JPH0521813A - 半導体圧力センサ用ハーメチツクシール構造およびその製造方法 - Google Patents
半導体圧力センサ用ハーメチツクシール構造およびその製造方法Info
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- JPH0521813A JPH0521813A JP3200084A JP20008491A JPH0521813A JP H0521813 A JPH0521813 A JP H0521813A JP 3200084 A JP3200084 A JP 3200084A JP 20008491 A JP20008491 A JP 20008491A JP H0521813 A JPH0521813 A JP H0521813A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 接合部分の強度向上および製造工程の簡略化
である。 【構成】 半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造
であって、金属製ボディー2と、この金属製ボディー2
に配設されるアルミナ製ステム1との間およびこのアル
ミナ製ステム1とアルミナ製ステム1に設けた挿通孔5
に挿通する半導体端子3との間をTiを含有した活性金
属ろう材4で接合する。
である。 【構成】 半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造
であって、金属製ボディー2と、この金属製ボディー2
に配設されるアルミナ製ステム1との間およびこのアル
ミナ製ステム1とアルミナ製ステム1に設けた挿通孔5
に挿通する半導体端子3との間をTiを含有した活性金
属ろう材4で接合する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体圧力センサ用
ハーメチックシール構造およびその製造方法に関し、特
に、接合部分の強度が向上し、製造工程が簡略化した半
導体圧力センサ用ハーメチックシール構造およびその製
造方法に関するものである。
ハーメチックシール構造およびその製造方法に関し、特
に、接合部分の強度が向上し、製造工程が簡略化した半
導体圧力センサ用ハーメチックシール構造およびその製
造方法に関するものである。
【0002】
【従来技術および解決しようとする課題】従来の半導体
圧力センサ用ハーメチックシール構造では、アルミナ製
ステムの表面をMo−Mn法などによりメタライズす
る。その後、半導体端子をアルミナ製ステムに設けた挿
通孔に挿通し、高融点のSn−Agろう等によりアルミ
ナ製ステムのメタライズ面と接合する。
圧力センサ用ハーメチックシール構造では、アルミナ製
ステムの表面をMo−Mn法などによりメタライズす
る。その後、半導体端子をアルミナ製ステムに設けた挿
通孔に挿通し、高融点のSn−Agろう等によりアルミ
ナ製ステムのメタライズ面と接合する。
【0003】そして、このアルミナ製ステムを圧力セン
サの金属製ボディーに挿入し、前記Sn−Agろうが溶
融しない低融点の半田等でアルミナ製ステムのメタライ
ズ面と金属製ボディーとを接合する。
サの金属製ボディーに挿入し、前記Sn−Agろうが溶
融しない低融点の半田等でアルミナ製ステムのメタライ
ズ面と金属製ボディーとを接合する。
【0004】しかしながら、上記のように構成された従
来の半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造および
その製造方法において、半導体圧力センサ用ハーメチッ
クシール構造を製造するために非常に多工程を要してい
た。また、一定以上の圧力が半導体圧力センサ用ハーメ
チックシール構造に負荷されると、アルミナ製ステムと
金属製ボディーと間の半田等による接合部分にクラック
が発生し、圧力の測定が出来なくなってしまう。これ
は、半田等の強度が低いのと、接合部分に半田等が完全
に充填されず、ボイド(巣)が生じ、このボイドを起点
としてクラックが容易に発生するためである。このよう
に、従来の半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造
は耐圧性に劣るという問題点を有していた。
来の半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造および
その製造方法において、半導体圧力センサ用ハーメチッ
クシール構造を製造するために非常に多工程を要してい
