JPH0521579A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPH0521579A JPH0521579A JP17486791A JP17486791A JPH0521579A JP H0521579 A JPH0521579 A JP H0521579A JP 17486791 A JP17486791 A JP 17486791A JP 17486791 A JP17486791 A JP 17486791A JP H0521579 A JPH0521579 A JP H0521579A
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- JP
- Japan
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- chamber
- vacuum
- wafers
- processing
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- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、真空処理装置に関し、搬送室と処
理室間でウェーハを搬送装置で入れ換え搬送する際、搬
送装置の動作を少なくしてウェーハの入れ換え時間を短
縮することができ、装置の処理能力を向上させることが
でき、しかも１個の処理室と搬送室間でウェーハを入れ
換え搬送することができ、各処理室間でクロスコンタミ
ネーションを生じないようにすることができ、更には、
上下動させないで精度良く、かつ容易にウェーハを入れ
替え搬送することができる真空処理装置を提供すること
を目的とする。 【構成】 ゲート弁４を介して処理室３ｂ、３ｃと隣接
して設けられた搬送室１と、該処理室３ｂ、３ｃと該搬
送室１間でウェーハを搬送するフィンガーを有する搬送
装置２とを有する枚葉式の真空処理装置において、該搬
送室１のフィンガー２ａを少なくも２個以上にし、かつ
該フィンガー２ａ同志を水平に設けるように構成する。
理室間でウェーハを搬送装置で入れ換え搬送する際、搬
送装置の動作を少なくしてウェーハの入れ換え時間を短
縮することができ、装置の処理能力を向上させることが
でき、しかも１個の処理室と搬送室間でウェーハを入れ
換え搬送することができ、各処理室間でクロスコンタミ
ネーションを生じないようにすることができ、更には、
上下動させないで精度良く、かつ容易にウェーハを入れ
替え搬送することができる真空処理装置を提供すること
を目的とする。 【構成】 ゲート弁４を介して処理室３ｂ、３ｃと隣接
して設けられた搬送室１と、該処理室３ｂ、３ｃと該搬
送室１間でウェーハを搬送するフィンガーを有する搬送
装置２とを有する枚葉式の真空処理装置において、該搬
送室１のフィンガー２ａを少なくも２個以上にし、かつ
該フィンガー２ａ同志を水平に設けるように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空処理装置に係り、
特に搬送室と処理室間でウェーハを搬送装置で入れ換え
搬送する際、搬送装置の動作を少なくしてウェーハの入
れ換え時間を短縮することができる真空処理装置に関す
る。従来のクラスター型の真空処理装置では高真空を維
持し、かつ信頼性を保ちつつ搬送を行うため、真空回転
導入及びロボットアーム構造にし、１フィンガーロボッ
トを採用している。
特に搬送室と処理室間でウェーハを搬送装置で入れ換え
搬送する際、搬送装置の動作を少なくしてウェーハの入
れ換え時間を短縮することができる真空処理装置に関す
る。従来のクラスター型の真空処理装置では高真空を維
持し、かつ信頼性を保ちつつ搬送を行うため、真空回転
導入及びロボットアーム構造にし、１フィンガーロボッ
トを採用している。
【０００２】
【従来の技術】以下、具体的に図面を用いて従来技術を
説明する。図４は従来の真空処理装置の構成を示す概略
図である。図４において、31は真空搬送室31であり、こ
の真空搬送室31内にはウウェーハを搬送するシングルフ
ィンガー32ａを有する真空搬送装置32が設けられてい
る。33a 、33b 、33c 、33dはゲート弁34を介し真空搬
送室31と隣接して設けられたロードロック室、Ａ処理
室、Ｂ処理室及びＣ処理室である。35は大気搬送装置で
あり、この大気搬送装置35はロードロック室33ａ、アラ
