JPH05195168A - 高飽和磁束密度高透磁率合金 - Google Patents
高飽和磁束密度高透磁率合金Info
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- JPH05195168A JPH05195168A JP4024836A JP2483692A JPH05195168A JP H05195168 A JPH05195168 A JP H05195168A JP 4024836 A JP4024836 A JP 4024836A JP 2483692 A JP2483692 A JP 2483692A JP H05195168 A JPH05195168 A JP H05195168A
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Landscapes
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 Ｓｉ４〜１１wt％、Ｃｏ２〜３０wt％、Ａｌ
０．５〜２．８wt％及びＮｉ０．５〜５wt％を含み、残
部Ｆｅよりなる高飽和磁束密度高透率合金。 【効果】 抗磁力が３０００Ｏｅ以上の磁気記録媒体の
記録再生が可能で、さらに耐食性や耐摩耗性に優れてお
り、産業用磁気ヘッドとして有用である。
０．５〜２．８wt％及びＮｉ０．５〜５wt％を含み、残
部Ｆｅよりなる高飽和磁束密度高透率合金。 【効果】 抗磁力が３０００Ｏｅ以上の磁気記録媒体の
記録再生が可能で、さらに耐食性や耐摩耗性に優れてお
り、産業用磁気ヘッドとして有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は３０００Ｏｅ以上の抗磁
力を有する磁気記録媒体を記録再生することを可能とす
る磁束密度及び透磁率を有する高飽和磁束密度高透磁率
合金に関するものである。
力を有する磁気記録媒体を記録再生することを可能とす
る磁束密度及び透磁率を有する高飽和磁束密度高透磁率
合金に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来産
業用磁気記録装置の磁気ヘッドにはセンダスト合金が用
いられてきたが、坑磁力の高いカード等が用いられる様
になってセンダスト合金のＳｉ、Ａｌを少なくしＦｅを
多くすることによりヘッドコア材の飽和磁束密度を１２
０００Ｇ程度まで高くし、抗磁力が３０００Ｏｅまでの
記録媒体に対応してきたが、抗磁力が３０００Ｏｅ以上
の媒体になるとオーバーライト特性が低下する等の問題
が生じ、飽和磁束密度の高い磁気ヘッドコアが望まれて
いた。
業用磁気記録装置の磁気ヘッドにはセンダスト合金が用
いられてきたが、坑磁力の高いカード等が用いられる様
になってセンダスト合金のＳｉ、Ａｌを少なくしＦｅを
多くすることによりヘッドコア材の飽和磁束密度を１２
０００Ｇ程度まで高くし、抗磁力が３０００Ｏｅまでの
記録媒体に対応してきたが、抗磁力が３０００Ｏｅ以上
の媒体になるとオーバーライト特性が低下する等の問題
が生じ、飽和磁束密度の高い磁気ヘッドコアが望まれて
いた。
【０００３】一方Ｃｏ２〜４０wt％、Ｓｉ３〜１５wt％
を含み、残部鉄より成るＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ系高透磁率合
金は１９５０年に山本達治等によって研究された合金で
ある（日本金属学会誌 第１４巻Ｂ 第２号 １９５０
年）が、飽和磁束密度は高いが初透磁率は最高で６７０
と低く、磁気ヘッド材料として使うことが出来なかっ
た。またこのＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ系高透磁率合金にＡｌを
３〜１０wt％含有させた合金はセンダスト系合金として
透磁率の優れた合金となることは昭和１８年に公告とな
った特許第１３３８６１号で公知であるが、飽和磁束密
度の面で抗磁力が３０００Ｏｅ以上の記録媒体に対応で
きなかった。
を含み、残部鉄より成るＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ系高透磁率合
金は１９５０年に山本達治等によって研究された合金で
ある（日本金属学会誌 第１４巻Ｂ 第２号 １９５０
年）が、飽和磁束密度は高いが初透磁率は最高で６７０