た。また、一定以上の圧力が半導体圧力センサ用ハーメ
チックシール構造に負荷されると、アルミナ製ステムと
金属製ボディーと間の半田等による接合部分にクラック
が発生し、圧力の測定が出来なくなってしまう。これ
は、半田等の強度が低いのと、接合部分に半田等が完全
に充填されず、ボイド(巣)が生じ、このボイドを起点
としてクラックが容易に発生するためである。このよう
に、従来の半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造
は耐圧性に劣るという問題点を有していた。
【0005】この発明は、上記のような従来のもののも
つ問題点を解決したものであって、半導体圧力センサ用
ハーメチックシール構造の製造工程の簡略化と、接合部
分の強度を向上させることを目的とするものである。
つ問題点を解決したものであって、半導体圧力センサ用
ハーメチックシール構造の製造工程の簡略化と、接合部
分の強度を向上させることを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、この発明は金属製ボディーと、この金属製ボディ
ーに配設されるアルミナ製ステムとの間およびこのアル
ミナ製ステムとアルミナ製ステムに設けた挿通孔に挿通
する半導体端子との間を活性金属ろう材で接合したとい
う手段を採用したものである。また、前記活性金属ろう
材がSn−Agろうであり、また、前記活性金属ろう材
が銀ろうであり、また、前記活性金属ろう材がPb−I
nろうであり、また、前記活性金属ろう材にはTiが含
有している。また、金属製ボディーにアルミナ製ステム
を配設し、半導体端子を前記アルミナ製ステムに設けた
挿通孔に挿通し、金属製ボディーとアルミナ製ステムと
の間および半導体端子とアルミナ製ステムとの間に活性
金属ろう材を充填し、その後、所定の時間、所定の温度
に保持して熱処理を行い、金属製ボディーとアルミナ製
ステムとの間およびアルミナ製ステムと半導体端子との
間を活性金属ろう材で接合したという手段を採用したも
のである。また、前記活性金属ろう材がSn−Agろう
であり、また、前記活性金属ろう材が銀ろうであり、ま
た、前記活性金属ろう材がPb−Inろうであり、ま
た、前記活性金属ろう材にはTiが含有しているという
手段を採用したものである。
めに、この発明は金属製ボディーと、この金属製ボディ
ーに配設されるアルミナ製ステムとの間およびこのアル
ミナ製ステムとアルミナ製ステムに設けた挿通孔に挿通
する半導体端子との間を活性金属ろう材で接合したとい
う手段を採用したものである。また、前記活性金属ろう
材がSn−Agろうであり、また、前記活性金属ろう材
が銀ろうであり、また、前記活性金属ろう材がPb−I
nろうであり、また、前記活性金属ろう材にはTiが含
有している。また、金属製ボディーにアルミナ製ステム
を配設し、半導体端子を前記アルミナ製ステムに設けた
挿通孔に挿通し、金属製ボディーとアルミナ製ステムと
の間および半導体端子とアルミナ製ステムとの間に活性
金属ろう材を充填し、その後、所定の時間、所定の温度
に保持して熱処理を行い、金属製ボディーとアルミナ製
ステムとの間およびアルミナ製ステムと半導体端子との
間を活性金属ろう材で接合したという手段を採用したも
のである。また、前記活性金属ろう材がSn−Agろう
であり、また、前記活性金属ろう材が銀ろうであり、ま
た、前記活性金属ろう材がPb−Inろうであり、ま
た、前記活性金属ろう材にはTiが含有しているという
手段を採用したものである。
【0007】
【作用】この発明は上記の手段を採用したことにより、
従来の半田等による接合と比較してすぐれた充填性を示
し、ボイド等が生じないため接合部分の強度が向上し、
耐圧性が向上する。また、活性金属ろう材にTiが含有
しているため、アルミナ製ステムに対する濡れ性が向上
する。
従来の半田等による接合と比較してすぐれた充填性を示
し、ボイド等が生じないため接合部分の強度が向上し、
耐圧性が向上する。また、活性金属ろう材にTiが含有
しているため、アルミナ製ステムに対する濡れ性が向上
する。
【0008】
【実施例】以下、図面に示すこの発明の実施例について
説明する。図1にはこの発明による半導体圧力センサ用
ハーメチックシール構造の第1の実施例が示されてい
て、この半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造
は、金属製ボディー2と、この金属製ボディー2に配設
されるアルミナ製ステム1との間およびこのアルミナ製