イメントステージ36及びキャリアステーション37間でウ
ェーハを搬送させる。
説明する。図４は従来の真空処理装置の構成を示す概略
図である。図４において、31は真空搬送室31であり、こ
の真空搬送室31内にはウウェーハを搬送するシングルフ
ィンガー32ａを有する真空搬送装置32が設けられてい
る。33a 、33b 、33c 、33dはゲート弁34を介し真空搬
送室31と隣接して設けられたロードロック室、Ａ処理
室、Ｂ処理室及びＣ処理室である。35は大気搬送装置で
あり、この大気搬送装置35はロードロック室33ａ、アラ
イメントステージ36及びキャリアステーション37間でウ
ェーハを搬送させる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の真空処理装置では、真空搬送装置32のシングル
フィンガー32a でウェーハを搬送しており、ウェーハを
真空搬送室31から処理室33ｂ、33ｃ、33ｄに搬送する
際、処理室33ｂ、33ｃ、33ｄの真空度を十分に高くして
からゲート弁34を開けなければならず、図５に示す如く
搬送時にゲート弁34を３個開け、毎回ゲート弁34を閉じ
なければならなかった。そして、図５の矢印Ａ〜Ｏに示
す如く（矢印１つに付き搬送装置１サイクルの動作）、
次の処理を開始させるのに真空搬送装置32の動作として
は14サイクルの動作を修了させなければならない等、ウ
ェーハの入れ換え時間が非常にかかり、装置の処理能力
が低下しているという問題があった。
た従来の真空処理装置では、真空搬送装置32のシングル
フィンガー32a でウェーハを搬送しており、ウェーハを
真空搬送室31から処理室33ｂ、33ｃ、33ｄに搬送する
際、処理室33ｂ、33ｃ、33ｄの真空度を十分に高くして
からゲート弁34を開けなければならず、図５に示す如く
搬送時にゲート弁34を３個開け、毎回ゲート弁34を閉じ
なければならなかった。そして、図５の矢印Ａ〜Ｏに示
す如く（矢印１つに付き搬送装置１サイクルの動作）、
次の処理を開始させるのに真空搬送装置32の動作として
は14サイクルの動作を修了させなければならない等、ウ
ェーハの入れ換え時間が非常にかかり、装置の処理能力
が低下しているという問題があった。
【０００４】また、各処理室33ｂ、33ｃ、33ｄ間でウェ
ーハを真空搬送装置32で移し替える際、真空搬送室31を
介して各処理室33ｂ、33ｃ、33ｄ間でウェーハが真空搬
送装置32によって移動するため、クロスコンタミネーシ
ョンという問題があった。また、上記１フィンガーの場
合よりも処理スピードを上げることができる従来の真空
処理装置には、２つのフィンガーをＺ方向で２段に設け
るものが知られている。しかしながら、２つのフィンガ
ーをＺ方向で２段に設けると、搬送装置をＺ方向で上下
動させなければならないが、特に、カセットを直接アク
セスするのが精度的に難しい等、精度良く上下動させる
のが面倒で困難であるという問題があった。
ーハを真空搬送装置32で移し替える際、真空搬送室31を
介して各処理室33ｂ、33ｃ、33ｄ間でウェーハが真空搬
送装置32によって移動するため、クロスコンタミネーシ
ョンという問題があった。また、上記１フィンガーの場
合よりも処理スピードを上げることができる従来の真空
処理装置には、２つのフィンガーをＺ方向で２段に設け
るものが知られている。しかしながら、２つのフィンガ
ーをＺ方向で２段に設けると、搬送装置をＺ方向で上下
動させなければならないが、特に、カセットを直接アク
セスするのが精度的に難しい等、精度良く上下動させる
のが面倒で困難であるという問題があった。
【０００５】そこで本発明では、搬送室と処理室間でウ
ェーハを搬送装置で入れ換え搬送をする際、搬送装置の
動作を少なくしてウェーハの入れ換え時間を短縮するこ
とができ、装置の処理能力を向上させることができ、し
かも１個の処理室と搬送室間でウェーハを入れ換え搬送
することができ、各処理室間でクロスコンタミネーショ
ンを生じないようにすることができ、更には、上下動さ
せないで精度良く、かつ容易にウェーハを入れ替え搬送
することができる真空処理装置を提供することを目的と
している。
ェーハを搬送装置で入れ換え搬送をする際、搬送装置の
動作を少なくしてウェーハの入れ換え時間を短縮するこ
とができ、装置の処理能力を向上させることができ、し
かも１個の処理室と搬送室間でウェーハを入れ換え搬送
することができ、各処理室間でクロスコンタミネーショ
