JPH0543990A - 高飽和磁束密度合金 - Google Patents
高飽和磁束密度合金Info
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- JPH0543990A JPH0543990A JP3224759A JP22475991A JPH0543990A JP H0543990 A JPH0543990 A JP H0543990A JP 3224759 A JP3224759 A JP 3224759A JP 22475991 A JP22475991 A JP 22475991A JP H0543990 A JPH0543990 A JP H0543990A
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Landscapes
- Hard Magnetic Materials (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 3000Ｏｅ以上の坑磁力を有する磁気記録媒体
を記録再生することを可能とする高飽和磁束密度合金を
開発すること。 【構成】 Ｓｉ４〜11wt％，Ｃｏ４〜30wt％，Ａｌ 0.5
〜 2.8wt％を含み、またはこれにＣｒ１〜 3.5wt％を含
有し、またはこれにＣｒ１〜 3.5wt％と白金族元素0.01
〜 2.0wt％を含有し、またはこれにＣｒ１〜 3.5wt％と
白金族元素0.01〜2.0wt％とＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂのいずれ
か１種以上を総量で0.01〜 3.5wt％を含有し、残部Ｆｅ
よりなる高飽和磁束密度合金。 【効果】 坑磁力3000Ｏｅ以上の記録媒体に十分に対応
できる高い飽和磁束密度を有する高透磁率合金が得ら
れ、更に磁気ヘッドとして耐食性及び耐摩耗性に優れ
る。
を記録再生することを可能とする高飽和磁束密度合金を
開発すること。 【構成】 Ｓｉ４〜11wt％，Ｃｏ４〜30wt％，Ａｌ 0.5
〜 2.8wt％を含み、またはこれにＣｒ１〜 3.5wt％を含
有し、またはこれにＣｒ１〜 3.5wt％と白金族元素0.01
〜 2.0wt％を含有し、またはこれにＣｒ１〜 3.5wt％と
白金族元素0.01〜2.0wt％とＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂのいずれ
か１種以上を総量で0.01〜 3.5wt％を含有し、残部Ｆｅ
よりなる高飽和磁束密度合金。 【効果】 坑磁力3000Ｏｅ以上の記録媒体に十分に対応
できる高い飽和磁束密度を有する高透磁率合金が得ら
れ、更に磁気ヘッドとして耐食性及び耐摩耗性に優れ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は3000Ｏｅ以上の坑磁力を
有する磁気記録媒体を記録再生することを可能とする磁
束密度及び透磁率を有するＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系高
透磁率合金に関するものである。
有する磁気記録媒体を記録再生することを可能とする磁
束密度及び透磁率を有するＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系高
透磁率合金に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来産業用磁気記録装置の磁気ヘッドコ
アにはセンダスト合金が用いられてきた。しかし近年磁
力の高いカード等が用いられる様になってきたため、セ
ンダスト合金のＳｉ，Ａｌを少なくしＦｅを多くするこ
とにより透磁率を磁気ヘッドコアとして使用できる最低
値まで下げ、飽和磁束密度を 12000Ｇ程度まで高くする
ことにより、坑磁力が3000Ｏｅまでの記録媒体に対応し
てきた。ところが坑磁力が3000Ｏｅ以上の媒体になると
オーバーライト特性が低下し記録ができない等の問題が
生じ、飽和磁束密度の高い磁気ヘッドコア材が望まれて
いた。
アにはセンダスト合金が用いられてきた。しかし近年磁
力の高いカード等が用いられる様になってきたため、セ
ンダスト合金のＳｉ，Ａｌを少なくしＦｅを多くするこ
とにより透磁率を磁気ヘッドコアとして使用できる最低