と低く、磁気ヘッド材料として使うことが出来なかっ
た。またこのＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ系高透磁率合金にＡｌを
３〜１０wt％含有させた合金はセンダスト系合金として
透磁率の優れた合金となることは昭和１８年に公告とな
った特許第１３３８６１号で公知であるが、飽和磁束密
度の面で抗磁力が３０００Ｏｅ以上の記録媒体に対応で
きなかった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は以上の点に鑑み
なされた印加磁場１ｋＯｅにおける磁束密度Ｂ1kを１５
０００Ｇ以上有する高飽和磁束密度高透磁率合金であ
る。即ち本発明合金の第１は、上記のＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ
合金に０．５〜２．８wt％のＡｌを含有させ、更にＮｉ
を０．５〜５wt％含有させることにより飽和磁束密度を
低下させることなく実効透磁率を改善したもので、飽和
磁束密度１５０００Ｇ以上で３０００Ｏｅ以上の記録媒
体を記録再生する事ができるものである。
なされた印加磁場１ｋＯｅにおける磁束密度Ｂ1kを１５
０００Ｇ以上有する高飽和磁束密度高透磁率合金であ
る。即ち本発明合金の第１は、上記のＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ
合金に０．５〜２．８wt％のＡｌを含有させ、更にＮｉ
を０．５〜５wt％含有させることにより飽和磁束密度を
低下させることなく実効透磁率を改善したもので、飽和
磁束密度１５０００Ｇ以上で３０００Ｏｅ以上の記録媒
体を記録再生する事ができるものである。
【０００５】また本発明合金の第２は、上記の第１の合
金はセンダスト合金よりＡｌの添加量が少ない為、セン
ダスト合金より耐食性が低く磁気ヘッドに使用した時、
錆が発生することがあるので、白金族元素を０．０１〜
２．０wt％含有させることにより飽和磁束密度を１５０
００Ｇ以下に落とすことなく耐食性を改善したものであ
る。
金はセンダスト合金よりＡｌの添加量が少ない為、セン
ダスト合金より耐食性が低く磁気ヘッドに使用した時、
錆が発生することがあるので、白金族元素を０．０１〜
２．０wt％含有させることにより飽和磁束密度を１５０
００Ｇ以下に落とすことなく耐食性を改善したものであ
る。
【０００６】また本発明合金の第３は、上記の第２の合
金に更にＣｒを０．５〜３．５wt％含有させることによ
り一層耐食性を改善したものである。
金に更にＣｒを０．５〜３．５wt％含有させることによ
り一層耐食性を改善したものである。
【０００７】さらに本発明合金の第４は、上記の第３の
合金にＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂよりなる群より選ばれた少なく
とも一種以上を総量で０．０１〜３．５wt％含有させる
ことにより、耐摩耗性を改善したものである。
合金にＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂよりなる群より選ばれた少なく
とも一種以上を総量で０．０１〜３．５wt％含有させる
ことにより、耐摩耗性を改善したものである。
【０００８】
【作用】本発明に於てＳｉを４〜１１wt％としたのは、
Ｓｉがこの範囲を越えると、実効透磁率（試料厚みが
０．２mmで１ｋＨｚにおける透磁率）が３０００以上の
合金が得られず磁気ヘッドコア材料として使えなくなる
為である。
Ｓｉがこの範囲を越えると、実効透磁率（試料厚みが
０．２mmで１ｋＨｚにおける透磁率）が３０００以上の
合金が得られず磁気ヘッドコア材料として使えなくなる
為である。
【０００９】Ｃｏを２〜３０wt％としたのは、２wt％未
満では３０００以上の実効透磁率が得られず、他方３０
wt％を越えると３０００以上の透磁率及び１５０００Ｇ
以上の飽和磁束密度が得られず抗磁力が３０００Ｏｅ以
上の記録媒体を記録再生できる磁気ヘッドコアに使えな
い為である。
満では３０００以上の実効透磁率が得られず、他方３０
wt％を越えると３０００以上の透磁率及び１５０００Ｇ
以上の飽和磁束密度が得られず抗磁力が３０００Ｏｅ以
上の記録媒体を記録再生できる磁気ヘッドコアに使えな
い為である。
【００１０】またＡｌ含有量を０．５〜２．８wt％とし