ンを生じないようにすることができ、更には、上下動さ
せないで精度良く、かつ容易にウェーハを入れ替え搬送
することができる真空処理装置を提供することを目的と
している。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明による真空処理装
置は上記目的達成のため、ゲート弁を介して処理室と隣
接して設けられた搬送室と、該処理室と該搬送室間でウ
ェーハを搬送するフィンガーを有する搬送装置とを有す
る枚葉式の真空処理装置において、前記搬送室のフィン
ガーを少なくも２個以上にし、かつ該フィンガー同志を
水平方向に設けて構成するものである。
置は上記目的達成のため、ゲート弁を介して処理室と隣
接して設けられた搬送室と、該処理室と該搬送室間でウ
ェーハを搬送するフィンガーを有する搬送装置とを有す
る枚葉式の真空処理装置において、前記搬送室のフィン
ガーを少なくも２個以上にし、かつ該フィンガー同志を
水平方向に設けて構成するものである。
【０００７】本発明においては、枚葉式のロードロック
室を設け、搬送室とロードロック室の間に近接した２個
のゲート弁を設け、更に該ゲート弁中間を高真空排気す
る高真空排気装置を設けるように構成してもよい。
室を設け、搬送室とロードロック室の間に近接した２個
のゲート弁を設け、更に該ゲート弁中間を高真空排気す
る高真空排気装置を設けるように構成してもよい。
【０００８】
【作用】本発明では、図１に示すように、ゲート弁４を
介して処理室３ｂ、３ｃと隣接して設けられた真空搬送
室１と、各処理室３ｂ、３ｃと真空搬送室１間でウェー
ハを搬送する真空搬送装置２とを有するように枚葉式の
真空処理装置を構成している。そして、真空搬送装置２
のフィンガーをツインフィンガー２ａにし、しかもフィ
ンガー２ａ同志を水平方向に設けて構成している。そし
て、図２に示す如く、搬送装置２を搬送室１から処理室
３ｂに移動させ、片方のフィンガー２ａでウェーハを受
け取り、次いで、搬送装置２を処理室３ｂから搬送室１
に移動させ全体を回転させ、今度は新しいウェーハを反
対のフィンガー２ａで処理室３ｂに持っていく。
介して処理室３ｂ、３ｃと隣接して設けられた真空搬送
室１と、各処理室３ｂ、３ｃと真空搬送室１間でウェー
ハを搬送する真空搬送装置２とを有するように枚葉式の
真空処理装置を構成している。そして、真空搬送装置２
のフィンガーをツインフィンガー２ａにし、しかもフィ
ンガー２ａ同志を水平方向に設けて構成している。そし
て、図２に示す如く、搬送装置２を搬送室１から処理室
３ｂに移動させ、片方のフィンガー２ａでウェーハを受
け取り、次いで、搬送装置２を処理室３ｂから搬送室１
に移動させ全体を回転させ、今度は新しいウェーハを反
対のフィンガー２ａで処理室３ｂに持っていく。
【０００９】このため、真空搬送室１と処理室３ｂ間で
ウェーハを真空搬送装置２で入れ換え搬送する際、図２
に示す如く、真空搬送室１と１個の処理室３ｂ間でウェ
ーハの入れ換え搬送することができ、搬送時にゲート弁
４を１個開け閉めするだけで済ませることができる。従
って、各処理室３ｂ、３ｃ間でクロスタミネーションを
生じないようにすることができる。
ウェーハを真空搬送装置２で入れ換え搬送する際、図２
に示す如く、真空搬送室１と１個の処理室３ｂ間でウェ
ーハの入れ換え搬送することができ、搬送時にゲート弁
４を１個開け閉めするだけで済ませることができる。従
って、各処理室３ｂ、３ｃ間でクロスタミネーションを
生じないようにすることができる。
【００１０】そして、従来、次の処理を開始させるのに
真空搬送装置を14サイクル動作させなければならなかっ
たのが、本発明では、図２の矢印Ａ〜Ｇに示す如く（矢
印１つに付き搬送装置１サイクルの動作）、７回の動作
で済ませることができる。このため、ウェーハの入れ換
え時間を短縮することができ、装置処理能力を向上させ
ることができる。
真空搬送装置を14サイクル動作させなければならなかっ
たのが、本発明では、図２の矢印Ａ〜Ｇに示す如く（矢
印１つに付き搬送装置１サイクルの動作）、７回の動作
で済ませることができる。このため、ウェーハの入れ換
え時間を短縮することができ、装置処理能力を向上させ
ることができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を図面に基づいて説明する。図
１は本発明の一実施例に則した真空処理装置の構成を示
