JPH05215690A - 異物検査装置 - Google Patents
異物検査装置Info
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- JPH05215690A JPH05215690A JP4641492A JP4641492A JPH05215690A JP H05215690 A JPH05215690 A JP H05215690A JP 4641492 A JP4641492 A JP 4641492A JP 4641492 A JP4641492 A JP 4641492A JP H05215690 A JPH05215690 A JP H05215690A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 異物検査装置において、検査対象物に対する
後方散乱光受光部の受光範囲を拡大して異物の検出率を
高める。 【構成】 後方散乱光受光部５ａ〜５ｄを、検査対象物
１の表面に対する光ビーム３の照射位置を中心としてそ
の両側方に所定の角度間隔で複数箇所に配置する。これ
により、投光部からの光ビーム３の照射によって上記検
査対象物１上の異物から発生する後方散乱光を幅広い範
囲で受光し、検査対象物１上の異物の検出率を高めるこ
とができる。
後方散乱光受光部の受光範囲を拡大して異物の検出率を
高める。 【構成】 後方散乱光受光部５ａ〜５ｄを、検査対象物
１の表面に対する光ビーム３の照射位置を中心としてそ
の両側方に所定の角度間隔で複数箇所に配置する。これ
により、投光部からの光ビーム３の照射によって上記検
査対象物１上の異物から発生する後方散乱光を幅広い範
囲で受光し、検査対象物１上の異物の検出率を高めるこ
とができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体電子部品の製造
におけるガラス基板又はペリクル膜を形成したペリクル
面などの検査対象物の表面の異物（ゴミ、傷など）を検
出する異物検査装置に関し、特に検査対象物に対する後
方散乱光受光部の受光範囲を拡大して異物の検出率を高
めることができる異物検査装置に関する。
におけるガラス基板又はペリクル膜を形成したペリクル
面などの検査対象物の表面の異物（ゴミ、傷など）を検
出する異物検査装置に関し、特に検査対象物に対する後
方散乱光受光部の受光範囲を拡大して異物の検出率を高
めることができる異物検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の異物検査装置は、図３に
示すように、検査対象物１を位置決めして保持すると共
に所定方向へ移動する保持テーブル２と、上記検査対象
物１の表面に光ビーム３を照射する投光部４と、上記検
査対象物１に対して光ビーム３の照射側にあって該検査
対象物１上の異物からの後方散乱光を入射する光ファイ
バを備えた後方散乱光受光部５と、上記光ビーム３の透
過側にあって該検査対象物１上の異物からの前方散乱光
を入射する光ファイバを備えた前方散乱光受光部６とを
有して成っていた。上記投光部４は、例えばＨe-Ｎeレ
ーザ発振器から成り、このレーザ発振器より矢印Ｐのよ
うに発射されたレーザ光は、その後第一のダイクロイッ
クミラー７→ビームエキスパンダー８→第二のダイクロ
イックミラー９→ポリゴンミラー１０→スキャンレンズ
１１→第三のダイクロイックミラー１２を介して、上記
検査対象物１の表面に特定方向に走査して照射される。
そして、上記検査対象物１の表面の異物からの散乱光を
上記後方散乱光受光部５及び前方散乱光受光部６で受光
して検出することにより異物の検査を行うようになって
いた。
示すように、検査対象物１を位置決めして保持すると共
に所定方向へ移動する保持テーブル２と、上記検査対象
物１の表面に光ビーム３を照射する投光部４と、上記検
査対象物１に対して光ビーム３の照射側にあって該検査
対象物１上の異物からの後方散乱光を入射する光ファイ
バを備えた後方散乱光受光部５と、上記光ビーム３の透
過側にあって該検査対象物１上の異物からの前方散乱光
を入射する光ファイバを備えた前方散乱光受光部６とを
有して成っていた。上記投光部４は、例えばＨe-Ｎeレ
ーザ発振器から成り、このレーザ発振器より矢印Ｐのよ