たのは、０．５wt％未満では３０００以上の実効透磁率
が得られず、２．８wt％を越えると１５０００Ｇの飽和
磁束密度が得られない為である。
たのは、０．５wt％未満では３０００以上の実効透磁率
が得られず、２．８wt％を越えると１５０００Ｇの飽和
磁束密度が得られない為である。
【００１１】Ｎｉを０．５〜５wt％としたのは、Ｎｉが
０．５％未満では透磁率改善効果がなく、５wt％を越え
ると１５０００Ｇ以上の飽和磁束密度が得られない為で
ある。
０．５％未満では透磁率改善効果がなく、５wt％を越え
ると１５０００Ｇ以上の飽和磁束密度が得られない為で
ある。
【００１２】また白金族元素を０．０１〜２．０wt％と
したのは、白金族元素が０．０１wt％未満では耐食性改
善効果が見られず、白金族元素が２．０wt％を越えると
３０００以上の実効透磁率と１５０００Ｇ以上の飽和磁
束密度が得られないからである。
したのは、白金族元素が０．０１wt％未満では耐食性改
善効果が見られず、白金族元素が２．０wt％を越えると
３０００以上の実効透磁率と１５０００Ｇ以上の飽和磁
束密度が得られないからである。
【００１３】Ｃｒを０．５〜３．５wt％としたのは、Ｃ
ｒが０．５wt％未満では耐食性改善の効果が見られず、
Ｃｒが３．５wt％を越えると１５０００Ｇ以上の飽和磁
束密度が得られなくなる為である。
ｒが０．５wt％未満では耐食性改善の効果が見られず、
Ｃｒが３．５wt％を越えると１５０００Ｇ以上の飽和磁
束密度が得られなくなる為である。
【００１４】さらにＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂよりなる群より選
ばれた少なくとも一種以上を総量で０．０１〜３．５wt
％としたのは、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｎｂよりなる群より選ばれ
た少なくとも一種が０．０１wt％未満では耐摩耗性改善
効果が見られず、３．５wt％を越えると硬くて研削加工
ができなくなると同時に透磁率及び飽和磁束密度が低下
する為である。
ばれた少なくとも一種以上を総量で０．０１〜３．５wt
％としたのは、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｎｂよりなる群より選ばれ
た少なくとも一種が０．０１wt％未満では耐摩耗性改善
効果が見られず、３．５wt％を越えると硬くて研削加工
ができなくなると同時に透磁率及び飽和磁束密度が低下
する為である。
【００１５】
【実施例】以下本発明を実施例について説明する。
【００１６】純度９９．９％電解鉄、純度９９．９９％
のＳｉ、純度９９．５％のＣｏ、純度９９，９９％のＡ
ｌ、純度９９％のＣｒ、純度９９．９％のＮｉ等を種々
の割合で配合し、これをアルミナ坩堝を用いて真空（３
〜７×１０-5ｍｍＨｇ）中で高周波溶解炉により溶製
し、鋳鉄製金型に鋳造して表１及び表２に示す組成から
なる厚さ２５ｍｍ、幅２５ｍｍ、長さ１６０ｍｍの鋳塊
を得た。
のＳｉ、純度９９．５％のＣｏ、純度９９，９９％のＡ
ｌ、純度９９％のＣｒ、純度９９．９％のＮｉ等を種々
の割合で配合し、これをアルミナ坩堝を用いて真空（３
〜７×１０-5ｍｍＨｇ）中で高周波溶解炉により溶製
し、鋳鉄製金型に鋳造して表１及び表２に示す組成から
なる厚さ２５ｍｍ、幅２５ｍｍ、長さ１６０ｍｍの鋳塊
を得た。
【００１７】これ等鋳塊について９５０℃の温度で２４
時間ソーキングしてから放電加工、ワイヤーソー切断、
ラッピング加工により外形φ８ｍｍ、内径φ４ｍｍ、厚
さ０．２ｍｍの磁気測定用試料を削り出し、水素気流中
９５０℃で１時間焼鈍してから０．０７℃／秒の速度で
温室まで冷却した試料について１ＫＨｚに於ける実効透
磁率を測定した。またソーキング後の鋳塊から削り出し
た１×１×１０ｍｍの試料でＶＳＭ（振動試料形磁力
計）を用いて１０ｋＯｅまで磁場をかけたときの飽和磁
束密度（Ｂｓ）を測定した。これらの結果は表３及び表
４に示した。
時間ソーキングしてから放電加工、ワイヤーソー切断、
ラッピング加工により外形φ８ｍｍ、内径φ４ｍｍ、厚
さ０．２ｍｍの磁気測定用試料を削り出し、水素気流中
９５０℃で１時間焼鈍してから０．０７℃／秒の速度で
温室まで冷却した試料について１ＫＨｚに於ける実効透
磁率を測定した。またソーキング後の鋳塊から削り出し
