JPH05217109A - 磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH05217109A JPH05217109A JP4789692A JP4789692A JPH05217109A JP H05217109 A JPH05217109 A JP H05217109A JP 4789692 A JP4789692 A JP 4789692A JP 4789692 A JP4789692 A JP 4789692A JP H05217109 A JPH05217109 A JP H05217109A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- magnetic head
- substrate
- magnetic material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍を軟磁性薄膜
と低融点ガラスのみによって構成し、特に、長時間の使
用に際し、軟磁性薄膜が最も突出した形状となり、テー
プ等の磁気記録媒体との間のスペースが非常に小さくな
り、再生時の損失を非常にわずかにする。 【構成】 結晶化ガラス、セラミックス等の非磁性材料
からなる基板１にＦｅＡｌＳｉ合金の軟磁性材料２を薄
膜形成方法により設けてなる磁気ヘッドにおいて、磁気
ヘッドのテープ摺動面の磁気ギャップ近傍が磁気コアで
ある軟磁性薄膜２とコア接合用の低融点ガラス３によっ
て構成され、この磁気ギャップ近傍に基板１が存在しな
いようにした。
と低融点ガラスのみによって構成し、特に、長時間の使
用に際し、軟磁性薄膜が最も突出した形状となり、テー
プ等の磁気記録媒体との間のスペースが非常に小さくな
り、再生時の損失を非常にわずかにする。 【構成】 結晶化ガラス、セラミックス等の非磁性材料
からなる基板１にＦｅＡｌＳｉ合金の軟磁性材料２を薄
膜形成方法により設けてなる磁気ヘッドにおいて、磁気
ヘッドのテープ摺動面の磁気ギャップ近傍が磁気コアで
ある軟磁性薄膜２とコア接合用の低融点ガラス３によっ
て構成され、この磁気ギャップ近傍に基板１が存在しな
いようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度磁気記録再生用
の非磁性材料からなる基板上にＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等
の軟磁性材料を設け、薄膜積層ヘッドとして構成した磁
気ヘッド及び、その製造方法に関するものである。
の非磁性材料からなる基板上にＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等
の軟磁性材料を設け、薄膜積層ヘッドとして構成した磁
気ヘッド及び、その製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度化にともな
いメタルテープのような高保磁力媒体が主流となってい
る。このため、磁気ヘッドに使用されるコア材料も高い
飽和磁束密度を有するものが要求されている。そこで、
例えば、図１５に示すように、高い飽和磁束密度を有す
るＦｅＡｌＳｉ合金磁性薄膜１３を、非磁性材料からな
る基板１４上に設け、磁性薄膜１３が片側のみ基板１４
によって支持されている構成の薄膜積層磁気ヘッドが知
られている。
いメタルテープのような高保磁力媒体が主流となってい
る。このため、磁気ヘッドに使用されるコア材料も高い
飽和磁束密度を有するものが要求されている。そこで、
例えば、図１５に示すように、高い飽和磁束密度を有す
るＦｅＡｌＳｉ合金磁性薄膜１３を、非磁性材料からな
る基板１４上に設け、磁性薄膜１３が片側のみ基板１４
によって支持されている構成の薄膜積層磁気ヘッドが知
られている。
【０００３】上記のような磁気ヘッドの製造過程では、
図１６に示すように、例えば、結晶化ガラス等の非磁性
材料からなる基板１５にダイシング加工によって断面略
Ｖ字状の連続した溝１６を形成し、この溝１６の側壁上
に真空蒸着法等によりＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性
材料が形成される。その後、図１７に示すように、所定
の層数だけＳｉＯ2等の非磁性材料とＦｅＡｌＳｉ合金
薄膜等の軟磁性材料１７が交互に積層蒸着される。その
後、図１８に示すように、溝１６上に低融点ガラス１８
を充填した後に、図１９に示すように、表面研削を行う
と共に、図２０に示すように、コイル巻線用窓１９，２
０の加工を行って片側コアブロックを形成し、次いで、
片側コアブロック同士を非磁性ギャップ材を挟んで相互
に接合した後、図２１に示すように、所定の幅Ｂに切断
することで、図１５に示した磁気ヘッドチップを得る。
図１６に示すように、例えば、結晶化ガラス等の非磁性
材料からなる基板１５にダイシング加工によって断面略
Ｖ字状の連続した溝１６を形成し、この溝１６の側壁上
に真空蒸着法等によりＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性
材料が形成される。その後、図１７に示すように、所定
の層数だけＳｉＯ2等の非磁性材料とＦｅＡｌＳｉ合金
