JPH0519451A - フオトマスク - Google Patents
フオトマスクInfo
- Publication number
- JPH0519451A JPH0519451A JP16797691A JP16797691A JPH0519451A JP H0519451 A JPH0519451 A JP H0519451A JP 16797691 A JP16797691 A JP 16797691A JP 16797691 A JP16797691 A JP 16797691A JP H0519451 A JPH0519451 A JP H0519451A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent plate
- photomask
- mask pattern
- transparent
- transfer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、良好な転写を可能にしつつ、全体
の強度を高くし、これにより破損を防止して、マスクパ
ターン12を長期間保護し、かつ大口径の場合の製造を容
易にすることを目的とするものである。 【構成】 マスクパターン12が描かれている第１の透明
板11の表面に、第２の透明板13を重ね合わせ、かつこれ
ら第１及び第２の透明板11，13を、外周面に付着したご
みの転写を防止するのに十分な厚さにした。
の強度を高くし、これにより破損を防止して、マスクパ
ターン12を長期間保護し、かつ大口径の場合の製造を容
易にすることを目的とするものである。 【構成】 マスクパターン12が描かれている第１の透明
板11の表面に、第２の透明板13を重ね合わせ、かつこれ
ら第１及び第２の透明板11，13を、外周面に付着したご
みの転写を防止するのに十分な厚さにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えばシリコンウエ
ハ上に回路パターンなどを転写するために使用されるフ
ォトマスクに関するものである。
ハ上に回路パターンなどを転写するために使用されるフ
ォトマスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来のフォトマスクの一例の断面
図である。図において、１は表面にマスクパターン２が
描かれている石英ガラス製のフォトマスク本体、３はフ
ォトマスク本体１の表裏にフレーム４を介して設けられ
ているペリクル膜であり、このペリクル膜３は、フォト
マスク１の表面及び裏面に対してそれぞれ所定の間隔
（例えば５ｍｍ）をおいて対向している。また、ペリク
ル膜３は、厚さ２〜３μｍのニトロセルロース膜からな
っている。
図である。図において、１は表面にマスクパターン２が
描かれている石英ガラス製のフォトマスク本体、３はフ
ォトマスク本体１の表裏にフレーム４を介して設けられ
ているペリクル膜であり、このペリクル膜３は、フォト
マスク１の表面及び裏面に対してそれぞれ所定の間隔
（例えば５ｍｍ）をおいて対向している。また、ペリク
ル膜３は、厚さ２〜３μｍのニトロセルロース膜からな
っている。
【０００３】フォトマスク本体１の表面にごみが直接付
着すると、それがシリコンウエハ（図示せず）に転写さ
れて欠陥を発生させる。しかし、ペリクル膜３上に付着
したごみは、転写の際に焦点がずれるため、シリコンウ
エハに転写されず、従って欠陥の発生しない良好な転写
をシリコンウエハに行うことができる。
着すると、それがシリコンウエハ（図示せず）に転写さ
れて欠陥を発生させる。しかし、ペリクル膜３上に付着
したごみは、転写の際に焦点がずれるため、シリコンウ
エハに転写されず、従って欠陥の発生しない良好な転写
をシリコンウエハに行うことができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のように構成され
た従来のフォトマスクにおいては、ペリクル膜３が厚さ
２〜３μｍの薄い膜からなっているため、破れやすく、
かつ破れたペリクル膜３がフォトマスク本体１上に付着
して取り除くのが困難であるなどの問題点があった。ま
た、ペリクル膜３はその強度が低いため、例えばディス
プレイ用フォトマスク等の大口径のフォトマスク本体１
には、フレーム４を介してペリクル膜３を取り付けるこ
とが困難であるという問題点もあった。
た従来のフォトマスクにおいては、ペリクル膜３が厚さ
２〜３μｍの薄い膜からなっているため、破れやすく、
かつ破れたペリクル膜３がフォトマスク本体１上に付着
して取り除くのが困難であるなどの問題点があった。ま
た、ペリクル膜３はその強度が低いため、例えばディス
プレイ用フォトマスク等の大口径のフォトマスク本体１
には、フレーム４を介してペリクル膜３を取り付けるこ