た１×１×１０ｍｍの試料でＶＳＭ（振動試料形磁力
計）を用いて１０ｋＯｅまで磁場をかけたときの飽和磁
束密度（Ｂｓ）を測定した。これらの結果は表３及び表
４に示した。
【００１８】またソーキングした鋳塊から８×８０×３
ｍｍの角形試験片を削り出し８×８０ｍｍの一面を２０
００番のＧＣ砥石で研磨し耐食試験片とし、３５℃で１
％塩水を５時間噴霧し変色領域％で耐食性を測定し、こ
れら等の結果を表３及び表４に併記した。
ｍｍの角形試験片を削り出し８×８０ｍｍの一面を２０
００番のＧＣ砥石で研磨し耐食試験片とし、３５℃で１
％塩水を５時間噴霧し変色領域％で耐食性を測定し、こ
れら等の結果を表３及び表４に併記した。
【００１９】さらに耐摩耗試験片はソーキングした鋳塊
から縦１２ｍｍ、横１４ｍｍ、高さ１５ｍｍの摩耗試験
用試験片を削り出し、その一面を２０００番のＧＣ砥石
で半径６ｍｍの曲面に研磨して耐摩耗性を測定した、そ
の結果を表３および表４に併記した。尚摩耗試験は温度
２４℃、湿度６０％の恒温恒湿槽内に於て、カードリー
ダー装置により１５μｍのＧＣ砥粒を塗布したラッピン
グカードと上記研磨面を摺動させて行ない、試験片の摺
動面における摩耗量が１００μｍとなるまでのカードの
パス回数で表わした。
から縦１２ｍｍ、横１４ｍｍ、高さ１５ｍｍの摩耗試験
用試験片を削り出し、その一面を２０００番のＧＣ砥石
で半径６ｍｍの曲面に研磨して耐摩耗性を測定した、そ
の結果を表３および表４に併記した。尚摩耗試験は温度
２４℃、湿度６０％の恒温恒湿槽内に於て、カードリー
ダー装置により１５μｍのＧＣ砥粒を塗布したラッピン
グカードと上記研磨面を摺動させて行ない、試験片の摺
動面における摩耗量が１００μｍとなるまでのカードの
パス回数で表わした。
【００２０】
【表１】
【００２１】
【表２】
【００２２】
【表３】
【００２３】
【表４】
【００２４】表３及び４によれば本発明のＮｏ．１６〜
３７のＦｅ−Ｃｏ−Ａｌ−Ｎｉ系合金は３０００以上の
実効透磁率と１５０００Ｇ以上の飽和磁束密度を有し、
抗磁力が３０００Ｏｅ以上の媒体の記録再生ができ、ま
た比較合金Ｎｏ．１のセンダスト合金より耐食性及び耐
摩耗性が改善されている。
３７のＦｅ−Ｃｏ−Ａｌ−Ｎｉ系合金は３０００以上の
実効透磁率と１５０００Ｇ以上の飽和磁束密度を有し、
抗磁力が３０００Ｏｅ以上の媒体の記録再生ができ、ま
た比較合金Ｎｏ．１のセンダスト合金より耐食性及び耐
摩耗性が改善されている。
【００２５】これに対して白金族元素を含有させた本発
明合金Ｎｏ．３８〜４８は３０００以上の実効透磁率を
有し、かつ１５０００Ｇ以上の飽和磁束密度を有し、耐
食性及び耐摩耗性が更に改善されていることが分かる。
また更にＣｒを含有させた本発明合金Ｎｏ．４９〜５２
の耐食性は一層改善されており、耐摩耗性も改善されて
いる。
明合金Ｎｏ．３８〜４８は３０００以上の実効透磁率を
有し、かつ１５０００Ｇ以上の飽和磁束密度を有し、耐
食性及び耐摩耗性が更に改善されていることが分かる。
また更にＣｒを含有させた本発明合金Ｎｏ．４９〜５２
の耐食性は一層改善されており、耐摩耗性も改善されて
いる。
【００２６】更にＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂを一種以上含有させ
た本発明合金Ｎｏ．５３〜６７の耐食性は上記Ｎｏ．４
９〜５２の合金と殆ど変わらないが、耐摩耗性が著しく
改善されていることが分かる。
た本発明合金Ｎｏ．５３〜６７の耐食性は上記Ｎｏ．４
９〜５２の合金と殆ど変わらないが、耐摩耗性が著しく
改善されていることが分かる。
【００２７】
【発明の効果】この様に本発明のＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａ
ｌ−Ｎｉ系高透磁率合金は抗磁力が３０００Ｏｅ以上の
磁気記録媒体の記録再生が可能で、更に白金族元素やＣ
ｒを含有させることにより耐食性が改善され、更にＴ
ｉ，Ｚｒ，Ｎｂを含有させることにより耐摩耗性が向上
するので、産業用ヘッドに使用可能である等工業上顕著
な効果を奏するものである。
ｌ−Ｎｉ系高透磁率合金は抗磁力が３０００Ｏｅ以上の
磁気記録媒体の記録再生が可能で、更に白金族元素やＣ
ｒを含有させることにより耐食性が改善され、更にＴ
ｉ，Ｚｒ，Ｎｂを含有させることにより耐摩耗性が向上