うに発射されたレーザ光は、その後第一のダイクロイッ
クミラー７→ビームエキスパンダー８→第二のダイクロ
イックミラー９→ポリゴンミラー１０→スキャンレンズ
１１→第三のダイクロイックミラー１２を介して、上記
検査対象物１の表面に特定方向に走査して照射される。
そして、上記検査対象物１の表面の異物からの散乱光を
上記後方散乱光受光部５及び前方散乱光受光部６で受光
して検出することにより異物の検査を行うようになって
いた。
【０００３】ここで、上記後方散乱光受光部５及び前方
散乱光受光部６は、図４に示すように配置されていた。
すなわち、後方散乱光受光部５は、検査対象物１に対し
て光ビーム３の照射側にあって該検査対象物１の表面に
対して、その光軸１３が例えば約６０度の角度で傾斜し
て配置されている。また、前方散乱光受光部６は、上記
検査対象物１に対して光ビーム３の透過側にあって該検
査対象物１の裏面に対して、その光軸１４が例えば約６
０度の角度で傾斜して配置されている。なお、図４にお
いて、符号１５，１６は、それぞれ後方散乱光受光部５
又は前方散乱光受光部６に受光端部が挿入され、検査対
象物１上の異物からの散乱光を入射して図示外の光電変
換手段に導く光ファイバを示している。
散乱光受光部６は、図４に示すように配置されていた。
すなわち、後方散乱光受光部５は、検査対象物１に対し
て光ビーム３の照射側にあって該検査対象物１の表面に
対して、その光軸１３が例えば約６０度の角度で傾斜し
て配置されている。また、前方散乱光受光部６は、上記
検査対象物１に対して光ビーム３の透過側にあって該検
査対象物１の裏面に対して、その光軸１４が例えば約６
０度の角度で傾斜して配置されている。なお、図４にお
いて、符号１５，１６は、それぞれ後方散乱光受光部５
又は前方散乱光受光部６に受光端部が挿入され、検査対
象物１上の異物からの散乱光を入射して図示外の光電変
換手段に導く光ファイバを示している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の異物検査装置においては、後方散乱光受光部５は、
検査対象物１の光ビーム３の照射側にて予めセットされ
た所定の角度だけ傾斜して１系統しか配置されていなか
ったので、製造工程内で発生する異物で特定の指向性を
有するものが上記検査対象物１上に付着した場合は、上
記異物からの後方散乱光を受光できないことがあった。
例えば、１系統の後方散乱光受光部５が約６０度の方向
にセットされており、上記異物からの後方散乱光が約４
５度の方向に指向性を持って発生したとすると、上記１
系統の後方散乱光受光部５だけでは受光できないことと
なる。すなわち、１系統の後方散乱光受光部５が予めセ
ットされた所定の角度方向以外に発生する異物からの散
乱光については、それらを受光できないものであった。
来の異物検査装置においては、後方散乱光受光部５は、
検査対象物１の光ビーム３の照射側にて予めセットされ
た所定の角度だけ傾斜して１系統しか配置されていなか
ったので、製造工程内で発生する異物で特定の指向性を
有するものが上記検査対象物１上に付着した場合は、上
記異物からの後方散乱光を受光できないことがあった。
例えば、１系統の後方散乱光受光部５が約６０度の方向
にセットされており、上記異物からの後方散乱光が約４
５度の方向に指向性を持って発生したとすると、上記１
系統の後方散乱光受光部５だけでは受光できないことと
なる。すなわち、１系統の後方散乱光受光部５が予めセ
ットされた所定の角度方向以外に発生する異物からの散
乱光については、それらを受光できないものであった。
【０００５】また、上記検査対象物１上の異物からの散
乱光は、図４に示すように、後方散乱光受光部５の光フ
ァイバ１５の受光端部に直接入射するようになっている
ので、その受光範囲角θは、上記光ファイバ１５の口径
と検査対象物１までの距離とで決まり、例えば15.9度と
あまり広いものではなかった。従って、このことから、
上記後方散乱光受光部５が異物からの散乱光を受光する
範囲が広いとは言えなかった。これらのことから、従来
の異物検査装置では、検査対象物１上の実異物の総ては
検出することができず、ガラス基板やペリクル面の不良
品を確実に検査できないことがあった。従って、最終的
な製品の品質が低下すると共に、歩留まりも低下するも