値まで下げ、飽和磁束密度を 12000Ｇ程度まで高くする
ことにより、坑磁力が3000Ｏｅまでの記録媒体に対応し
てきた。ところが坑磁力が3000Ｏｅ以上の媒体になると
オーバーライト特性が低下し記録ができない等の問題が
生じ、飽和磁束密度の高い磁気ヘッドコア材が望まれて
いた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】Ｃｏ２〜40wt％，Ｓｉ
３〜15wt％残部Ｆｅより成るＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ系高透磁
率合金は1950年に山本達治等によって研究された合金で
ある（日本金属学会誌第14巻Ｂ 第２号 1950年）が、
飽和磁束密度は高いが初透磁率は最高で 670と低く、磁
気ヘッド材料として使うことが出来なかった。
３〜15wt％残部Ｆｅより成るＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ系高透磁
率合金は1950年に山本達治等によって研究された合金で
ある（日本金属学会誌第14巻Ｂ 第２号 1950年）が、
飽和磁束密度は高いが初透磁率は最高で 670と低く、磁
気ヘッド材料として使うことが出来なかった。
【０００４】またＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ系高透磁率合金にＡ
ｌを３〜10wt％含有させた合金はセンダスト合金にＣｏ
を 0.1〜20wt％添加した合金として透磁率の優れた合金
となることは昭和14年に公告となった特許第133861号明
細書で公知であるが、飽和磁束密度の面で坑磁力が3000
Ｏｅ以上の記録媒体に対応できなかった。
ｌを３〜10wt％含有させた合金はセンダスト合金にＣｏ
を 0.1〜20wt％添加した合金として透磁率の優れた合金
となることは昭和14年に公告となった特許第133861号明
細書で公知であるが、飽和磁束密度の面で坑磁力が3000
Ｏｅ以上の記録媒体に対応できなかった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は以上の点に鑑み
なされたものでＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ合金に 0.5〜 2.8wt％
のＡｌを含有させることによりＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ合金の
飽和磁束密度を殆ど落とすことなく透磁率を改善できる
ことを見いだしたもので、初透磁率1000以上飽和磁束密
度 15000Ｇ以上を有し、坑磁力が3000Ｏｅ以上の記録媒
体を記録再生する事が出来るものである。
なされたものでＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ合金に 0.5〜 2.8wt％
のＡｌを含有させることによりＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ合金の
飽和磁束密度を殆ど落とすことなく透磁率を改善できる
ことを見いだしたもので、初透磁率1000以上飽和磁束密
度 15000Ｇ以上を有し、坑磁力が3000Ｏｅ以上の記録媒
体を記録再生する事が出来るものである。
【０００６】即ち本発明合金の一つは、Ｓｉ４〜11wt
％，Ｃｏ４〜30wt％，Ａｌ 0.5〜 2.8wt％，残部Ｆｅよ
りなることを特徴とするものである。
％，Ｃｏ４〜30wt％，Ａｌ 0.5〜 2.8wt％，残部Ｆｅよ
りなることを特徴とするものである。
【０００７】また他の本発明合金としては、上記合金に
更にＣｒ１〜 3.5wt％を含有したことを特徴とし、これ
に更に白金族元素を0.01〜2.0wt％含有したことを特徴
とし、及びこれに更にＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂよりなる群より
選ばれた１種以上を総量で0.01〜 3.5wt％含有したこと
を特徴とするものである。
更にＣｒ１〜 3.5wt％を含有したことを特徴とし、これ
に更に白金族元素を0.01〜2.0wt％含有したことを特徴
とし、及びこれに更にＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂよりなる群より