するので、産業用ヘッドに使用可能である等工業上顕著
な効果を奏するものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐川 仁志 神奈川県平塚市東八幡５丁目１番８号 古 河特殊金属工業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 Ｓｉ４〜１１wt％、Ｃｏ２〜３０wt％、
Ａｌ０．５〜２．８wt％及びＮｉ０．５〜５wt％を含
み、残部が実質的にＦｅよりなることを特徴とする高飽
和磁束密度高透磁率合金。 - 【請求項２】 Ｓｉ４〜１１wt％、Ｃｏ２〜３０wt％、
Ａｌ０．５〜２．８wt％、Ｎｉ０．５〜５wt％及び白金
族元素０．０１〜２．０wt％を含み、残部が実質的にＦ
ｅよりなることを特徴とする高飽和磁束密度高透磁率合
金。 - 【請求項３】 Ｓｉ４〜１１wt％、Ｃｏ２〜３０wt％、
Ａｌ０．５〜２．８wt％、Ｎｉ０．５〜５wt％、白金族
元素０．０１〜２．０wt％及びＣｒ０．５〜３．５wt％
を含み、残部が実質的にＦｅよりなることを特徴とする
高飽和磁束密度高透磁率合金。 - 【請求項４】 Ｓｉ４〜１１wt％、Ｃｏ２〜３０wt％、
Ａｌ０．５〜２．８wt％、Ｎｉ０．５〜５wt％、白金族
元素０．０１〜２．０wt％、Ｃｒ０．５〜３．５wt％及
びＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂよりなる群より選ばれた少なくとも
一種以上を総量で０．０１〜３．５wt％を含み、残部が
実質的にＦｅよりなることを特徴とする高飽和磁束密度
高透磁率合金。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4024836A JPH05195168A (ja) | 1992-01-14 | 1992-01-14 | 高飽和磁束密度高透磁率合金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4024836A JPH05195168A (ja) | 1992-01-14 | 1992-01-14 | 高飽和磁束密度高透磁率合金 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05195168A true JPH05195168A (ja) | 1993-08-03 |
Family
ID=12149295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4024836A Pending JPH05195168A (ja) | 1992-01-14 | 1992-01-14 | 高飽和磁束密度高透磁率合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05195168A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018010938A (ja) * | 2016-07-12 | 2018-01-18 | Tdk株式会社 | 軟磁性金属粉末および圧粉磁心 |
| EP4202065A1 (en) * | 2021-12-27 | 2023-06-28 | Zhejiang University | Multicomponent fecosim soft magnetic alloy and preparation method thereof |
-
1992
- 1992-01-14 JP JP4024836A patent/JPH05195168A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018010938A (ja) * | 2016-07-12 | 2018-01-18 | Tdk株式会社 | 軟磁性金属粉末および圧粉磁心 |
| EP4202065A1 (en) * | 2021-12-27 | 2023-06-28 | Zhejiang University | Multicomponent fecosim soft magnetic alloy and preparation method thereof |
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