す概略図である。図１において、１は真空搬送室であ
り、この真空搬送室１内にはウェーハを搬送するツイン
フィンガー２ａを有する真空搬送装置２が設けられてい
る。３ａ、３ｂ、３ｃはゲート弁４を介し真空搬送室１
と隣接して設けられたロードロック室、Ａ処理室及びＢ
処理室である。５は大気搬送装置であり、この大気搬送
装置５はロードロック室３ａ、アライメントステージ６
及びキャリアステーション７間でウェーハを搬送させ
る。
１は本発明の一実施例に則した真空処理装置の構成を示
す概略図である。図１において、１は真空搬送室であ
り、この真空搬送室１内にはウェーハを搬送するツイン
フィンガー２ａを有する真空搬送装置２が設けられてい
る。３ａ、３ｂ、３ｃはゲート弁４を介し真空搬送室１
と隣接して設けられたロードロック室、Ａ処理室及びＢ
処理室である。５は大気搬送装置であり、この大気搬送
装置５はロードロック室３ａ、アライメントステージ６
及びキャリアステーション７間でウェーハを搬送させ
る。
【００１２】本実施例では、ゲート弁４を介して処理室
３ｂ、３ｃと隣接して設けられた真空搬送室１と、各処
理室３ｂ、３ｃと真空搬送室１間でウェーハを搬送する
真空搬送装置２とを有するように枚葉式の真空処理装置
を構成している。そして、真空搬送装置２のフィンガー
をツインフィンガー２ａにし、しかもフィンガー同志を
水平方向に設けて構成している。そして、図２に示す如
く、搬送装置２を搬送室１から処理室３ｂに移動させ、
片方のフィンガー２ａでウェーハを受け取り、次いで、
搬送装置２を処理室３ｂから搬送装置１に移動させ全体
を回転させ、今度は新しいウェーハを反対のフィンガー
２ａで処理室３ｂに持っていく。
３ｂ、３ｃと隣接して設けられた真空搬送室１と、各処
理室３ｂ、３ｃと真空搬送室１間でウェーハを搬送する
真空搬送装置２とを有するように枚葉式の真空処理装置
を構成している。そして、真空搬送装置２のフィンガー
をツインフィンガー２ａにし、しかもフィンガー同志を
水平方向に設けて構成している。そして、図２に示す如
く、搬送装置２を搬送室１から処理室３ｂに移動させ、
片方のフィンガー２ａでウェーハを受け取り、次いで、
搬送装置２を処理室３ｂから搬送装置１に移動させ全体
を回転させ、今度は新しいウェーハを反対のフィンガー
２ａで処理室３ｂに持っていく。
【００１３】このため、真空搬送室１と処理室３ｂ間で
ウェーハを真空搬送装置２で入れ換え搬送する際、図２
に示す如く、真空搬送室１と１個の処理室３ｂ間でウェ
ーハの入れ換え搬送することができ、搬送時にゲート弁
４を１個開け閉めするだけで済ませることができる。こ
のため、各処理室３ｂ、３ｃ間でクロスタミネーション
を生じないようにすることができる。そして、従来、次
の処理を開始させるのに真空搬送装置32を14サイクル動
作させなければならなかったのが、本実施例では、図２
の矢印Ａ〜Ｇに示す如く（矢印１つに付き搬送装置１サ
イクルの動作）、７回の動作で済ませることができる。
このため、ウェーハの入れ換え時間を短縮することがで
き、装置の処理能力を向上させることができる。
ウェーハを真空搬送装置２で入れ換え搬送する際、図２
に示す如く、真空搬送室１と１個の処理室３ｂ間でウェ
ーハの入れ換え搬送することができ、搬送時にゲート弁
４を１個開け閉めするだけで済ませることができる。こ
のため、各処理室３ｂ、３ｃ間でクロスタミネーション
を生じないようにすることができる。そして、従来、次
の処理を開始させるのに真空搬送装置32を14サイクル動
作させなければならなかったのが、本実施例では、図２
の矢印Ａ〜Ｇに示す如く（矢印１つに付き搬送装置１サ
イクルの動作）、７回の動作で済ませることができる。
このため、ウェーハの入れ換え時間を短縮することがで
き、装置の処理能力を向上させることができる。
【００１４】また、２つのフィンガー２ａを水平方向に
設けているため、上下動させるような複雑な制御は必要
なく、精度良く、かつ容易にウェーハを移し替え搬送す
ることができる。次に、本発明においては、図３に示す
ように、搬送室１とロードロック室３ａに近接した２個
のゲート弁４ａ、４ｂを設け、ゲート弁４ａ、４ｂ中間
を高真空排気する高真空排気装置11を設けて構成しても
よく、この場合、ロードロック室３ａの大気／真空の繰
り返しにより図３に示す矢印の如く、リークが発生して
も真空搬送室１のウェーハに悪影響を与えないようにす
ることができる。また、ロードロック室３ａの真空が悪