ステム1とアルミナ製ステム1に設けた挿通孔5に挿通
する半導体端子3との間をTiを含有したSn−Agろ
うで接合したものである。
説明する。図1にはこの発明による半導体圧力センサ用
ハーメチックシール構造の第1の実施例が示されてい
て、この半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造
は、金属製ボディー2と、この金属製ボディー2に配設
されるアルミナ製ステム1との間およびこのアルミナ製
ステム1とアルミナ製ステム1に設けた挿通孔5に挿通
する半導体端子3との間をTiを含有したSn−Agろ
うで接合したものである。
【0009】そして、前記Sn−Agろう4には、重量
パーセントで1〜3%のTiが含有されている。なお、
各接合部分の厚さは100μm程度である。
パーセントで1〜3%のTiが含有されている。なお、
各接合部分の厚さは100μm程度である。
【0010】つぎに、半導体圧力センサ用ハーメチック
シール構造の製造方法は、まず、金属製ボディー2にア
ルミナ製ステム1を配設し、半導体端子3を前記アルミ
ナ製ステム1に設けた挿通孔5に挿通する。そして、前
記金属製ボディー2とアルミナ製ステム1との間および
半導体端子3とアルミナ製ステム1との間にTiを含有
したSn−Agろう4を充填する。
シール構造の製造方法は、まず、金属製ボディー2にア
ルミナ製ステム1を配設し、半導体端子3を前記アルミ
ナ製ステム1に設けた挿通孔5に挿通する。そして、前
記金属製ボディー2とアルミナ製ステム1との間および
半導体端子3とアルミナ製ステム1との間にTiを含有
したSn−Agろう4を充填する。
【0011】その後、真空中(10- 5 Torr以下)
で4分間880℃に保持して熱処理を行い、金属製ボデ
ィー2とアルミナ製ステム1との間およびアルミナ製ス
テム1と半導体端子3との間をTiを含有したSn−A
gろう4で接合する。
で4分間880℃に保持して熱処理を行い、金属製ボデ
ィー2とアルミナ製ステム1との間およびアルミナ製ス
テム1と半導体端子3との間をTiを含有したSn−A
gろう4で接合する。
【0012】このようにして製造された半導体圧力セン
サ用ハーメチックシール構造は、以下に示す圧力インパ
ルステストの結果より明らかなように、従来の半田等に
よる接合と比較してすぐれた充填性を示し、ボイド等が
生じないため接合部分の強度向上を図ることができ、す
ぐれた耐圧性を示す結果、従来と比較して10倍程度強
度が向上する。
サ用ハーメチックシール構造は、以下に示す圧力インパ
ルステストの結果より明らかなように、従来の半田等に
よる接合と比較してすぐれた充填性を示し、ボイド等が
生じないため接合部分の強度向上を図ることができ、す
ぐれた耐圧性を示す結果、従来と比較して10倍程度強
度が向上する。
【0013】また、前記Sn−Agろう4には重量パー
セントで1〜3%のTiが含有されていることにより、
アルミナ製ステム1に対する濡れ性を向上させることが
できる。また、一度の熱処理だけでハーメチックシール
が得られるため、製造工程の簡略化が可能である。
セントで1〜3%のTiが含有されていることにより、
アルミナ製ステム1に対する濡れ性を向上させることが
できる。また、一度の熱処理だけでハーメチックシール
が得られるため、製造工程の簡略化が可能である。
【0014】
〔圧力インパルステストの結果〕
(試験条件)
Sn−Agろうには、重量パーセントで2%のTiが含
有され、金属製ボディーの材質はSUS304である。 ピーク圧力 PP :51MPa ベース圧力 PB :39MPa 加圧サイクル T1 :60C.P.M. 加圧時間 T2 :1サイクルの1/2 圧力上昇時間 T3 :0.05sec (試験結果) 従来品(Mo−Mn法による) 2.2×106 サイクルで破損 本発明品(Sn−Agろう接合品) 2.7×107 サイクルで破損
有され、金属製ボディーの材質はSUS304である。 ピーク圧力 PP :51MPa ベース圧力 PB :39MPa 加圧サイクル T1 :60C.P.M. 加圧時間 T2 :1サイクルの1/2 圧力上昇時間 T3 :0.05sec (試験結果) 従来品(Mo−Mn法による) 2.2×106 サイクルで破損 本発明品(Sn−Agろう接合品) 2.7×107 サイクルで破損
【0015】図2にはこの発明による半導体圧力センサ
用ハーメチックシール構造の第2の実施例が示されてい
て、この半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造