選ばれた１種以上を総量で0.01〜 3.5wt％含有したこと
を特徴とするものである。
【０００８】
【作用】本発明に於てＳｉを４〜11wt％としたのは、Ｓ
ｉがこの範囲を越えると、透磁率が1000以上の合金が得
られず磁気ヘッドコア材料として使えなくなる為であ
る。
ｉがこの範囲を越えると、透磁率が1000以上の合金が得
られず磁気ヘッドコア材料として使えなくなる為であ
る。
【０００９】またＣｏを４〜30wt％としたのはＣｏがこ
の範囲を越えると1000以上の透磁率及び 15000Ｇ以上の
飽和磁束密度が得られず、坑磁力が3000Ｏｅ以上の記録
媒体を記録再生できる磁気ヘッドコアとして使えない為
である。
の範囲を越えると1000以上の透磁率及び 15000Ｇ以上の
飽和磁束密度が得られず、坑磁力が3000Ｏｅ以上の記録
媒体を記録再生できる磁気ヘッドコアとして使えない為
である。
【００１０】またＡｌ含有量を 0.5〜 2.8wt％としたの
は0.5wt％未満では1000以上の透磁率が得られず、 2.8w
t％を越えると 15000Ｇ以上の飽和磁束密度が得られな
い為である。
は0.5wt％未満では1000以上の透磁率が得られず、 2.8w
t％を越えると 15000Ｇ以上の飽和磁束密度が得られな
い為である。
【００１１】また上記のＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ合金は
Ａｌの添加量が少ないのでセンダスト合金より多少耐食
性が低く磁気ヘッドに使用した時、錆が発生することが
ある。本発明ではこれを防止するために上記合金に更に
Ｃｒを１〜 3.5wt％含有させて飽和磁束密度を 15000Ｇ
以下に落とすことなく耐食性を改善したものである。し
かしてＣｒを１〜 3.5wt％としたのはＣｒが１wt％未満
では耐食性改善の効果が見られず、Ｃｒが 3.5wt％を越
えると 15000以上の飽和磁束密度が得られなくなる為で
ある。
Ａｌの添加量が少ないのでセンダスト合金より多少耐食
性が低く磁気ヘッドに使用した時、錆が発生することが
ある。本発明ではこれを防止するために上記合金に更に
Ｃｒを１〜 3.5wt％含有させて飽和磁束密度を 15000Ｇ
以下に落とすことなく耐食性を改善したものである。し
かしてＣｒを１〜 3.5wt％としたのはＣｒが１wt％未満
では耐食性改善の効果が見られず、Ｃｒが 3.5wt％を越
えると 15000以上の飽和磁束密度が得られなくなる為で
ある。
【００１２】また本発明では、このようにＣｒを添加せ
しめたＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ合金に更に白金族元素を
0.01〜 2.0wt％含有させることにより、飽和磁束密度を
低下させることなくより一層耐食性を改善したものであ
る。しかして白金族元素0.01〜 2.0wt％としたのは白金
族元素が0.01wt％未満では耐食性改善の効果が見られ
ず、 2.0wt％を越えると1000以上の透磁率と 15000Ｇ以
上の飽和磁束密度が得られないからである。
しめたＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ合金に更に白金族元素を
0.01〜 2.0wt％含有させることにより、飽和磁束密度を
低下させることなくより一層耐食性を改善したものであ
る。しかして白金族元素0.01〜 2.0wt％としたのは白金
族元素が0.01wt％未満では耐食性改善の効果が見られ
ず、 2.0wt％を越えると1000以上の透磁率と 15000Ｇ以
上の飽和磁束密度が得られないからである。
【００１３】また本発明では、上記Ｃｒ及び白金族元素
を含有したＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ合金に更にＴｉ，Ｚ
ｒ，Ｎｂの１種以上を合計0.01〜 3.5wt％含有させるこ
とにより耐摩耗性を向上せしめたものである。しかして
その合計の含有量を0.01〜 3.5wt％としたのは0.01wt％
未満では耐摩耗性改善効果が見られず 3.5wt％を越える
と硬くて研削加工ができなくなると同時に透磁率及び飽
和磁束密度が低下する為である。
を含有したＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ合金に更にＴｉ，Ｚ