とが困難であるという問題点もあった。
【０００５】この発明は、上記のような問題点を解決す
ることを課題としてなされたものであり、破損しにく
く、マスクパターンを長期間保護することができ、かつ
大口径のものであっても製造が容易なフォトマスクを得
ることを目的とする。
ることを課題としてなされたものであり、破損しにく
く、マスクパターンを長期間保護することができ、かつ
大口径のものであっても製造が容易なフォトマスクを得
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係るフォトマ
スクは、表面にマスクパターンが描かれている第１の透
明板の表面に、第２の透明板を重ね合わせ、かつこれら
第１及び第２の透明板を、外周面に付着したごみの転写
を防止する厚さにしたものである。
スクは、表面にマスクパターンが描かれている第１の透
明板の表面に、第２の透明板を重ね合わせ、かつこれら
第１及び第２の透明板を、外周面に付着したごみの転写
を防止する厚さにしたものである。
【０００７】
【作用】この発明においては、十分な厚さを有する第１
及び第２の透明板を重ね合わせることにより、外周面に
付着したごみの転写を防止するとともに、全体の強度を
高くする。
及び第２の透明板を重ね合わせることにより、外周面に
付着したごみの転写を防止するとともに、全体の強度を
高くする。
【０００８】
【実施例】以下、この発明の実施例を図について説明す
る。図１はこの発明の一実施例によるフォトマスクを示
す斜視図である。図において、11は表面に回路パターン
などのマスクパターン12（図中斜線）が描かれている第
１の透明板であり、この第１の透明板11は、例えば石英
ガラスなどの紫外線を透過する透明な材料からなってい
る。また、第１の透明板11は、裏面にごみが付着しても
転写時に影響のない厚さ（例えば５ｍｍ）を有してい
る。即ち、第１の透明板11は、従来のフォトマスク本体
１よりも厚いものである。13は第１の透明板11の表面に
重ね合わせられている第２の透明板（保護プレート）で
あり、この第２の透明板13は、第１の透明板11と同材料
からなり、かつ同様の厚さを有している。また、第２の
透明板13は、第１の透明板11のマスクパターン12のない
部分に接着剤等により接着されている。
る。図１はこの発明の一実施例によるフォトマスクを示
す斜視図である。図において、11は表面に回路パターン
などのマスクパターン12（図中斜線）が描かれている第
１の透明板であり、この第１の透明板11は、例えば石英
ガラスなどの紫外線を透過する透明な材料からなってい
る。また、第１の透明板11は、裏面にごみが付着しても
転写時に影響のない厚さ（例えば５ｍｍ）を有してい
る。即ち、第１の透明板11は、従来のフォトマスク本体
１よりも厚いものである。13は第１の透明板11の表面に
重ね合わせられている第２の透明板（保護プレート）で
あり、この第２の透明板13は、第１の透明板11と同材料
からなり、かつ同様の厚さを有している。また、第２の
透明板13は、第１の透明板11のマスクパターン12のない
部分に接着剤等により接着されている。
【０００９】上記のように構成されたフォトマスクにお
いては、十分な厚さの２枚のガラスを積層してなってい
るので、通常の作業時の取り扱いにより容易に破損する
ことはなく、マスクパターン12を長期間（半永久的に）
外的障害やごみなどの汚染から保護できる。従って、従
来必要だった破損したペリクル膜３を再度取り付ける作
業は省略でき、保守に手間がかからない。また、第１及
び第２の透明板11，13は、十分な厚さを有しており、外
周面に多少のごみが付着しても焦点がずらされるので、
シリコンウエハに良好な転写を行うことができる。さら
に、付着したごみは、窒素ガスなどを吹き付けることに
より、容易に除去できる。
いては、十分な厚さの２枚のガラスを積層してなってい
るので、通常の作業時の取り扱いにより容易に破損する
ことはなく、マスクパターン12を長期間（半永久的に）
外的障害やごみなどの汚染から保護できる。従って、従
来必要だった破損したペリクル膜３を再度取り付ける作
業は省略でき、保守に手間がかからない。また、第１及
び第２の透明板11，13は、十分な厚さを有しており、外
周面に多少のごみが付着しても焦点がずらされるので、
シリコンウエハに良好な転写を行うことができる。さら
に、付着したごみは、窒素ガスなどを吹き付けることに
より、容易に除去できる。
【００１０】また、ディスプレー用のフォトマスクなど
では、従来６インチ角であったものが、２０ｃｍ×１０
ｃｍと大口径化し、その形状も正方形から長方形へと変
わっている。この実施例の第１及び第２の透明板11，13
は、十分な強度を有しているので、大口径の場合にも製
造が容易であり、かつフォトマスク全体にたわみが生じ