薄膜等の軟磁性材料１７が交互に積層蒸着される。その
後、図１８に示すように、溝１６上に低融点ガラス１８
を充填した後に、図１９に示すように、表面研削を行う
と共に、図２０に示すように、コイル巻線用窓１９，２
０の加工を行って片側コアブロックを形成し、次いで、
片側コアブロック同士を非磁性ギャップ材を挟んで相互
に接合した後、図２１に示すように、所定の幅Ｂに切断
することで、図１５に示した磁気ヘッドチップを得る。
【０００４】また、図２２に示すように、高い飽和磁束
密度を有するＦｅＡｌＳｉ合金薄膜２１を、非磁性材料
からなる基板２２上に設け、磁性薄膜２１の両側を非磁
性基板２２で支持している構成の薄膜積層磁気ヘッドが
知られている。上記のような磁気ヘッドの製造過程で
は、図２３に示すように、例えば、結晶化ガラス等の非
磁性材料からなる基板２３に、真空蒸着法等によりＦｅ
ＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料２４が形成し、その
後、所定の層数だけＳｉＯ2等の非磁性材料２５とＦｅ
ＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料２４が交互に積層蒸着
される。その後、図２４に示すように、基板を低融点ガ
ラスにより接合積層し、ブロック状にする。その後、図
２５に示すように、ギャップ対向面を鏡面状に表面研削
を行うと共に、コイル巻線用窓２６，２７の加工を行っ
て片側コアブロックを形成し、次いで、図２６に示すよ
うに、上述のようにして形成した一対の片側コアブロッ
ク同士を非磁性ギャップ材を挟んで相互に接合した後、
所定の幅に切断することで、図２２に示したような、磁
気ヘッドチップを得る。この場合、非磁性ギャップ材と
しては、例えば、ＳｉＯ2−ＰｂＯ系等の低融点性のガ
ラスを用い、二つの磁気ヘッドコアを接合する。
密度を有するＦｅＡｌＳｉ合金薄膜２１を、非磁性材料
からなる基板２２上に設け、磁性薄膜２１の両側を非磁
性基板２２で支持している構成の薄膜積層磁気ヘッドが
知られている。上記のような磁気ヘッドの製造過程で
は、図２３に示すように、例えば、結晶化ガラス等の非
磁性材料からなる基板２３に、真空蒸着法等によりＦｅ
ＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料２４が形成し、その
後、所定の層数だけＳｉＯ2等の非磁性材料２５とＦｅ
ＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料２４が交互に積層蒸着
される。その後、図２４に示すように、基板を低融点ガ
ラスにより接合積層し、ブロック状にする。その後、図
２５に示すように、ギャップ対向面を鏡面状に表面研削
を行うと共に、コイル巻線用窓２６，２７の加工を行っ
て片側コアブロックを形成し、次いで、図２６に示すよ
うに、上述のようにして形成した一対の片側コアブロッ
ク同士を非磁性ギャップ材を挟んで相互に接合した後、
所定の幅に切断することで、図２２に示したような、磁
気ヘッドチップを得る。この場合、非磁性ギャップ材と
しては、例えば、ＳｉＯ2−ＰｂＯ系等の低融点性のガ
ラスを用い、二つの磁気ヘッドコアを接合する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の磁気ヘッド
においては、テープを数１０時間摺動させると磁気ヘッ
ドの再生出力が低下してしまうという問題点がある。
においては、テープを数１０時間摺動させると磁気ヘッ
ドの再生出力が低下してしまうという問題点がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者の研究によれ
ば、前記問題点の原因は、磁気ギャップ近傍に配置され
ている非磁性基板材、低融点ガラス、磁性薄膜の摩耗特
性の差に由来する偏摩耗であることがわかった。各材料
は低融点ガラス＞磁性薄膜＞非磁性基板材の順序で摩耗
しやすく、磁気ヘッドのギャップ近傍において磁気コア
を構成している磁性薄膜よりも非磁性基板のほうが突出
しているため、磁気ヘッドのギャップと磁気記録媒体の
間にスペースができてしまい、再生時にスペース損失の
ため出力が低下してしまう。この傾向は、テープ等の磁
気記録媒体を数１０時間摺動させるといっそう顕著にな
り、さらに出力が低下してしまい、これにより前記のよ
うな問題が生じてしまう。この際の各材料間の段差は、
磁性薄膜と非磁性基板の間では、初期で約１５０Å、数
１０時間摺動後で約４００Å非磁性基板が突出してい
る。また、低融点ガラスは最も摩耗しやすく、磁性薄膜
とくらべて、初期で約１００Å、数１０時間摺動後で約
２００Å低くなっている。このため、前記問題点を解決
するために、発明者は以下の発明をするに至った。
ば、前記問題点の原因は、磁気ギャップ近傍に配置され
ている非磁性基板材、低融点ガラス、磁性薄膜の摩耗特
性の差に由来する偏摩耗であることがわかった。各材料
は低融点ガラス＞磁性薄膜＞非磁性基板材の順序で摩耗
しやすく、磁気ヘッドのギャップ近傍において磁気コア
を構成している磁性薄膜よりも非磁性基板のほうが突出
しているため、磁気ヘッドのギャップと磁気記録媒体の
間にスペースができてしまい、再生時にスペース損失の
ため出力が低下してしまう。この傾向は、テープ等の磁