ｒ，Ｎｂの１種以上を合計0.01〜 3.5wt％含有させるこ
とにより耐摩耗性を向上せしめたものである。しかして
その合計の含有量を0.01〜 3.5wt％としたのは0.01wt％
未満では耐摩耗性改善効果が見られず 3.5wt％を越える
と硬くて研削加工ができなくなると同時に透磁率及び飽
和磁束密度が低下する為である。
【００１４】
【実施例】以下本発明を実施例について説明する。純度
99.9wt％の電解鉄、純度 99.99wt％のＳｉ，純度99.5wt
％のＣｏ，純度99.99wt％のＡｌをを種々の割合で配合
し、これをアルミナ坩堝を用いて真空（３〜７×１０
-10 mmHg）中で高周波溶解炉により溶製し、鋳鉄製金型
に鋳造して表１〜表３に示す組成からなる厚さ25mm，幅
25mm，長さ 160mmの鋳塊を得た。
99.9wt％の電解鉄、純度 99.99wt％のＳｉ，純度99.5wt
％のＣｏ，純度99.99wt％のＡｌをを種々の割合で配合
し、これをアルミナ坩堝を用いて真空（３〜７×１０
-10 mmHg）中で高周波溶解炉により溶製し、鋳鉄製金型
に鋳造して表１〜表３に示す組成からなる厚さ25mm，幅
25mm，長さ 160mmの鋳塊を得た。
【００１５】これ等について 950℃の温度で24時間ソー
キングしてから放電加工，ワイヤーソー切断，ラッピン
グ加工により外径φ８mm，内径φ４mm，厚さ 0.2mmの磁
気測定用試料を削り出し、水素気流中 950℃でアニール
してから１ｋＨｚに於ける実効透磁率と、同様な方法で
削り出した１×１×10mmの試料でＶＳＭ（振動試料形磁
力計）を用いて１０ｋＯｅまで磁場をかけたときの飽和
磁束密度（Ｂｓ）を測定し、これらの結果を表１〜表３
に示した。
キングしてから放電加工，ワイヤーソー切断，ラッピン
グ加工により外径φ８mm，内径φ４mm，厚さ 0.2mmの磁
気測定用試料を削り出し、水素気流中 950℃でアニール
してから１ｋＨｚに於ける実効透磁率と、同様な方法で
削り出した１×１×10mmの試料でＶＳＭ（振動試料形磁
力計）を用いて１０ｋＯｅまで磁場をかけたときの飽和
磁束密度（Ｂｓ）を測定し、これらの結果を表１〜表３
に示した。
【００１６】また耐食性試験は、ソーキングした鋳塊か
ら８×80×３mmの角形試験片を削り出し、８×80mmの一
面を2000番のＧＣ砥石で研磨して耐食試験片とし、これ
に35℃で１％塩水を５時間噴霧して変色領域％を測定す
る試験を行ない、この結果を表１〜表３に併記した。
ら８×80×３mmの角形試験片を削り出し、８×80mmの一
面を2000番のＧＣ砥石で研磨して耐食試験片とし、これ
に35℃で１％塩水を５時間噴霧して変色領域％を測定す
る試験を行ない、この結果を表１〜表３に併記した。
【００１７】耐摩耗試験はソーキングした鋳塊から縦12
mm，横14mm，高さ15mmの摩耗試験用試験片を削り出し、
その一面を2000番のＧＣ砥石で半径６mmの曲面に研磨し
て下記のように耐摩耗性を測定した。その結果を表１〜
表３に併記した。即ち温度24℃，湿度60％の恒温恒湿槽
内に於いて、カードリーダー装置により15μｍのＧＣ砥
粒を塗布したラッピングカードと上記試験片の研磨面を
接動させることにより、該試験片の接動面における摩耗
量が 100μｍとなるまでのカードのパス回数により求め
た。
mm，横14mm，高さ15mmの摩耗試験用試験片を削り出し、
その一面を2000番のＧＣ砥石で半径６mmの曲面に研磨し
て下記のように耐摩耗性を測定した。その結果を表１〜
表３に併記した。即ち温度24℃，湿度60％の恒温恒湿槽
内に於いて、カードリーダー装置により15μｍのＧＣ砥
粒を塗布したラッピングカードと上記試験片の研磨面を
接動させることにより、該試験片の接動面における摩耗
量が 100μｍとなるまでのカードのパス回数により求め
た。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【表２】
【００２０】
【表３】
【００２１】表１〜表３によれば本発明合金のＮo.９〜
Ｎo.25のＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金は1000以上の透
磁率と 15000Ｇ以上の飽和磁束密度を有し、坑磁力3000
Ｏｅの媒体の記録再生が可能で、耐食性は比較合金Ｎo.
