介して
導光された前記収束光束に対して挿脱可能に構成され、
前記収束光束に所定の光学的特性を与えて前記基板表面
全体を照明する散乱板と、を備えていることを特徴とす
る請求項1又は2に記載の外観検査用投光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04031923A JP3095856B2 (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | 外観検査用投光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04031923A JP3095856B2 (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | 外観検査用投光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05232032A true JPH05232032A (ja) | 1993-09-07 |
JP3095856B2 JP3095856B2 (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=12344496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP04031923A Expired - Lifetime JP3095856B2 (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | 外観検査用投光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3095856B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5777729A (en) * | 1996-05-07 | 1998-07-07 | Nikon Corporation | Wafer inspection method and apparatus using diffracted light |
JP2001264255A (ja) * | 2000-03-21 | 2001-09-26 | Olympus Optical Co Ltd | マクロ照明装置 |
US6563577B2 (en) | 2000-04-21 | 2003-05-13 | Nikon Corporation | Defect testing apparatus and defect testing method |
JP2009168653A (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-30 | Olympus Corp | 外観検査用照明装置及び外観検査装置 |
-
1992
- 1992-02-19 JP JP04031923A patent/JP3095856B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5777729A (en) * | 1996-05-07 | 1998-07-07 | Nikon Corporation | Wafer inspection method and apparatus using diffracted light |
JP2001264255A (ja) * | 2000-03-21 | 2001-09-26 | Olympus Optical Co Ltd | マクロ照明装置 |
JP4673953B2 (ja) * | 2000-03-21 | 2011-04-20 | オリンパス株式会社 | マクロ照明装置 |
US6563577B2 (en) | 2000-04-21 | 2003-05-13 | Nikon Corporation | Defect testing apparatus and defect testing method |
JP2009168653A (ja) * | 2008-01-17 | 2009-07-30 | Olympus Corp | 外観検査用照明装置及び外観検査装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3095856B2 (ja) | 2000-10-10 |
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