い状態でゲート弁４を開けても、その後処理室に搬送す
る時までには搬送室１を高真空回復させることができる
ため、リークによる悪影響を生じないようにすることが
できる。
設けているため、上下動させるような複雑な制御は必要
なく、精度良く、かつ容易にウェーハを移し替え搬送す
ることができる。次に、本発明においては、図３に示す
ように、搬送室１とロードロック室３ａに近接した２個
のゲート弁４ａ、４ｂを設け、ゲート弁４ａ、４ｂ中間
を高真空排気する高真空排気装置11を設けて構成しても
よく、この場合、ロードロック室３ａの大気／真空の繰
り返しにより図３に示す矢印の如く、リークが発生して
も真空搬送室１のウェーハに悪影響を与えないようにす
ることができる。また、ロードロック室３ａの真空が悪
い状態でゲート弁４を開けても、その後処理室に搬送す
る時までには搬送室１を高真空回復させることができる
ため、リークによる悪影響を生じないようにすることが
できる。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、搬送室と処理室間でウ
ェーハを搬送装置で入れ換え搬送する際、搬送装置の動
作を少なくして、ウェーハの入れ換え時間を短縮するこ
とができ、装置の処理能力を向上させることができ、し
かも１個の処理室と搬送室間でウェーハを入れ替え搬送
することができ、各処理室間でクロスコンタミネーショ
ンを生じさせないようにすることができ、更には上下動
させないで精度良く、かつ容易にウェーハを入れ替え搬
送することができる。
ェーハを搬送装置で入れ換え搬送する際、搬送装置の動
作を少なくして、ウェーハの入れ換え時間を短縮するこ
とができ、装置の処理能力を向上させることができ、し
かも１個の処理室と搬送室間でウェーハを入れ替え搬送
することができ、各処理室間でクロスコンタミネーショ
ンを生じさせないようにすることができ、更には上下動
させないで精度良く、かつ容易にウェーハを入れ替え搬
送することができる。
【図１】本発明の一実施例に則した真空処理装置の構成
を示す概略図である。
を示す概略図である。
【図２】本発明の一実施例に則した搬送装置の動作を説
明する図である。
明する図である。
【図３】本発明に適用できる真空処理装置を説明する図
である。
である。
【図４】従来例の真空処理装置の構成を示す概略図であ
る。
る。
【図５】従来例の課題を説明する図である。
１ 真空搬送室
２ 真空搬送装置
２ａ ツインフィンガー
３ａ ロードロック室
３ｂ、３ｃ 処理室
４、４ａ、４ｂ ゲート弁
11 高真空排気装置
Claims (2)
- 【請求項１】 ゲート弁（４）を介して処理室（３ｂ、
３ｃ）と隣接して設けられた搬送室（１）と、該処理室
（３ｂ、３ｃ）と該搬送室（１）間でウェーハを搬送す
るフィンガーを有する搬送装置（２）とを有する枚葉式
の真空処理装置において、 該搬送室（１）のフィンガー（２ａ）を少なくも２個上
にし、かつ該フィンガー（２ａ）同志を水平方向に設け
て構成することを特徴とする真空処理装置。 - 【請求項２】 枚葉式のロードロック室（３ａ）を設
け、前記搬送室（１）と該ロードロック室（３ａ）の間
に近接した２個のゲート弁（４ａ、４ｂ）を設け、更に
該ゲート弁（４ａ、４ｂ）中間を高真空排気する高真空
排気装置（11）を設けることを特徴とする請求項１記載
の真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17486791A JPH0521579A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17486791A JPH0521579A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 真空処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0521579A true JPH0521579A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=15986045