のであった。
乱光は、図４に示すように、後方散乱光受光部５の光フ
ァイバ１５の受光端部に直接入射するようになっている
ので、その受光範囲角θは、上記光ファイバ１５の口径
と検査対象物１までの距離とで決まり、例えば15.9度と
あまり広いものではなかった。従って、このことから、
上記後方散乱光受光部５が異物からの散乱光を受光する
範囲が広いとは言えなかった。これらのことから、従来
の異物検査装置では、検査対象物１上の実異物の総ては
検出することができず、ガラス基板やペリクル面の不良
品を確実に検査できないことがあった。従って、最終的
な製品の品質が低下すると共に、歩留まりも低下するも
のであった。
【０００６】そこで、本発明は、このような問題点に対
処し、検査対象物に対する後方散乱光受光部の受光範囲
を拡大して異物の検出率を高めることができる異物検査
装置を提供することを目的とする。
処し、検査対象物に対する後方散乱光受光部の受光範囲
を拡大して異物の検出率を高めることができる異物検査
装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による異物検査装置は、検査対象物を位置決
めして保持すると共に所定方向へ移動する保持テーブル
と、上記検査対象物の表面に光ビームを照射する投光部
と、上記検査対象物に対して光ビームの照射側にあって
該検査対象物上の異物からの後方散乱光を入射する光フ
ァイバを備えた後方散乱光受光部と、上記光ビームの透
過側にあって該検査対象物上の異物からの前方散乱光を
入射する光ファイバを備えた前方散乱光受光部とを有
し、上記投光部からの光ビームを検査対象物の表面に走
査して照射し、その検査対象物の表面の異物からの散乱
光を上記後方散乱光受光部及び前方散乱光受光部で受光
して検出することにより異物の検査を行う異物検査装置
において、上記後方散乱光受光部を、検査対象物の表面
に対する光ビームの照射位置を中心としてその両側方に
所定の角度間隔で複数箇所に配置したものである。
に、本発明による異物検査装置は、検査対象物を位置決
めして保持すると共に所定方向へ移動する保持テーブル
と、上記検査対象物の表面に光ビームを照射する投光部
と、上記検査対象物に対して光ビームの照射側にあって
該検査対象物上の異物からの後方散乱光を入射する光フ
ァイバを備えた後方散乱光受光部と、上記光ビームの透
過側にあって該検査対象物上の異物からの前方散乱光を
入射する光ファイバを備えた前方散乱光受光部とを有
し、上記投光部からの光ビームを検査対象物の表面に走
査して照射し、その検査対象物の表面の異物からの散乱
光を上記後方散乱光受光部及び前方散乱光受光部で受光
して検出することにより異物の検査を行う異物検査装置
において、上記後方散乱光受光部を、検査対象物の表面
に対する光ビームの照射位置を中心としてその両側方に
所定の角度間隔で複数箇所に配置したものである。
【０００８】また、上記各後方散乱光受光部の光ファイ
バの受光端部の前方には、検査対象物上の異物からの散
乱光を入射して絞り込む集光レンズを挿入するとよい。
バの受光端部の前方には、検査対象物上の異物からの散
乱光を入射して絞り込む集光レンズを挿入するとよい。
【０００９】さらに、上記各後方散乱光受光部の光入射
幅を、前記投光部による光ビームの走査方向に沿って長
く形成し、検査対象物上の異物からの散乱光の捕集領域
を広くすると効果的である。
幅を、前記投光部による光ビームの走査方向に沿って長
く形成し、検査対象物上の異物からの散乱光の捕集領域
を広くすると効果的である。
【００１０】
【作用】このように構成された異物検査装置は、検査対
象物の表面に対する光ビームの照射位置を中心としてそ
の両側方に所定の角度間隔で複数箇所に配置された後方
散乱光受光部により、投光部からの光ビームの照射によ
って上記検査対象物上の異物から発生する後方散乱光を
幅広い範囲で受光するように動作する。これにより、検
査対象物上の異物の検出率を高めることができる。
象物の表面に対する光ビームの照射位置を中心としてそ
の両側方に所定の角度間隔で複数箇所に配置された後方
散乱光受光部により、投光部からの光ビームの照射によ
って上記検査対象物上の異物から発生する後方散乱光を
幅広い範囲で受光するように動作する。これにより、検