は、金属製ボディー22と、この金属製ボディー22に
配設されるアルミナ製ステム21との間およびこのアル
ミナ製ステム21とアルミナ製ステム21に設けた挿通
孔25に挿通する半導体端子23との間をTiを含有し
た銀ろう24で接合したものである。
用ハーメチックシール構造の第2の実施例が示されてい
て、この半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造
は、金属製ボディー22と、この金属製ボディー22に
配設されるアルミナ製ステム21との間およびこのアル
ミナ製ステム21とアルミナ製ステム21に設けた挿通
孔25に挿通する半導体端子23との間をTiを含有し
た銀ろう24で接合したものである。
【0016】そして、前記銀ろう24には、重量パーセ
ントで1〜3%のTiが含有されている。なお、各接合
部分の厚さは100μm程度である。
ントで1〜3%のTiが含有されている。なお、各接合
部分の厚さは100μm程度である。
【0017】つぎに、半導体圧力センサ用ハーメチック
シール構造の製造方法は、まず、金属製ボディー22に
アルミナ製ステム21を配設し、半導体端子23を前記
アルミナ製ステム21に設けた挿通孔25に挿通する。
そして、前記金属製ボディー22とアルミナ製ステム2
1との間および半導体端子23とアルミナ製ステム21
との間にTiを含有した銀ろう24を充填する。
シール構造の製造方法は、まず、金属製ボディー22に
アルミナ製ステム21を配設し、半導体端子23を前記
アルミナ製ステム21に設けた挿通孔25に挿通する。
そして、前記金属製ボディー22とアルミナ製ステム2
1との間および半導体端子23とアルミナ製ステム21
との間にTiを含有した銀ろう24を充填する。
【0018】その後、真空中(10- 5 Torr以下)
で4分間880℃に保持して熱処理を行い、金属製ボデ
ィー22とアルミナ製ステム21との間およびアルミナ
製ステム21と半導体端子23との間をTiを含有した
銀ろう24で接合する。
で4分間880℃に保持して熱処理を行い、金属製ボデ
ィー22とアルミナ製ステム21との間およびアルミナ
製ステム21と半導体端子23との間をTiを含有した
銀ろう24で接合する。
【0019】このようにして製造された半導体圧力セン
サ用ハーメチックシール構造は、以下に示す圧力インパ
ルステストの結果より明らかなように、従来の半田等に
よる接合と比較してすぐれた充填性を示し、ボイド等が
生じないため接合部分の強度向上を図ることができ、す
ぐれた耐圧性を示す結果、従来と比較して16倍程度強
度が向上する。
サ用ハーメチックシール構造は、以下に示す圧力インパ
ルステストの結果より明らかなように、従来の半田等に
よる接合と比較してすぐれた充填性を示し、ボイド等が
生じないため接合部分の強度向上を図ることができ、す
ぐれた耐圧性を示す結果、従来と比較して16倍程度強
度が向上する。
【0020】また、前記銀ろう24に重量パーセントで
1〜3%のTiを含有させることにより、アルミナ製ス
テム21に対する濡れ性を向上させることができる。ま
た、一度の熱処理だけでハーメチックシールが得られる
ため、製造工程の簡略化が可能である。
1〜3%のTiを含有させることにより、アルミナ製ス
テム21に対する濡れ性を向上させることができる。ま
た、一度の熱処理だけでハーメチックシールが得られる
ため、製造工程の簡略化が可能である。
【0021】
〔圧力インパルステストの結果〕
(試験条件)
銀ろうには、重量パーセントで2%のTiが含有され、
金属製ボディーの材質はSUS304である。 ピーク圧力 PP :51MPa ベース圧力 PB :39MPa 加圧サイクル T1 :60C.P.M. 加圧時間 T2 :1サイクルの1/2 圧力上昇時間 T3 :0.05sec (試験結果) 従来品(Mo−Mn法による) 2.2×106 サイクルで破損 本発明品(銀ろう接合品) 3.5×107 サイクルで破損
金属製ボディーの材質はSUS304である。 ピーク圧力 PP :51MPa ベース圧力 PB :39MPa 加圧サイクル T1 :60C.P.M. 加圧時間 T2 :1サイクルの1/2 圧力上昇時間 T3 :0.05sec (試験結果) 従来品(Mo−Mn法による) 2.2×106 サイクルで破損 本発明品(銀ろう接合品) 3.5×107 サイクルで破損
【0022】図3にはこの発明による半導体圧力センサ
用ハーメチックシール構造の第3の実施例が示されてい