１のセンダスト合金より多少劣るものの耐摩耗性は殆ど
同じであった。これに対してＣｒを含有させた本発明合
金Ｎo.26〜Ｎo.28は1000以上の透磁率と 15000以上の飽
和磁束密度を有し、センダスト合金以上に耐食性及び耐
摩耗性が改善されていることが分かる。またＣｒを含有
した合金にさらに白金族元素を含有させた本発明合金Ｎ
o.29〜Ｎo.39の耐食性は一層改善されており、耐摩耗性
も多少改善されている。更にＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂを一種以
上含有させた本発明合金Ｎo.40〜Ｎo.57の耐食性は上記
Ｎo.29〜Ｎo.39の合金と殆ど変わらないが耐摩耗性が著
しく改善されていることが分かる。
Ｎo.25のＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金は1000以上の透
磁率と 15000Ｇ以上の飽和磁束密度を有し、坑磁力3000
Ｏｅの媒体の記録再生が可能で、耐食性は比較合金Ｎo.
１のセンダスト合金より多少劣るものの耐摩耗性は殆ど
同じであった。これに対してＣｒを含有させた本発明合
金Ｎo.26〜Ｎo.28は1000以上の透磁率と 15000以上の飽
和磁束密度を有し、センダスト合金以上に耐食性及び耐
摩耗性が改善されていることが分かる。またＣｒを含有
した合金にさらに白金族元素を含有させた本発明合金Ｎ
o.29〜Ｎo.39の耐食性は一層改善されており、耐摩耗性
も多少改善されている。更にＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂを一種以
上含有させた本発明合金Ｎo.40〜Ｎo.57の耐食性は上記
Ｎo.29〜Ｎo.39の合金と殆ど変わらないが耐摩耗性が著
しく改善されていることが分かる。
【００２２】
【発明の効果】このように本発明のＦｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−
Ａｌ系高透磁率合金は坑磁力3000Ｇ以上の磁気記録媒体
の記録再生が可能で、更にＣｒや白金族元素を含有する
ことにより耐食性が改善され、更にＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂを
含有させることにより耐摩耗性が向上するので、産業用
磁気ヘッドに使用可能である等工業上顕著な効果を奏す
るものである。
Ａｌ系高透磁率合金は坑磁力3000Ｇ以上の磁気記録媒体
の記録再生が可能で、更にＣｒや白金族元素を含有する
ことにより耐食性が改善され、更にＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂを
含有させることにより耐摩耗性が向上するので、産業用
磁気ヘッドに使用可能である等工業上顕著な効果を奏す
るものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 青木 繁利 神奈川県平塚市東八幡５丁目１番８号 古 河特殊金属工業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 Ｓｉ４〜11wt％，Ｃｏ４〜30wt％，Ａｌ
0.5〜 2.8wt％を含み、残部Ｆｅよりなることを特徴と
する高飽和磁束密度合金。 - 【請求項２】 Ｓｉ４〜11wt％，Ｃｏ４〜30wt％，Ａｌ
0.5〜 2.8wt％，Ｃｒ１〜 3.5wt％を含み、残部Ｆｅよ
りなることを特徴とする高飽和磁束密度合金。 - 【請求項３】 Ｓｉ４〜11wt％，Ｃｏ４〜30wt％，Ａｌ
0.5〜 2.8wt％，Ｃｒ１〜 3.5wt％，白金族元素0.01〜
2.0wt％を含み、残部Ｆｅよりなることを特徴とする高
飽和磁束密度合金。 - 【請求項４】 Ｓｉ４〜11wt％，Ｃｏ４〜30wt％，Ａｌ
0.5〜 2.8wt％，Ｃｒ１〜 3.5wt％，白金族元素0.01〜
2.0wt％を含み、更にＴｉ，Ｚｒ，Ｎｂよりなる群より
選ばれた少なくとも一種以上を総量で0.01〜 3.5wt％含
み、残部Ｆｅよりなることを特徴とする高飽和磁束密度
合金。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3224759A JPH0543990A (ja) | 1991-08-09 | 1991-08-09 | 高飽和磁束密度合金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3224759A JPH0543990A (ja) | 1991-08-09 | 1991-08-09 | 高飽和磁束密度合金 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0543990A true JPH0543990A (ja) | 1993-02-23 |
Family
ID=16818789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3224759A Pending JPH0543990A (ja) | 1991-08-09 | 1991-08-09 | 高飽和磁束密度合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0543990A (ja) |
-
1991
- 1991-08-09 JP JP3224759A patent/JPH0543990A/ja active Pending
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