査対象物上の異物の検出率を高めることができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
詳細に説明する。図１は本発明による異物検査装置の実
施例を示す一部断面した要部拡大説明図である。この異
物検査装置は、半導体電子部品の製造におけるガラス基
板又はペリクル膜を形成したペリクル面などの検査対象
物の表面の異物を検出するもので、その全体の概略構成
は図３に示す従来例と同様に構成されている。
詳細に説明する。図１は本発明による異物検査装置の実
施例を示す一部断面した要部拡大説明図である。この異
物検査装置は、半導体電子部品の製造におけるガラス基
板又はペリクル膜を形成したペリクル面などの検査対象
物の表面の異物を検出するもので、その全体の概略構成
は図３に示す従来例と同様に構成されている。
【００１２】すなわち、図３において、保持テーブル２
は、検査対象物１を位置決めして保持すると共に所定方
向へ移動するもので、図示は省略したが、水平面内で互
いに直交方向に移動し得るＸテーブル（Ｘ方向に移動す
る）及びＹテーブル（Ｙ方向に移動する）を有し、さら
に、上記Ｘテーブル又はＹテーブルの上方には上下方向
（Ｚ方向）に移動し得るＺテーブルを有している。
は、検査対象物１を位置決めして保持すると共に所定方
向へ移動するもので、図示は省略したが、水平面内で互
いに直交方向に移動し得るＸテーブル（Ｘ方向に移動す
る）及びＹテーブル（Ｙ方向に移動する）を有し、さら
に、上記Ｘテーブル又はＹテーブルの上方には上下方向
（Ｚ方向）に移動し得るＺテーブルを有している。
【００１３】上記保持テーブル２に保持された検査対象
物１の表面には、投光部４から光ビーム３が照射され
る。この投光部４は、例えばＨe-Ｎeレーザ発振器から
成り、矢印Ｐのようにレーザ光を発するようになってい
る。そして、この発射されたレーザ光は、その後第一の
ダイクロイックミラー７→ビームエキスパンダー８→第
二のダイクロイックミラー９→ポリゴンミラー１０→ス
キャンレンズ１１→第三のダイクロイックミラー１２を
介して、上記検査対象物１の表面に特定方向に走査して
照射される。
物１の表面には、投光部４から光ビーム３が照射され
る。この投光部４は、例えばＨe-Ｎeレーザ発振器から
成り、矢印Ｐのようにレーザ光を発するようになってい
る。そして、この発射されたレーザ光は、その後第一の
ダイクロイックミラー７→ビームエキスパンダー８→第
二のダイクロイックミラー９→ポリゴンミラー１０→ス
キャンレンズ１１→第三のダイクロイックミラー１２を
介して、上記検査対象物１の表面に特定方向に走査して
照射される。
【００１４】上記検査対象物１の保持された上面側すな
わち光ビーム３の照射側には、後方散乱光受光部５が設
けられ、下面側すなわち光ビーム３の透過側には、前方
散乱光受光部６が設けられている。後方散乱光受光部５
は、上記検査対象物１に照射されたレーザ光が該検査対
象物１上の異物によって反射された後方散乱光を入射す
るもので、この入射光を図示外の光電変換手段に導く光
ファイバ（図３では図示省略）を備えている。また、前
方散乱光受光部６は、光透過性の検査対象物１に照射さ
れたレーザ光が該検査対象物１を透過した際の異物によ
る前方散乱光を入射するもので、同じくこの入射光を図
示外の光電変換手段に導く光ファイバ（図３では図示省
略）を備えている。
わち光ビーム３の照射側には、後方散乱光受光部５が設
けられ、下面側すなわち光ビーム３の透過側には、前方
散乱光受光部６が設けられている。後方散乱光受光部５
は、上記検査対象物１に照射されたレーザ光が該検査対
象物１上の異物によって反射された後方散乱光を入射す
るもので、この入射光を図示外の光電変換手段に導く光
ファイバ（図３では図示省略）を備えている。また、前
方散乱光受光部６は、光透過性の検査対象物１に照射さ
れたレーザ光が該検査対象物１を透過した際の異物によ
る前方散乱光を入射するもので、同じくこの入射光を図
示外の光電変換手段に導く光ファイバ（図３では図示省
略）を備えている。
【００１５】ここで、本発明においては、図１に示すよ
うに、上記の後方散乱光受光部５が、検査対象物１の表
面に対する光ビーム３の照射位置を中心としてその両側
方に所定の角度間隔で複数箇所（例えば５ａ〜５ｄの４