て、この半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造
は、金属製ボディー42と、この金属製ボディー42に
配設されるアルミナ製ステム41との間およびこのアル
ミナ製ステム41とアルミナ製ステム41に設けた挿通
孔45に挿通する半導体端子43との間をTiを含有し
たPb−Inろう44で接合したものである。
用ハーメチックシール構造の第3の実施例が示されてい
て、この半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造
は、金属製ボディー42と、この金属製ボディー42に
配設されるアルミナ製ステム41との間およびこのアル
ミナ製ステム41とアルミナ製ステム41に設けた挿通
孔45に挿通する半導体端子43との間をTiを含有し
たPb−Inろう44で接合したものである。
【0023】そして、前記Pb−Inろう44には、重
量パーセントで1〜3%のTiが含有されている。な
お、各接合部分の厚さは100μm程度である。
量パーセントで1〜3%のTiが含有されている。な
お、各接合部分の厚さは100μm程度である。
【0024】つぎに、半導体圧力センサ用ハーメチック
シール構造の製造方法は、まず、金属製ボディー42に
アルミナ製ステム41を配設し、半導体端子43を前記
アルミナ製ステム41に設けた挿通孔45に挿通する。
そして、前記金属製ボディー42とアルミナ製ステム4
1との間および半導体端子43とアルミナ製ステム41
との間にTiを含有したPb−Inろう44を充填す
る。
シール構造の製造方法は、まず、金属製ボディー42に
アルミナ製ステム41を配設し、半導体端子43を前記
アルミナ製ステム41に設けた挿通孔45に挿通する。
そして、前記金属製ボディー42とアルミナ製ステム4
1との間および半導体端子43とアルミナ製ステム41
との間にTiを含有したPb−Inろう44を充填す
る。
【0025】その後、真空中(10- 5 Torr以下)
で4分間880℃に保持して熱処理を行い、金属製ボデ
ィー42とアルミナ製ステム41との間およびアルミナ
製ステム41と半導体端子43との間をTiを含有した
Pb−Inろう44で接合する。
で4分間880℃に保持して熱処理を行い、金属製ボデ
ィー42とアルミナ製ステム41との間およびアルミナ
製ステム41と半導体端子43との間をTiを含有した
Pb−Inろう44で接合する。
【0026】このようにして製造された半導体圧力セン
サ用ハーメチックシール構造は、以下に示す圧力インパ
ルステストの結果より明らかなように、従来の半田等に
よる接合と比較してすぐれた充填性を示し、ボイド等が
生じないため接合部分の強度向上を図ることができ、す
ぐれた耐圧性を示す結果、従来と比較して5倍程度強度
が向上する。
サ用ハーメチックシール構造は、以下に示す圧力インパ
ルステストの結果より明らかなように、従来の半田等に
よる接合と比較してすぐれた充填性を示し、ボイド等が
生じないため接合部分の強度向上を図ることができ、す
ぐれた耐圧性を示す結果、従来と比較して5倍程度強度
が向上する。
【0027】また、前記Pb−Inろう44に重量パー
セントで1〜3%のTiを含有させることにより、アル
ミナ製ステム41に対する濡れ性を向上させることがで
きる。また、一度の熱処理だけでハーメチックシールが
得られるため、製造工程の簡略化が可能である。
セントで1〜3%のTiを含有させることにより、アル
ミナ製ステム41に対する濡れ性を向上させることがで
きる。また、一度の熱処理だけでハーメチックシールが
得られるため、製造工程の簡略化が可能である。
【0028】
〔圧力インパルステストの結果〕
(試験条件)
Pb−Inろうには、重量パーセントで2%のTiが含
有され、金属製ボディーの材質はSUS304である。 ピーク圧力 PP :51MPa ベース圧力 PB :39MPa 加圧サイクル T1 :60C.P.M. 加圧時間 T2 :1サイクルの1/2 圧力上昇時間 T3 :0.05sec (試験結果) 従来品(Mo−Mn法による) 2.2×106 サイクルで破損 本発明品(Pb−Inろう接合品) 1.2×107 サイクルで破損
有され、金属製ボディーの材質はSUS304である。 ピーク圧力 PP :51MPa ベース圧力 PB :39MPa 加圧サイクル T1 :60C.P.M. 加圧時間 T2 :1サイクルの1/2 圧力上昇時間 T3 :0.05sec (試験結果) 従来品(Mo−Mn法による) 2.2×106 サイクルで破損 本発明品(Pb−Inろう接合品) 1.2×107 サイクルで破損