気記録媒体を数１０時間摺動させるといっそう顕著にな
り、さらに出力が低下してしまい、これにより前記のよ
うな問題が生じてしまう。この際の各材料間の段差は、
磁性薄膜と非磁性基板の間では、初期で約１５０Å、数
１０時間摺動後で約４００Å非磁性基板が突出してい
る。また、低融点ガラスは最も摩耗しやすく、磁性薄膜
とくらべて、初期で約１００Å、数１０時間摺動後で約
２００Å低くなっている。このため、前記問題点を解決
するために、発明者は以下の発明をするに至った。
【０００７】結晶化ガラス、セラミックス等の非磁性材
料からなる基板にＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料
を蒸着法等の薄膜形成方法により設けてなる磁気ヘッド
において、該磁気ヘッドは、テープ摺動面の磁気ギャッ
プ近傍が磁気コアである軟磁性薄膜とコア接合用の低融
点ガラスのみによって構成されていることを特徴とし、
また、この磁気ヘッドの製造方法においては、結晶化ガ
ラス、セラミックス等からなる基板に所定の溝を形成し
た後、この溝の側壁に沿ってＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の
軟磁性材料を蒸着法により形成し、次いで、磁気ギャッ
プ近傍部分の、軟磁性材料薄膜の支持基板である結晶化
ガラスやセラミック等の非磁性材料基板を機械加工やエ
ッチング等の方法により除去し、その後、除去した非磁
性基板の代わりに低融点ガラスを熔融充填することを特
徴とする。
料からなる基板にＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料
を蒸着法等の薄膜形成方法により設けてなる磁気ヘッド
において、該磁気ヘッドは、テープ摺動面の磁気ギャッ
プ近傍が磁気コアである軟磁性薄膜とコア接合用の低融
点ガラスのみによって構成されていることを特徴とし、
また、この磁気ヘッドの製造方法においては、結晶化ガ
ラス、セラミックス等からなる基板に所定の溝を形成し
た後、この溝の側壁に沿ってＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の
軟磁性材料を蒸着法により形成し、次いで、磁気ギャッ
プ近傍部分の、軟磁性材料薄膜の支持基板である結晶化
ガラスやセラミック等の非磁性材料基板を機械加工やエ
ッチング等の方法により除去し、その後、除去した非磁
性基板の代わりに低融点ガラスを熔融充填することを特
徴とする。
【０００８】
【作用】以上の磁気ヘッドによれば、磁気ヘッドの磁気
ギャップ近傍は軟磁性薄膜と低融点ガラスのみによって
構成されるため、軟磁性薄膜が最も突出した形状とな
り、テープ等の磁気記録媒体との間のスペースが非常に
小さくなり、再生時の損失を非常にわずかにすることが
可能となる。また、この傾向は摺動時間が長時間になる
ほど顕著となるため、さらにテープとの接触は良好とな
り再生時の損失は低下する。また、この磁気ヘッドを上
述の製造方法によって実現すれば、従来のフェライトヘ
ッドとほぼ同様の工程となるため、非常に容易に実現す
ることができる。
ギャップ近傍は軟磁性薄膜と低融点ガラスのみによって
構成されるため、軟磁性薄膜が最も突出した形状とな
り、テープ等の磁気記録媒体との間のスペースが非常に
小さくなり、再生時の損失を非常にわずかにすることが
可能となる。また、この傾向は摺動時間が長時間になる
ほど顕著となるため、さらにテープとの接触は良好とな
り再生時の損失は低下する。また、この磁気ヘッドを上
述の製造方法によって実現すれば、従来のフェライトヘ
ッドとほぼ同様の工程となるため、非常に容易に実現す
ることができる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図１から図１４を用
いて説明する。本発明の磁気ヘッドは、図１，２に示す
ように、結晶化ガラス、セラミックス等の非磁性材料か
らなる基板１にＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料２
を蒸着法等の薄膜形成方法により設けてなる磁気ヘッド
において、磁気ヘッドのテープ摺動面の磁気ギャップ近
傍が磁気コアである軟磁性薄膜２とコア接合用の低融点
ガラス３のみによって構成されることを特徴とするもの
である。
いて説明する。本発明の磁気ヘッドは、図１，２に示す
ように、結晶化ガラス、セラミックス等の非磁性材料か
らなる基板１にＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料２
を蒸着法等の薄膜形成方法により設けてなる磁気ヘッド
において、磁気ヘッドのテープ摺動面の磁気ギャップ近
傍が磁気コアである軟磁性薄膜２とコア接合用の低融点
ガラス３のみによって構成されることを特徴とするもの
である。
【００１０】図１に示した実施例は、結晶化ガラス、セ
ラミックス等の非磁性材料からなる基板１に溝を形成
し、この溝の側壁に沿ってＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟
磁性材料２を蒸着法により設けてなる構成となってい
る。この磁気ヘッドにおいては、軟磁性材料薄膜２の部