個）に配置されている。すなわち、第一の後方散乱光受
光部５ａは、検査対象物１の表面に対してその光軸１３
ａが例えば約２６度の角度で傾斜して配置され、第二の
後方散乱光受光部５ｂは、上記第一の後方散乱光受光部
５ａの光軸１３ａに対してその光軸１３ｂが例えば３８
度の角度で傾斜して配置されている。そして、第三の後
方散乱光受光部５ｃ及び第四の後方散乱光受光部５ｄ
は、上記光ビーム３の照射軸に対してそれぞれ第二の後
方散乱光受光部５ｂ又は第一の後方散乱光受光部５ａと
対称の位置に配置されている。なお、図１において、符
号１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄは、それぞれ第一〜
第四の後方散乱光受光部５ａ〜５ｄに受光端部が挿入さ
れ、検査対象物１上の異物からの散乱光を入射して光電
変換手段としての光電子増倍管１７ａ，１７ｂに導く光
ファイバを示している。このように、検査対象物１の光
ビーム３の照射位置に対して、例えば４個の後方散乱光
受光部５ａ〜５ｄで異物からの散乱光を受光するので、
その受光範囲は従来よりも格段と広くなり、異物からの
散乱光の指向性の影響を受けにくくすることができる。
うに、上記の後方散乱光受光部５が、検査対象物１の表
面に対する光ビーム３の照射位置を中心としてその両側
方に所定の角度間隔で複数箇所（例えば５ａ〜５ｄの４
個）に配置されている。すなわち、第一の後方散乱光受
光部５ａは、検査対象物１の表面に対してその光軸１３
ａが例えば約２６度の角度で傾斜して配置され、第二の
後方散乱光受光部５ｂは、上記第一の後方散乱光受光部
５ａの光軸１３ａに対してその光軸１３ｂが例えば３８
度の角度で傾斜して配置されている。そして、第三の後
方散乱光受光部５ｃ及び第四の後方散乱光受光部５ｄ
は、上記光ビーム３の照射軸に対してそれぞれ第二の後
方散乱光受光部５ｂ又は第一の後方散乱光受光部５ａと
対称の位置に配置されている。なお、図１において、符
号１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄは、それぞれ第一〜
第四の後方散乱光受光部５ａ〜５ｄに受光端部が挿入さ
れ、検査対象物１上の異物からの散乱光を入射して光電
変換手段としての光電子増倍管１７ａ，１７ｂに導く光
ファイバを示している。このように、検査対象物１の光
ビーム３の照射位置に対して、例えば４個の後方散乱光
受光部５ａ〜５ｄで異物からの散乱光を受光するので、
その受光範囲は従来よりも格段と広くなり、異物からの
散乱光の指向性の影響を受けにくくすることができる。
【００１６】また、上記各後方散乱光受光部５ａ〜５ｄ
の光ファイバ１５ａ〜１５ｄの受光端部１８の前方に
は、図１及び図２に示すように、検査対象物１上の異物
からの散乱光を入射して絞り込む集光レンズとして、例
えば第一のシリンドリカルレンズ１９ａと第二のシリン
ドリカルレンズ１９ｂが挿入配置されている。第一のシ
リンドリカルレンズ１９ａは、検査対象物１上の異物か
ら発生する後方散乱光を入射して平行光線とするもの
で、例えば口径が１８mm，焦点距離が３０mmで、受光範
囲角αが約29.9度とされている。また、第二のシリンド
リカルレンズ１９ｂは、上記第一のシリンドリカルレン
ズ１９ａから射出された光を入射し、光ファイバ１５ａ
の受光端部１８に結像するもので、例えば口径が２０m
m，焦点距離が４０mmで、上記受光端部１８への入射角
βが小さくなるようにされている。このように、第一及
び第二のシリンドリカルレンズ１９ａ，１９ｂを用いる
ことにより、個々の後方散乱光受光部５ａ〜５ｄの受光
範囲角αを従来のθよりも大きくできると共に、光ファ
イバ１５ａ〜１５ｄの受光端部１８への入射角βを小さ
くして上記光ファイバ１５ａ〜１５ｄ内への光の入射効
率を向上することができる。
の光ファイバ１５ａ〜１５ｄの受光端部１８の前方に
は、図１及び図２に示すように、検査対象物１上の異物
からの散乱光を入射して絞り込む集光レンズとして、例
えば第一のシリンドリカルレンズ１９ａと第二のシリン
ドリカルレンズ１９ｂが挿入配置されている。第一のシ
リンドリカルレンズ１９ａは、検査対象物１上の異物か
ら発生する後方散乱光を入射して平行光線とするもの
で、例えば口径が１８mm，焦点距離が３０mmで、受光範