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17486791A Withdrawn JPH0521579A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0521579A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5288379A (en) * | 1991-12-04 | 1994-02-22 | Anelva Corporation | Multi-chamber integrated process system |
| US5494494A (en) * | 1992-06-24 | 1996-02-27 | Anelva Corporation | Integrated module multi-chamber CVD processing system and its method for processing substrates |
| WO2004030085A1 (ja) * | 2002-09-25 | 2004-04-08 | Tokyo Electron Limited | 被処理体の搬送方法 |
| US8007218B2 (en) | 2007-01-19 | 2011-08-30 | Psk Inc. | Unit and method for transferring substrates and apparatus and method for treating substrates with the unit |
| JP2015168842A (ja) * | 2014-03-06 | 2015-09-28 | Ｄｏｗａサーモテック株式会社 | 浸炭焼入れ設備 |
-
1991
- 1991-07-16 JP JP17486791A patent/JPH0521579A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5288379A (en) * | 1991-12-04 | 1994-02-22 | Anelva Corporation | Multi-chamber integrated process system |
| US5494494A (en) * | 1992-06-24 | 1996-02-27 | Anelva Corporation | Integrated module multi-chamber CVD processing system and its method for processing substrates |
| US5505779A (en) * | 1992-06-24 | 1996-04-09 | Anelva Corporation | Integrated module multi-chamber CVD processing system and its method for processing substrates |
| US5534072A (en) * | 1992-06-24 | 1996-07-09 | Anelva Corporation | Integrated module multi-chamber CVD processing system and its method for processing subtrates |
| WO2004030085A1 (ja) * | 2002-09-25 | 2004-04-08 | Tokyo Electron Limited | 被処理体の搬送方法 |
| CN1310302C (zh) * | 2002-09-25 | 2007-04-11 | 东京毅力科创株式会社 | 被处理体的输送方法 |
| US7371683B2 (en) | 2002-09-25 | 2008-05-13 | Tokyo Electron Limited | Method for carrying object to be processed |
| US8007218B2 (en) | 2007-01-19 | 2011-08-30 | Psk Inc. | Unit and method for transferring substrates and apparatus and method for treating substrates with the unit |
| JP2015168842A (ja) * | 2014-03-06 | 2015-09-28 | Ｄｏｗａサーモテック株式会社 | 浸炭焼入れ設備 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981008 |