分は、図１に示すように、磁気ヘッドのテープ摺動面の
磁気ギャップ近傍の非磁性基板１は加工によって除去さ
れ、かわりに低融点ガラス３が埋め込まれており、磁気
ギャップ近傍は磁性薄膜２と低融点ガラス３のみによっ
て構成されている。
ラミックス等の非磁性材料からなる基板１に溝を形成
し、この溝の側壁に沿ってＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟
磁性材料２を蒸着法により設けてなる構成となってい
る。この磁気ヘッドにおいては、軟磁性材料薄膜２の部
分は、図１に示すように、磁気ヘッドのテープ摺動面の
磁気ギャップ近傍の非磁性基板１は加工によって除去さ
れ、かわりに低融点ガラス３が埋め込まれており、磁気
ギャップ近傍は磁性薄膜２と低融点ガラス３のみによっ
て構成されている。
【００１１】また、図２に示した実施例は、高い飽和磁
束密度を有するＦｅＡｌＳｉ合金薄膜２を、非磁性材料
からなる基板１上に設け、磁性薄膜２の両側を非磁性基
板１で支持している構成の薄膜積層磁気ヘッドであり、
ギャップ近傍の非磁性基板は、加工により除去され、か
わりに低融点ガラス３が埋め込まれており、磁気ギャッ
プ近傍は磁性薄膜２と低融点ガラス３のみによって構成
されている。
束密度を有するＦｅＡｌＳｉ合金薄膜２を、非磁性材料
からなる基板１上に設け、磁性薄膜２の両側を非磁性基
板１で支持している構成の薄膜積層磁気ヘッドであり、
ギャップ近傍の非磁性基板は、加工により除去され、か
わりに低融点ガラス３が埋め込まれており、磁気ギャッ
プ近傍は磁性薄膜２と低融点ガラス３のみによって構成
されている。
【００１２】次に、本発明の磁気ヘッドの製造方法の一
実施例について、最初に、図１に示した磁気ヘッドを製
作する場合を例として説明する。まず、図３に示すよう
に、結晶化ガラス等の非磁性材料からなる基板１の表面
に所定のピッチ寸法Ａで、ダイシング加工により断面略
Ｖ字状の溝５を連続して形成する。その後、図４に示す
ように、各溝５の側壁面６に真空蒸着法等によりＦｅＡ
ｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性薄膜２とＳｉＯ2等の非磁性
薄膜４を所定の層数だけ交互に積層蒸着する。次に、溝
５の頂点部分を、図５に示すように、機械加工等により
除去する。次に、図６に示すように、低融点ガラス３を
溶融充填する。次に、図７に示すように、前記低融点ガ
ラス３の充填部の表面を所定のトラック幅の磁性薄膜が
露出するまで平面状に鏡面研磨して片側コアブロックを
作製する。次に、図８に示すように、前記片側コアブロ
ックにコイル巻線用の溝１０，１１を加工し、さらに、
低融点ガラスを形成した方の面（ギャップ面）に所定の
ギャップとなるようＳｉＯ2等の非磁性材料をスパッタ
リング法等により形成する。次に、図９に示すように、
このようにして形成された２つの片側コアブロックをギ
ャップ面を互いに対向するように位置をあわせ、加圧固
定を行って接合し、コアブロック１２を形成する。次
に、その接合されたコアブロック１２から磁気ヘッドチ
ップを切り出す。図１は、このようにして切り出された
磁気ヘッドチップを示す斜視図である。上述のようにし
て得られた磁気ヘッドチップについては、周知のよう
に、ベース板への接着固定、コイル巻き線、テープ研摩
を付して、磁気ヘッドを完成する。
実施例について、最初に、図１に示した磁気ヘッドを製
作する場合を例として説明する。まず、図３に示すよう
に、結晶化ガラス等の非磁性材料からなる基板１の表面
に所定のピッチ寸法Ａで、ダイシング加工により断面略
Ｖ字状の溝５を連続して形成する。その後、図４に示す
ように、各溝５の側壁面６に真空蒸着法等によりＦｅＡ
ｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性薄膜２とＳｉＯ2等の非磁性
薄膜４を所定の層数だけ交互に積層蒸着する。次に、溝
５の頂点部分を、図５に示すように、機械加工等により
除去する。次に、図６に示すように、低融点ガラス３を
溶融充填する。次に、図７に示すように、前記低融点ガ
ラス３の充填部の表面を所定のトラック幅の磁性薄膜が
露出するまで平面状に鏡面研磨して片側コアブロックを
作製する。次に、図８に示すように、前記片側コアブロ
ックにコイル巻線用の溝１０，１１を加工し、さらに、
低融点ガラスを形成した方の面（ギャップ面）に所定の
ギャップとなるようＳｉＯ2等の非磁性材料をスパッタ
リング法等により形成する。次に、図９に示すように、
このようにして形成された２つの片側コアブロックをギ
ャップ面を互いに対向するように位置をあわせ、加圧固
定を行って接合し、コアブロック１２を形成する。次
に、その接合されたコアブロック１２から磁気ヘッドチ
ップを切り出す。図１は、このようにして切り出された
磁気ヘッドチップを示す斜視図である。上述のようにし
て得られた磁気ヘッドチップについては、周知のよう
に、ベース板への接着固定、コイル巻き線、テープ研摩
を付して、磁気ヘッドを完成する。
【００１３】次に、図２に示した磁気ヘッドの製造方法
の一実施例について説明する。まず、図１０の（１）に
示す結晶化ガラス、セラミックス等から成る非磁性材料
の基板１の上に、図１０の（２）に示すように、真空蒸