るのも防止され、歪みのないパターンを転写することが
できる。
では、従来６インチ角であったものが、２０ｃｍ×１０
ｃｍと大口径化し、その形状も正方形から長方形へと変
わっている。この実施例の第１及び第２の透明板11，13
は、十分な強度を有しているので、大口径の場合にも製
造が容易であり、かつフォトマスク全体にたわみが生じ
るのも防止され、歪みのないパターンを転写することが
できる。
【００１１】なお、上記実施例では第１及び第２の透明
板11，13として石英ガラスからなるものを示したが、転
写に使用する光線を透過する材料であれば他の材料から
なっていてもよい。また、互いに同様の熱膨張係数を有
する材料であれば、第１及び第２の透明板11，13を互い
に異なる材料で構成してもよい。さらに、両者の厚さや
接合方法も上記実施例に限定されない。
板11，13として石英ガラスからなるものを示したが、転
写に使用する光線を透過する材料であれば他の材料から
なっていてもよい。また、互いに同様の熱膨張係数を有
する材料であれば、第１及び第２の透明板11，13を互い
に異なる材料で構成してもよい。さらに、両者の厚さや
接合方法も上記実施例に限定されない。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、この発明のフォト
マスクは、表面にマスクパターンが描かれている第１の
透明板の表面に、第２の透明板を重ね合わせ、かつこれ
ら第１及び第２の透明板を、外周面に付着したごみの転
写を防止する厚さにしたので、良好な転写を可能にしつ
つ、全体の強度が高くなり、これにより破損を防止する
ことができ、この結果マスクパターンを長期間保護する
ことができるとともに、保守が容易になるなどの効果を
奏する。また、強度が高くなったことにより、大口径の
ものであっても製造が容易であり、かつ、たわみによる
マスクパターンの歪みを防止できるなどの効果も奏す
る。
マスクは、表面にマスクパターンが描かれている第１の
透明板の表面に、第２の透明板を重ね合わせ、かつこれ
ら第１及び第２の透明板を、外周面に付着したごみの転
写を防止する厚さにしたので、良好な転写を可能にしつ
つ、全体の強度が高くなり、これにより破損を防止する
ことができ、この結果マスクパターンを長期間保護する
ことができるとともに、保守が容易になるなどの効果を
奏する。また、強度が高くなったことにより、大口径の
ものであっても製造が容易であり、かつ、たわみによる
マスクパターンの歪みを防止できるなどの効果も奏す
る。
【図１】この発明の一実施例によるフォトマスクを示す
斜視図である。
斜視図である。
【図２】従来のフォトマスクの一例の断面図である。
11 第１の透明板 12 マスクパターン 13 第２の透明板
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 表面にマスクパターンが描かれている第
１の透明板と、この第１の透明板の表面に重ね合わせら
れている第２の透明板とを備え、前記第１及び第２の透
明板は、外周面に付着したごみが転写されるのを防止す
るための厚さを有していることを特徴とするフォトマス
ク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16797691A JPH0519451A (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | フオトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16797691A JPH0519451A (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | フオトマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0519451A true JPH0519451A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=15859510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16797691A Pending JPH0519451A (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | フオトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0519451A (ja) |
-
1991
- 1991-07-09 JP JP16797691A patent/JPH0519451A/ja active Pending
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