囲角αが約29.9度とされている。また、第二のシリンド
リカルレンズ１９ｂは、上記第一のシリンドリカルレン
ズ１９ａから射出された光を入射し、光ファイバ１５ａ
の受光端部１８に結像するもので、例えば口径が２０m
m，焦点距離が４０mmで、上記受光端部１８への入射角
βが小さくなるようにされている。このように、第一及
び第二のシリンドリカルレンズ１９ａ，１９ｂを用いる
ことにより、個々の後方散乱光受光部５ａ〜５ｄの受光
範囲角αを従来のθよりも大きくできると共に、光ファ
イバ１５ａ〜１５ｄの受光端部１８への入射角βを小さ
くして上記光ファイバ１５ａ〜１５ｄ内への光の入射効
率を向上することができる。
【００１７】さらに、図２に示すように、上記各後方散
乱光受光部５ａ〜５ｄの光入射幅Ｗは、前記投光部４に
よる光ビーム３の走査方向に沿って長く（例えば155mm
程度）形成し、検査対象物１の異物からの散乱光の捕集
領域Ｅが広くされている。これにより、各後方散乱光受
光部５ａ〜５ｄ上の位置による受光角度の違いを少なく
することができると共に、１枚の検査対象物１の全面に
ついて異物検出をする時間を短縮することができる。
乱光受光部５ａ〜５ｄの光入射幅Ｗは、前記投光部４に
よる光ビーム３の走査方向に沿って長く（例えば155mm
程度）形成し、検査対象物１の異物からの散乱光の捕集
領域Ｅが広くされている。これにより、各後方散乱光受
光部５ａ〜５ｄ上の位置による受光角度の違いを少なく
することができると共に、１枚の検査対象物１の全面に
ついて異物検出をする時間を短縮することができる。
【００１８】なお、図１においては、後方散乱光受光部
５を全部で４個配置した例を示したが、本発明はこれに
限らず、２個以上ならば何個配置してもよい。また、光
電子増倍管１７ａ，１７ｂは、２個の後方散乱光受光部
５に対して１個の割合で設けたが、各後方散乱光受光部
５ａ〜５ｄについて１個ずつ光電子増倍管をそれぞれ設
けてもよい。
５を全部で４個配置した例を示したが、本発明はこれに
限らず、２個以上ならば何個配置してもよい。また、光
電子増倍管１７ａ，１７ｂは、２個の後方散乱光受光部
５に対して１個の割合で設けたが、各後方散乱光受光部
５ａ〜５ｄについて１個ずつ光電子増倍管をそれぞれ設
けてもよい。
【００１９】
【発明の効果】本発明は以上のように構成されたので、
検査対象物１の表面に対する光ビーム３の照射位置を中
心としてその両側方に所定の角度間隔で複数箇所に配置
された後方散乱光受光部５ａ〜５ｄにより、投光部４か
らの光ビーム３の照射によって上記検査対象物１上の異
物から発生する後方散乱光を幅広い範囲で受光すること
ができる。従って、検査対象物１上の異物の検出率を高
めることができる。
検査対象物１の表面に対する光ビーム３の照射位置を中
心としてその両側方に所定の角度間隔で複数箇所に配置
された後方散乱光受光部５ａ〜５ｄにより、投光部４か
らの光ビーム３の照射によって上記検査対象物１上の異
物から発生する後方散乱光を幅広い範囲で受光すること
ができる。従って、検査対象物１上の異物の検出率を高
めることができる。
【００２０】また、各後方散乱光受光部５ａ〜５ｄの光
ファイバ１５ａ〜１５ｄの受光端部１８の前方に、検査
対象物１上の異物からの散乱光を入射して絞り込む集光
レンズ（１９ａ，１９ｂ）を挿入したものにおいては、
個々の後方散乱光受光部５ａ〜５ｄの受光範囲角αを従
来よりも大きくできると共に、光ファイバ１５ａ〜１５
ｄの受光端部１８への入射角βを小さくすることができ
る。従って、上記光ファイバ１５ａ〜１５ｄ内への光の
入射効率を向上することができる。
ファイバ１５ａ〜１５ｄの受光端部１８の前方に、検査
対象物１上の異物からの散乱光を入射して絞り込む集光
レンズ（１９ａ，１９ｂ）を挿入したものにおいては、
個々の後方散乱光受光部５ａ〜５ｄの受光範囲角αを従
来よりも大きくできると共に、光ファイバ１５ａ〜１５
ｄの受光端部１８への入射角βを小さくすることができ
る。従って、上記光ファイバ１５ａ〜１５ｄ内への光の
入射効率を向上することができる。
【００２１】さらに、各後方散乱光受光部５ａ〜５ｄの
光入射幅Ｗを投光部４による光ビーム３の走査方向に沿
って長く形成したものにおいては、検査対象物１上の異
物からの散乱光の捕集領域Ｅを広くすることができる。