着法等によりＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性薄膜２と
ＳｉＯ2等の非磁性薄膜４を所定の層数だけ交互に積層
蒸着する。次に、その上に、図１０の（３）に示すよう
に、低融点ガラス７をスパッタリング法等の薄膜形成法
により形成する。その後、前述のようにして作られた板
を複数枚重ね、加圧溶着し、図１０の（４）に示すよう
なブロックを得る。次に、基板及び積層薄膜の一部分
を、図１１の（１）にて示すように機械加工等により、
例えばＶ型に除去する。次に、この除去された部分に、
図１１の（２）に示すように、低融点ガラス３を溶融充
填する。この際用いる低融点ガラス３は、前出の低融点
ガラス７よりも低い融点のものが望ましい。次に、図１
０の（３）に示すように、前記低融点ガラス３の充填部
の表面を所定のトラック幅の磁性薄膜が露出するまで平
面状に鏡面研磨して片側コアブロックを作製し、その
後、図１２に示すように、コイル巻線用の溝１０,１１
を加工する。さらに、低融点ガラス３を形成した方の面
（ギャップ面）に所定のギャップとなるようにＳｉＯ2
等の非磁性材料をスパッタリング法等により形成する。
次に、図１３に示すように、ギャップ面を互いに対向す
るように位置をあわせ、加圧固定を行って接合し、コア
ブロック１２を形成する。次に、その接合されたコアブ
ロック１２のテープ摺動面８に曲率をつけ、磁気ヘッド
チップを切り出す。図１４はこのようにして切り出され
た磁気ヘッドチップを示す斜視図である。なお、図２
は、テープ摺動面に曲率をつけてない場合の実施例を示
してある。上述のようにして得られた磁気ヘッドチップ
については、前述の実施例と同様、ベース板への接着固
定、コイル巻き線、テープ研磨を付して、磁気ヘッドを
完成する。
の一実施例について説明する。まず、図１０の（１）に
示す結晶化ガラス、セラミックス等から成る非磁性材料
の基板１の上に、図１０の（２）に示すように、真空蒸
着法等によりＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性薄膜２と
ＳｉＯ2等の非磁性薄膜４を所定の層数だけ交互に積層
蒸着する。次に、その上に、図１０の（３）に示すよう
に、低融点ガラス７をスパッタリング法等の薄膜形成法
により形成する。その後、前述のようにして作られた板
を複数枚重ね、加圧溶着し、図１０の（４）に示すよう
なブロックを得る。次に、基板及び積層薄膜の一部分
を、図１１の（１）にて示すように機械加工等により、
例えばＶ型に除去する。次に、この除去された部分に、
図１１の（２）に示すように、低融点ガラス３を溶融充
填する。この際用いる低融点ガラス３は、前出の低融点
ガラス７よりも低い融点のものが望ましい。次に、図１
０の（３）に示すように、前記低融点ガラス３の充填部
の表面を所定のトラック幅の磁性薄膜が露出するまで平
面状に鏡面研磨して片側コアブロックを作製し、その
後、図１２に示すように、コイル巻線用の溝１０,１１
を加工する。さらに、低融点ガラス３を形成した方の面
（ギャップ面）に所定のギャップとなるようにＳｉＯ2
等の非磁性材料をスパッタリング法等により形成する。
次に、図１３に示すように、ギャップ面を互いに対向す
るように位置をあわせ、加圧固定を行って接合し、コア
ブロック１２を形成する。次に、その接合されたコアブ
ロック１２のテープ摺動面８に曲率をつけ、磁気ヘッド
チップを切り出す。図１４はこのようにして切り出され
た磁気ヘッドチップを示す斜視図である。なお、図２
は、テープ摺動面に曲率をつけてない場合の実施例を示
してある。上述のようにして得られた磁気ヘッドチップ
については、前述の実施例と同様、ベース板への接着固
定、コイル巻き線、テープ研磨を付して、磁気ヘッドを
完成する。
【００１４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によると、長時間使用しても再生出力が低下しない好良
な特性を有する磁気ヘッドを提供することができ、しか
も、従来のフェライトヘッドとほぼ同様な工程を用いて
容易に高い量産性で製造することが可能となる。
によると、長時間使用しても再生出力が低下しない好良
な特性を有する磁気ヘッドを提供することができ、しか
も、従来のフェライトヘッドとほぼ同様な工程を用いて
容易に高い量産性で製造することが可能となる。
【図１】本発明の磁気ヘッドの一実施例を示す図であ
る。
る。
【図２】本発明の磁気ヘッドの他の実施例を示す図であ
る。
る。
【図３】図１に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の一
部を説明するための図である。
部を説明するための図である。
【図４】図１に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の他
の一部を説明するための図である。
の一部を説明するための図である。
【図５】図１に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の他
の一部を説明するための図である。
の一部を説明するための図である。
【図６】図１に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の他