【0029】なお、金属製ボディーの材質はSUS30
4、コバールおよび42Ni−Fe合金等である。
4、コバールおよび42Ni−Fe合金等である。
【0030】
【発明の効果】この発明は前記のように構成したことに
より、従来の半田等による接合と比較してすぐれた充填
性を示し、ボイド等が生じないため接合部分の強度向上
を図ることができ、すぐれた耐圧性を示す。また、活性
金属ろう材にTiを含有させることにより、アルミナ製
ステムに対する濡れ性を向上させることができる。ま
た、一度の熱処理だけでハーメチックシールが得られる
ため、製造工程の簡略化が可能であるというすぐれた効
果を有するものである。
より、従来の半田等による接合と比較してすぐれた充填
性を示し、ボイド等が生じないため接合部分の強度向上
を図ることができ、すぐれた耐圧性を示す。また、活性
金属ろう材にTiを含有させることにより、アルミナ製
ステムに対する濡れ性を向上させることができる。ま
た、一度の熱処理だけでハーメチックシールが得られる
ため、製造工程の簡略化が可能であるというすぐれた効
果を有するものである。
【図1】この発明による半導体圧力センサ用ハーメチッ
クシール構造の第1の実施例を示す概略断面図である。
クシール構造の第1の実施例を示す概略断面図である。
【図2】この発明による半導体圧力センサ用ハーメチッ
クシール構造の第2の実施例を示す概略断面図である。
クシール構造の第2の実施例を示す概略断面図である。
【図3】この発明による半導体圧力センサ用ハーメチッ
クシール構造の第3の実施例を示す概略断面図である。
クシール構造の第3の実施例を示す概略断面図である。
1、21、41……アルミナ製ステム
2、22、42……金属製ボディー
3、23、43……半導体端子
4……Sn−Agろう
5、25、45……挿通孔
24……銀ろう
44……Pb−Inろう
Claims (10)
- 【請求項1】 金属製ボディーと、該金属製ボディーに
配設されるアルミナ製ステムとの間および該アルミナ製
ステムとアルミナ製ステムに設けた挿通孔に挿通する半
導体端子との間を活性金属ろう材で接合したことを特徴
とする半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造。 - 【請求項2】 前記活性金属ろう材がSn−Agろうで
ある請求項1記載の半導体圧力センサ用ハーメチックシ
ール構造。 - 【請求項3】 前記活性金属ろう材が銀ろうである請求
項1記載の半導体圧力センサ用ハーメチックシール構
造。 - 【請求項4】 前記活性金属ろう材がPb−Inろうで
ある請求項1記載の半導体圧力センサ用ハーメチックシ
ール構造。 - 【請求項5】 前記活性金属ろう材にはTiが含有して
いる請求項1記載の半導体圧力センサ用ハーメチックシ
ール構造。 - 【請求項6】 金属製ボディーにアルミナ製ステムを配
設し、半導体端子を前記アルミナ製ステムに設けた挿通
孔に挿通し、金属製ボディーとアルミナ製ステムとの間
および半導体端子とアルミナ製ステムとの間に活性金属
ろう材を充填し、その後、所定の時間、所定の温度に保
持して熱処理を行い、金属製ボディーとアルミナ製ステ
ムとの間およびアルミナ製ステムと半導体端子との間を
活性金属ろう材で接合することを特徴とする半導体圧力
センサ用ハーメチックシール構造の製造方法。 - 【請求項7】 前記活性金属ろう材がSn−Agろうで
ある請求項6記載の半導体圧力センサ用ハーメチックシ
ール構造の製造方法。 - 【請求項8】 前記活性金属ろう材が銀ろうである請求
項6記載の半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造
の製造方法。 - 【請求項9】 前記活性金属ろう材がPb−Inろうで
ある請求項6記載の半導体圧力センサ用ハーメチックシ
ール構造の製造方法。 - 【請求項10】 前記活性金属ろう材にはTiが含有し
ている請求項6記載の半導体圧力センサ用ハーメチック
シール構造の製造方法。
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JP03200084A JP3083880B2 (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | 半導体圧力センサ用ハーメチックシール構造およびその製造方法 |
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