従って、各後方散乱光受光部５ａ〜５ｄ上の位置による
受光角度の違いを少なくすることができると共に、異物
検出の時間を短縮することができる。
光入射幅Ｗを投光部４による光ビーム３の走査方向に沿
って長く形成したものにおいては、検査対象物１上の異
物からの散乱光の捕集領域Ｅを広くすることができる。
従って、各後方散乱光受光部５ａ〜５ｄ上の位置による
受光角度の違いを少なくすることができると共に、異物
検出の時間を短縮することができる。
【００２２】これらのことから、本発明による異物検査
装置によれば、検査対象物１上の実異物のほとんど総て
を検出することができ、ガラス基板やペリクル面の不良
品を確実に検査することができる。従って、最終的な製
品の品質を向上することができると共に、歩留まりも向
上することができる。
装置によれば、検査対象物１上の実異物のほとんど総て
を検出することができ、ガラス基板やペリクル面の不良
品を確実に検査することができる。従って、最終的な製
品の品質を向上することができると共に、歩留まりも向
上することができる。
【図１】 本発明による異物検査装置の実施例を示す一
部断面した要部拡大説明図、
部断面した要部拡大説明図、
【図２】 本発明における後方散乱光受光部の内部構成
の概略を示す説明図、
の概略を示す説明図、
【図３】 従来の異物検査装置を示す概略構成図、
【図４】 従来例における後方散乱光受光部の配置状態
を示す要部拡大説明図。
を示す要部拡大説明図。
１…検査対象物、 ２…保持テーブル、 ３…光ビー
ム、 ４…投光部、５，５ａ〜５ｄ…後方散乱光受光
部、 ６…前方散乱光受光部、 １５ａ〜１５ｄ…光フ
ァイバ、 １７ａ，１７ｂ…光電子増倍管、 １８…受
光端部、 １９ａ，１９ｂ…シリンドリカルレンズ、
Ｗ…光入射幅、 Ｅ…捕集領域。
ム、 ４…投光部、５，５ａ〜５ｄ…後方散乱光受光
部、 ６…前方散乱光受光部、 １５ａ〜１５ｄ…光フ
ァイバ、 １７ａ，１７ｂ…光電子増倍管、 １８…受
光端部、 １９ａ，１９ｂ…シリンドリカルレンズ、
Ｗ…光入射幅、 Ｅ…捕集領域。
Claims (3)
- 【請求項１】 検査対象物を位置決めして保持すると共
に所定方向へ移動する保持テーブルと、上記検査対象物
の表面に光ビームを照射する投光部と、上記検査対象物
に対して光ビームの照射側にあって該検査対象物上の異
物からの後方散乱光を入射する光ファイバを備えた後方
散乱光受光部と、上記光ビームの透過側にあって該検査
対象物上の異物からの前方散乱光を入射する光ファイバ
を備えた前方散乱光受光部とを有し、上記投光部からの
光ビームを検査対象物の表面に走査して照射し、その検
査対象物の表面の異物からの散乱光を上記後方散乱光受
光部及び前方散乱光受光部で受光して検出することによ
り異物の検査を行う異物検査装置において、上記後方散
乱光受光部を、検査対象物の表面に対する光ビームの照
射位置を中心としてその両側方に所定の角度間隔で複数
箇所に配置したことを特徴とする異物検査装置。 - 【請求項２】 上記各後方散乱光受光部の光ファイバの
受光端部の前方には、検査対象物上の異物からの散乱光
を入射して絞り込む集光レンズを挿入したことを特徴と
する請求項１記載の異物検査装置。 - 【請求項３】 上記各後方散乱光受光部の光入射幅を、
前記投光部による光ビームの走査方向に沿って長く形成
し、検査対象物上の異物からの散乱光の捕集領域を広く
したことを特徴とする請求項１又は２記載の異物検査装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4641492A JP2796906B2 (ja) | 1992-02-03 | 1992-02-03 | 異物検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4641492A JP2796906B2 (ja) | 1992-02-03 | 1992-02-03 | 異物検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05215690A true JPH05215690A (ja) | 1993-08-24 |
| JP2796906B2 JP2796906B2 (ja) | 1998-09-10 |
Family
ID=12746495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4641492A Expired - Lifetime JP2796906B2 (ja) | 1992-02-03 | 1992-02-03 | 異物検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2796906B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008076071A (ja) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板検査装置及び基板検査方法 |
| JP2008175653A (ja) * | 2007-01-17 | 2008-07-31 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板検査装置及び基板検査方法 |
| CN111272681A (zh) * | 2013-07-17 | 2020-06-12 | 松下知识产权经营株式会社 | 分光装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5712351A (en) * | 1980-06-26 | 1982-01-22 | Hitachi Metals Ltd | Detector for surface fault |
| JPS5862543A (ja) * | 1981-10-09 | 1983-04-14 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 欠陥検査装置 |
| JPS59934A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-01-06 | Hitachi Ltd | 欠陥検査装置 |
| JPH01259244A (ja) * | 1988-04-11 | 1989-10-16 | Hitachi Ltd | 異物検出方式 |
| JPH04122042A (ja) * | 1990-09-12 | 1992-04-22 | Nikon Corp | 異物検査装置 |
-
1992
- 1992-02-03 JP JP4641492A patent/JP2796906B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5712351A (en) * | 1980-06-26 | 1982-01-22 | Hitachi Metals Ltd | Detector for surface fault |
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| JPH01259244A (ja) * | 1988-04-11 | 1989-10-16 | Hitachi Ltd | 異物検出方式 |
| JPH04122042A (ja) * | 1990-09-12 | 1992-04-22 | Nikon Corp | 異物検査装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008076071A (ja) * | 2006-09-19 | 2008-04-03 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板検査装置及び基板検査方法 |
| JP2008175653A (ja) * | 2007-01-17 | 2008-07-31 | Hitachi High-Technologies Corp | 基板検査装置及び基板検査方法 |
| CN111272681A (zh) * | 2013-07-17 | 2020-06-12 | 松下知识产权经营株式会社 | 分光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2796906B2 (ja) | 1998-09-10 |
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