の一部を説明するための図である。
の一部を説明するための図である。
【図７】図１に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の他
の一部を説明するための図である。
の一部を説明するための図である。
【図８】図１に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の他
の一部を説明するための図である。
の一部を説明するための図である。
【図９】図１に示した磁気ヘッドの製作方法の工程の他
の一部を説明するための図である。
の一部を説明するための図である。
【図１０】図２に示した磁気ヘッドの製造方法の工程の
一部を説明するための図である。
一部を説明するための図である。
【図１１】図２に示した磁気ヘッドの製造方法の工程の
他の一部を説明するための図である。
他の一部を説明するための図である。
【図１２】図２に示した磁気ヘッドの製造方法の工程の
他の一部を説明するための図である。
他の一部を説明するための図である。
【図１３】図２に示した磁気ヘッドの製造方法の工程の
他の一部を説明するための図である。
他の一部を説明するための図である。
【図１４】図１０〜図１３に示した工程により製作され
た磁気ヘッドの例を示す図である。
た磁気ヘッドの例を示す図である。
【図１５】従来の磁気ヘッドの一例を示す図である。
【図１６】図１５に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の一部を説明するための図である。
の工程の一部を説明するための図である。
【図１７】図１５に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
の工程の他の一部を説明するための図である。
【図１８】図１５に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
の工程の他の一部を説明するための図である。
【図１９】図１５に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
の工程の他の一部を説明するための図である。
【図２０】図１５に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
の工程の他の一部を説明するための図である。
【図２１】図１５に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
の工程の他の一部を説明するための図である。
【図２２】従来の磁気ヘッドの他の例を示す図である。
【図２３】図２２に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の一工程を説明するための図である。
の一工程を説明するための図である。
【図２４】図２２に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
の工程の他の一部を説明するための図である。
【図２５】図２２に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
の工程の他の一部を説明するための図である。
【図２６】図２２に示した従来の磁気ヘッドの製造方法
の工程の他の一部を説明するための図である。
の工程の他の一部を説明するための図である。
１…非磁性材料の基板、２…軟磁性薄膜、３…低融点ガ
ラス、４…非磁性薄膜、５…溝、６…溝の側壁面、７…
低融点ガラス、８…テープ摺動面。
ラス、４…非磁性薄膜、５…溝、６…溝の側壁面、７…
低融点ガラス、８…テープ摺動面。
Claims (3)
- 【請求項１】 結晶化ガラス、セラミックス等の非磁性
材料からなる基板にＦｅＡｌＳｉ合金の軟磁性材料を薄
膜形成方法により設けてなる磁気ヘッドにおいて、磁気
ヘッドのテープ摺動面の磁気ギャップ近傍が、磁気コア
である軟磁性薄膜とコア接合用の低融点ガラスによって
構成され、前記磁気ギャップ近傍に前記基板が存在しな
いことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 非磁性材料基板に所定の溝を形成した
後、この溝の側壁に沿って軟磁性材料を薄膜形成方法に
より形成し、次いで、磁気ギャップ近傍部分の、軟磁性
材料薄膜の支持基板である非磁性材料基板を機械加工あ
るいはエッチング等により除去し、その後、除去した非
磁性材料基板の代わりに低融点ガラスを熔融充填するこ
とを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】 結晶化ガラス、セラミックス等からなる
非磁性材料基板にＦｅＡｌＳｉ合金薄膜等の軟磁性材料
を薄膜形成方法により形成し、その上に非磁性材料基板
を積層した後、磁気ギャップ近傍部分の、前記軟磁性材
料薄膜の支持基板である前記結晶化ガラス、セラミック
ス等の非磁性材料基板を機械加工、エッチング等の方法
により除去し、その後、除去した非磁性材料基板の代わ
りに低融点ガラスを熔融充填することを特徴とする磁気
ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4789692A JP2810820B2 (ja) | 1992-02-03 | 1992-02-03 | 磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4789692A JP2810820B2 (ja) | 1992-02-03 | 1992-02-03 | 磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05217109A true JPH05217109A (ja) | 1993-08-27 |
| JP2810820B2 JP2810820B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=12788168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4789692A Expired - Fee Related JP2810820B2 (ja) | 1992-02-03 | 1992-02-03 | 磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2810820B2 (ja) |
-
1992
- 1992-02-03 JP JP4789692A patent/JP2810820B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2810820B2 (ja) | 1998-10-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4899241A (en) | Method of manufacturing a magnetic head having a thin film in a portion of its core | |
| JP2810820B2 (ja) | 磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2633097B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2669965B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP2889072B2 (ja) | 薄膜積層磁気ヘッドチップ及びその製法 | |
| JP2648057B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| KR0132492B1 (ko) | 적충 자기헤드 | |
| KR100200809B1 (ko) | 자기헤드 및 그 제조방법 | |
| JPH0156445B2 (ja) | ||
| JPS6366703A (ja) | 複合型磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH04241205A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS63104208A (ja) | 複合型磁気ヘッドとその製造方法 | |
| JPS618710A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH05342519A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS62277607A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH056508A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH06124407A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS62212905A (ja) | 磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
| JPH04221408A (ja) | 積層型磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH04289505A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS63300418A (ja) | 磁気ヘッドとその製造方法 | |
| JPH05290327A (ja) | 磁気ヘッド製造方法 | |
| JPS63146204A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0554314A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0726907U (ja) | 磁気ヘッド |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070731 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080731 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |